JPH02237991A - ジフエニルホスフイノベンゼン―m―モノスルホン酸リチウムの精製法 - Google Patents
ジフエニルホスフイノベンゼン―m―モノスルホン酸リチウムの精製法Info
- Publication number
- JPH02237991A JPH02237991A JP5878789A JP5878789A JPH02237991A JP H02237991 A JPH02237991 A JP H02237991A JP 5878789 A JP5878789 A JP 5878789A JP 5878789 A JP5878789 A JP 5878789A JP H02237991 A JPH02237991 A JP H02237991A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monosulfonate
- lithium
- diphenylphosphinobenzene
- acid
- lithium diphenylphosphinobenzene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野〕
本発明は、ジフェニルホスフイノベンゼン−m〜モノス
ルホン酸リチウムの精製法に関する。
ルホン酸リチウムの精製法に関する。
ジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リ
チウムは、種々の触媒反応において金属触媒を安定化さ
せろと共に触媒成分を含水溶媒中に溶解さ仕ることがで
きるので、触媒を含む溶液を触媒の熱劣化をまねき易い
蒸発操作に付することなく、常温でデカンテーションや
抽出により水に難溶性の生成物と触媒を分離することが
できるプロセスを与える点で産業上極めて重要な化合物
である。
チウムは、種々の触媒反応において金属触媒を安定化さ
せろと共に触媒成分を含水溶媒中に溶解さ仕ることがで
きるので、触媒を含む溶液を触媒の熱劣化をまねき易い
蒸発操作に付することなく、常温でデカンテーションや
抽出により水に難溶性の生成物と触媒を分離することが
できるプロセスを与える点で産業上極めて重要な化合物
である。
触媒反応に用いられるジフェニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸リチウムは高純度であることが要求
されるので、精製されたジフェニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸リウチムが有用である。
m−モノスルホン酸リチウムは高純度であることが要求
されるので、精製されたジフェニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸リウチムが有用である。
[従来の技術]
特開昭58− Hl994号公報には、トリフエニルホ
スフィンをスルホン化した後、メチルイソブチルケトン
によって、生成物を有゜機層へ抽出分離し、この有機層
を水酸化リチウム水溶液と接触させることによって生成
物の中和と水層への抽出を行い、得られた生成物を含む
水溶液から水を蒸発乾固することによってジフェニルホ
スフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを製造
する方法が記載されている。
スフィンをスルホン化した後、メチルイソブチルケトン
によって、生成物を有゜機層へ抽出分離し、この有機層
を水酸化リチウム水溶液と接触させることによって生成
物の中和と水層への抽出を行い、得られた生成物を含む
水溶液から水を蒸発乾固することによってジフェニルホ
スフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを製造
する方法が記載されている。
また、特開昭59− 73594号公報には、トリフエ
ニルホスフィンをスルホン化した後、水不溶性の有機溶
媒に溶かしたアミンを加えるこにとよって、スルホン酸
のアミン塩を有機層へ抽出分離し、次いでこの有機膚を
水酸化リチウム水溶液と接触させてスルホン酸リチウム
塩を水層へ移し、この水層から水を蒸発乾固する方法に
よってジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホ
ン酸リチウムを製造する方法が記載されている。
ニルホスフィンをスルホン化した後、水不溶性の有機溶
媒に溶かしたアミンを加えるこにとよって、スルホン酸
のアミン塩を有機層へ抽出分離し、次いでこの有機膚を
水酸化リチウム水溶液と接触させてスルホン酸リチウム
塩を水層へ移し、この水層から水を蒸発乾固する方法に
よってジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホ
ン酸リチウムを製造する方法が記載されている。
しかしながら、これらの方法では、スルホン化反応液か
ら生成物を抽出するためにどうしても硫酸の混入は避け
難く、このため中和後の水溶液中に硫酸リチウムが生成
物と共に抽出され、ジフェニルホスフイノベンゼン−m
−モノスルホン酸リチウム中に硫酸リチウムが混在する
という問題が生じる。しかもジフェニルホスフイノベン
ゼン−m−モノスルホン酸リチウムは、水への溶解度が
大きくナトリウム塩と同様に水から再結晶することがで
きない。
ら生成物を抽出するためにどうしても硫酸の混入は避け
難く、このため中和後の水溶液中に硫酸リチウムが生成
物と共に抽出され、ジフェニルホスフイノベンゼン−m
−モノスルホン酸リチウム中に硫酸リチウムが混在する
という問題が生じる。しかもジフェニルホスフイノベン
ゼン−m−モノスルホン酸リチウムは、水への溶解度が
大きくナトリウム塩と同様に水から再結晶することがで
きない。
一方、特開昭58− 131994号公報には、ジフェ
ニルホスフイノベンゼンーm−モノスルホン酸リチウム
を再結晶する方法が記載されている。同公報では、再結
溶媒として、メチルイソプチルケトン、6 a − n
−ブチル、ジフエニルエテルまたはジフエニルエーテル
とトルエン、キシレン、ジフエニルなどの芳香族炭化水
素との混合溶媒があげられているが、上記の溶媒では再
結品の晶折率が低いという問題がある。
ニルホスフイノベンゼンーm−モノスルホン酸リチウム
を再結晶する方法が記載されている。同公報では、再結
溶媒として、メチルイソプチルケトン、6 a − n
−ブチル、ジフエニルエテルまたはジフエニルエーテル
とトルエン、キシレン、ジフエニルなどの芳香族炭化水
素との混合溶媒があげられているが、上記の溶媒では再
結品の晶折率が低いという問題がある。
[発明が解決しようとする課題]
ジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リ
チウムを貴金属錯体触媒反応に用いろ場合、反応成績、
触媒活性などの点で極めて高い純度のジフェニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムか要求され
る。しかしながら、従来公知の製造方法では、高純度の
ジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リ
チウムが得られなく、たとえ再結晶したとl7てら収率
が低いために経済的とは言いがたい。
チウムを貴金属錯体触媒反応に用いろ場合、反応成績、
触媒活性などの点で極めて高い純度のジフェニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムか要求され
る。しかしながら、従来公知の製造方法では、高純度の
ジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リ
チウムが得られなく、たとえ再結晶したとl7てら収率
が低いために経済的とは言いがたい。
本発明の目的は、工業的な触媒反応に適した高純度のジ
フェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチ
ウムを得るために、ジフェニルホスフイノベンゼン−m
−モノスルホン酸リチウムを精製する方法を提供するこ
とにある。
フェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチ
ウムを得るために、ジフェニルホスフイノベンゼン−m
−モノスルホン酸リチウムを精製する方法を提供するこ
とにある。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、上記の目的を達成するために、ジフェニ
ルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムの
M製法に関して鋭意検討した結果、ジフェニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを炭素数1〜
8の有機カルボン酸から再結晶操作を行えば、晶折率よ
くジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸
リチウムを取得し得ろことを見出だし、本発明を完成す
るに至った。
ルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムの
M製法に関して鋭意検討した結果、ジフェニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを炭素数1〜
8の有機カルボン酸から再結晶操作を行えば、晶折率よ
くジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸
リチウムを取得し得ろことを見出だし、本発明を完成す
るに至った。
本発明において、原料の姐ジフェニルホスフイノベンゼ
ン−m−モノスルホン酸リチウムとしては、公知の方法
で製造されたものが用いられる(特開昭58− Hl9
94号公報参照)。
ン−m−モノスルホン酸リチウムとしては、公知の方法
で製造されたものが用いられる(特開昭58− Hl9
94号公報参照)。
本発明において再結晶溶媒として用いられろ炭素数I〜
8の有機カルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘブタン酸、オクタン
酸などがあげられる。これらの中でも特に、酢酸が好ま
しい。炭素数9以上の有機カルボン酸では、融点が30
℃以上になるために晶折率が低下するので好ましくない
。
8の有機カルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘブタン酸、オクタン
酸などがあげられる。これらの中でも特に、酢酸が好ま
しい。炭素数9以上の有機カルボン酸では、融点が30
℃以上になるために晶折率が低下するので好ましくない
。
再結晶操作は、用いられる有機カルボン酸の沸点におい
て最大の溶解量またはそれに近い量のジフェニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを溶解させ
、不溶物を熱時f過し、得られた母液を室温付近まで冷
却することによって行われる。使用される溶媒の量は溶
媒の種類によるが、例えば酢酸の場合、ジフェニルホス
フイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウム40gに
対し、lOQgの酢酸が用いられるのが好ましい。
て最大の溶解量またはそれに近い量のジフェニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを溶解させ
、不溶物を熱時f過し、得られた母液を室温付近まで冷
却することによって行われる。使用される溶媒の量は溶
媒の種類によるが、例えば酢酸の場合、ジフェニルホス
フイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウム40gに
対し、lOQgの酢酸が用いられるのが好ましい。
再結晶によりジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノ
スルホン酸リチウムと、有機カルボン酸との1対!(モ
ル比)付加物が析出してくるが、この付加物を、有機カ
ルボン酸の沸点以上の温度で減圧乾燥することにより、
カルボン酸を含まないジフェニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸リチウムが得られる。
スルホン酸リチウムと、有機カルボン酸との1対!(モ
ル比)付加物が析出してくるが、この付加物を、有機カ
ルボン酸の沸点以上の温度で減圧乾燥することにより、
カルボン酸を含まないジフェニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸リチウムが得られる。
[実施例〕
以下、実施例により本発明を具体的に説明するか、本発
明は何らこれらに制限されるものではない。
明は何らこれらに制限されるものではない。
参考例!
(ジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸
リチウムの合成) 温度計、撹拌装置、滴下ロ一トおよび窒素ガス出入り口
を備えた内容500mlの4つロフラスコに系内を窒素
ガスで置換しながらトリフエニルホスフィン80gおよ
び1硫酸36gを仕込み、内温を30℃以下に保ちなが
ら溶解させた。この混合液に内温を30℃以下に保ちな
がら、撹拌下にSOsを20vt%含む発煙硫酸320
gを30分間かけて滴下した。発煙硫酸の滴下終了後、
30℃で3時間撹拌を続けた。
リチウムの合成) 温度計、撹拌装置、滴下ロ一トおよび窒素ガス出入り口
を備えた内容500mlの4つロフラスコに系内を窒素
ガスで置換しながらトリフエニルホスフィン80gおよ
び1硫酸36gを仕込み、内温を30℃以下に保ちなが
ら溶解させた。この混合液に内温を30℃以下に保ちな
がら、撹拌下にSOsを20vt%含む発煙硫酸320
gを30分間かけて滴下した。発煙硫酸の滴下終了後、
30℃で3時間撹拌を続けた。
反応混合液を液体クロマトグラフイーによって、未反応
のトリフエニルホスフインを分析したところ、トリフエ
ニルホスフインの転化率は60%であった。反応混合液
を冷却しながら氷水約1500mlを加えることによっ
て約2a%の硫酸水溶液とした。
のトリフエニルホスフインを分析したところ、トリフエ
ニルホスフインの転化率は60%であった。反応混合液
を冷却しながら氷水約1500mlを加えることによっ
て約2a%の硫酸水溶液とした。
この硫酸水溶液に1回につき700mlのメチルイソブ
チルケトンを用いて合計2回の抽出操作を施した。メチ
ルイソブチルケトン層に約41t%の水酸化リチウム水
溶液約90■lを加えることによって系全体を中和した
。静置後の水層をエバボレーターで蒸発させたところ6
2gの白色粉末が得られた。
チルケトンを用いて合計2回の抽出操作を施した。メチ
ルイソブチルケトン層に約41t%の水酸化リチウム水
溶液約90■lを加えることによって系全体を中和した
。静置後の水層をエバボレーターで蒸発させたところ6
2gの白色粉末が得られた。
この白色粉末を、元素分析、液体クロマトグラフイー分
析などで分析したところ、粉末中には、硫酸リチウムが
0.5vt%、ジフェニルホスフイノベンゼンーm−モ
ノスルホン酸リチウムの酸化物が2.0豐t%、ジフエ
ニルホスフイノベンゼン−m −モノスルホン酸リチウ
ムが95wt%および対応するジスルホン酸リチウムが
2.5wt%含まれていろことがわかった。
析などで分析したところ、粉末中には、硫酸リチウムが
0.5vt%、ジフェニルホスフイノベンゼンーm−モ
ノスルホン酸リチウムの酸化物が2.0豐t%、ジフエ
ニルホスフイノベンゼン−m −モノスルホン酸リチウ
ムが95wt%および対応するジスルホン酸リチウムが
2.5wt%含まれていろことがわかった。
実施例l
参考例lで得られた徂ジフェニルホスフイノベンゼンー
m−モノスルホン酸り背Ogに酢酸100mlを加え、
富素雰囲気下、加熱還流し該リチウム塩を溶解させた。
m−モノスルホン酸り背Ogに酢酸100mlを加え、
富素雰囲気下、加熱還流し該リチウム塩を溶解させた。
溶液中の不溶物を熱時炉遇することにより除いた。得ら
れた酢酸溶液を室温まで冷却した。析出してくる白色結
晶を炉過により捕集した。この白色結晶を’HNMR分
近したところジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノ
スルホン酸リチウムと酢酸との■対lの付加物であった
。
れた酢酸溶液を室温まで冷却した。析出してくる白色結
晶を炉過により捕集した。この白色結晶を’HNMR分
近したところジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノ
スルホン酸リチウムと酢酸との■対lの付加物であった
。
この白色結晶を140℃、Ig+s}IHの条件下で5
時間減圧乾燥した。その結果、38gのジフェニルホス
フイノベンゼンーm−モノスルホン酸リチウムが得られ
た。この白色結晶を、元素分析、液体クロマトグラフイ
ー分析などで分叶したところ、純度100%のジフエニ
ルホスブイノベンゼンーm−モノスルホン酸リチウムで
あることがわかった。
時間減圧乾燥した。その結果、38gのジフェニルホス
フイノベンゼンーm−モノスルホン酸リチウムが得られ
た。この白色結晶を、元素分析、液体クロマトグラフイ
ー分析などで分叶したところ、純度100%のジフエニ
ルホスブイノベンゼンーm−モノスルホン酸リチウムで
あることがわかった。
実施例2
参考例!で得られた徂ジフェニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸リチウム40gにプロピオン酸40
hlを加え、実施例lと同様に再結操作を行った。析出
してくる白色結晶を炉過により捕果した。この白色結晶
を’HNMR分析したところジフェニルホスフイノベン
ゼン−m−モノスルホン酸リチウムとプロビオン酸との
1対!の付加物であった。この白色結晶を200℃、1
amlgの条件下で5時間減圧乾燥した。その結果、3
8gのジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホ
ン酸リチウムが得られた。この白色結晶を、元素分匠、
液体クaマトグラフイー分析などで分析したところ、純
度100%のジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノ
スルホン酸リチウムであることがわかった。
m−モノスルホン酸リチウム40gにプロピオン酸40
hlを加え、実施例lと同様に再結操作を行った。析出
してくる白色結晶を炉過により捕果した。この白色結晶
を’HNMR分析したところジフェニルホスフイノベン
ゼン−m−モノスルホン酸リチウムとプロビオン酸との
1対!の付加物であった。この白色結晶を200℃、1
amlgの条件下で5時間減圧乾燥した。その結果、3
8gのジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホ
ン酸リチウムが得られた。この白色結晶を、元素分匠、
液体クaマトグラフイー分析などで分析したところ、純
度100%のジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノ
スルホン酸リチウムであることがわかった。
実施N3
参考例lで得られた祖ジフェニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸リチウム40gに吉草酸200ml
を加え、実施例lと同様に再結操作を行った。析出して
くる白色結晶を炉過により捕集した。この白色結晶を’
HNMR分析したところジフェニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸リチウムと吉草酸とのl対lの付
加物であった。
m−モノスルホン酸リチウム40gに吉草酸200ml
を加え、実施例lと同様に再結操作を行った。析出して
くる白色結晶を炉過により捕集した。この白色結晶を’
HNMR分析したところジフェニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸リチウムと吉草酸とのl対lの付
加物であった。
この白色結晶を220℃、lmml!gの条件下で5時
間減圧乾燥した。その結果、38gのジフェニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムが得られた
。この白色結晶を、元素分析、液体クロマトグラフイー
分計などで分析したところ、純度IOO%のジフェニル
ホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムであ
ることがわかった。
間減圧乾燥した。その結果、38gのジフェニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムが得られた
。この白色結晶を、元素分析、液体クロマトグラフイー
分計などで分析したところ、純度IOO%のジフェニル
ホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムであ
ることがわかった。
比較例!
参考例!で得られた粗ジフェニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸リチウム40gにメチルイソブチル
ケトン300mlを加え、実施例lと同様に再結操作を
行った。匠出してくる白色結晶を炉過により捕果した。
m−モノスルホン酸リチウム40gにメチルイソブチル
ケトン300mlを加え、実施例lと同様に再結操作を
行った。匠出してくる白色結晶を炉過により捕果した。
この白色結晶を元素分匠、液体クロマトグラフイー分析
などで分匠したところ、純度100%のジフエニルホス
フイノベンゼンa−m−モノスルホン酸リチウムである
ことがわかったが、白色結晶として得られたものは12
gで、まだ母液に26gのジフェニルホスフイノベンゼ
ン−m−モノスルホン酸リチウムが析出せずに残ってい
ることがわかった。
などで分匠したところ、純度100%のジフエニルホス
フイノベンゼンa−m−モノスルホン酸リチウムである
ことがわかったが、白色結晶として得られたものは12
gで、まだ母液に26gのジフェニルホスフイノベンゼ
ン−m−モノスルホン酸リチウムが析出せずに残ってい
ることがわかった。
[発明の効果]
本発明によって、工業的実施に適したジフェニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムの精製が可
能となった。
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムの精製が可
能となった。
Claims (2)
- (1)ジフェニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホ
ン酸リチウムを炭素数1〜8の有機カルボン酸から再結
晶することを特徴とするジフェニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸リチウムの精製方法。 - (2)有機カルボン酸が酢酸である請求項1記載の精製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5878789A JPH02237991A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | ジフエニルホスフイノベンゼン―m―モノスルホン酸リチウムの精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5878789A JPH02237991A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | ジフエニルホスフイノベンゼン―m―モノスルホン酸リチウムの精製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02237991A true JPH02237991A (ja) | 1990-09-20 |
Family
ID=13094284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5878789A Pending JPH02237991A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | ジフエニルホスフイノベンゼン―m―モノスルホン酸リチウムの精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02237991A (ja) |
-
1989
- 1989-03-10 JP JP5878789A patent/JPH02237991A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100898888B1 (ko) | 5-메틸-1-페닐-2(1h)피리디논의 제조 방법 | |
| JPH02237991A (ja) | ジフエニルホスフイノベンゼン―m―モノスルホン酸リチウムの精製法 | |
| US4965404A (en) | Process for the preparation of lithium diphenylphosphinobenzene-m-monosulfonate | |
| US4510087A (en) | Process for producing 1,4-diaminoanthraquinone-2-sulfonic acid | |
| US4320066A (en) | Process for the production of cobaltocen | |
| US4224247A (en) | Recovery of para-aminophenol | |
| JPH04298243A (ja) | スルホン化プロピルフェニルホスフィン、その製造方法および使用方法 | |
| JPS5944302B2 (ja) | スレオニンとアロスレオニンとの相互分離方法 | |
| EP0038641B1 (en) | Process for producing d-2-amino-2-(1,4-cyclohexadienyl) acetic acid | |
| JP3312453B2 (ja) | 光学活性トランス−1,2−ジアミノシクロヘキサン製造法 | |
| SU559917A1 (ru) | Способ выделени салициловой кислоты | |
| JPH04305561A (ja) | ジクロロジフェニルスルホンの製造方法 | |
| JPH02172940A (ja) | p―ヒドロキシベンズアルデヒドの製造方法 | |
| JPH0512344B2 (ja) | ||
| WO1989001469A1 (fr) | Procede de purification de 4,4'-dihdroxydiphenylsulfone | |
| JP2714868B2 (ja) | 2―メチルチオセミカルバジドの製造法 | |
| JPS6039345B2 (ja) | ベンゾインの製造方法 | |
| JPH0680031B2 (ja) | ジヒドロキシ安息香酸異性体の分離法 | |
| JPS6123795B2 (ja) | ||
| JPH02172942A (ja) | p―ヒドロキシベンズアルデヒドの製造法 | |
| JPH0579660B2 (ja) | ||
| JPH0153867B2 (ja) | ||
| JPH02255648A (ja) | α―クロロプロピオンアニリドの製造方法 | |
| JPH02306934A (ja) | 4―(アルキルフェノキシ)酪酸の製造方法 | |
| JPS6256145B2 (ja) |