JPH0564700U - 出滓口のスラグ流監視装置 - Google Patents
出滓口のスラグ流監視装置Info
- Publication number
- JPH0564700U JPH0564700U JP1103292U JP1103292U JPH0564700U JP H0564700 U JPH0564700 U JP H0564700U JP 1103292 U JP1103292 U JP 1103292U JP 1103292 U JP1103292 U JP 1103292U JP H0564700 U JPH0564700 U JP H0564700U
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- Japan
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- hole
- outlet
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- Pending
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- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 炉の出滓口から流出するスラグを、出滓口を
囲む包囲壁の透孔に臨ませたカメラで監視するようにし
た監視装置において、出滓口から舞い上がるダストがカ
メラや透孔に付着してその視界を遮ることを防止できる
ようにする。 【構成】 防塵用ガス送給機構から防塵用のガスがカメ
ラにおけるレンズチューブに沿って流され、レンズチュ
ーブに対するダストの付着が防止される。包囲壁の透孔
には高圧送気機構から高圧のガスが瞬間的に流され、そ
こに堆積したダストが吹き飛ばされる。
囲む包囲壁の透孔に臨ませたカメラで監視するようにし
た監視装置において、出滓口から舞い上がるダストがカ
メラや透孔に付着してその視界を遮ることを防止できる
ようにする。 【構成】 防塵用ガス送給機構から防塵用のガスがカメ
ラにおけるレンズチューブに沿って流され、レンズチュ
ーブに対するダストの付着が防止される。包囲壁の透孔
には高圧送気機構から高圧のガスが瞬間的に流され、そ
こに堆積したダストが吹き飛ばされる。
Description
【0001】
本考案は種々の炉の出滓口、例えば廃棄物焼却灰溶融炉の出滓口において、そ こから流出するスラグ流を監視するようにした出滓口のスラグ流監視装置に関す る。
【0002】
図2に示すように炉1fの出滓口2fを囲む防塵用の包囲壁5fに、上記出滓口2fか ら流出するスラグ流3fを包囲壁5fの外から見る為の透孔6fを穿設し、上記透孔6f には、監視用カメラ7fのレンズチューブ10fを、上記透孔6fを通して上記スラグ 流3fが見え、かつ、透孔6fとレンズチューブ10fとの間にレンズチューブ10fに 対するダスト付着防止用のガスを流通させる為のすき間ができる状態に臨ませ、 上記すき間には、上記防塵用のガスを上記レンズチューブに沿って流通させる為 の防塵用ガス送給機構15fを接続している。
【0003】 このような出滓口のスラグ流監視装置では、炉1fの傾動によって出滓口2fから 流出させるスラグ3fをカメラ7fによって監視できる。又炉1fの操業中は、レンズ チューブ10fに沿って流れる防塵用ガスによって、レンズチューブ10fに対する ダストの付着やレンズチューブ10fの過昇温を防止できる。
【0004】
しかし上記のように流す防塵用のガスの量は、流出スラグの低温化を防止する 為に極力少なくされる。すると上記透孔6fの近傍では上記防塵用のガスの流れに よってダストが舞った状態となっている為、経時使用によりやがてそのダストが 透孔6f内に堆積し、カメラ7fの視界を狭めてしまう問題点があった。
【0005】 本願考案は上記従来技術の問題点(技術的課題)を解決する為になされたもの で、高圧のガスを上記透孔に瞬間的に流して堆積ダストを吹き飛ばし得るように して、上記流出するスラグの低温化を招くことなく上記透孔内の堆積ダストの除 去ができるようにした出滓口のスラグ流監視装置を提供することを目的としてい る。
【0006】
上記目的を達成する為に、本願考案における出滓口のスラグ流監視装置は、炉 の出滓口を囲む防塵用の包囲壁には、上記出滓口から流出するスラグ流を包囲壁 の外から見る為の透孔を穿設し、上記透孔には、監視用カメラのレンズチューブ を、透孔の内周面とレンズチューブの外周面との間にレンズチューブに対するダ スト付着防止用のガスを流通させる為のすき間ができる状態に挿入し、上記すき 間には、上記防塵用のガスを上記レンズチューブに沿って流通させる為の防塵用 ガス送給機構を接続した出滓口のスラグ流監視装置において、上記透孔には、該 透孔に堆積するダストを吹き飛ばす為の高圧のガスを瞬間的に流すようにした高 圧送気機構を接続したものである。
【0007】
監視カメラにより出滓口からの流出スラグが監視される。防塵用ガス送給機構 からのガスはレンズチューブに沿って流れ、それに対するダストの付着及びそれ の過昇温を防止する。高圧送気機構から透孔に瞬間的に流される高圧のガスが、 透孔内に堆積したダストを吹き飛ばす。
【0008】
以下本願の実施例を示す図1について説明する。1は炉、2はその出滓口、3 は出滓口2らか流出するスラグ流、4は出滓口2から舞い上がるダストを夫々示 す。5は出滓口2を囲む包囲壁である。炉1の全体を包囲するように形成される 場合もある。6は包囲壁5に穿設した透孔で、出滓口2と対向する位置に形成し てある。その位置は出滓口2から流出するスラグ流3を監視するに最も適する位 置に定められる。次に7は監視用カメラで、接続用フランジ8を用いて包囲壁5 に取付けてある。9は該カメラ7におけるケースで、内部にカメラの本体が収納 してある。10はカメラ7におけるレンズチューブである。該レンズチューブ10は その先端に監視対象を覗く為のレンズ11を備えており、内部にはそのレンズから 受け入れた光をカメラ本体に導く為のリレーレンズを備えている。レンズチュー ブ10は包囲壁5の外側(図における左側)から透孔6の中間部まで挿入されてい る。その挿入深さは、必要とする視界12の広さと炉1やスラグ流3から受ける熱 の強さを考慮して決められ、図示の場合よりも浅い場合や深い場合がある。13は 透孔6の内周面とレンズチューブ10の外周面との間に残されたすき間を示し、防 塵用のガスを流通させる為の部分となっている。このすき間13は本例ではレンズ チューブ10の全周に形成されているが、周囲の一部において途切れている場合、 即ちレンズチューブ10の外周面の一部が透孔6の内周面の一部に接触していたり 、レンズチューブ10の周囲の一部において上記外周面と内周面との間に介在物が 存在する場合もある。
【0009】 次に15は上記フランジ8に接続した防塵用ガス送給機構を示す。該機構15はフ ランジ8に備わっている通気孔を介して上記すき間13に接続している。16は防塵 用ガス送給機構15におけるガス送通用の管路を示し、一端はフランジ8における 上記通気孔に接続され、中間には減圧弁17が介設され、他端は図示外の高圧ガス 源(例えばコンプレッサ、ガス発生装置あるいはガスボンベ)に接続してある。 18は上記フランジ8に接続した高圧送気機構を示す。該機構18は本例では上記防 塵用ガス送給機構15と一部の部材(管路16及び高圧ガス源)を共通に利用して構 成してあり、フランジ8の前記通気孔を介して透孔6に接続している。19は高圧 送気機構18における電磁弁で、高い圧力のガスをごく短時間、瞬発的に供給でき るタイプの電磁弁例えばパルス電磁弁であり、上記減圧弁17と並列的に接続して ある。尚該高圧送気機構18は、上記防塵用ガス送給機構15とは別系統に構成して 上記透孔6に接続してもよい。
【0010】 上記構成のものにあっては、炉1の操業の場合、高圧ガス源からの高圧の防塵 用ガス(例えば空気あるいは窒素)が管路16を通る過程で減圧弁17によって減圧 され、その減圧されたガスがフランジ8の通気孔を通してすき間13にゆるやかに 送り込まれる。そのガスはレンズチューブ10に沿って矢印20方向に流れ、ダスト 4がレンズチューブ10(特に先端のレンズ11)に付着することを防止すると共に 、レンズチューブ10を空冷し、包囲壁5と炉1の間の高温の雰囲気ガス(例えば 500 〜600 ℃)によってレンズチューブが加熱されその温度が過度に上昇するこ とを防止する。上記のように流す防塵用ガスの量は、炉1内やスラグ流3を低温 化させることがないよう、レンズチューブ10へのダスト付着を防止しかつそれの 過昇温を防止するに足る必要最少量に設定する。
【0011】 出滓口2からスラグを流出させる場合、流出するスラグ流3の状況を監視カメ ラ7で監視する。この場合、上記のようにレンズ11に対するダストの付着が防止 されている為、その視野は明快である。
【0012】 経時により透孔6の内周面に符号21で示す如くダストが付着し堆積した場合、 その除去を次のように行なう。電磁弁19を瞬間的に開く。するとそれが開いてい る短時間の間だけ高圧ガス源からの高圧のガスが管路16及び電磁弁19を通って透 孔6に瞬発的に流れ込む。その高圧ガスは透孔6内を高速で矢印20方向に流れ、 上記堆積したダスト21を吹き飛ばす。上記のように高圧のガスを流す瞬間的な時 間の長さは、堆積ダスト21を吹き飛ばすに足る必要最短にするのがよい。その時 間は予め機械的に設定しておくのがよい。高圧のガスを流す回数は1回でもある いは複数回繰り返してもよい。複数回繰り返す場合、カメラ7によって堆積ダス ト21の状況を覗きながら、その視界から堆積ダスト21が消え去るまでの間、間欠 的に流すようにしてもよい。また上記のような堆積ダスト21の吹き飛ばし作業は 、堆積ダスト21が増えた都度例えば人為的判断により行なう。あるいは、例えば 時間設定したタイマによって定期的に行なってもよい。
【0013】
以上のように本願考案にあっては、出滓口2からスラグ流3を流出させる場合 、包囲壁5の透孔6に挿入したカメラ7のレンズチューブ10を通してスラグの流 出状態を監視できるは勿論のこと、
【0014】 上記のようにレンズチューブ10を通して監視するようにしたものであっても、 炉1の操業時においては、防塵用ガス送給機構15から上記レンズチューブ10に沿 って防塵用ガスを流すことにより、レンズチューブ10に対して出滓口2から舞い 上がるダスト4が付着することを防止できて、上記監視の場合の明快な視野を維 持できると共に、レンズチューブ10の過昇温を防止できてその耐久性を向上させ 得る効果がある。
【0015】 更に経時使用により上記透孔6内にダスト21が堆積してカメラ7の視界が狭ま った場合には、高圧送気機構18から透孔6に高圧のガスをシュッと瞬間的に流し て上記堆積ダスト21を吹き飛ばすことができ、再び広い視界を取り戻し得る効果 がある。
【0016】 しかも上記の如く高圧のガスによって堆積ダスト21を吹き飛ばすようにしたも のでも、その吹き飛ばしの場合、上記の如く高圧のガス流は瞬間的に即ちごく短 時間だけ流すから、そのガス量は少なく、従って、上記流出するスラグを低温化 させてしまうことなく上記広視界の取り戻し作業ができる効果もある。
【図1】スラグ流監視装置の略示縦断面図。
【図2】炉と従来のスラグ流監視装置との関係を示す縦
断面図。
断面図。
2 出滓口 5 包囲壁 6 透孔 7 監視用カメラ 10 レンズチューブ 15 防塵用ガス送給機構 18 高圧送気機構
Claims (1)
- 【請求項1】 炉の出滓口を囲む防塵用の包囲壁には、
上記出滓口から流出するスラグ流を包囲壁の外から見る
為の透孔を穿設し、上記透孔には、監視用カメラのレン
ズチューブを、透孔の内周面とレンズチューブの外周面
との間にレンズチューブに対するダスト付着防止用のガ
スを流通させる為のすき間ができる状態に挿入し、上記
すき間には、上記防塵用のガスを上記レンズチューブに
沿って流通させる為の防塵用ガス送給機構を接続した出
滓口のスラグ流監視装置において、上記透孔には、該透
孔に堆積するダストを吹き飛ばす為の高圧のガスを瞬間
的に流すようにした高圧送気機構を接続したことを特徴
とする出滓口のスラグ流監視装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1103292U JPH0564700U (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 出滓口のスラグ流監視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1103292U JPH0564700U (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 出滓口のスラグ流監視装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0564700U true JPH0564700U (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=11766736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1103292U Pending JPH0564700U (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 出滓口のスラグ流監視装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0564700U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS594999B2 (ja) * | 1980-10-21 | 1984-02-02 | アロカ株式会社 | 検体中の微量成分分析方法および装置 |
| JPH0118145B2 (ja) * | 1981-05-08 | 1989-04-04 | Nitsushin Seiko Kk |
-
1992
- 1992-02-04 JP JP1103292U patent/JPH0564700U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS594999B2 (ja) * | 1980-10-21 | 1984-02-02 | アロカ株式会社 | 検体中の微量成分分析方法および装置 |
| JPH0118145B2 (ja) * | 1981-05-08 | 1989-04-04 | Nitsushin Seiko Kk |
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