JPH0566531A - ハロゲン化銀カラー写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 圧力性に優れ、保存期間中に写真性能の変動
が少なく、さらに高感度で鮮鋭性、色再現性に優れたハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料の提供。 【構成】 下式（１）で表される化合物および下式
（２）もしくは下式（３）で表される化合物を含有する
ハロゲン化銀カラー写真感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀カラー写
真感光材料に関し、特に新規なタイミングＤＩＲカプラ
ーとアルデヒドスカベンジャーを含有し、耐圧力性、色
再現性、鮮鋭性、粒状性、脱銀性が良好であり、かつ保
存中の写真性能の変動が少ないハロゲン化銀カラー写真
感光材料に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真感光材料特に撮
影用カラー感材においては、高感度で耐圧力性・色再現
性・粒状性および鮮鋭性が良好であり、保存中の写真性
能の変動が少ない感光材料が要望されている。

【０００３】色再現性および鮮鋭性を改良する手段とし
ては、例えば特開昭５１−１４６８２８号、同６０−２
１８６４５号、同６１−１５６１２７号、同６３−３７
３４６号、特開平１−２８０７５５号、同１−２１９７
４７号、同２−２３０１３９号、ヨーロッパ特許公開３
４８１３９号、同３５４５３２号および同４０３０１９
号に記載されている現像抑制性化合物を２つのタイミン
グ基を介して放出するカプラーが知られている。確かに
これらのタイミングＤＩＲカプラーを用いることによ
り、層間効果やエッジ効果が向上して色再現性と鮮鋭性
がある程度改良されたが、実質的に現像抑制剤の放出が
一段であること、またはその放出するタイミングが好ま
しくないことにより、その効果はまだまだ不充分なもの
であった。また、これらカプラーを用いた感光材料は保
存中の写真性能の変動が大きく、また感材が折り曲げら
れたり、引っ掻かれたりした場合に写真性能が変化しや
すいという問題もあった。

【０００４】一方、ポリマーカプラーと種々の現像抑制
剤放出化合物の組み合わせが、例えば特開昭５９−３６
２４９号、同６０−１０１５３４号、同６１−４３７４
７号および特開平１−１４７５４４号に提案され、色再
現性、鮮鋭性、粒状性等である程度の効果は得られてい
るが、圧力性や感材の保存性はまだまだ不満足なレベル
であった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、第一
に圧力性の優れた感光材料を提供することであり、第二
に保存期間中に写真性能の変動が少ない感光材料を提供
することであり、第三に高感度で鮮鋭性、色再現性およ
び脱銀性の優れた感光材料を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題は、下記ハロゲ
ン化銀カラー写真感光材料によって解決された。

【０００７】支持体上に少なくとも一層の感光性乳剤層
を有しかつアルデヒドスカベンジャーを含有するハロゲ
ン化銀カラー写真感光材料において、下記化３に示す一
般式（Ｉ）および／または下記化４に示す一般式（Ｉ
Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀カラー写真感光材料。

【０００８】

【化３】 一般式（Ｉ）中のＡは、カプラー残基または酸化還元基
を表わし、Ｌ₁ およびＬ₃ は２価のタイミング基を表わ
し、Ｌ₂ は３価もしくはそれ以上の結合手を有するタイ
ミング基を表わし、ＰＵＧは写真性有用基を表わす。ｊ
とｎはそれぞれ独立に０、１または２を表わし、ｍは１
または２を表わし、ｓはＬ₂ の価数から１を引いた数で
あり２以上の整数を表わす。またＬ₁ 、Ｌ₂ もしくはＬ
₃ が分子内に複数個存在するとき、それらは全て同じで
あっても異なっていてもよい。また複数個存在するＰＵ
Ｇは全て同じであっても異なっていてもよい。

【０００９】

【化４】 一般式(II)中のＡとＰＵＧは、一般式（Ｉ）と同義であ
る。Ｌ₄ は−ＯＣＯ−基、−ＯＳＯ−基、−ＯＳＯ₂ −
基、−ＯＣＳ−基、−ＳＣＯ−基、−ＳＣＳ−基または
−ＷＣＲ₁₁Ｒ₁₂−基を表わす。ここでＷは酸素原子、硫
黄原子または３級アミノ基（−ＮＲ₁₃−）を表わし、Ｒ
₁₁およびＲ₁₂はそれぞれ独立に水素原子または置換基を
表わし、Ｒ₁₃は置換基を表わす。またＲ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ
₁₃の各々が２価基を表し、連結して環状構造を形成する
場合も含む。Ｌ₅ は共役系に沿った電子移動によりＰＵ
Ｇを放出する基もしくはＬ₄ で定義される基を表わす。

【００１０】以下に、一般式（Ｉ）および一般式（Ｉ
Ｉ）で示されるカプラーについて詳しく述べる。

【００１１】一般式（Ｉ）においてＡは詳しくはカプラ
ー残基または酸化還元基を表わす。

【００１２】Ａで表わされるカプラー残基としては、例
えばイエローカプラー残基（例えばアシルアセトアニリ
ド、マロンジアニリドなどの開鎖ケトメチレン型カプラ
ー残基）、マゼンタカプラー残基（例えば５−ピラゾロ
ン型、ピラゾロトリアゾール型またはイミダゾピラゾー
ル型などのカプラー残基）、シアンカプラー残基（例え
ばフェノール型、ナフトール型、ヨーロッパ公開特許第
２４９，４５３号に記載のイミダゾール型または同３０
４，００１号に記載のピラゾロピリミジン型などのカプ
ラー残基）および無呈色カプラー残基（例えばインダノ
ン型またはアセトフェノン型などのカプラー残基）が挙
げられる。また、米国特許第４，３１５，０７０号、同
４，１８３，７５２号、同４，１７４，９６９号、同
３，９６１，９５９号、同４，１７１，２２３号または
特開昭５２−８２４２３号に記載のヘテロ環型のカプラ
ー残基であってもよい。

【００１３】Ａが酸化還元基を表わすとき、酸化還元基
とは、現像主薬酸化体によりクロス酸化されうる基であ
り、例えばハイドロキノン類、カテコール類、ピロガロ
ール類、１，４−ナフトハイドロキノン類、１，２−ナ
フトハイドロキノン類、スルホンアミドフェノール類、
ヒドラジド類またはスルホンアミドナフトール類が挙げ
られる。これらの基は具体的には例えば特開昭６１−２
３０１３５号、同６２−２５１７４６号、同６１−２７
８８５２号、米国特許第３，３６４，０２２号、同第
３，３７９，５２９号、同第３，６３９，４１７号、同
第４，６８４，６０４号またはＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，２９，５８８（１９６４）に記載されているもの
である。

【００１４】一般式（Ｉ）において、Ｌ₁ は好ましくは
以下のものが挙げられる。

【００１５】（１）ヘミアセタールの開裂反応を利用す
る基 例えば米国特許第４，１４６，３９６号、特開昭６０−
２４９１４８号および同６０−２４９１４９号に記載が
あり下記一般式（Ｔ−１）で表わされる基である。ここ
で＊印は一般式（Ｉ）で表わされる化合物のＡまたはＬ
₁ と結合する位置を表わし、＊＊印はＬ₁ またはＬ₂ と
結合する位置を表わす。 一般式（Ｔ−１） ＊−（Ｗ−ＣＲ₁₁（Ｒ₁₂））_t −＊＊ 式中、Ｗは酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ₁₃−基を表
わし、Ｒ₁₁およびＲ₁₂は水素原子または置換基を表わ
し、Ｒ₁₃は置換基を表わし、ｔは１または２を表わす。
ｔが２のとき、２つの−Ｗ−ＣＲ₁₁（Ｒ₁₂）は同じもの
もしくは異なるものを表わす。Ｒ₁₁およびＲ₁₂が置換基
を表わすときおよびＲ₁₃の代表的な例は各々Ｒ₁₅基、Ｒ
₁₅ＣＯ−基、Ｒ₁₅ＳＯ₂ −基、Ｒ₁₅（Ｒ₁₆）ＮＣＯ−基
またはＲ₁₅（Ｒ₁₆）ＮＳＯ₂ −基が挙げられる。ここで
Ｒ₁₅は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わし、Ｒ
₁₆は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表
わす。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃の各々が２価基を表わし、連
結し、環状構造を形成する場合も包含される。一般式
（Ｔ−１）で表わされる基の具体例としては下記化５〜
化７のような基が挙げられる。

【００１６】

【化５】

【００１７】

【化６】

【００１８】

【化７】 （２）分子内求核置換反応を利用して開裂反応を起こさ
せる基 例えば米国特許第４，２４８，２９２号に記載のあるタ
イミング基が挙げられる。下記一般式で表わすことがで
きる。 一般式（Ｔ−２） ＊−Ｎｕ−Ｌｉｎｋ−Ｅ−＊＊ 式中、Ｎｕは求核基を表わし、酸素原子または硫黄原子
が求核種の例であり、Ｅは求電子基を表わし、Ｎｕより
求核攻撃を受けて＊＊印との結合を開裂できる基であり
ＬｉｎｋはＮｕとＥとが分子内求核置換反応することが
できるように立体的に関係づける連結基を表わす。一般
式（Ｔ−２）で表わされる基の具体例としては例えば下
記化８、化９に示すものである。

【００１９】

【化８】

【００２０】

【化９】 （３）共役系に沿った電子移動反応を利用して開裂反応
を起こさせる基。

【００２１】例えば米国特許第４，４０９，３２３号、
同第４，４２１，８４５号、特開昭５７−１８８０３５
号、同５８−９８７２８号、同５８−２０９７３６号、
同５８−２０９７３７号、同５８−２０９７３８号に記
載があり、下記化１０に示す一般式（Ｔ−３）で表わさ
れる基である。

【００２２】

【化１０】 式中、＊印、＊＊印、Ｗ、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂およびｔは一般式
（Ｔ−１）について説明したのと同じ意味を表わす。た
だし、Ｒ₁₁とＲ₁₂とが結合してベンゼン環または複素環
の構成要素となってもよい。また、Ｒ₁₁もしくはＲ₁₂と
Ｗとが結合してベンゼン環または複素環を形成してもよ
い。また、Ｚ₁ とＺ₂ はそれぞれ独立に炭素原子または
窒素原子を表わし、ｘとｙは０または１を表わす。Ｚ₁
が炭素原子のときｘは１であり、Ｚ₁ が窒素原子のとき
ｘは０である。Ｚ₂ とｙとの関係もＺ₁ とｘとの関係と
同じである。また、ｔは１または２を表わし、ｔが２の
とき２つの−〔Ｚ₁ （Ｒ₁₁）_x ＝（Ｘ₂ （Ｒ₁₂）_y〕−
は同じでも異なっていてもよい。また＊＊印に隣接する
−ＣＨ₂ −基は炭素数１ないし６のアルキル基またはフ
ェニル基で置換されてもよい。

【００２３】前記一般式（Ｔ−３）の具体例を下記化１
１〜化１４に挙げる。

【００２４】

【化１１】

【００２５】

【化１２】

【００２６】

【化１３】

【００２７】

【化１４】 （４）エステルの加水分解による開裂反応を利用する
基。

【００２８】例えば西独公開特許第２，６２６，３１５
号に記載のある連結基であり以下の基が挙げられる。式
中＊印および＊＊印は一般式（Ｔ−１）について説明し
たのと同じ意味である。 一般式（Ｔ−４） ＊−ＯＣＯ−＊＊ 一般式（Ｔ−５） ＊−ＳＣＳ−＊＊ （５）イミノケタールの開裂反応を利用する基。

【００２９】例えば米国特許第４，５４６，０７３号に
記載のある連結基であり、下記化１５に示す一般式（Ｔ
−６）で表わされる基である。

【００３０】

【化１５】 式中、＊印、＊＊印およびＷは一般式（Ｔ−１）におい
て説明したのと同じ意味であり、Ｒ₁₄はＲ₁₃と同じ意味
を表わす。一般式（Ｔ−６）で表わされる基の具体的例
としては下記化１６に示す基が挙げられる。

【００３１】

【化１６】 Ｌ₁ として好ましくは一般式（Ｔ−１）〜（Ｔ−５）で
示されるものであり、特に好ましくは（Ｔ−１）（Ｔ−
３）および（Ｔ−４）である。

【００３２】一般式（Ｉ）においてｊは、好ましくは０
または１である。

【００３３】一般式（Ｉ）においてＬ₂ で示される基は
３価以上のタイミング基を表わし、好ましくは次の一般
式（Ｔ−Ｌ₁ ）もしくは（Ｔ−Ｌ₂ ）で表わされるもの
である。 一般式（Ｔ−Ｌ₁ ） ＊−Ｗ−〔Ｚ₁ −（Ｒ₁₁）_x ＝Ｚ₂ （Ｒ₁₂）_y 〕_t −Ｃ
Ｈ₂ −＊＊ 式中Ｗ、Ｚ₁ 、Ｚ₂ 、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、ｘ、ｙおよびｔは一
般式（Ｔ−３）について説明したのと同じ意味を表わ
す。また＊印は一般式（Ｉ）中のＡ−（Ｌ₁ ）_j −と結
合する位置を、＊＊印は−（Ｌ₃ ）_n −ＰＵＧと結合す
る位置を表わす。ただし複数個存在するＲ₁₁またはＲ₁₂
のうちの少なくとも１つは置換もしくは無置換のメチレ
ン基で−（Ｌ₃ ）_n −ＰＵＧと結合する基を表わす。

【００３４】一般式（Ｔ−Ｌ₁ ）として好ましくはＷが
窒素原子を表わす場合であり、さらに好ましくはＷとＺ
₂ が結合して５員環を形成する場合であり、特に好まし
くはイミダゾール、もしくはピラゾール環を形成する場
合である。 一般式（Ｔ−Ｌ₂ ） ＊−Ｎ−（Ｚ₃ −＊＊）₂ 式中、＊印と＊＊印は一般式（Ｔ−Ｌ₁ ）と同義であ
る。Ｚ₃基は置換もしくは無置換のメチレン基を表わ
し、２つのＺ₃ 基は同じであっても異なっていてもよ
い。また２つのＺ₃ 基が結合して環を形成してもよい。

【００３５】一般式（Ｔ−Ｌ₁ ）および（Ｔ−Ｌ₂ ）の
具体例を下記化１７〜化２３に挙げるが本発明はこれら
に限定されるものではない。

【００３６】

【化１７】

【００３７】

【化１８】

【００３８】

【化１９】

【００３９】

【化２０】

【００４０】

【化２１】

【００４１】

【化２２】

【００４２】

【化２３】 ただし、ここで具体例に挙げた基はさらに置換基を有し
ていてもよく、そのような置換基としては例えばアルキ
ル基（例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチ
ル、ヘキシル、メトキシメチル、メトキシエチル、クロ
ロエチル、シアノエチル、ニトロエチル、ヒドロキシプ
ロピル、カルボキシエチル、ジメチルアミノエチル、ベ
ンジル、フェネチル）、アリール基（例えばフェニル、
ナフチル、４−ヒドロキシフェニル、４−シアノフェニ
ル、４−ニトロフェニル、２−メトキシフェニル、２，
６−ジメチルフェニル、４−カルボキシフェニル、４−
スルホフェニル）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル、
４−ピリジル、２−フリル、２−チエチル、２−ピロリ
ル）、ハロゲン原子（例えばクロロ、ブロモ）、ニトロ
基、アメコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、イソプ
ロポキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、
アルキルチオ基（例えばメチルチオ、イソプロピルチ
オ、ｔ−ブチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニ
ルチオ）、アミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、
ジイソプロピルアミノ）、アシルアミノ基（例えばアセ
チルアミノ、ベンゾイルアミノ）、スルホンアミド基
（例えばメタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド）、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニ
ル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル）、アリールオキシカルボニル（例えばフェノキシカ
ルボニル）もしくはカルバモイル基（例えばＮ−エチル
カルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル）が挙げられ
る。

【００４３】中でも好ましくはアルキル基、ニトロ基、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、お
よびカルバモイル基である。

【００４４】また一般式（Ｔ−Ｌ₁ ）で＊＊印に隣接す
る−ＣＨ₂ −基は炭素数１ないし６のアルキル基または
フェニル基で置換されていてもよい。

【００４５】一般式（Ｉ）においてｍは、好ましくは１
である。

【００４６】一般式（Ｉ）においてＬ₃ で表わされる基
は、Ｌ₁と同義である。

【００４７】一般式（Ｉ）においてｎは、好ましくは０
または１であり、特に好ましくは０である。

【００４８】一般式（Ｉ）においてＰＵＧで表わされる
写真性有用基は詳しくは例えば現像抑制剤、色素、カブ
ラセ剤、現像薬、カプラー、漂白促進剤、定着促進剤で
ある。好ましい写真性有用基の例は米国特許第４，２４
８，９６２号に記載のある写真性有用基（該特許中、一
般式ＰＵＧで表わされるもの）、特開昭６２−４９３５
３号に記載のある色素（該明細書中、カプラーより放出
される離脱基の部分）、米国特許第４，４７７，５６３
号に記載のある現像抑制剤、および特開昭６１−２０１
２４７号および特開平２−５５号等に記載のある漂白促
進剤（該明細書中、カプラーより放出される離脱基の部
分）が挙げられる。本発明において、写真性有用基とし
て特に好ましいものは現像抑制剤である。

【００４９】現像抑制剤として好ましくは下記化２４〜
化２９に示す一般式（ＩＮＨ−１）〜（ＩＮＨ−１３）
で表わされる基である。

【００５０】

【化２４】

【００５１】

【化２５】

【００５２】

【化２６】 式中Ｒ₂₁は水素原子または、置換もしくは無置換の炭化
水素基（例えばメチル、エチル、プロピル、フェニル）
を表わす。

【００５３】

【化２７】

【００５４】

【化２８】

【００５５】

【化２９】 式中＊は一般式（Ｉ）で表わされる化合物のＬ₂ もしく
はＬ₃ で表わされる基と結合する位置を表わす。

【００５６】また＊＊は置換基と結合する位置を表わ
し、置換基としては、例えば置換もしくは無置換の脂肪
族基、アリール基、ヘテロ環基が挙げられ、写真処理時
に処理液中で分解する基がこれら置換基中に含まれてい
ることが好ましい。

【００５７】具体的に脂肪族基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、デシル、イ
ソブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、２−メチ
ルチオエチル、ベンジル、４−メトキシベンジル、フェ
ネチル、１−メトキシカルボニルエチル、プロピルオキ
シカルボニルメチル、メトキシカルボニル、フェノキシ
カルボニル、２−（プロピルオキシカルボニル）エチ
ル、ブチルオキシカルボニルメチル、ペンチルオキシカ
ルボニルメチル、２−シアノエチルオキシカルボニルメ
チル、２，２−ジクロロエチルオキシカルボニルメチ
ル、３−ニトロプロピルオキシカルボニルメチル、４−
ニトロベンジルオキシカルボニルメチル、２，５−ジオ
キソ−３，６−ジオキサデシル、−ＣＯ₂ ＣＨ₂ ＣＯ₂
Ｒ₁₀₀ で表わされる基が挙げられる。

【００５８】ここでＲ₁₀₀ は炭素数１ないし８の無置換
アルキル基を表わす。またアリール基としては、例えば
フェニル、ナフチル、４−メトキシカルボニルフェニ
ル、４−エトキシカルボニルフェニル、２−メチルチオ
フェニル、３−メトキシカルボニルフェニル、４−（２
−シアノエチルオキシカルボニル）−フェニルが挙げら
れる。

【００５９】またヘテロ環基としては、例えば４−ピリ
ジル、３−ピリジル、２−ピリジル、２−フリル、２−
テトラヒドロピラニルが挙げられる。

【００６０】これらの中でＩＮＨとして好ましくは（Ｉ
ＮＨ−１）、（ＩＮＨ−２）、（ＩＮＨ−３）、（ＩＮ
Ｈ−４）、（ＩＮＨ−９）および（ＩＮＨ−１２）であ
り、特に好ましくは（ＩＮＨ−１）、（ＩＮＨ−２）お
よび（ＩＮＨ−３）である。

【００６１】またＩＮＨと結合する置換基として好まし
くは脂肪族基または置換もしくは無置換のフェニル基で
ある。

【００６２】一般式（Ｉ）で表わされる化合物として特
に好ましくは以下一般式（Ｉａ）もしくは（Ｉｂ）で表
わされる化合物である。 一般式（Ｉａ） Ａ−（Ｌ₁ ）_j −Ｗ−〔Ｚ₁ −（Ｒ₁₁）_x ）＝Ｚ₂ （Ｒ
₁₂）_y 〕_t−ＣＨ₂ −ＰＵＧ 一般式（Ｉｂ） Ａ−Ｌ₁ −Ｎ−（Ｚ₃ −ＰＵＧ）₂ 式中の記号は一般式（Ｉ）、（Ｔ−Ｌ₁ ）および（Ｔ−
Ｌ₂ ）と同義である。一般式（Ｉａ）においてｊは０ま
たは１が好ましい。一般式（Ｉａ）および（Ｉｂ）にお
いてＬ₁ としては−ＯＣ（＝Ｏ）−基が好ましく、また
ＰＵＧとしては現像抑制剤が好ましい。

【００６３】ただし、複数の写真性有用基が異なる機能
のものである場合、タイミング基は分子内求核置換を利
用するものではない。

【００６４】またここで写真性有用基の機能とは現像抑
制剤、色素、カブラセ剤、現像薬、カプラー、漂白促進
剤、もしくは定着剤等が示す機能を意味する。

【００６５】さらに、同一化合物中から放出される２つ
以上のＰＵＧは同一現像抑制剤であることが特に好まし
い。

【００６６】次に一般式(II)で表わされる化合物につい
て説明する。一般式(II)においてＡとＰＵＧは一般式
（Ｉ）と同義である。Ｌ₄ は−ＯＣＯ−基、−ＯＳＯ−
基、−ＯＳＯ₂ −基、−ＯＣＳ−基、−ＳＣＯ−基、−
ＳＣＳ−基または−ＷＣＲ₁₁Ｒ₁₂−基を表わす。ここで
Ｗ、Ｒ₁₁およびＲ₁₂は一般式（Ｉ）で表わされる化合物
のＬ₁ の説明における一般式（Ｔ−１）中の定義と同義
である。

【００６７】Ｌ₄ が−ＷＣＲ₁₁Ｒ₁₂−基を表わすときの
好ましい例としてはＷが酸素原子または３級アミノ基を
表わすときであり、さらに好ましくはＬ₄ が−ＯＣＨ₂
−基またはＷとＲ₁₁もしくはＲ₁₂が環を形成する基を表
わす場合である。

【００６８】またＬ₄ が−ＷＣＲ₁₁Ｒ₁₂−以外の基を表
わす場合好ましくは−ＯＣＯ−基、−ＯＳＯ−基、−Ｏ
ＳＯ₂ −基であり、特に好ましくは−ＯＣＯ−基であ
る。

【００６９】Ｌ₅ で表わされる基は、共役系に沿った電
子移動でＰＵＧを放出する基もしくはＬ₄ で定義される
基を表わす。共役系に沿った電子移動によりＰＵＧを放
出する基は一般式（Ｉ）のＬ₁ の説明の中の一般式（Ｔ
−３）で表わされる基と同義である。Ｌ₅ として好まし
くは共役系に沿った電子移動によりＰＵＧを放出する基
であり、さらに好ましくは窒素原子でＬ₄ と結合しうる
基である。

【００７０】一般式(II)で表わされる化合物のうち好ま
しいものは下記化３０に示す一般式(III)もしくは下記
化３１に示す一般式(IV)で表わされる化合物である。

【００７１】

【化３０】 式中Ａは一般式（Ｉ）と同義である。Ｒ₁₀₁ とＲ₁₀₂ は
それぞれ独立に水素原子もしくは置換基を表わす。Ｒ
₁₀₃ とＲ₁₀₄ はそれぞれ独立に水素原子もしくは置換基
を表わす。ＩＮＨは現像抑制能を有する基を表わす。Ｒ
₁₀₅ は無置換のフェニル基もしくは１級アルキル基また
はアリール基以外の基で置換された１級アルキル基を表
わす。ただしＲ₁₀₁ 〜Ｒ₁₀₄ のうち少なくとも１つは水
素原子以外の置換基である。

【００７２】

【化３１】 一般式 (III)で表わされる化合物について更に詳しく説
明する。

【００７３】一般式 (III)においてＡは一般式（Ｉ）同
義である。Ｒ₁₀₁ およびＲ₁₀₂ はそれぞれ独立に水素原
子もしくは置換基を表わす。置換基として具体的にはア
リール基( フェニル、ナフチル、ｐ−メトキキフェニ
ル、ｐ−ヒドロキシフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｏ
−クロロフェニルなど）、アルキル基（メチル、エチ
ル、イソプロピル、プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｔｅ
ｒｔ−アミル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、オクチ
ル、メトキシメチル、１−メトキシエチル、２−クロロ
エチルなど）、ハロゲン原子（フルオロ、クロロ、ブロ
モ、ヨード）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、イ
ソプロピルオキシ、プロピルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチル
オキシ、イソブチルオキシ、ブチルオキシ、オクチルオ
キシ、２−メトキシエトキシ、２−クロロエトキシ、ニ
トロメチル、２−シアノエチル、２−カルバモイルエチ
ル、または２−ジメチルカルバモイルエチルなど）、ア
リールオキシ基（フェノキシ、ナフトキシ、またはｐ−
メトキシフェノキシなど）、アルキルチオ基（メチルチ
オ、エチルチオ、イソプロピルチオ、プロピルチオ、ｔ
ｅｒｔ−ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチル
チオ、オクチルチオまたは２−メトキシエチルチオな
ど）アリールチオ基（フェニルチオ、ナフチルチオ、ま
たはｐ−メトキシフェニルチオなど）、アミノ基（アミ
ノ、メチルアミノ、フェニルアミノ、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、またはフェニ
ルメチルアミノなど）、カルバモイル基（カルバモイ
ル、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエ
チルカルバモイル、ジイソプロピルカルバモイル、エチ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ｔｅｒｔ
−ブチルカルバモイル、フェニルカルバモイルまたはフ
ェニルメチルカルバモイルなど）、スルファモイル基
（スルファモイル、メチルスルファモイル、エチルスル
ファモイル、イソプロピルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル、オクチルスルファモイル、ジメチルスル
ファモイル、ジエチルスルファモイル、ジイソプロピル
スルファモイル、ジヘキシルスルファモイル、またはフ
ェニルメチルスルファモイルなど）、アルコキシカルボ
ニル（メトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニ
ル、イソプロピルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチル
オキシカルボニル、ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボニ
ル、またはオクチルオキシカルボニルなど）、アリール
オキシカルボニル（フェノキシカルボニルまたはｐ−メ
トキシフェノキシカルボニルなど）、アシルアミノ基
（アセチルアミノ、プロパノイルアミノ、ペンタノイル
アミノ、Ｎ−メチルアセチルアミノ、またはベンゾイル
アミノなど）、スルホンアミド基（メタンスルホンアミ
ド、エタンスルホンアミド、ペンタンスルホンアミド、
ベンゼンスルホンアミドまたはｐ−トルエンスルホンア
ミドなど）、アルコキシカルボニルアミノ基（メトキシ
カルボニルアミノ、イソプロピルオキシカルボニルアミ
ノ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノまたはヘキシ
ルオキシカルボニルアミノなど）、アリールオキシカル
ボニルアミノ基（フェノキシカルボニルアミノなど）、
ウレイド基（３−メチルウレイド、または３−フェニル
ウレイドなど）、シアノ基もしくはニトロ基などが挙げ
られる。

【００７４】Ｒ₁₀₁ とＲ₁₀₂ は同じでも異なっていても
よいが、両者の式量の和が１２０未満であることが好ま
しい。また好ましい置換基としてはアルキル基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基が挙げられ、特に好ましくはアル
キル基である。

【００７５】一般式 (III)においてＲ₁₀₃ とＲ₁₀₄ で表
わされる基はそれぞれ独立に水素原子もしくはアルキル
基を表わす。アルキル基としてはメチル、エチル、イソ
プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、ヘキシル、
または２−メトキシエチルなどが挙げられる。Ｒ₁₀₃お
よびＲ₁₀₄ として好ましくは水素原子、メチル基、もし
くはエチル基であり、特に好ましくは水素原子である。

【００７６】一般式 (III)においてＲ₁₀₅ で表わされる
基は無置換のフェニル基もしくは１級アルキル基、また
はアリール基以外の基で置換された１級アルキル基を表
わす。アルキル基としてはエチル、プロピル、ブチル、
イソブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチ
ル、ヘキシル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチ
ル、４−メチルペンチル、２−エチルブチル、ヘプチ
ル、またはオクチルなどが挙げられる。置換基として
は、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキ
シカルボニル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、シアノ
基、ニトロ基、もしくは−ＣＯ₂ ＣＨ₂ ＣＯ₂ Ｒ₁₀₆ で
表わされる基などが挙げられ、それぞれの基の具体例と
してはＲ₁₀₁ およびＲ₁₀₂ の置換基で挙げられたものの
中でアリール基を含む基を除いたものなどが挙げられ
る。

【００７７】またＲ₁₀₆ は炭素数３ないし６の無置換ア
ルキル基（プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、
イソペンチル、ヘキシルなど）を表わす。

【００７８】さらにＲ₁₀₅ は２種類以上の置換基で置換
されていてもよい。Ｒ₁₀₅ の置換基として好ましくはフ
ルオロ、クロロ、アルコキシ基、アルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、もしくは−
ＣＯ₂ ＣＨ₂ ＣＯ₂ Ｒ₁₀₆ である。これらのうちで特に
好ましくはアルコキシカルボニル基、もしくは−ＣＯ₂
ＣＨ₂ ＣＯ₂ Ｒ₁₀₆ 基である。

【００７９】またＲ₁₀₅ として好ましくはフェニル基、
もしくは炭素数２ないし６の１級無置換アルキル基、ま
たは前述したＲ₁₀₅ の好ましい置換基として挙げた基に
より置換された１級アルキル基である。特に好ましくは
炭素数３ないし５の１級無置換アルキル基またはアルコ
キシカルボニル基で置換された１級アルキル基である。

【００８０】一般式 (III)においてＩＮＨで表わされる
基は、現像抑制能を有する基を表わし、その具体例は一
般式（Ｉ）のＰＵＧの説明で挙げた（ＩＮＨ−１）〜
（ＩＮＨ−１３）である。その好ましい範囲等も一般式
（Ｉ）と同じである。

【００８１】一般式 (IV) で表わされる化合物について
詳しく説明する。

【００８２】一般式 (IV) において、Ａ、ＩＮＨ、およ
びＲ₁₀₅ は一般式 (III)と同義である。

【００８３】Ｒ₁₁₁ 、Ｒ₁₁₂ およびＲ₁₁₃ はそれぞれ水
素原子もしくは有機残基を表わし、Ｒ₁₁₁ 、Ｒ₁₁₂ およ
びＲ₁₁₃ の任意の２つの２価基となって連結し、環を形
成してもよい。

【００８４】前記Ｒ₁₁₁ 、Ｒ₁₁₂ およびＲ₁₁₃それぞれ
が水素原子もしくは、１価の有機基を表わす場合につい
て説明する。

【００８５】Ｒ₁₁₂ およびＲ₁₁₃ が１価の有機基を表わ
す場合、有機基としてはアルキル基（メチル、エチルな
ど）もしくはアリール基（フェニルなど）が好ましい。
Ｒ₁₁₂ およびＲ₁₁₃ として好ましくは少なくともいずれ
かが水素原子である場合であり、特に好ましくはＲ₁₁₂
とＲ₁₁₃ が水素原子であるときである。

【００８６】Ｒ₁₁₁ は有機基を表わし好ましくは以下に
挙げる基である。アルキル基（例え波メチル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｓｅｃ
−ブチル、ネオペンチル、ヘキシル）、アリール基（例
えばフェニル）、アシル基（例えばアセチル、ベンゾイ
ル）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル、ベンゼ
ンスルホニル）、カルバモイル基（例えばエチルカルバ
モイル、フェニルカルバモイル）、スルファモイル基
（例えばエチルスルファモイル、フェニルスルファモイ
ル），アルコキシカルボニル基（例えばエトキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニ
ル基（例えばフェノキシカルボニル、４−メチルフェノ
キシカルボニル）、アルコキシスルホニル基（例えばブ
トキシスルホニル、エトキシスルホニル）、アリールオ
キシスルホニル基（例えばフェノキシスルホニル、４−
メトキシフェノキシスルホニル）、シアノ基、ニトロ
基、ニトロソ基、チオアシル基（例えばチオアセチル、
チオベンゾイル）、チオカルバモイル基（例えばエチル
チオカルバモイルなど）、イミドイル基（例えばＮ−エ
チルイミドイル）、アミノ基（例えばアミノ、ジメチル
アミノ、メチルアミノ）、アシルアミノ基（例えばホル
ミルアミノ、アセチルアミノ、Ｎ−メチルアセチルアミ
ノ）、アルコキシ基（例えばメトキシ、イソプロピルオ
キシ）、またはアリールオキシ基（例えばフェノキシ）
である。

【００８７】またこれらの基は更に置換基を有していて
もよく、置換基としてはＲ₁₁₁ として挙げた基のほか、
ハロゲン原子（フルオロ、クロロ、ブロモなど）、カル
ボキシル基、スルホ基などが挙げられる。

【００８８】Ｒ₁₁₁ としては、水素原子以外の原子の数
が１５以下であることが好ましい。

【００８９】またＲ₁₁₁ として更に好ましくは、置換も
しくは無置換のアルキル基もしくはアリール基であり、
特に好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基であ
る。

【００９０】次に、Ｒ₁₁₁ 、Ｒ₁₁₂ およびＲ₁₁₃ で表わ
される基において、これらのうちの任意の２つが２価基
となって連結し、環を形成する場合について説明する。

【００９１】形成する環の大きさとしては、４ないし８
員環が好ましく、より好ましくは４ないし６員環を形成
する場合である。

【００９２】２価基として好ましくは以下に挙げる基で
ある。

【００９３】−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ₁₁₄ ）−、−ＳＯ₂
−Ｎ（Ｒ₁₁₄ ）−、−（ＣＨ₂ ）₃ −、−（ＣＨ₂ ）₄
−、−（ＣＨ₂ ）₅ −、−Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ₂ ）
₂ −、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ₁₁₄ ）−Ｃ（＝Ｏ）−、−
ＳＯ₂ −Ｎ（Ｒ₁₁₄ ）−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−
Ｃ（Ｒ₁₁₄ ）（Ｒ₁₁₅）−、−（ＣＨ₂ ）₂ −Ｏ−ＣＨ
₂ −である。

【００９４】ここで、Ｒ₁₁₄ およびＲ₁₁₅ は水素原子も
しくはＲ₁₁₁ が１価の有機基を表わす場合と同義であ
り、Ｒ₁₁₄ とＲ₁₁₅ は同じであっても異なっていてもよ
い。

【００９５】Ｒ₁₁₁ 、Ｒ₁₁₂ 、Ｒ₁₁₃ のうち２価基とし
て参与しない残りの基は、水素原子もしくは１価の有機
基を表わし、有機基の具体例等は環を形成しない場合に
示したＲ₁₁₁ 、Ｒ₁₁₂ 、Ｒ₁₁₃ の場合と同じである。Ｒ
₁₁₁ 、Ｒ₁₁₂ 、Ｒ₁₁₃ のうちの任意の２つが結合し、環
を形成する場合、好ましくはＲ₁₁₂ とＲ₁₁₃ のいずれか
が水素原子であり、残りのＲ₁₁₂ ないしＲ₁₁₃ がＲ₁₁₁
と環を形成する場合であり、更に好ましくは先に挙げた
２価基の左端が一般式（Ｉ）の窒素原子と結合し、右端
が炭素原子と結合する場合である。

【００９６】またＲ₁₁₁ 、Ｒ₁₁₂ 、Ｒ₁₁₃ として好まし
くは環を形成せずそれぞれが水素原子もしくは１価の有
機基を表わす場合である。

【００９７】一般式（Ｉ）および(II)においてＡとＰＵ
Ｇで表わされる基を除いた残基の式量は６４以上２４０
以下であることが好ましく、更に好ましくは７０以上２
００以下であり、特に好ましくは９０以上１８０以下で
ある。式量が小さすぎると、実質的な２段タイミングに
することが困難であり、式量が大きいとタイミングの調
節は容易になるが、膜中の拡散性が低くなり、それによ
る隣接現像効果（エッジ効果）と層間効果の減少をもた
らす。

【００９８】以下に本発明の一般式（Ｉ）〜(IV)で表わ
される化合物の具体例を下記化３２〜化６６に示すが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。

【００９９】なお、一般式（Ｉ）においてＡがカプラー
残基を表わすものについては（ＣＡ）を頭に付けた番号
で、一般式(II)〜(IV)においてＡがカプラー残基を表わ
すものについては（ＣＢ）を頭に付けた番号で、一般式
（Ｉ）〜(IV)においてＡが酸化還元基を表わすものにつ
いては（ＳＡ）を頭に付けた番号で示した。

【０１００】

【化３２】

【０１０１】

【化３３】

【０１０２】

【化３４】

【０１０３】

【化３５】

【０１０４】

【化３６】

【０１０５】

【化３７】

【０１０６】

【化３８】

【０１０７】

【化３９】

【０１０８】

【化４０】

【０１０９】

【化４１】

【０１１０】

【化４２】

【０１１１】

【化４３】

【０１１２】

【化４４】

【０１１３】

【化４５】

【０１１４】

【化４６】

【０１１５】

【化４７】

【０１１６】

【化４８】

【０１１７】

【化４９】

【０１１８】

【化５０】

【０１１９】

【化５１】

【０１２０】

【化５２】

【０１２１】

【化５３】

【０１２２】

【化５４】

【０１２３】

【化５５】

【０１２４】

【化５６】

【０１２５】

【化５７】

【０１２６】

【化５８】

【０１２７】

【化５９】

【０１２８】

【化６０】

【０１２９】

【化６１】

【０１３０】

【化６２】

【０１３１】

【化６３】

【０１３２】

【化６４】

【０１３３】

【化６５】

【０１３４】

【化６６】 本発明の化合物の合成は、例えば米国特許第４，８４
７，３８３号、同４，７７０，９９０号、同４，６８
４，６０４号、同４，８８６，７３６号、特開昭６０−
２１８６４５号、同６１−２３０１３５号、特開平２−
３７０７０号、同２−１７０８３２号、および同２−２
５１１９２号に記載の方法もしくは類似の方法を利用す
ることができる。

【０１３５】以下に具体的合成例について述べる。

【０１３６】（合成例１）例示化合物（ＣＡ−１）の合
成 下記化６７に示す合成ルートにより合成した。

【０１３７】

【化６７】 ＣＡ−１ａ（３．４０ｇ）を塩化チオニル（３０ｍｌ）
中６０℃で１時間反応させた後過剰の塩化チオニルを減
圧下留去した。この残渣をＣＡ−１ｂ（７．４８ｇ）と
ジイソプロピルエチルアミン（１０．５ｍｌ）のジメチ
ルホルムアミド溶液（０℃）に加え１時間攪拌した。そ
の後この溶液を水（５００ｍｌ）中にあけ生じた結晶を
濾取することによりＣＡ−１ｃを粗結晶として９．８ｇ
得た。構造はＮＭＲにより確認した。

【０１３８】ＣＡ−１ｃ（３．２０ｇ）とＣＡ−１ｄ
（１．３８ｇ）を１，２−ジクロロエタン（３０ｍｌ）
中で１時間反応させた。そこに、ＣＡ−１ｅ（３．２０
ｇ）の酢酸エチル（２０ｍｌ）溶液を水冷下で加え、続
いてジイソプロピルエチルアミン（４．５ｍｌ）を加え
た後１時間攪拌した。

【０１３９】１規定塩酸で反応を止め、クロロホルム
（３０ｍｌ）を加え反応液を希釈した。その後反応液を
水で３回水洗し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。有機溶媒を留去して得られた油状物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン＝１：
５）にて精製することにより例示化合物ＣＡ−１を１．
２０ｇ得た。構造はＮＭＲにより確認した。ｍ．ｐ．１
３３．０〜１３４．０℃。

【０１４０】（合成例２）例示化合物（ＣＡ−１２）の
合成 下記化６８に示す化合物ルートにより合成した。

【０１４１】

【化６８】 ＣＡ−１２ａ（１０．７ｇ）と３７％ホルマリン水溶液
（３０ｍｌ）を酢酸（１００ｍｌ）中７０℃で５時間反
応させた後、溶媒を減圧下で留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン＝
２：１）にて精製することによりＣＡ−１２ｂを６．４
ｇ（収率５３％）得た。

【０１４２】次に、ＣＡ−１２ｂ（３．２ｇ）とＣＡ−
１２ｃ（２．１ｇ）をクロロホルム（４０ｍｌ）に懸濁
させ、そこにヨウ化亜鉛（５．７ｇ）を加え室温で２時
間反応させた。１Ｎ塩酸で反応を止めクロロホルム４０
ｍｌで希釈した後反応液を水で２回洗浄した。有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥・濃縮後得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン＝
１：４）にて精製することにより例示化合物（ＣＡ−１
２）を４．１ｇ（収率２５％）得た。構造はＮＭＲ、マ
ス、元素分析により確認した。

【０１４３】（合成例３）例示化合物（ＣＢ−２）の合
成 下記化６９に示す合成ルートにより合成した。

【０１４４】

【化６９】 ＣＢ−２ａ（１０ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３０ｍ
ｌ）に懸濁させ、そこに塩化チオニル（２０ｍｍｏｌ）
を加え５０℃で１時間反応させた後溶媒を留去する。こ
こで得られた残渣をＣＢ−２ｂ（１０ｍｍｏｌ）とジイ
ソプロピルエチルアミン（２０ｍｍｏｌ）のジメチルホ
ルムアミド（３０ｍｌ）溶液に加え１時間反応させた後
氷水（２００ｍｌ）中にあける。クロロホルム５０ｍｌ
を加え攪拌した後水相を分離し、有機層を水（１００ｍ
ｌ）で更に２回洗浄した後硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮
することによりＣＢ−２ｃを得た。

【０１４５】得られたＣＢ−２ｃをクロロホルム（３０
ｍｌ）に溶かし、そこにクロロ炭酸ニトロフェニル（１
０ｍｍｏｌ）を加え１時間反応させた後ＣＢ−２ｄ（１
０ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（５０ｍｌ）溶液を加え、更
にジイソプロピルエチルアミン（５０ｍｍｏｌ）を加え
た後１時間反応させる。１Ｎ液酸（１０ｍｌ）を加え反
応を止めた後酢酸エチル（１０ｍｌ）で希釈する。有機
層は水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮する。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
液：酢酸エチル−ヘキサン＝１：３）にて精製すること
により例示化合物ＣＢ−２を１．９４ｇ（２３％収率）
得る。ｍ．ｐ．１０１．５〜１０２．５℃。

【０１４６】（合成例４）例示化合物ＣＢ−３の合成 下記化７０に示す合成ルートにて合成した。

【０１４７】

【化７０】 （ＣＢ−３ａ）を原料として例示化合物ＣＢ−２と同様
の方法により合成することができる。収率３１％。ｍ．
ｐ．６８．０〜６９．０℃。

【０１４８】（合成例５）例示化合物（ＣＢ−１１）の
合成 下記化７１に示す合成ルートにより合成した。

【０１４９】

【化７１】 （ＣＢ−１１ａ）２００ｇと（ＣＢ−１１ｂ）３４．７
ｇを酢酸エチル（５００ｍｌ）に溶解し、そこにジイソ
プロピルエチルアミン（１４２ｍｌ）を加え、４時間攪
拌した。析出した結晶を濾取し酢酸エチルで洗浄するこ
とにより（ＣＢ−１１ｃ）を１７６ｇ（７５％）得た。

【０１５０】（ＣＢ−１１ｃ）５３．６ｇとパラホルム
アルデヒド（２７．９ｇ）を１，２−ジクロロエタン
（５００ｍｌ）と酢酸（５４ｍｌ）の混合液中還流下４
時間反応させた。室温に冷却後、反応液を水洗し無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をクロ
ロホルムを溶出液とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製することにより（ＣＢ−１１ｄ）を２
３．２ｇ（４１．２％）得た。

【０１５１】（ＣＢ−１１ｄ）２３．２ｇと（ＣＢ−１
１ｅ）６．７８ｇをクロロホルム（２５０ｍｌ）に溶解
し、そこに沃化亜鉛２６．８８ｇを加え、３時間攪拌し
た。１Ｎ塩酸を加えた後反応液を水洗した。有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサ
ン＝１：４）にて精製することにより例示化合物（ＣＢ
−１１）を７．０ｇ（２３．９％）得た。ｍ．ｐ．１１
７．０〜１１８．５℃。

【０１５２】（合成例６）例示化合物（ＣＢ−１３）の
合成 合成例５と同様の方法により合成した。ｍ．ｐ．６１．
５〜６３．０℃。

【０１５３】（合成例７）例示化合物（ＣＢ−１９）の
合成 特開昭６０−２１８６４５号の合成例２と同様の方法に
より合成することができる。収率７％、ｍ．ｐ．１１５
℃。

【０１５４】（合成例８）例示化合物（ＳＡ−５）の合
成 下記化７２に示す合成ルートにより合成した。

【０１５５】

【化７２】 ＳＡ−５ａ（特開昭６１−２３０１３５号に記載の方法
と同様の方法にて合成した）１１．６ｇを水冷下塩化チ
オニル３０ｍｌに加え５０℃で更に１時間反応させた。
過剰の塩化チオニルを減圧下で留去し、析出した結晶を
少量の氷冷したクロロホルムで洗浄することによりＳＡ
−５ｂを粗結晶として得た。次にＳＡ−５ｂ（１３．１
ｇ）をＳＡ−５ｃ（７．２ｇ）とトリエチルアミン１
２．１ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍ
ｌ）溶液に０℃で加え、その後室温で１時間さらに反応
させた。

【０１５６】２Ｎ液酸６０ｍｌと氷水３００ｍｌの水溶
液に反応混合物をあけ、更に酢酸エチル３００ｍｌを加
え攪拌した。その液を分液ロートに移し油層をとり、水
で数回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、
濃縮後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢
酸エチル−ヘキサン＝１／４〜１／１（Ｖ／Ｖ）を溶出
液として用いた）にて精製することにより例示化合物Ｓ
Ａ−５をアモルファスとして３．７ｇ得た。

【０１５７】本発明の一般式（Ｉ）または(II)で表わさ
れる化合物は、感光材料中のいかなる層に添加してもよ
いが、感光性乳剤層および／またはその隣接層に添加す
ることが好ましく、赤感光性乳剤層および／または緑感
性乳剤層に添加することが特に好ましい。同一の感色性
層が感度の異なる２層以上に分かれている場合には、最
高感度層、最低感度層および中間感度層のいずれの層に
添加してもよい。

【０１５８】また、前記感光材料中への総添加量は０．
００１〜１．０ｇ／ｍ² であり、好ましくは０．０１０
〜０．５ｇ／ｍ² 、より好ましくは０．０２０〜０．４
０ｇ／ｍ² 、更に好ましくは０．０３０〜０．３０ｇ／
ｍ² である。

【０１５９】本発明で用いられるアルデヒド化合物と反
応してこれを固定する化合物（アルデヒドスカベンジャ
ー）とは下記化７３、化７４に示す一般式〔Ａ〕、
〔Ｂ〕で表わされる化合物で、以下で定義される活性水
素１単位当りの相当分子量が３００以下のものである。

【０１６０】〔相当分子量〕＝〔分子量〕÷〔分子中の
活性水素〕

【０１６１】

【化７３】

【０１６２】

【化７４】 ここでＲ₁₁およびＲ₁₂は水素原子、アルキル基（例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル）、置換アルキル基、ア
ラルキル基（例えばベンジル）、置換アラルキル基、ア
リール基（例えばフェニル、ナフチル）、置換アリール
基、アシル基（例えばアセチル、マロニル、ベンゾイ
ル、シンナモイル）、アルコキシカルボニル基（例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、カルバモ
イル基、アルキルカルバモイル基（例えばメチルカルバ
モイル、エチルカルバモイル）、ジアルキルカルバモイ
ル基（例えばジメチルカルバモイル）、アリールカルバ
モイル基（例えばフェニルカルバモイル）、またはアミ
ノ基、アルキルアミノ基（例えばメチルアミノ、エチル
アミノ）、アリールアミノ基（例えばフェニルアミノ、
ナフチルアミノ）、およびハロゲン原子（例えば塩素原
子、臭素原子）を表わし、Ｒ₁₁とＲ₁₂の炭素数はそれぞ
れ２０を越えることはなく、Ｒ₁₁とＲ₁₂は環を形成して
もよく、Ｒ₁₁とＲ₁₂の少なくとも一方は、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基、またはアミノ
基である。ここでアルキル基、アリール基およびアルケ
ニル基の置換基としては、ニトロ基、水酸基、シアノ
基、スルホ基、アルコキシ基（例えばメトキシ）、アリ
ールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基
（例えばアセトキシ）、アシルアミノ基（例えばアセチ
ルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホン
アミド）、スルファモイル基（例えばメチルスルファモ
イル）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、
臭素原子）、カルボキシル基、カルバモイル基（例えば
メチルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例え
ばメトキシカルボニル）、スルホニル基（例えばメチル
スルホニル）が挙げられる。この置換基が２つ以上ある
ときは同じでも異なってもよい。

【０１６３】Ｘは、−ＣＨ＝、−ＣＲ₁₁＝、または−Ｎ
＝を表わす。Ｒ₁₃はアルキル基、置換アルキル基、アラ
ルキル基（例えばベンジル基）、置換アラルキル基、ア
リール基、置換アリール基を表わし、これらのアリール
基や置換アリール基は５員ないし７員環と縮合環を形成
してもよい。また、これらの置換基としては、ニトロ
基、水酸基、シアノ基、スルホ基、アルコキシ基（例え
ばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキ
シ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アシルア
ミノ基（例えばアセチルアミノ）、スルホンアミド基
（例えばメタンスルホンアミド）、スルファモイル基
（例えばメチルスルファモイル）、ハロゲン原子（例え
ばフッ素原子、塩素原子、臭素原子）、カルボキシル
基、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル）、ア
ルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、
スルホニル基（例えばメチルスルホニル）が挙けられ
る。この置換基が２つ以上あるときは同じでも異なって
もよい。ｎは、２以上の整数を表わす。

【０１６４】一般式〔Ａ〕で表わされる化合物は、一般
式〔Ｂ〕で表わされる化合物より好ましい。

【０１６５】一般式〔Ａ〕および〔Ｂ〕で表わされるホ
ルマリンスカベンジャーとして好ましいものは、下記化
７５〜化８２に示される一般式（Ａ−１）から（Ａ−
８）、下記化８３、化８４に示される一般式（Ｂ−１）
および（Ｂ−２）で表わされる化合物である。ただし、
ケトーエノール互変異性体も含まれる。

【０１６６】

【化７５】

【０１６７】

【化７６】

【０１６８】

【化７７】

【０１６９】

【化７８】

【０１７０】

【化７９】

【０１７１】

【化８０】

【０１７２】

【化８１】

【０１７３】

【化８２】

【０１７４】

【化８３】

【０１７５】

【化８４】 ここでＲ₁₄からＲ₃₅およびＲ₃₇〜Ｒ₃₉は、水素原子、ハ
ロゲン原子（例えば、塩素原子など）、アルキル基（例
えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基など）、置
換アルキル基、アラルキル基（例えばベンジル）、置換
アラルキル基、アリール基（例えばフェニル、ナフチ
ル）、置換アリール基を表わし、Ｒ₁₄〜Ｒ₃₅の炭素数は
それぞれ２０を越えることなく、Ｒ₂₁、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃およ
びＲ₂₄のうちいずれか１つ、並びにＲ₂₉〜Ｒ₃₃のいずれ
かひとつは水素原子でなければならない。ここでアルキ
ル基、アリール基およびアラルキル基の置換基として
は、ニトロ基、水酸基、シアノ基、スルホ基、アルコキ
シ基（例えばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフ
ェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、ア
シルアミノ基（例えばアセチルアミノ）、スルホンアミ
ド基（例えばメタンスルホンアミド）、スルファモイル
基（例えばメチルスルファモイル）、ハロゲン原子（例
えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子）、カルボキシル
基、ウレイド基（例えばウレイド、３−メチルウレイ
ド）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル）、
アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニ
ル）、スルホニル基（例えばメチルスルホニル）が挙げ
られる。この置換基が２つ以上あるときは同じでも異な
ってもよい。

【０１７６】Ｒ₃₆は、ハロゲン原子（例えば塩素原子、
臭素原子）、アルキル基、置換アルキル基、アラルキル
基、置換アラルキル基、アリール基、置換アリール基、
複素環基、カルボニル基（例えばメチルカルボニル、フ
ェニルカルボニル）、スルホニル基（例えばメチルスル
ホニル、フェニルスルホニル）、カルボキシル基、−Ｃ
Ｓ−ＮＨ₂ 、−ＣＳ−ＮＨＲ（Ｒはアリール基を表わ
す）、−Ｃ−（ＮＨ）−ＮＨ₂ を表わす。

【０１７７】Ｒ₁₄とＲ₁₅、Ｒ₁₆とＲ₁₇、Ｒ₃₄とＲ₃₅は環
を形成してもよく、Ｒ₁₈〜Ｒ₂₀、Ｒ₂₁〜Ｒ₂₄、Ｒ₂₅〜Ｒ
₂₈、Ｒ₂₉〜Ｒ₃₃およびＲ₃₆〜Ｒ₃₉は各々の群の中のいず
れか２つの置換基が環を形成してもよい。ｍは、３〜６
の整数、ｋは２以上の整数をあらわす。

【０１７８】一般式〔Ａ−１〕ないし〔Ａ−８〕、〔Ｂ
−１〕および〔Ｂ−２〕で表わされるアルデヒドスカベ
ンジャーのなかで、より好ましいのは一般式〔Ａ−３〕
〜〔Ａ−８〕で表わされる化合物である。

【０１７９】その中でも、とりわけ好ましいホルマリン
スカベンジャーは、下記化８５、化８６に示す一般式
〔Ａ−３ａ〕及び〔Ａ−３ｂ〕で表わされるものであ
り、この２種を併用すると更に好ましい。

【０１８０】

【化８５】

【０１８１】

【化８６】 本発明のアルデヒドスカベンジャーの具体例を下記化８
７〜化１０１に挙げるが、これらに限定されるわけでは
ない。

【０１８２】

【化８７】

【０１８３】

【化８８】

【０１８４】

【化８９】

【０１８５】

【化９０】

【０１８６】

【化９１】

【０１８７】

【化９２】

【０１８８】

【化９３】

【０１８９】

【化９４】

【０１９０】

【化９５】

【０１９１】

【化９６】

【０１９２】

【化９７】

【０１９３】

【化９８】

【０１９４】

【化９９】

【０１９５】

【化１００】

【０１９６】

【化１０１】 ここで化合物（Ｓ−１０）は１個のくり返し単位を持つ
オリゴマーまたはポリマーである。

【０１９７】ホルマリンスカベンジャー（Ｓ−１）〜
（Ｓ−６）および（Ｓ−１２）〜（Ｓ−２３）は通常に
市販されている化合物であり、（Ｓ−７）〜（Ｓ−１
１）は、ブレテイン・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ
ー・オブ・ジャパン（Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａ
ｎ）、３９巻、１５５９〜１５６７頁、１７３４〜１７
３８頁（１９６６）、ヒエミッシェ・ベリヒテ（Ｃｈｅ
ｍｉｓｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ）、５４巻Ｂ、１８０
２〜１８３３頁、２４４１〜２４７９頁（１９２１）バ
イルシュタイン・ハンドブーフ・デル・オーガニッシェ
ン・ヒエミー（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｕｃｈ
ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）
Ｈ、ｐ９８（１９２１）などに記載されている方法に従
って容易に合成することができる。（Ｓ−２４）および
（Ｓ−２５）は、バイルシュタイン・ハンドブーフ・デ
ル・オーガニッシェン・ヒエミー（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ
Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ
Ｃｈｅｍｉｅ）第一増補版第４巻３５４頁、同３巻６
３頁などに記載された方法で合成できる。（Ｓ−２６）
〜（Ｓ−２８）は、米国特許第４，４１１，９８７号な
どに記載の方法で、（Ｓ−２９）〜（Ｓ−３１）は米国
特許第４，４１４，３０９号および、Ｒ．Ｈ．ワイリー
（Ｒ．Ｈ．Ｗｉｌｅｙ）、Ｐ．ワイリー（Ｐ．Ｗｉｌｅ
ｙ）著、“ザ・ケミストリー・オブ・ヘテロサイクリッ
ク・コンパウンズ（Ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ
Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ
ｓ）”、ピラゾロンズ、ピラゾリドンズ・アンド・デリ
バティブズ（Ｐｙｒａｚｏｌｏｎｅｓ，Ｐｙｒａｚｏｌ
ｉｄｏｎｄａｎｄ Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）、インタ
ーサイエンス・パブリッシャーズ（Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅ
ｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）（１９６４）などに記
載の方法により、既知化合物から容易に合成することが
できる。

【０１９８】本発明で用いられるホリマリンスカベンジ
ャーは、２種以上組合わせて使用してもよい。

【０１９９】本発明のホルマリンスカベンジャーは、ハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層、
下塗層、保護層、中間層、フィルター層、アンチハレー
ション層、その他の補助層の少なくとも１層に含有させ
るが、ホルムアルデヒドガスと接触して写真性能が劣化
するアンカラード・マゼンタカプラー含有のハロゲン化
銀乳剤層、該層よりも支持体に近い層または遠い層いず
れに添加しても本発明の目的は達成される。

【０２００】本発明で用いられるホルマリンスカベンジ
ャーをこれら層中に添加するには、層を形成するための
塗布液中に、ホルマリンスカベンジャーをそのままの状
態、あるいはハロゲン化銀カラー写真感光材料に悪影響
を与えない溶媒、例えば、水、アルコール等に適当な濃
度に溶解して添加することができる。また、ホルマリン
スカベンジャーを高沸点有機溶媒および／または低沸点
有機溶媒に溶解し、水溶液中に乳化分散して、添加する
こともできる。ホルマリンスカベンジャーの添加時期
は、製造工程中のいかなる時期を選んでもよいが、一般
には塗布する直前が好ましい。また、その添加量はハロ
ゲン化銀カラー写真感光材料１ｍ² について、０．００
５ｇ〜１．５ｇが適当であるが、好ましくは０．０１ｇ
〜１．０ｇであり、更に好ましくは０．０５ｇ〜０．５
０ｇである。

【０２０１】本発明においては、感光材料膜面ｐＨは、
５．５以上、かつ７．０未満であることが好ましく、
６．０以上、かつ７．０以下が更に好ましい。膜面ｐＨ
を、上記範囲に設定する方法としては、塗布すべき液に
酸またはアルカリを添加することが一般的である。上記
酸またはアルカリは塗布液中に予め添加混合しておいて
もよいし、塗布直前に添加しｐＨ調整してもよい。

【０２０２】ここで膜面ｐＨとは、膜面ｐＨ測定用電極
を用いて測定した値を言う。膜面ｐＨ測定用の複合電極
は市販されているものを用いることができ、例えば堀場
製作所製の複合電極＃６２１０−０６Ｔを使用すること
ができる。ｐＨの測定は、２５℃、５０〜６０％ＲＨの
環境下で被測定試料にマイクロピペットで２０μｌの水
を滴下し、直ちに電極を押しあて、指示値が平衡に達す
るのを待って読みとる。

【０２０３】ここで得られるｐＨ値は、支持体上に水溶
性の塗布物を塗布する際の塗布物のｐＨ値とは必ずしも
一致せず、塗布後乾燥硬膜せしめた後の膜中のｐＨと対
応するものである。

【０２０４】本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料
の緑感層には、下記化１０２に示す一般式（ＰＡ）で表
わされる単量体から得られるポリマーカプラーを用いる
ことが鮮鋭性処理依存性および処理後の画像保存性を向
上する点で更に好ましい。

【０２０５】

【化１０２】 一般式（ＰＡ）中のＲ₁₂₁ は、水素原子、炭素数１〜４
個のアルキル基または塩素を表わし、−Ｄ−は−ＣＯＯ
−、−ＣＯＮＲ₁₂₂ −、または置換もしくは無置換のフ
ェニル基を表わし、−Ｅ−は置換もしくは無置換のアル
キレン基、フェニレン基またはアラルキレン基を示し、
−Ｆ−は−ＣＯＮＲ₁₂₂ −、−ＮＲ₁₂₂ ＣＯＮＲ
₁₂₂ −、−ＮＲ₁₂₂ ＣＯＯ−、−ＮＲ₁₂₂ ＣＯ−、−Ｏ
ＣＯＮＲ₁₂₂ −、−ＮＲ₁₂₂ −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ
−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂ −、−ＮＲ
₁₂₂ ＳＯ₂ −、または−ＳＯ₂ ＮＲ₁₂₂ −を表わす。Ｒ
₁₂₂ は水素原子または置換または無置換の脂肪族基また
はアリール基を表わす。Ｒ₁₂₂ は同一分子中に２個以上
あるときは、同じでも異なっていてもよい。ｐ、ｑ、ｒ
は０または１を表わす。ただし、ｐ、ｑ、ｒが同時に０
である事はない。

【０２０６】一般式（ＰＡ）なすのＴは、下記化１０３
に示す一般式（ＰＢ）で表わされるマゼンタカプラーの
カプラー残基（Ａｒ₅₁、Ｚ₅₁、Ｒ₁₃₃ のいずれかの部分
で、一般式（ＰＡ）の−（Ｄ）−−（Ｅ）−−（Ｆ）−
に結合する）を表わす。

【０２０７】

【化１０３】 一般式（ＰＢ）中のＡｒ₅₁は、２−ピラゾリン−５−オ
ンカプラーの１位における周知の型の置換基例えばアル
キル基、置換アルキル基（例えばフルオロアルキルの如
きハロアルキル、シアノアルキル、ベンジルアルキ
ル）、置換もしくは無置換の複素環基（例えば４−ピリ
ジル、２−チアゾリル）、置換もしくは無置換のアリー
ル基〔複素環基およびアリール基の置換基としてはアル
キル基（例えばメチル、エチル）、アルコキシ基（例え
ばメトキシ、エトキシ）、アリールオキシ基（例えばフ
ェニルオキシ）、アルコキシカルボニル基（例えばメト
キシカルボニル）、アシルアミノ基（例えばアセチルア
ミノ）、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例
えばメチルカルバモイル、エチルカルボニル）、ジアル
キルカルバモイル基（例えばジメチルカルバモイル）、
アリールカルバモイル基（例えばフェニルカルバモイ
ル）、アルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニ
ル）、アリールスルホニル基（例えばフェニルスルホニ
ル）、アルキルスルホンアミド基（例えばメタンスルホ
ンアミド）、アリールスルホンアミド基（例えばフェニ
ルスルホンアミド）、スルファモイル基、アルキルスル
ファモイル基（例えばエチルスルファモイル）、ジアル
キルスルファモイル基（例えばジメチルスルファモイ
ル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリール
チオ基（例えばフェニルチオ）、シアノ基、ニトロ基、
ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素）が挙げら
れ、この置換基が２個以上あるときは同じでも異っても
よい。

【０２０８】特に好ましい置換基としてはハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル
基、シアノ基が挙げられる。〕を表わす。

【０２０９】一般式（ＰＢ）中のＲ₁₂₃ は、無置換また
は置換アニリノ基、アシルアミノ基（例えばアルキルカ
ルボンアミド、フェニルカルボンアミド、アルコキシカ
ルボンアミド、フェニルオキシカルボンアミド）、ウレ
イド基（例えばアルキルウレイド、フェニルウレイ
ド）、スルホンアミド基、を表わし、これらの置換基と
してはハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素）、直
鎖、分岐鎖のアルキル基（例えばメチル、ｔ−ブチル、
オクチル、テトラデシル）、アルコキシ基（例えばメト
キシ、アトキシ、２−エチルヘキシルオキシ、テトラデ
シルオキシ）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、
ベンズアミド、ブタンアミド、オクタンアミド、テトラ
デカンアミド、α−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフ
ェノキシ）アセトアミド、α−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ
−アミルフェノキシ）ブチルアミド、α−（３−ペンタ
デシルフェノキシ）ヘキサンアミド、α−（４−ヒドロ
キシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）テトラデカン
アミド、２−オキソ−ピロリジン−１−イル、２−オキ
ソ−５−テトラデシルピロリジン−１−イル、Ｎ−メチ
ル−テトラデカンアミド）、スルホンアミド基（例えば
メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、エチ
ルスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド、オク
タンスルホンアミド、ｐ−ドデシルベンゼンスルホンア
ミド、Ｎ−メチル−テトラデカンスルホンアミド）、ス
ルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−メチルス
ルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモ
イル、Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル、Ｎ−〔３−
（ドデシルオキシ）−プロピル〕スルファモイル、Ｎ−
〔４−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）ブ
チル〕スルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−テトラデシル
スルファモイル）、カルバモイル基（例えばＮ−メチル
カルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−オクタデ
シルカルバモイル、Ｎ−〔４−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ
−アミルフェノキシ）ブチル〕カルバモイル、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−テトラデシルカルバモイル）、ジアシルアミノ
基（例えばＮ−サクシンイミド、Ｎ−フタルイミド、
２，５−ジオキソ−１−オキサゾリジニル、３−ドデシ
ル−２，５−ジオキソ−１−ヒダントイニル、３−（Ｎ
−アセチル−Ｎ−ドデシルアミノ）サクシンイミド）、
アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニ
ル、テトラデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカ
ルボニル）、アルコキシスルホニル基（例えばメトキシ
スルホニル、ブトキシスルホニル、オクチルオキシスル
ホニル、テトラデシルオキシスルホニル）、アリールオ
キシスルホニル基（例えばフェノキシスルホニル、ｐ−
メチルフェノキシスルホニル、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−
アミルフェノキシスルホニル）、アルカンスルホニル基
（例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル、オクタ
ンスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサ
デカンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベ
ンゼンスルホニル、４−ノニルベンゼンスルホニル）、
アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、ヘ
キシルチオ、ベンジルチオ、テトラデシルチオ、２−
（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）エチルチ
オ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−トリ
ルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば
メトキシカルボニルアミノ、エチルオキシカルボニルア
ミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ、ヘキサデシル
オキシカルボニルアミノ）、アルキルウレイド基（例え
ばＮ−メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ
−メチル−Ｎ−ドデシルウレイド、Ｎ−ヘキサデシルウ
レイド、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルウレイド）、アシル基
（例えばアセチル、ベンゾイル、オクタデカノイル、ｐ
−ドデカンアミドベンゾイル）、ニトロ基、カルボキシ
ル基、スルホ基、ヒドロキシ基またはトリクロロメチル
基などを挙げることができる。

【０２１０】ただし、上記置換基の中で、アルキル基と
規定されるものの炭素数は１〜３６を表わし、アリール
基と規定されるものの炭素数は６〜３８を表わす。

【０２１１】一般式（ＰＢ）中のＺ₅₁は、水素原子、ハ
ロゲン原子（例えば、塩素、臭素）、酸素原子で連結す
るカップリング離脱基（例えばアセトキシ、プロパノイ
ルオキシ、ベンゾイルオキシ、エトキシオキザロイルオ
キシ、ピルビニルオキシ、シンナモイルオキシ、フェノ
キシ、４−シアノフェノキシル、４−チタンスルホンア
ミドフェノキシ、α−ナフトキシ、４−シアノキシル、
４−メタンスルホンアミド−フェノキシ、α−ナフトキ
シ、３−ペンタデシルフェノキシ、ベンジルオキシカル
ボニルオキシ、エトキシ、２−シアノエトキシ、ベンジ
ルオキシ、２−フェネチルオキシ、２−フェノキシ−エ
トキシ、５−フェニルテトラゾリルオキシ、２−ベンゾ
チアゾリルオキシ）、窒素原子で連結するカップリング
離脱基（例えば特開昭５９−９９４３７号に記載されて
いるもの、具体的にはベンゼンスルホンアミド、Ｎ−エ
チルトルエンスルホンアミド、ヘプタフルオロブタンア
ミド、２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンズアミ
ド、オクタンスルホンアミド、ｐ−シアノフェニルウレ
イド、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルアミノ、１−ピ
ペリジル、５，５−ジメチル−２，４−ジオキソ−３−
オキソゾリジニル、１−ベンジル−５−エトキシ−３−
ヒダントイニル、２−オキソ−１，２−ジヒドロ−１−
ピリジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、３，５−ジエ
チル−１，２，４−トリアゾール−１−イル、５−また
は６−ブロモーベンゾトリアゾール−１−イル、５−メ
チル−１，２，３，４−トリアゾール−１−イル基、ベ
ンズイミダゾリル）、イオウ原子で連結するカップリン
グ離脱基（例えばフェニルチオ、２−カルボキシフェニ
ルチオ、２−メトキシ−５−オクチルフェニルチオ、４
−メタンスルホニルフェニルチオ、４−オクタンスルホ
ンアミドフェニルチオ、ベンジルチオ、２−シアノエチ
ルチオ、５−フェニル−２，３，４，５−テトラゾリル
チオ、２−ベンゾチアゾリル）を表わす。

【０２１２】好ましくは窒素原子で連結するカップリン
グ離脱基であり、特に好ましくはピラゾリル基である。

【０２１３】一般式（ＰＡ）中のＥは、炭素数１〜１０
個の無置換もしくは置換のアルキレン基、アラルキレン
基、またはフェニレン基を表わし、アルキレン基は直鎖
でも分岐でもよい。アルキレン基としては例えばメチレ
ン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、ジメチレン，
トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキ
サメチレン、デシルメチレン、アラルキレン基としては
例えばベンジリデン、フェニレン基としては例えばｐ−
フェニレン、ｍ−フェニレン、メチルフェニレンが挙げ
られる。

【０２１４】またＥで表わされるアルキレン基、アラル
キレン基またはフェニレン基の置換基としては、例えば
アリール基（例えばフェニル）ニトロ基、水酸基、シア
ノ基、スルホ基、アルコキシ基（例えばメトキシ）、ア
リールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基
（例えばアセトキシ）、アシルアミノ基（例えばアセチ
ルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホン
アミド）、スルファモイル基（例えばメチルスルファモ
イル）、ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素）、
カルボキシ基、カルバモイル基（例えばメチルカルバモ
イル）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカル
ボニル）、スルホニル基（例えばメチルスルホニル）が
挙げられる。この置換基が２つ以上あるときは同じでも
異ってもよい。

【０２１５】次に、一般式（ＰＡ）で表わされるカプラ
ー単量体と共重合しうる芳香族一級アミン現像薬の酸化
体とカップリングしない非発色性エチレン様単量体とし
ては、例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、クロトン酸エステル、ビニルエステル、マレイン酸
ジエステル、フマル酸ジエステル、イタコン酸ジエステ
ル、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエ
ーテル類、スチレン類が挙げられる。

【０２１６】これらの単量体について更に具体例を示す
と、アクリル酸エステルとしては例えばメチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレー
ト、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレー
ト、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリ
レート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルア
クリレート、アセトキシエチルアクリレート、フェニル
アクリレート、２−メトキシアクリレート、２−エトキ
シアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル
アクリレートが挙げられる。メタクリル酸エステルとし
ては、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタク
リレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、シクロヘ
キシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、２−エトキシエチルメタクリレートが挙げられ
る。クロトン酸エステルとしては、例えばクロトン酸ブ
チル、クロトン酸ヘキシルが挙げられる。ビニルエステ
ルとしては、例えばビニルアセテート、ビニルプロピオ
ネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテー
ト、安息香酸ビニルが挙げられる。マレイン酸ジエステ
ルとしては、例えばマレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
メチル、マレイン酸ジブチル等が挙げられる。フマル酸
ジエステルとしてはフマル酸ジエチル、フマル酸ジメチ
ル、フマル酸ジブチルが挙げられる。イタコン酸ジエス
テルとしては、例えばイタコン酸ジエチル、イタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジブチルが挙げられる。アクリル
アミド類としては、例えばアクリルアミド、メチルアク
リルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリル
アミド、ｎ−ブチルアクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチル
アクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、２−
メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミ
ド、ジエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド
が挙げられる。メタクリルアミド類としては、例えばメ
チルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、ｎ−
ブチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリル
アミド、２−メトキシメタクリルアミド、ジメチルメタ
クリルアミド、ジエチルメタクリルアミドが挙げられ
る。ビニルエーテル類としては、例えばメチルビニルエ
ーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテ
ル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエ
チルビニルエーテルが挙げられる。スチレン類として
は、例えばスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレ
ン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピ
ルスチレン、ブチルスチレン、クロルメチルスチレン、
メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチ
レン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチ
レン、ビニル安息香酸メチルエステル、２−メチルスチ
レンが挙げられる。

【０２１７】その他の単量体の例としては、例えばアリ
ル化合物（例えば酢酸アリル）、ビニルケトン類（例え
ばメチルビニルケトン）、ビニル複素環化合物（例えば
ビニルピリジン）、グリシジルエステル類（例えばグリ
シジルアクリレート）、不飽和ニトリル類（例えばアク
リロニトリル）、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル（例えばイタ
コン酸モノメチル）、マレイン酸モノアルキル（例えば
マレイン酸モノメチル）、シトラコン酸、ビニルスルホ
ン酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸（例え
ば、アクリロイルオキシメチルスルホン酸）、アクリル
アミドアルキルスルホン酸（例えば２−アクリルアミド
−２−メチルエタンスルホン）が挙げられる。これらの
酸はアルカリ金属（例えばＮａ、Ｋ）またはアンモニウ
ムイオンの塩であってもよい。

【０２１８】これらの単量体のうち、好ましく用いられ
るコモノマーにはアクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、スチレン類、マレイン酸エステル、アクリルア
ミド類、メタクリルアミド類が含まれる。

【０２１９】これらの単量体は２種以上を併用してもよ
い。２種以上を併用する場合の組合せとしては、例えば
ｎ−ブチルアクリレートとスチレン、ｎ−ブチルアクリ
レートとブチルスチレン、ｔ−ブチルメタクリルアミド
とｎ−ブチルアクリレートが挙げられる。

【０２２０】前記マゼンタポリマーカプラー中に占める
一般式（ＰＢ）に対応する発色部分の割合は、通常５〜
８０重量％が望ましいが、色再現性、発色性、処理依存
性および安定性の点では３０〜７０重量％が好ましい。
この場合の当分子量（１モルの単量体カプラーを含むポ
リマーのグラム数）は約２５０〜４，０００であるが、
これに限定するものではない。

【０２２１】前記マゼンタポリマーカプラーは、カプラ
ー単量体を基準としてハロゲン化銀と同一層の場合には
銀１モル当り０．００５モル〜０．５モル好ましくは
０．０３〜０．２５モル添加するのがよい。

【０２２２】また、前記マゼンタポリマーカプラーを非
感光層に用いる場合の塗布量は、０．０１ｇ／ｍ² 〜
１．０ｇ／ｍ² 、好ましくは０．１ｇ／ｍ² 〜０．５ｇ
／ｍ² の範囲である。

【０２２３】本発明に用いられるポリマーカプラーは、
前述したように単量体カプラーの重合で得られた親油性
ポリマーカプラーを有機溶媒に溶かしたものをゼラチン
水溶液中にラテックスの形で乳化分散して作ってもよ
く、あるいは直接乳化重合法で作ってもよい。

【０２２４】親油性ポリマーカプラーをゼラチン水溶液
中にラテックスの形で乳化分散する方法については、米
国特許第３，４５１，８２０号に、乳化重合については
米国特許４，０８０，２１１号、同３，３７０，９５２
号及び欧州特許第３４１，０８８Ａ２号に記載されてい
る方法を用いることができる。

【０２２５】前記マゼンタポリマーカプラーの合成は、
重合開始剤、重合溶媒として特開昭５６−５５４３、特
開昭５７−９４７５２、特開昭５７−１７６０３８、特
開昭５７−２０４０３８、特開昭５８−２８７４５、特
開昭５８−１０７３８、特開昭５８−４２０４４、特開
昭５８−１４５９４４に記載されている化合物を用いて
行う。

【０２２６】重合温度は生成するポリマーの分子量、開
始剤の種類などと関連して設定する必要があり、０℃以
下から１００℃以上まで可能であるが通常３０℃〜１０
０℃の範囲で重合する。

【０２２７】次に、本発明において用いられることがで
きるマゼンタポリマーカプラーの具体例を下記化１０４
〜化１１０に挙げるが、これに限定されるものではな
い。ただし、構造式中の添数字はモル比を表わす。

【０２２８】

【化１０４】

【０２２９】

【化１０５】

【０２３０】

【化１０６】

【０２３１】

【化１０７】

【０２３２】

【化１０８】

【０２３３】

【化１０９】

【０２３４】

【化１１０】

【０２３５】

【実施例】以下に、本発明を実施例により、更に詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 実施例１ 下塗りを施した三酢酸セルロースフィルム支持体上に、
下記に示すような組成の各層よりなる多層カラー感光材
料である試料１０１を作成した。

【０２３６】（感光層の組成）塗布量はハロゲン化銀お
よびコロイド銀については銀のｇ／ｍ² 単位で表した量
を、またカプラー、添加剤およびゼラチンについてはｇ
／ｍ² 単位で表した量を、また増感色素については同一
層内のハロゲン化銀１モル当りのモル数で示した。な
お、添加物を示す記号は下記に示す意味を有する。ただ
し、複数の効用を有する場合はそのうちの一つを代表し
て載せた。

【０２３７】ＵＶ；紫外線吸収剤、Ｓｏｌｖ；高沸点有
機溶剤、ＥｘＳ；増感色素、ＥｘＣ；シアンカプラー、
ＥｘＭ；マゼンタカプラー、ＥｘＹ；イエローカプラ
ー、Ｃｐｄ；添加剤、Ｗ；界面活性剤、Ｈ；硬化剤、
Ｆ；安定化剤。

【０２３８】また、前記添加剤を下記化１１１〜化１２
３に列挙した。

【０２３９】

【化１１１】

【０２４０】

【化１１２】

【０２４１】

【化１１３】

【０２４２】

【化１１４】

【０２４３】

【化１１５】

【０２４４】

【化１１６】

【０２４５】

【化１１７】

【０２４６】

【化１１８】

【０２４７】

【化１１９】

【０２４８】

【化１２０】

【０２４９】

【化１２１】

【０２５０】

【化１２２】

【０２５１】

【化１２３】 第１層（ハレーション防止層） 黒色コロイド銀 0.15 ゼラチン 1.00 ＥｘＭ−１ 5.0×10^-3 第２層（中間層） ゼラチン 1.00 ＵＶ−１ 3.0×10^-2 ＵＶ−２ 6.0×10^-2 ＵＶ−３ 7.0×10^-2 ＥｘＦ−１ 4.0×10^-3 Ｓｏｌｖ−２ 7.0×10^-2 第３層（低感度赤感乳剤層） 沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ ２モル％、内部高ＡｇＩ型、球
相当径0.3 μｍ、球相当径の変動係数29％、正常晶、双
晶混合粒子、直径／厚み比2.5 ） 第４層（中感度赤感乳剤層） 沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ ４モル％、内部高ＡｇＩ型、球
相当径0.55μｍ、球相当径の変動係数20％、正常晶、双
晶混合粒子、直径／厚み比1.0 ） 第５層（高感度赤感乳剤層） 沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ 10モル％、内部高ＡｇＩ型、球
相当径0.7 μｍ、球相当径の変動係数30％、双晶混合粒
子、直径／厚み比2.0） 第６層（中間層） ゼラチン 0.60 Ｐ−２ 0.17 Ｃｐｄ−１ 0.02 Ｃｐｄ−４ 0.08 Ｓｏｌｖ−１ 5.0×10^-2 第７層（低感度緑感乳剤層） 沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ ２モル％、内部高ＡｇＩ型、球
相当径0.3 μｍ、球相当径の変動係数28％、正常晶、双
晶混合粒子、直径／厚み比2.5 ） 第８層（中感度緑感乳剤層） 沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ ４モル％、内部高ＡｇＩ型、球
相当径0.55μｍ、球相当径の変動係数20％、正常晶、双
晶混合粒子、直径／厚み比4.0 ） 第９層（高感度緑感乳剤層） 沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ 10モル％、内部高ＡｇＩ型、球
相当径0.70μｍ、球相当径の変動係数30％、正常晶、双
晶混合粒子、直径／厚み比2.0 ） 第１０層（イエローフィルター層） ゼラチン 0.60 黄色コロイド 5.0×10^-2 Ｃｐｄ−１ 0.08 Ｃｐｄ−４ 0.12 Ｓｏｌｖ−１ 0.15 第１１層（低感度青感乳剤層） 沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ ４モル％、内部高ＡｇＩ型、球
相当径0.5 μｍ、球相当径の変動係数15％、８面体粒
子） 第１２層（高感度青感乳剤層） 沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ 10モル％、内部高ＡｇＩ型、球
相当径1.3 μｍ、球相当径の変動係数25％、正常晶、双
晶混合粒子、直径／厚み比4.5 ） 第１３層（第１保護層） 微粒子沃臭化銀（平均粒径0.07μｍ、ＡｇＩ １モル
％） 第１４層（第２保護層） ゼラチン 0.40 Ｂ−１（直径１．５μｍ） 0.10 Ｂ−２（直径１．５μｍ） 0.10 Ｂ−３ 2.0×10^-2 Ｈ−１ 0.40 更に、保存性、処理性、圧力耐性、防黴・防菌性、帯電
防止性、及び塗布性をよくするために、Ｃｐｄ−３、Ｃ
ｐｄ−５、Ｃｐｄ−６、Ｃｐｄ−７、Ｃｐｄ−８、Ｐ−
１、Ｗ−１、Ｗ−２、Ｗ−３を添加した。

【０２５２】上記の他に、ｎ−ブチル−ｐ−ヒドロキシ
ベンゾエートが添加された。さらにＢ−４、Ｆ−１、Ｆ
−４、Ｆ−５、Ｆ−６、Ｆ−７、Ｆ−８、Ｆ−９、Ｆ−
１０、Ｆ−１１、および、鉄塩、鉛塩、金塩、白金塩、
イリジウム塩、ロジウム塩が含有されている。 （試料１０２〜１０５）本発明の試料１０１の第４層お
よび第５層に添加されている本発明の化合物（ＣＢ−１
３）を下記表１に示したように他の本発明の化合物に等
モルで置き換えて試料１０２〜１０５を作製した。 （試料１０６〜１１０）試料１０１〜１０５の第２層、
第６層、第１０層および第１３層に本発明の化合物（Ｓ
−２７）を０．０８ｇ／ｍ² それぞれ添加し、試料１０
６〜１１０を作製した。 （試料１１１〜１１３）試料１０６の（Ｓ−２７）を本
発明の化合物（Ｓ−５）および（Ｓ−６）にそれぞれ置
き換えて試料１１１、１１２を作製した。また試料１０
６の（Ｓ−２７）の半量を（Ｓ−５）に置き換えて試料
１１３を作製した。 （試料１１４〜１１７）試料１０６の第４層および第５
層に添加されている本発明の化合物（ＣＢ−１３）を下
記表１に示したように比較化合物に置き換えて試料１１
４〜１１７を作製した。 （試料１１８）試料１１１の第７層および第８層のＰ−
７を１．５倍モルのＥｘＭ−２に置き換え、さらにＳｏ
ｌｖ−１とゼラチンを１．３倍にして試料１１８を作製
した。

【０２５３】これら試料は１４層同時に塗布作製した。
５０℃、試対湿度３０％条件下に７日間放置した後、白
色像様露光を行ない現像処理し、シアン濃度のカブリ増
加幅を下記表１に示した。

【０２５４】また、未露光の幅３５ｍｍ幅長さ１５ｃｍ
の各試料を乳剤面側を外側にして６０°の角度にゆっく
り曲げ、２時間放置した後、下記カラー現像を行ないミ
クロ濃度計でシアン濃度を測定し、折り曲げ部分の増感
濃度を下記表１に示した。

【０２５５】さらに、ＭＴＦ測定用のパターンで露光を
行ない、下記現像を行ないシアン画像２５サイクル／ｍ
ｍのＭＴＦ値を測定し、その結果を下記表１に示した。

【０２５６】

【表１】 ただし、前記表１中のＣ−１〜Ｃ−４は下記化１２４、
化１２５に示す化合物である。

【０２５７】

【化１２４】

【０２５８】

【化１２５】 （処理方法） 工程 処理時間 処理温度 発色現像 ３分15秒 38℃ 漂 白 ６分30秒 38℃ 水 洗 ２分10秒 24℃ 定 着 ４分20秒 38℃ 水洗（１） １分05秒 24℃ 水洗（２） １分00秒 24℃ 安 定 １分05秒 38℃ 乾 燥 ４分20秒 55℃ 次に、処理液の組成を記す。 （発色現像液） （単位ｇ） ジエチレントリアミン五酢酸 1.0 １−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸 3.0 亜硫酸ナトリウム 4.0 炭酸カリウム 30.0 臭化カリウム 1.4 沃化カリウム 1.5mg ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.4 ４−〔Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチルアミノ〕− ２−メチルアニリン硫酸塩 4.5 水を加えて 1.0リットル ｐＨ 10.05 （漂白液） （単位ｇ） エチレンジアミン四酢酸第二鉄ナトリウム三水塩 100.0 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 10.0 臭化アンモニウム 140.0 硫酸アンモニウム 30.0 アンモニア水（２７％） 6.5ml 水を加えて 1.0リットル ｐＨ 6.0 （定着液） （単位ｇ） エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 0.5 亜硫酸ナトリウム 7.0 重亜硫酸ナトリウム ５．０ チオ硫酸アンモニウム水溶液（７０％） 170.0ml 水を加えて 1.0リットル ｐＨ 6.7 （安定液） （単位ｇ） ホルマリン（３７％） 2.0ml ポリオキシエチレン−ｐ−モノノニルフェニルエーテル （平均重合度１０） 0.3 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 0.05 水を加えて 1.0リットル ｐＨ 5.0-8.0 前記表１より本発明の試料は、折り曲げ時のカブリ増加
が少なく、圧力性に優れること、高温低湿度条件でのカ
ブリ増加が少ないこと、およびＭＴＦ値で表わされる鮮
鋭性に優れることが明らかである。また、本発明ではＰ
−７で代表されるポリマーカプラーを併せて用いること
がさらに好ましいことがわかる。 実施例２ 特開平３−１５７６４８号の実施例１の試料１０８の第
３層、第４層および第５層に本発明の化合物（ＣＢ−２
６）を０．００５ｇ／ｍ² 、１０．０１５ｇ／ｍ² およ
び０．０２５ｇ／ｍ² 添加して、試料２０１を作製し
た。

【０２５９】該特許のＳ−１、Ｓ−２はそれぞれ本発明
の化合物（Ｓ−２７）、（Ｓ−５）である。

【０２６０】これら試料を実施例と同様の評価を行なっ
たところ、本発明の試料２０１はＭＴＦ値で表わされる
鮮鋭性に優れ、折り曲げ時の発色濃度変動が少なく、ま
た保存時のカブリ増加も少ないことが確認された。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に少なくとも一層の感光性乳剤
   層を有し、かつアルデヒドスカベンジャーを含有するハ
   ロゲン化銀カラー写真感光材料において、下記化１に示
   す一般式（Ｉ）および／または下記化２に示す一般式(I
   I)で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲ
   ン化銀カラー写真感光材料。 【化１】 一般式（Ｉ）中のＡは、カプラー残基または酸化還元基
   を表わし、Ｌ₁ およびＬ₃ は２価のタイミング基を表わ
   し、Ｌ₂ は３価もしくはそれ以上の結合手を有するタイ
   ミング基を表わし、ＰＵＧは写真性有用基を表わす。ｊ
   とｎはそれぞれ独立に０、１または２を表わす。ｍは１
   または２を表わし、ｓはＬ₂ の価数から１を引いた数で
   あり２以上の整数を表わす、またＬ₁ 、Ｌ₂ もしくはＬ
   ₃ が分子内に複数個存在するとき、それらは全て同じで
   あっても異なっていてもよい。また複数個存在するＰＵ
   Ｇは全て同じであっても異なっていてもよい。 【化２】 一般式(II)中のＡとＰＵＧは、一般式（Ｉ）と同義であ
   る。Ｌ₄ は−ＯＣＯ−基、−ＯＳＯ−基、−ＯＳＯ₂ −
   基、−ＯＣＳ−基、−ＳＣＯ−基、−ＳＣＳ−基または
   −ＷＣＲ₁₁Ｒ₁₂−基を表わす。ここでＷは酸素原子、硫
   黄原子または３級アミノ基（−ＮＲ₁₃−）を表わし、Ｒ
   ₁₁およびＲ₁₂はそれぞれ独立に水素原子または置換基を
   表わし、Ｒ₁₃は置換基を表わす。またＲ₁₁、Ｒ₁₂および
   Ｒ₁₃の各々が２価基を表わし、連結して環状構造を形成
   する場合も含む。Ｌ₅ は共役系に沿った電子移動により
   ＰＵＧを放出する基もしくはＬ₄ で定義される基を表わ
   す。
2. 【請求項２】 一般式（Ｉ）および一般式(II)におい
   て、ＡとＰＵＧで表される基を除いた残基の式量が６４
   以上２４０以下であることを特徴とする請求項１記載の
   ハロゲン化銀カラー写真感光材料。
3. 【請求項３】 ポリマーカプラーを含有することを特徴
   とする請求項１または２いずれか記載のハロゲン化銀カ
   ラー写真感光材料。