JPH0568962A - 廃液希釈装置 - Google Patents
廃液希釈装置Info
- Publication number
- JPH0568962A JPH0568962A JP3235249A JP23524991A JPH0568962A JP H0568962 A JPH0568962 A JP H0568962A JP 3235249 A JP3235249 A JP 3235249A JP 23524991 A JP23524991 A JP 23524991A JP H0568962 A JPH0568962 A JP H0568962A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- diluting
- water
- dilution
- tank
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温の薬液などを廃液の対象とした廃液希釈
装置に関し、構造が単純で然も希釈の確実性が確保され
る廃液希釈装置の提供を目的とする。 【構成】 廃液を希釈水で希釈して流出させる装置であ
って、希釈前の廃液Ａを入れる廃液槽１と、希釈水Ｂを
駆動用に流すアスピレータ２とを有し、アスピレータ２
の真空吸引口2cが、廃液槽１内の廃液Ａの水面より高く
位置して、一端を該廃液Ａ中に挿入した吸入管３の他端
に接続されてなり、アスピレータ２が希釈水Ｂの流れに
より吸入した該廃液Ａを該希釈水Ｂで希釈して希釈後の
廃液Ｃとなし流出させるように構成する。
装置に関し、構造が単純で然も希釈の確実性が確保され
る廃液希釈装置の提供を目的とする。 【構成】 廃液を希釈水で希釈して流出させる装置であ
って、希釈前の廃液Ａを入れる廃液槽１と、希釈水Ｂを
駆動用に流すアスピレータ２とを有し、アスピレータ２
の真空吸引口2cが、廃液槽１内の廃液Ａの水面より高く
位置して、一端を該廃液Ａ中に挿入した吸入管３の他端
に接続されてなり、アスピレータ２が希釈水Ｂの流れに
より吸入した該廃液Ａを該希釈水Ｂで希釈して希釈後の
廃液Ｃとなし流出させるように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高温の薬液などを廃液の
対象とした廃液希釈装置に関する。半導体装置の製造に
用いる処理用の薬液の中には、高温に加熱された硫酸な
どがある。
対象とした廃液希釈装置に関する。半導体装置の製造に
用いる処理用の薬液の中には、高温に加熱された硫酸な
どがある。
【０００２】使用済みにより廃液となったこのような薬
液を廃液処理場へ送る際には、事前に希釈水で希釈する
必要がある。この希釈には上記廃液希釈装置を用いる。
そしてその廃液処理装置は、構造が単純で然も希釈の確
実性が確保されることが望ましい。
液を廃液処理場へ送る際には、事前に希釈水で希釈する
必要がある。この希釈には上記廃液希釈装置を用いる。
そしてその廃液処理装置は、構造が単純で然も希釈の確
実性が確保されることが望ましい。
【０００３】
【従来の技術】図２は上記廃液希釈装置の従来例の要部
構成図であり、図中、11は廃液槽、12は廃液弁、13は希
釈タンク、14は希釈槽、Ａは希釈前の廃液、Ｂは希釈
水、Ｃは希釈後の廃液、である。
構成図であり、図中、11は廃液槽、12は廃液弁、13は希
釈タンク、14は希釈槽、Ａは希釈前の廃液、Ｂは希釈
水、Ｃは希釈後の廃液、である。
【０００４】廃液槽11は、希釈前の廃液Ａを入れる槽で
ある。この廃液Ａは、例えば 110℃熱硫酸などである。
廃液弁12は、廃液槽11から希釈タンク13に送られる廃液
Ａの流量を調節する。
ある。この廃液Ａは、例えば 110℃熱硫酸などである。
廃液弁12は、廃液槽11から希釈タンク13に送られる廃液
Ａの流量を調節する。
【０００５】希釈タンク13は、希釈槽14内に配置されて
側面に孔13a が設けられており、排気槽11から送られた
廃液Ａを孔13aからオーバーフローさせて希釈槽14内に
放出する。
側面に孔13a が設けられており、排気槽11から送られた
廃液Ａを孔13aからオーバーフローさせて希釈槽14内に
放出する。
【０００６】希釈槽14は、その底面より高く上記孔13a
より低い位置に排出口14b が、また上方に供給口14a が
設けられており、供給口14a から希釈水Ｂが適宜な流量
で供給されて水面を排出口14b の高さに維持する。従っ
て、上記オーバーフローした廃液Ａは、希釈槽14内にて
希釈水Ｂで希釈されて廃液Ｃとなり排出口14b から流出
する。そして、廃液Ａが高温であっても希釈水Ｂにより
冷却されて廃液Ｃの温度は低い。
より低い位置に排出口14b が、また上方に供給口14a が
設けられており、供給口14a から希釈水Ｂが適宜な流量
で供給されて水面を排出口14b の高さに維持する。従っ
て、上記オーバーフローした廃液Ａは、希釈槽14内にて
希釈水Ｂで希釈されて廃液Ｃとなり排出口14b から流出
する。そして、廃液Ａが高温であっても希釈水Ｂにより
冷却されて廃液Ｃの温度は低い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところでこの従来例
は、次のような欠点がある。 構造が複雑であり大掛かりとなる。それに伴いメン
テナンス性が悪く且つ装置コストが高くなる。
は、次のような欠点がある。 構造が複雑であり大掛かりとなる。それに伴いメン
テナンス性が悪く且つ装置コストが高くなる。
【０００８】 希釈の確実性に欠ける。即ち、廃液Ａ
が希釈タンク13に送られ続けている状態で希釈水Ｂの供
給が停止すると、排出口14b から流出する廃液Ｃはその
濃度が次第に濃くなりついには廃液Ａに近くなる。
が希釈タンク13に送られ続けている状態で希釈水Ｂの供
給が停止すると、排出口14b から流出する廃液Ｃはその
濃度が次第に濃くなりついには廃液Ａに近くなる。
【０００９】そこで本発明は、高温の薬液などを廃液の
対象とした廃液希釈装置に関し、構造が単純で然も希釈
の確実性が確保される廃液希釈装置の提供を目的とす
る。
対象とした廃液希釈装置に関し、構造が単純で然も希釈
の確実性が確保される廃液希釈装置の提供を目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による廃液希釈装置は、廃液を希釈水で希釈
して流出させる装置であって、希釈前の廃液を入れる廃
液槽と、希釈水を駆動用に流すアスピレータとを有し、
該アスピレータの真空吸引口が、該廃液槽内廃液の水面
より高く位置して、一端を該廃液中に挿入した吸入管の
他端に接続されてなり、該アスピレータが希釈水の流れ
により吸入した該廃液を該希釈水で希釈して流出させる
ことを特徴としている。
に、本発明による廃液希釈装置は、廃液を希釈水で希釈
して流出させる装置であって、希釈前の廃液を入れる廃
液槽と、希釈水を駆動用に流すアスピレータとを有し、
該アスピレータの真空吸引口が、該廃液槽内廃液の水面
より高く位置して、一端を該廃液中に挿入した吸入管の
他端に接続されてなり、該アスピレータが希釈水の流れ
により吸入した該廃液を該希釈水で希釈して流出させる
ことを特徴としている。
【００１１】
【作用】上記アスピレータは、その真空吸引口が廃液槽
内廃液の水面より高く位置するので、希釈水の流れが停
止すると廃液槽内廃液の吸入が止まって廃液の流出を一
切停止する。従って、本廃液希釈装置は希釈の確実性が
確保される。このことは希釈が確実に行われないことに
よる事故の発生を防止するために重要である。
内廃液の水面より高く位置するので、希釈水の流れが停
止すると廃液槽内廃液の吸入が止まって廃液の流出を一
切停止する。従って、本廃液希釈装置は希釈の確実性が
確保される。このことは希釈が確実に行われないことに
よる事故の発生を防止するために重要である。
【００１２】そして、そのために必要なものは配管を除
いて上記廃液槽とアスピレータで足りるので、本廃液希
釈装置は構造が単純でありそれに伴いメンテナンス性に
優れ且つ装置コストが安くなる。
いて上記廃液槽とアスピレータで足りるので、本廃液希
釈装置は構造が単純でありそれに伴いメンテナンス性に
優れ且つ装置コストが安くなる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の実施例について図１の要部構成
図を用いて説明する。図中、１は廃液槽、２はアスピレ
ータ、３は吸入管、４は開放弁、である。
図を用いて説明する。図中、１は廃液槽、２はアスピレ
ータ、３は吸入管、４は開放弁、である。
【００１４】廃液槽１は、従来例の廃液槽11と同様に、
希釈前の廃液Ａを入れる槽である。この廃液は、従来例
の場合と同様に例えば 110℃熱硫酸などである。アスピ
レータ２は、水流ポンプとも称せられ、注入口2a, 吐出
口2b及び真空吸引口2cを有して、注入口2aから水を流し
込むと、その水流が真空吸引口2cを減圧させてそこの気
体または液体を巻き込みながら吐出口2bから流出するも
のである。即ち、流し込む水が駆動源になって上記作動
を行うものであり、実施例ではその水を冷却水Ｂにして
ある。そして真空吸引口2cは、廃液槽１内の廃液Ａの水
面より高く位置させてある。
希釈前の廃液Ａを入れる槽である。この廃液は、従来例
の場合と同様に例えば 110℃熱硫酸などである。アスピ
レータ２は、水流ポンプとも称せられ、注入口2a, 吐出
口2b及び真空吸引口2cを有して、注入口2aから水を流し
込むと、その水流が真空吸引口2cを減圧させてそこの気
体または液体を巻き込みながら吐出口2bから流出するも
のである。即ち、流し込む水が駆動源になって上記作動
を行うものであり、実施例ではその水を冷却水Ｂにして
ある。そして真空吸引口2cは、廃液槽１内の廃液Ａの水
面より高く位置させてある。
【００１５】吸入管３は、一端が廃液槽１内の廃液Ａの
中に挿入され、他端が真空吸引口2cに接続されている。
また、その中間に一端を接続し他端を大気に開放した分
岐管を有し、その分岐管に開放弁４が取り付けてある。
この開放弁４を取り付けた分岐管は必ずしも必要なもの
ではない。
中に挿入され、他端が真空吸引口2cに接続されている。
また、その中間に一端を接続し他端を大気に開放した分
岐管を有し、その分岐管に開放弁４が取り付けてある。
この開放弁４を取り付けた分岐管は必ずしも必要なもの
ではない。
【００１６】廃液槽１内の廃液Ａは、開放弁４が閉じた
状態でアスピレータ２に希釈水Ｂが流れることにより、
吸入管３を通じアスピレータ２に吸入されて希釈水Ｂで
希釈され、希釈後の廃液Ｃとなって吐出口2bから流出す
る。そして、希釈水Ｂの流れが停止すると、アスピレー
タ２に吸入されなくなり吐出口2bからの流出が停止す
る。また、希釈水Ｂが流れている状態で開放弁４を開く
とアスピレータ２の吸入が大気に切り換わり希釈が停止
する。いうまでもなく、廃液Ａが高温であっても、アス
ピレータ２内で冷却水Ｂにより冷却されて、廃液Ｃとな
って吐出口2bから流出する際に温度が下がっている。
状態でアスピレータ２に希釈水Ｂが流れることにより、
吸入管３を通じアスピレータ２に吸入されて希釈水Ｂで
希釈され、希釈後の廃液Ｃとなって吐出口2bから流出す
る。そして、希釈水Ｂの流れが停止すると、アスピレー
タ２に吸入されなくなり吐出口2bからの流出が停止す
る。また、希釈水Ｂが流れている状態で開放弁４を開く
とアスピレータ２の吸入が大気に切り換わり希釈が停止
する。いうまでもなく、廃液Ａが高温であっても、アス
ピレータ２内で冷却水Ｂにより冷却されて、廃液Ｃとな
って吐出口2bから流出する際に温度が下がっている。
【００１７】発明者は、廃液Ａが 110℃熱硫酸である場
合、希釈水Ｂに通常の工場冷却水を用いそれを 1.5Kg／
cm2 の圧力でアスピレータ２に流し込むことにより、廃
液Ａが所望に希釈されて37℃の廃液Ｃにすることができ
た。
合、希釈水Ｂに通常の工場冷却水を用いそれを 1.5Kg／
cm2 の圧力でアスピレータ２に流し込むことにより、廃
液Ａが所望に希釈されて37℃の廃液Ｃにすることができ
た。
【００１８】以上のことから理解されるようにこの実施
例は、従来例と比べると、構造が単純であり、それに伴
いメンテナンス性に優れ且つ装置コストが安い。然も、
希釈水Ｂの流れが停止すると吐出口2bからの流出が一切
停止するので、希釈の確実性が確保されている。
例は、従来例と比べると、構造が単純であり、それに伴
いメンテナンス性に優れ且つ装置コストが安い。然も、
希釈水Ｂの流れが停止すると吐出口2bからの流出が一切
停止するので、希釈の確実性が確保されている。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、高
温の薬液などを廃液の対象とした廃液希釈装置に関し、
構造が単純で然も希釈の確実性が確保される廃液希釈装
置が提供されて、メンテナンス性の向上や装置コストの
低減と共に、希釈が確実に行われないことによる事故発
生の防止を可能にさせる効果がある。
温の薬液などを廃液の対象とした廃液希釈装置に関し、
構造が単純で然も希釈の確実性が確保される廃液希釈装
置が提供されて、メンテナンス性の向上や装置コストの
低減と共に、希釈が確実に行われないことによる事故発
生の防止を可能にさせる効果がある。
【図１】 実施例の要部構成図
【図２】 従来例の要部構成図
Ａ 希釈前の廃液 Ｂ 希釈水 Ｃ 希釈後の廃液 １ 廃液槽 ２ アスピレータ 2a 注入口 2b 吐出口 2c 真空吸引口 ３ 吸入管 ４ 開放弁 11 廃液槽 12 廃液弁 13 希釈タンク 13a 孔 14 希釈槽 14a 供給口 14b 排出口
Claims (1)
- 【請求項１】 廃液を希釈水で希釈して流出させる装置
であって、 希釈前の廃液を入れる廃液槽と、希釈水を駆動用に流す
アスピレータとを有し、 該アスピレータの真空吸引口が、該廃液槽内廃液の水面
より高く位置して、一端を該廃液中に挿入した吸入管の
他端に接続されてなり、 該アスピレータが希釈水の流れにより吸入した該廃液を
該希釈水で希釈して流出させることを特徴とする廃液希
釈装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3235249A JPH0568962A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 廃液希釈装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3235249A JPH0568962A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 廃液希釈装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0568962A true JPH0568962A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=16983286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3235249A Pending JPH0568962A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 廃液希釈装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0568962A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002239532A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-08-27 | Japan Organo Co Ltd | 液体薬品貯留装置および水処理設備 |
| CN116571159A (zh) * | 2023-07-14 | 2023-08-11 | 天津奥利达环保设备有限公司 | 一种浓硫酸稀释处理引流搅拌装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5569338A (en) * | 1978-11-14 | 1980-05-24 | Stabilus Gmbh | Gas spring device having supplementary adjusting range |
| JPS55122651A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-20 | Hansberg Julius | Flask molding molding machine |
| JPS5687485A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-16 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | Cooling of hot sulfuric acid |
| JPS57113880A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-15 | Fujitsu Ltd | Treatment of hot waste liquid |
-
1991
- 1991-09-17 JP JP3235249A patent/JPH0568962A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5569338A (en) * | 1978-11-14 | 1980-05-24 | Stabilus Gmbh | Gas spring device having supplementary adjusting range |
| JPS55122651A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-20 | Hansberg Julius | Flask molding molding machine |
| JPS5687485A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-16 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | Cooling of hot sulfuric acid |
| JPS57113880A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-15 | Fujitsu Ltd | Treatment of hot waste liquid |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002239532A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-08-27 | Japan Organo Co Ltd | 液体薬品貯留装置および水処理設備 |
| CN116571159A (zh) * | 2023-07-14 | 2023-08-11 | 天津奥利达环保设备有限公司 | 一种浓硫酸稀释处理引流搅拌装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970204 |