JPH0569574A - サーマルヘツドの抵抗値調整方法および装置 - Google Patents
サーマルヘツドの抵抗値調整方法および装置Info
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- JPH0569574A JPH0569574A JP3262779A JP26277991A JPH0569574A JP H0569574 A JPH0569574 A JP H0569574A JP 3262779 A JP3262779 A JP 3262779A JP 26277991 A JP26277991 A JP 26277991A JP H0569574 A JPH0569574 A JP H0569574A
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Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ドット抵抗体のカッティング量を減らすこと
により、画質を向上させるサーマルヘッドの抵抗値調整
方法および装置を提供すること。 【構成】 レーザーパワーを適切に選定してやれば、レ
ーザー照射によりドット抵抗体の抵抗値を下げることが
出来るという事実の発見に基づき、抵抗値が目標抵抗値
より大であるドット抵抗体に対しては、抵抗値を下げる
レーザーパワーで照射する。一方、抵抗値が目標抵抗値
より小であるドット抵抗体に対しては、従来と同様のレ
ーザーパワーで照射し、カッティングにより抵抗値をあ
げる。このように、2つのレーザーパワーを使い分けて
調整すると、個々の抵抗補正量は少なくなり、抵抗値を
上昇させる場合のカッティング量も減少する。これによ
り、ドット抵抗体の形状のバラツキを少なくすることが
出来るので、印字ドットのサイズが均一化され、画質が
向上する。
により、画質を向上させるサーマルヘッドの抵抗値調整
方法および装置を提供すること。 【構成】 レーザーパワーを適切に選定してやれば、レ
ーザー照射によりドット抵抗体の抵抗値を下げることが
出来るという事実の発見に基づき、抵抗値が目標抵抗値
より大であるドット抵抗体に対しては、抵抗値を下げる
レーザーパワーで照射する。一方、抵抗値が目標抵抗値
より小であるドット抵抗体に対しては、従来と同様のレ
ーザーパワーで照射し、カッティングにより抵抗値をあ
げる。このように、2つのレーザーパワーを使い分けて
調整すると、個々の抵抗補正量は少なくなり、抵抗値を
上昇させる場合のカッティング量も減少する。これによ
り、ドット抵抗体の形状のバラツキを少なくすることが
出来るので、印字ドットのサイズが均一化され、画質が
向上する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ワープロ,パソコン等
の出力装置として用いられるサーマルプリンタや、ファ
クシミリ装置の記録部等に使用されるサーマルヘッドの
抵抗値調整方法および装置に関するものである。
の出力装置として用いられるサーマルプリンタや、ファ
クシミリ装置の記録部等に使用されるサーマルヘッドの
抵抗値調整方法および装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】サーマルヘッドを用いた印刷装置は、印
刷時の騒音が小さい上、現像・定着工程が不用で取り扱
い易い等の利点を有しているため、広く用いられてい
る。
刷時の騒音が小さい上、現像・定着工程が不用で取り扱
い易い等の利点を有しているため、広く用いられてい
る。
【0003】図9に、サーマルヘッドの要部を示す。図
9において、5はドット抵抗体、7はサーマルヘッド、
8は共通電極、9は個別電極である。ドット抵抗体5,
共通電極8,個別電極9は、図示しない絶縁基板上に形
成される。共通電極8と1つの個別電極9との間に、1
つのドット抵抗体5が配設される。ドット抵抗体5は発
熱抵抗体であり、共通電極8→ドット抵抗体5→個別電
極9へと電流が流された時に発熱する。
9において、5はドット抵抗体、7はサーマルヘッド、
8は共通電極、9は個別電極である。ドット抵抗体5,
共通電極8,個別電極9は、図示しない絶縁基板上に形
成される。共通電極8と1つの個別電極9との間に、1
つのドット抵抗体5が配設される。ドット抵抗体5は発
熱抵抗体であり、共通電極8→ドット抵抗体5→個別電
極9へと電流が流された時に発熱する。
【0004】1つのドット抵抗体5が、印刷時の1つの
ドットに対応させられており、ドット抵抗体5の発熱に
より、そのドットは例えば黒色に印字される。どのドッ
ト抵抗体5に通電するかは、印刷すべき内容によって決
められる。
ドットに対応させられており、ドット抵抗体5の発熱に
より、そのドットは例えば黒色に印字される。どのドッ
ト抵抗体5に通電するかは、印刷すべき内容によって決
められる。
【0005】各ドット抵抗体5へは同じ共通電極8から
給電されるから、ドット抵抗体5間で抵抗値が異なる
と、発熱量も異なる。発熱量が大のドット抵抗体5で印
字されたドットは濃い黒色となるが、発熱量が小のドッ
ト抵抗体5で印字されたドットは薄い黒色となるという
ように、ドット間で濃度むらが生ずる。
給電されるから、ドット抵抗体5間で抵抗値が異なる
と、発熱量も異なる。発熱量が大のドット抵抗体5で印
字されたドットは濃い黒色となるが、発熱量が小のドッ
ト抵抗体5で印字されたドットは薄い黒色となるという
ように、ドット間で濃度むらが生ずる。
【0006】ドット抵抗体5をスパッタリング等の薄膜
技術を用いて形成した場合には、抵抗値を均一なものと
することが出来るが、生産性が低いという欠点がある。
これに対して厚膜技術は安価で生産性も高い。しかし、
スクリーン印刷等の厚膜技術を用いて形成すると、ドッ
ト抵抗体5の抵抗値は均一とはならず、濃度むらが生ず
る。そのため、ドット抵抗体5の抵抗値を調整して、略
同じ値に揃えることが行われている。
技術を用いて形成した場合には、抵抗値を均一なものと
することが出来るが、生産性が低いという欠点がある。
これに対して厚膜技術は安価で生産性も高い。しかし、
スクリーン印刷等の厚膜技術を用いて形成すると、ドッ
ト抵抗体5の抵抗値は均一とはならず、濃度むらが生ず
る。そのため、ドット抵抗体5の抵抗値を調整して、略
同じ値に揃えることが行われている。
【0007】従来行われていた抵抗値調整法の1つに、
パルストリミング法がある(特開昭61− 83053号公報参
照)。これは、電界を印加すると、その電界強度に応じ
て抵抗値が減少するという性質を利用して、ドット抵抗
体5に熱破壊が起こらない範囲の電界を印加して抵抗値
を調整する方法である。この方法によれば、サーマルヘ
ッドを構成するドット抵抗体5の抵抗値のバラツキが、
±3%の範囲内に納まるところまで調整することが出来
る。
パルストリミング法がある(特開昭61− 83053号公報参
照)。これは、電界を印加すると、その電界強度に応じ
て抵抗値が減少するという性質を利用して、ドット抵抗
体5に熱破壊が起こらない範囲の電界を印加して抵抗値
を調整する方法である。この方法によれば、サーマルヘ
ッドを構成するドット抵抗体5の抵抗値のバラツキが、
±3%の範囲内に納まるところまで調整することが出来
る。
【0008】厚膜技術を用いてドット抵抗体5を製造す
る方法として、より一層抵抗値を均一化し、ドット密度
を高めることが出来る方法も提案されている。それは、
例えば特開平1−220402号公報に示されているMOD法
である(Metallo-OrganicDeposition)。このMOD法
は、まずスクリーン印刷,ロールコーティング等の塗布
技術により絶縁基板表面に金属有機物抵抗体材料を塗布
し、次いでそれを焼成してドット抵抗体5を形成する。
MOD法によって形成すると、隣接するドット抵抗体5
間での抵抗値のバラツキは少ない。しかし、金属有機物
抵抗体材料を塗布する際に、ある程度の膜厚むらが生じ
ることはどうしても避けられず、サーマルヘッド全体で
は、抵抗値のバラツキを±5%より狭い範囲内に納める
ことは困難であった。
る方法として、より一層抵抗値を均一化し、ドット密度
を高めることが出来る方法も提案されている。それは、
例えば特開平1−220402号公報に示されているMOD法
である(Metallo-OrganicDeposition)。このMOD法
は、まずスクリーン印刷,ロールコーティング等の塗布
技術により絶縁基板表面に金属有機物抵抗体材料を塗布
し、次いでそれを焼成してドット抵抗体5を形成する。
MOD法によって形成すると、隣接するドット抵抗体5
間での抵抗値のバラツキは少ない。しかし、金属有機物
抵抗体材料を塗布する際に、ある程度の膜厚むらが生じ
ることはどうしても避けられず、サーマルヘッド全体で
は、抵抗値のバラツキを±5%より狭い範囲内に納める
ことは困難であった。
【0009】しかし、中間調をも表示する高画質印字に
おいては、各ドット抵抗体5の発熱量を均一化するた
め、抵抗値のバラツキを±1%以下にすることが要求さ
れている。その要求を満たす方法として、ドット抵抗体
5の一部をレーザーを照射して削り取り(カッティング
し)、抵抗値を揃えるというレーザートリミング法が知
られている。
おいては、各ドット抵抗体5の発熱量を均一化するた
め、抵抗値のバラツキを±1%以下にすることが要求さ
れている。その要求を満たす方法として、ドット抵抗体
5の一部をレーザーを照射して削り取り(カッティング
し)、抵抗値を揃えるというレーザートリミング法が知
られている。
【0010】図10は、ドット抵抗体5に対する従来の
レーザートリミングを説明する図である。6はレーザー
照射領域、Lは照射長、LT はドット抵抗体長、Wは照
射幅、WT はドット抵抗体幅である。この図は、ドット
抵抗体5に、照射幅Wで照射長Lだけレーザーを照射し
た状態を示している。レーザー照射領域6のところは、
ドット抵抗体5の抵抗体材料が削り取られる。
レーザートリミングを説明する図である。6はレーザー
照射領域、Lは照射長、LT はドット抵抗体長、Wは照
射幅、WT はドット抵抗体幅である。この図は、ドット
抵抗体5に、照射幅Wで照射長Lだけレーザーを照射し
た状態を示している。レーザー照射領域6のところは、
ドット抵抗体5の抵抗体材料が削り取られる。
【0011】図11は、ドット抵抗体をカッティングす
る際のレーザー照射幅と抵抗値変化率との関係を示す図
である。図11(イ)は一般的な特性を示す図であり、
広い幅で照射するほどカッティングされる面積が増え、
ドット抵抗体の抵抗値変化率も大となることを示してい
る。図11(ロ)は、後に説明するように具体例であ
る。
る際のレーザー照射幅と抵抗値変化率との関係を示す図
である。図11(イ)は一般的な特性を示す図であり、
広い幅で照射するほどカッティングされる面積が増え、
ドット抵抗体の抵抗値変化率も大となることを示してい
る。図11(ロ)は、後に説明するように具体例であ
る。
【0012】図12は、従来のレーザートリミングによ
るサーマルヘッドの抵抗値調整装置を示す図である。図
12において、1はドット抵抗値検出部、2は目標抵抗
値設定部、3は比較部、4はレーザー照射制御部、5は
ドット抵抗体である。ドット抵抗値検出部1でドット抵
抗体5の抵抗値を検出し、その検出値を比較部3で目標
抵抗値設定部2と比較する。目標抵抗値設定部2には、
調整により揃えたいとしている目標抵抗値を設定してお
く。レーザー照射制御部4は、レーザーを発射してドッ
ト抵抗体5の一部を焼き切りつつ(カッティングしつ
つ)、抵抗値を徐々に上げて行く。比較部3での比較結
果がゼロとなった時、即ち、焼き切られつつあるドット
抵抗体5の抵抗値が目標抵抗値と一致した時、レーザー
の照射は停止される。
るサーマルヘッドの抵抗値調整装置を示す図である。図
12において、1はドット抵抗値検出部、2は目標抵抗
値設定部、3は比較部、4はレーザー照射制御部、5は
ドット抵抗体である。ドット抵抗値検出部1でドット抵
抗体5の抵抗値を検出し、その検出値を比較部3で目標
抵抗値設定部2と比較する。目標抵抗値設定部2には、
調整により揃えたいとしている目標抵抗値を設定してお
く。レーザー照射制御部4は、レーザーを発射してドッ
ト抵抗体5の一部を焼き切りつつ(カッティングしつ
つ)、抵抗値を徐々に上げて行く。比較部3での比較結
果がゼロとなった時、即ち、焼き切られつつあるドット
抵抗体5の抵抗値が目標抵抗値と一致した時、レーザー
の照射は停止される。
【0013】図13に、上記した従来のレーザートリミ
ングにより抵抗値が調整される様子を示す。横軸は個々
のドット抵抗体5を区別するドットナンバー、縦軸はド
ット抵抗体5の抵抗値を示す。この例の場合、サーマル
ヘッドを構成する各ドット抵抗体5の抵抗値は、抵抗値
R0 を中心とする±10%の範囲内にバラツイていると
仮定している。図中の点線イは+10%のレベル(抵抗
値1.1R0 )を示し、点線ロは0%のレベル(抵抗値
R0 )を示し、点線ハは−10%のレベル(抵抗値0.
9R0 )を示している。
ングにより抵抗値が調整される様子を示す。横軸は個々
のドット抵抗体5を区別するドットナンバー、縦軸はド
ット抵抗体5の抵抗値を示す。この例の場合、サーマル
ヘッドを構成する各ドット抵抗体5の抵抗値は、抵抗値
R0 を中心とする±10%の範囲内にバラツイていると
仮定している。図中の点線イは+10%のレベル(抵抗
値1.1R0 )を示し、点線ロは0%のレベル(抵抗値
R0 )を示し、点線ハは−10%のレベル(抵抗値0.
9R0 )を示している。
【0014】レーザートリミングによる抵抗値の調整
は、抵抗値を上げることにより行うから、目標抵抗値
は、バラツイているドット抵抗体の抵抗値の最高値以上
の値に設定される。仮に点線イのレベルの値(1.1R
0 )に設定されると、ドットナンバー2のドット抵抗体
は、レーザートリミングにより1.1R0 との差である
ΔR2 だけ高くされる。このΔR2 が、ドットナンバー
2のドット抵抗体に対する抵抗補正量である。同様にし
て、ドットナンバー4のドット抵抗体に対する抵抗補正
量はΔR4 とされ、ドットナンバー7のドット抵抗体に
対する抵抗補正量はΔR7 とされる。このようにして抵
抗値のバラツキは、±1%以下にされる。
は、抵抗値を上げることにより行うから、目標抵抗値
は、バラツイているドット抵抗体の抵抗値の最高値以上
の値に設定される。仮に点線イのレベルの値(1.1R
0 )に設定されると、ドットナンバー2のドット抵抗体
は、レーザートリミングにより1.1R0 との差である
ΔR2 だけ高くされる。このΔR2 が、ドットナンバー
2のドット抵抗体に対する抵抗補正量である。同様にし
て、ドットナンバー4のドット抵抗体に対する抵抗補正
量はΔR4 とされ、ドットナンバー7のドット抵抗体に
対する抵抗補正量はΔR7 とされる。このようにして抵
抗値のバラツキは、±1%以下にされる。
【0015】
(問題点)しかしながら、前記した従来のレーザートリ
ミングでは、ドット抵抗体間でカッティング量に大きな
バラツキが生じ、印字画質を低下させるという問題点が
あった。
ミングでは、ドット抵抗体間でカッティング量に大きな
バラツキが生じ、印字画質を低下させるという問題点が
あった。
【0016】(問題点の説明)レーザートリミングで
は、抵抗値を上げる方向でしか調整できない。そのた
め、図13のドットナンバー7のように元の抵抗値が低
いドット抵抗体では、レーザーによるカッティング量が
非常に大きくなるが、ドットナンバー4のように元の抵
抗値が高いドット抵抗体では、ほとんどカッティングさ
れないことになる。カッティング量が異なると、ドット
抵抗体5の発熱表面積が異なるから、印字した場合の個
々のドットの大きさが異なって来る。これでは画質が低
下してしまい、高品質の中間調を表示することは出来な
くなる。
は、抵抗値を上げる方向でしか調整できない。そのた
め、図13のドットナンバー7のように元の抵抗値が低
いドット抵抗体では、レーザーによるカッティング量が
非常に大きくなるが、ドットナンバー4のように元の抵
抗値が高いドット抵抗体では、ほとんどカッティングさ
れないことになる。カッティング量が異なると、ドット
抵抗体5の発熱表面積が異なるから、印字した場合の個
々のドットの大きさが異なって来る。これでは画質が低
下してしまい、高品質の中間調を表示することは出来な
くなる。
【0017】本発明は、このような問題点を解決するこ
とを課題とするものである。
とを課題とするものである。
【0018】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明では、サーマルヘッドを構成する各ドット抵
抗体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃える
サーマルヘッドの抵抗値調整方法において、検出した抵
抗値が目標抵抗値より大であるドット抵抗体に対しては
抵抗値を低下させるパワーでレーザーを照射し、検出し
た抵抗値が目標抵抗値より小であるドット抵抗体に対し
ては抵抗値を増加させるパワーでレーザーを照射し、抵
抗値が目標抵抗値となったところで照射を停止すること
とした。
め、本発明では、サーマルヘッドを構成する各ドット抵
抗体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃える
サーマルヘッドの抵抗値調整方法において、検出した抵
抗値が目標抵抗値より大であるドット抵抗体に対しては
抵抗値を低下させるパワーでレーザーを照射し、検出し
た抵抗値が目標抵抗値より小であるドット抵抗体に対し
ては抵抗値を増加させるパワーでレーザーを照射し、抵
抗値が目標抵抗値となったところで照射を停止すること
とした。
【0019】その方法に関連して、サーマルヘッドの抵
抗値調整装置を、サーマルヘッドを構成するドット抵抗
体の抵抗値を検出するドット抵抗値検出部と、ドット抵
抗体の目標抵抗値を設定する目標抵抗値設定部と、検出
した抵抗値が目標抵抗値より大か小かを判定する比較部
と、ドット抵抗体の抵抗値を低下させる範囲にあり且つ
予め定められている第1のレーザーパワーかドット抵抗
体の抵抗値を増加させる範囲にあり且つ予め定められて
いる第2のレーザーパワーかのいずれかを前記比較部の
判定結果に応じて選択するレーザーパワー選択部と、選
択されたレーザーパワーでレーザーを発射するレーザー
発射部とを具えるものとした。
抗値調整装置を、サーマルヘッドを構成するドット抵抗
体の抵抗値を検出するドット抵抗値検出部と、ドット抵
抗体の目標抵抗値を設定する目標抵抗値設定部と、検出
した抵抗値が目標抵抗値より大か小かを判定する比較部
と、ドット抵抗体の抵抗値を低下させる範囲にあり且つ
予め定められている第1のレーザーパワーかドット抵抗
体の抵抗値を増加させる範囲にあり且つ予め定められて
いる第2のレーザーパワーかのいずれかを前記比較部の
判定結果に応じて選択するレーザーパワー選択部と、選
択されたレーザーパワーでレーザーを発射するレーザー
発射部とを具えるものとした。
【0020】また、サーマルヘッドを構成する各ドット
抵抗体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃え
るサーマルヘッドの抵抗値調整方法において、目標抵抗
値をバラツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下
に設定し、抵抗値を低下させるパワーでレーザーを照射
し、抵抗値が目標抵抗値となったところで照射を停止す
ることも出来る。
抵抗体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃え
るサーマルヘッドの抵抗値調整方法において、目標抵抗
値をバラツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下
に設定し、抵抗値を低下させるパワーでレーザーを照射
し、抵抗値が目標抵抗値となったところで照射を停止す
ることも出来る。
【0021】それに伴い、サーマルヘッドの抵抗値調整
装置を、サーマルヘッドを構成するドット抵抗体の抵抗
値を検出するドット抵抗値検出部と、目標抵抗値をバラ
ツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に設定す
る目標抵抗値設定部と、検出した抵抗値と目標抵抗値と
を比較する比較部と、該比較部での比較結果に応じてレ
ーザーパワーを選択するレーザーパワー選択部と、選択
されたレーザーパワーでレーザーを発射するレーザー発
射部とを具えるものとすることが出来る。
装置を、サーマルヘッドを構成するドット抵抗体の抵抗
値を検出するドット抵抗値検出部と、目標抵抗値をバラ
ツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に設定す
る目標抵抗値設定部と、検出した抵抗値と目標抵抗値と
を比較する比較部と、該比較部での比較結果に応じてレ
ーザーパワーを選択するレーザーパワー選択部と、選択
されたレーザーパワーでレーザーを発射するレーザー発
射部とを具えるものとすることが出来る。
【0022】更に、サ─マルヘッドを構成する各ドット
抵抗体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃え
るサーマルヘッドの抵抗値調整方法は、目標抵抗値をバ
ラツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に設定
し、前記目標抵抗値との差に応じてドット抵抗体の抵抗
値を低下させる範囲内にあるレーザーパワーを選択する
と共に照射幅を決定し、該レーザーパワー,該照射幅で
ドット抵抗体を所定長照射することにより抵抗値を調整
するものとすることも出来る。
抵抗体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃え
るサーマルヘッドの抵抗値調整方法は、目標抵抗値をバ
ラツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に設定
し、前記目標抵抗値との差に応じてドット抵抗体の抵抗
値を低下させる範囲内にあるレーザーパワーを選択する
と共に照射幅を決定し、該レーザーパワー,該照射幅で
ドット抵抗体を所定長照射することにより抵抗値を調整
するものとすることも出来る。
【0023】それに伴い、サーマルヘッドの抵抗値調整
装置を、サーマルヘッドを構成するドット抵抗体の抵抗
値を検出するドット抵抗値検出部と、ドット抵抗体の目
標抵抗値を設定する目標抵抗値設定部と、検出した抵抗
値と目標抵抗値とを比較して差を出力する比較部と、該
差に応じてドット抵抗体の抵抗値を低下させる範囲内に
あるレーザーパワーを選択するレーザーパワー選択部
と、該差に応じて照射幅を決定する照射幅決定部と、選
択されたレーザーパワーおよび決定された照射幅でレー
ザーを発射するレーザー発射部とを具え、ドット抵抗体
の表面上を所定長照射するものとすることが出来る。
装置を、サーマルヘッドを構成するドット抵抗体の抵抗
値を検出するドット抵抗値検出部と、ドット抵抗体の目
標抵抗値を設定する目標抵抗値設定部と、検出した抵抗
値と目標抵抗値とを比較して差を出力する比較部と、該
差に応じてドット抵抗体の抵抗値を低下させる範囲内に
あるレーザーパワーを選択するレーザーパワー選択部
と、該差に応じて照射幅を決定する照射幅決定部と、選
択されたレーザーパワーおよび決定された照射幅でレー
ザーを発射するレーザー発射部とを具え、ドット抵抗体
の表面上を所定長照射するものとすることが出来る。
【0024】
【作 用】レーザーパワーを適切に選定してやれば、
レーザー照射によりドット抵抗体の抵抗値を下げること
が出来るという事実の発見に基づき、抵抗値が目標抵抗
値より大であるドット抵抗体に対しては、抵抗値を下げ
るレーザーパワーで照射する。一方、抵抗値が目標抵抗
値より小であるドット抵抗体に対しては、従来と同様の
レーザーパワーで照射し、カッティングにより抵抗値を
上げる。
レーザー照射によりドット抵抗体の抵抗値を下げること
が出来るという事実の発見に基づき、抵抗値が目標抵抗
値より大であるドット抵抗体に対しては、抵抗値を下げ
るレーザーパワーで照射する。一方、抵抗値が目標抵抗
値より小であるドット抵抗体に対しては、従来と同様の
レーザーパワーで照射し、カッティングにより抵抗値を
上げる。
【0025】このように、2つのレーザーパワーを使い
分けて調整すると、個々の抵抗補正量は少なくなり、抵
抗値を上昇させる場合のカッティング量も減少する。こ
れにより、ドット抵抗体の形状のバラツキを少なくする
ことが出来るので、印字ドットのサイズが均一化され、
画質が向上する。
分けて調整すると、個々の抵抗補正量は少なくなり、抵
抗値を上昇させる場合のカッティング量も減少する。こ
れにより、ドット抵抗体の形状のバラツキを少なくする
ことが出来るので、印字ドットのサイズが均一化され、
画質が向上する。
【0026】また、目標抵抗値を設定する際、バラツイ
ているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に設定すれ
ば、抵抗値を下げる範囲内にあるレーザーパワーのみを
使用して、抵抗値を調整することも出来る。この場合の
照射では、ドット抵抗体はカッティングされないので、
印字ドットの均一性は更に良好となる。
ているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に設定すれ
ば、抵抗値を下げる範囲内にあるレーザーパワーのみを
使用して、抵抗値を調整することも出来る。この場合の
照射では、ドット抵抗体はカッティングされないので、
印字ドットの均一性は更に良好となる。
【0027】
(第1の実施例)以下、本発明の実施例を図面に基づい
て詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実施例にか
かわるサーマルヘッドの抵抗値調整装置を示す図であ
る。符号は図12のものに対応し、4−1はレーザーパ
ワー選択部、4−2はレーザー発射部である。本発明
は、照射するレーザーのパワーを或る範囲の値にする
と、ドット抵抗体5の抵抗値を低下させることが出来る
という事実の発見に基礎を置いている。
て詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実施例にか
かわるサーマルヘッドの抵抗値調整装置を示す図であ
る。符号は図12のものに対応し、4−1はレーザーパ
ワー選択部、4−2はレーザー発射部である。本発明
は、照射するレーザーのパワーを或る範囲の値にする
と、ドット抵抗体5の抵抗値を低下させることが出来る
という事実の発見に基礎を置いている。
【0028】図2は、ドット抵抗体にレーザーを照射し
た場合のレーザーパワーと抵抗値変化率との関係を示す
図である。A〜Dは、特性曲線上の点である。ドット抵
抗体を照射するレーザーのパワー(具体的には、レーザ
ーの励起ランプ入力電流)を徐々に上げて行った場合、
或るレーザーパワーPA (点A)まではドット抵抗体の
抵抗値は変化しない(抵抗値変化率=0%)。それ以上
にすると、まず下がり始める(抵抗値変化率がマイナス
となる)。
た場合のレーザーパワーと抵抗値変化率との関係を示す
図である。A〜Dは、特性曲線上の点である。ドット抵
抗体を照射するレーザーのパワー(具体的には、レーザ
ーの励起ランプ入力電流)を徐々に上げて行った場合、
或るレーザーパワーPA (点A)まではドット抵抗体の
抵抗値は変化しない(抵抗値変化率=0%)。それ以上
にすると、まず下がり始める(抵抗値変化率がマイナス
となる)。
【0029】更にレーザーパワーを上げて行くと、最大
のマイナス値を示した後(点B)、マイナスの程度は小
さくなって行き、やがて或るレーザーパワーPC で抵抗
値変化率が0%に戻る(点C)。レーザーパワーをPC
より大にすると、照射された部分が焼き切られることに
なり、ドット抵抗体の抵抗値変化率はプラスとなる(点
D)。なお、或るレーザーパワーの範囲で抵抗値が下が
る理由は、その範囲のレーザー光が、ちょうどドット抵
抗体を抵抗値小の材質に変質させるのに都合のよい強さ
であるからと推測される。
のマイナス値を示した後(点B)、マイナスの程度は小
さくなって行き、やがて或るレーザーパワーPC で抵抗
値変化率が0%に戻る(点C)。レーザーパワーをPC
より大にすると、照射された部分が焼き切られることに
なり、ドット抵抗体の抵抗値変化率はプラスとなる(点
D)。なお、或るレーザーパワーの範囲で抵抗値が下が
る理由は、その範囲のレーザー光が、ちょうどドット抵
抗体を抵抗値小の材質に変質させるのに都合のよい強さ
であるからと推測される。
【0030】図3は、ドット抵抗体にレーザーを照射し
た場合のレーザーパワーと抵抗値変化率との関係の具体
例を示す図である。図3(イ)は、ドット抵抗体幅WT
=78μm,ドット抵抗体長LT =160μmのサイズ
のドット抵抗体に対して、照射幅W=26μmでドット
抵抗体長LT だけ照射した場合の例であり、図3(ロ)
は同様のドット抵抗体に対して、照射幅W=13μmで
照射した場合の例である。なお、いずれの場合も、レー
ザー光の32%をカットするフィルターをかけて照射し
ている(レーザーは、パワーが低い領域では安定な出力
が得られないので、安定な出力が得られる高いパワー領
域で出力した上で、フィルターによって必要なパワーに
落として使用する)。
た場合のレーザーパワーと抵抗値変化率との関係の具体
例を示す図である。図3(イ)は、ドット抵抗体幅WT
=78μm,ドット抵抗体長LT =160μmのサイズ
のドット抵抗体に対して、照射幅W=26μmでドット
抵抗体長LT だけ照射した場合の例であり、図3(ロ)
は同様のドット抵抗体に対して、照射幅W=13μmで
照射した場合の例である。なお、いずれの場合も、レー
ザー光の32%をカットするフィルターをかけて照射し
ている(レーザーは、パワーが低い領域では安定な出力
が得られないので、安定な出力が得られる高いパワー領
域で出力した上で、フィルターによって必要なパワーに
落として使用する)。
【0031】図4は、抵抗値変化率がマイナスとなるレ
ーザーパワーで照射した場合のレーザー照射幅と抵抗値
変化率との関係を示す図である。図4(イ)は一般的な
傾向を表したものであり、照射幅に略比例して、抵抗値
変化率のマイナスの度合いも大きくなっている。図4
(ロ)は具体例を示したものであり、レーザー励起ラン
プ入力電流13Aのレーザーパワーで、ドット抵抗体幅
WT =78μm,ドット抵抗体長LT =160μmのサ
イズのドット抵抗体に対して、ドット抵抗体長LT だけ
照射した場合の関係を示している。これによれば、例え
ば照射幅を19μmとすると、抵抗値を10%低下させ
ることが出来る。
ーザーパワーで照射した場合のレーザー照射幅と抵抗値
変化率との関係を示す図である。図4(イ)は一般的な
傾向を表したものであり、照射幅に略比例して、抵抗値
変化率のマイナスの度合いも大きくなっている。図4
(ロ)は具体例を示したものであり、レーザー励起ラン
プ入力電流13Aのレーザーパワーで、ドット抵抗体幅
WT =78μm,ドット抵抗体長LT =160μmのサ
イズのドット抵抗体に対して、ドット抵抗体長LT だけ
照射した場合の関係を示している。これによれば、例え
ば照射幅を19μmとすると、抵抗値を10%低下させ
ることが出来る。
【0032】従来のレーザートリミングは、図2で言う
ならば、点Cより左方の範囲(抵抗値変化率がプラスの
範囲)を利用して調整していたことになるわけである
が、本発明の第1の実施例では、次の,を併用し
て、サーマルヘッドを構成する各ドット抵抗体の抵抗値
を揃える。 目標抵抗値より大きい抵抗値のドット抵抗体に対して
は、図2の点Aと点Cとの間の範囲(抵抗値変化率がマ
イナスの範囲)を利用して抵抗値を下げる。 目標抵抗値より小さい抵抗値のドット抵抗体に対して
は、図2の点Cより左方の範囲(抵抗値変化率がプラス
の範囲)を利用して抵抗値を上げる。
ならば、点Cより左方の範囲(抵抗値変化率がプラスの
範囲)を利用して調整していたことになるわけである
が、本発明の第1の実施例では、次の,を併用し
て、サーマルヘッドを構成する各ドット抵抗体の抵抗値
を揃える。 目標抵抗値より大きい抵抗値のドット抵抗体に対して
は、図2の点Aと点Cとの間の範囲(抵抗値変化率がマ
イナスの範囲)を利用して抵抗値を下げる。 目標抵抗値より小さい抵抗値のドット抵抗体に対して
は、図2の点Cより左方の範囲(抵抗値変化率がプラス
の範囲)を利用して抵抗値を上げる。
【0033】即ち、第1の実施例では、抵抗値を下げる
のに使用する第1のレーザーパワーと、抵抗値を上げる
のに使用する第2のレーザーパワーとを予め定めておく
(例えば、図2を参照して、第1のレーザーパワー=P
B ,第2のレーザーパワー=PD と定めておく)。そし
て、それらのいずれかをレーザーパワー選択部4−1で
選択する。
のに使用する第1のレーザーパワーと、抵抗値を上げる
のに使用する第2のレーザーパワーとを予め定めておく
(例えば、図2を参照して、第1のレーザーパワー=P
B ,第2のレーザーパワー=PD と定めておく)。そし
て、それらのいずれかをレーザーパワー選択部4−1で
選択する。
【0034】次に図1の各部の動作を、順を追って説明
する。図5は、本発明の第1の実施例で抵抗値が調整さ
れる様子を示す図である。座標軸および符号は、図13
のものに対応している。ドット抵抗値検出部1では、こ
れから調整しようとしている1つのドット抵抗体の抵抗
値を検出する。検出は、抵抗値の調整中も行われる。図
5にプロットした黒丸は、調整前に検出された抵抗値を
表している。
する。図5は、本発明の第1の実施例で抵抗値が調整さ
れる様子を示す図である。座標軸および符号は、図13
のものに対応している。ドット抵抗値検出部1では、こ
れから調整しようとしている1つのドット抵抗体の抵抗
値を検出する。検出は、抵抗値の調整中も行われる。図
5にプロットした黒丸は、調整前に検出された抵抗値を
表している。
【0035】各ドット抵抗体の抵抗値が、抵抗値R0 を
中心にして±10%の範囲にバラツイている場合、バラ
ツキの中心の点線ロのレベル(抵抗値R0 )を目標抵抗
値に設定する。比較部3では、ドット抵抗値検出部1で
検出した抵抗値が、目標抵抗値より大か小かを判定す
る。
中心にして±10%の範囲にバラツイている場合、バラ
ツキの中心の点線ロのレベル(抵抗値R0 )を目標抵抗
値に設定する。比較部3では、ドット抵抗値検出部1で
検出した抵抗値が、目標抵抗値より大か小かを判定す
る。
【0036】比較した結果、図5のドットナンバー2の
ドット抵抗体のように目標抵抗値より小である場合に
は、レーザーパワー選択部4−1で、抵抗を上げるとこ
ろの第2のレーザーパワー(PD )を選択する。レーザ
ー発射部4−2からは、レーザーパワー選択部4−1で
選択したパワーでレーザーが発射され、ドット抵抗体5
を照射する。この場合の抵抗値調整は、従来のレーザー
トリミングと同様、ドット抵抗体5の一部をカッティン
グすることにより行われる。カッティングしている間も
抵抗値は測定され、目標抵抗値と等しくなったところ
で、照射が停止される。抵抗値はΔR2 だけ引き上げら
れてR0 とされるが、このΔR2 が、この場合の抵抗補
正量である。
ドット抵抗体のように目標抵抗値より小である場合に
は、レーザーパワー選択部4−1で、抵抗を上げるとこ
ろの第2のレーザーパワー(PD )を選択する。レーザ
ー発射部4−2からは、レーザーパワー選択部4−1で
選択したパワーでレーザーが発射され、ドット抵抗体5
を照射する。この場合の抵抗値調整は、従来のレーザー
トリミングと同様、ドット抵抗体5の一部をカッティン
グすることにより行われる。カッティングしている間も
抵抗値は測定され、目標抵抗値と等しくなったところ
で、照射が停止される。抵抗値はΔR2 だけ引き上げら
れてR0 とされるが、このΔR2 が、この場合の抵抗補
正量である。
【0037】逆に、ドットナンバー4のドット抵抗体の
ように目標抵抗値より大である場合には、レーザーパワ
ー選択部4−1で、抵抗を下げるところの第1のレーザ
ーパワー(PB )を選択する。抵抗補正量ΔR4 だけ低
下させ、目標抵抗値と一致したところで、照射は停止さ
れる。他のドット抵抗体に対しても同様にして調整され
る。
ように目標抵抗値より大である場合には、レーザーパワ
ー選択部4−1で、抵抗を下げるところの第1のレーザ
ーパワー(PB )を選択する。抵抗補正量ΔR4 だけ低
下させ、目標抵抗値と一致したところで、照射は停止さ
れる。他のドット抵抗体に対しても同様にして調整され
る。
【0038】図6は、ドット抵抗体に対するレーザーの
照射の仕方の例を示す図である。符号は、図10のもの
に対応し、6Aはレーザー照射領域である。第1の実施
例でレーザーを照射する場合、図6(イ)〜(ハ)のい
ずれを採用してもよい。図6(イ),(ロ)は、照射幅
Wを一定と決めておき、照射長Lを変えるやり方であ
る。照射幅Wを(イ)のように広く決めておくと、照射
長Lは短い。(ロ)のように狭く決めておくと、レーザ
ー照射領域6は何往復もする長さとなることもある。
照射の仕方の例を示す図である。符号は、図10のもの
に対応し、6Aはレーザー照射領域である。第1の実施
例でレーザーを照射する場合、図6(イ)〜(ハ)のい
ずれを採用してもよい。図6(イ),(ロ)は、照射幅
Wを一定と決めておき、照射長Lを変えるやり方であ
る。照射幅Wを(イ)のように広く決めておくと、照射
長Lは短い。(ロ)のように狭く決めておくと、レーザ
ー照射領域6は何往復もする長さとなることもある。
【0039】図6(ハ)は、照射長Lはドット抵抗体長
LT と等しくし、抵抗補正量に応じて照射幅をW1 とか
W2 とかにするものである。なお、それらの照射幅は、
図4(抵抗値を下げる場合)や図11(抵抗値を上げる
場合)に示されるレーザー照射幅と抵抗値変化率との関
係を参照して決める。
LT と等しくし、抵抗補正量に応じて照射幅をW1 とか
W2 とかにするものである。なお、それらの照射幅は、
図4(抵抗値を下げる場合)や図11(抵抗値を上げる
場合)に示されるレーザー照射幅と抵抗値変化率との関
係を参照して決める。
【0040】なお、図11(ロ)は、図11(イ)の特
性曲線の具体例を示す図である。即ち、ドット抵抗体幅
WT =78μm,ドット抵抗体長LT =160μmのサ
イズのドット抵抗体5に対して、レーザー励起ランプ入
力電流=16Aのレーザーパワーのレーザーに、32%
の光をカットするフィルターをかけて照射する場合の特
性である。
性曲線の具体例を示す図である。即ち、ドット抵抗体幅
WT =78μm,ドット抵抗体長LT =160μmのサ
イズのドット抵抗体5に対して、レーザー励起ランプ入
力電流=16Aのレーザーパワーのレーザーに、32%
の光をカットするフィルターをかけて照射する場合の特
性である。
【0041】(第2の実施例)第1の実施例では、ドッ
ト抵抗体の抵抗値を上げるレーザーパワーと下げるレー
ザーパワーのレーザーを併用しているが、カッティング
を伴わないところの下げるレーザーパワーのレーザーの
みを使用して調整することが出来る。ブロック構成図は
図1と同様となるが、ただレーザーパワー選択部4−1
で選択する種類が、図2の点A〜Cの範囲内にあるレー
ザーパワーのものばかりとなる点が異なる。
ト抵抗体の抵抗値を上げるレーザーパワーと下げるレー
ザーパワーのレーザーを併用しているが、カッティング
を伴わないところの下げるレーザーパワーのレーザーの
みを使用して調整することが出来る。ブロック構成図は
図1と同様となるが、ただレーザーパワー選択部4−1
で選択する種類が、図2の点A〜Cの範囲内にあるレー
ザーパワーのものばかりとなる点が異なる。
【0042】図2の点A〜Cの範囲内のレーザーパワー
といっても、レーザーパワーの値によって抵抗値変化率
は異なっている。従って、選択の候補となるレーザーパ
ワーは、複数種類決めておくことも出来るし、1種類に
決めておくことも出来る。比較部3では、検出抵抗値と
目標抵抗値とを比較して差を求め、その差に応じてレー
ザーパワーを選択するわけであるが、用意されている候
補が1種類の場合は常に同じレーザーパワーということ
になる。複数種類用意してある場合には、照射により抵
抗値の差が減少して行くにつれ次々とレーザーパワーを
切り換えることも考えられるが、制御が煩雑となるのを
避けるため、レーザーパワーの選択は、当初の差に応じ
て行う1回だけとしてもよい。
といっても、レーザーパワーの値によって抵抗値変化率
は異なっている。従って、選択の候補となるレーザーパ
ワーは、複数種類決めておくことも出来るし、1種類に
決めておくことも出来る。比較部3では、検出抵抗値と
目標抵抗値とを比較して差を求め、その差に応じてレー
ザーパワーを選択するわけであるが、用意されている候
補が1種類の場合は常に同じレーザーパワーということ
になる。複数種類用意してある場合には、照射により抵
抗値の差が減少して行くにつれ次々とレーザーパワーを
切り換えることも考えられるが、制御が煩雑となるのを
避けるため、レーザーパワーの選択は、当初の差に応じ
て行う1回だけとしてもよい。
【0043】図8は、第2の実施例で抵抗値が調整され
る様子を示す図である。符号は、図13のものに対応し
ている。第2実施例では抵抗値を下げて調整するから、
目標抵抗値は、バラツイているドット抵抗体の抵抗値の
最低値以下(例えば、点線ハのレベル…抵抗値0.9R
0 )に設定することになる。
る様子を示す図である。符号は、図13のものに対応し
ている。第2実施例では抵抗値を下げて調整するから、
目標抵抗値は、バラツイているドット抵抗体の抵抗値の
最低値以下(例えば、点線ハのレベル…抵抗値0.9R
0 )に設定することになる。
【0044】調整しようとしているドット抵抗体の抵抗
値を照射中も検出し続け、目標抵抗値と一致したところ
で照射を停止する。その結果、ドットナンバー2のドッ
ト抵抗体はΔR2 だけ低下させられて0.9R0 にさ
れ、ドットナンバー6のドット抵抗体はΔR6 だけ低下
させられて0.9R0 にされている。この実施例によれ
ば、ドット抵抗体をカッティングしないので、発熱面積
にバラツキが生ぜず、画質が向上する。
値を照射中も検出し続け、目標抵抗値と一致したところ
で照射を停止する。その結果、ドットナンバー2のドッ
ト抵抗体はΔR2 だけ低下させられて0.9R0 にさ
れ、ドットナンバー6のドット抵抗体はΔR6 だけ低下
させられて0.9R0 にされている。この実施例によれ
ば、ドット抵抗体をカッティングしないので、発熱面積
にバラツキが生ぜず、画質が向上する。
【0045】(第3の実施例)図7は、本発明の第3の
実施例にかかわるサーマルヘッドの抵抗値調整装置を示
す図である。符号は図1のものに対応し、4−3は照射
幅決定部である。この実施例は、ドット抵抗体の抵抗値
を下げる範囲内にあるレーザーパワーで、所定長照射す
るのみで、抵抗値を調整するものである。所定長は任意
に決定することが出来、例えばドット抵抗体長LT とし
てもよい。
実施例にかかわるサーマルヘッドの抵抗値調整装置を示
す図である。符号は図1のものに対応し、4−3は照射
幅決定部である。この実施例は、ドット抵抗体の抵抗値
を下げる範囲内にあるレーザーパワーで、所定長照射す
るのみで、抵抗値を調整するものである。所定長は任意
に決定することが出来、例えばドット抵抗体長LT とし
てもよい。
【0046】レーザーパワーを図2の点A〜Cまでの範
囲の或るパワーにしてドット抵抗体を照射すると、図4
に示したように、レーザー照射幅に応じて抵抗値変化率
は変わる。仮に照射幅をWとした場合に、抵抗値変化率
が−20%であるとすると、発熱面積を変形してしまう
カッティングをしなくとも、20%の範囲内のバラツキ
は調整できることになる。なお、図4の特性曲線は、ド
ット抵抗体の上端から下端まで、ドット抵抗体長LT 全
体にわたって照射した場合に得られる特性曲線である。
囲の或るパワーにしてドット抵抗体を照射すると、図4
に示したように、レーザー照射幅に応じて抵抗値変化率
は変わる。仮に照射幅をWとした場合に、抵抗値変化率
が−20%であるとすると、発熱面積を変形してしまう
カッティングをしなくとも、20%の範囲内のバラツキ
は調整できることになる。なお、図4の特性曲線は、ド
ット抵抗体の上端から下端まで、ドット抵抗体長LT 全
体にわたって照射した場合に得られる特性曲線である。
【0047】図8は、本発明の第3の実施例で抵抗値が
調整される様子をも示している図である。符号は、図1
3のものに対応している。ドット抵抗体の抵抗値は、±
10%の範囲(つまり20%の範囲)にバラツイてい
る。従って、抵抗値を下げる範囲のレーザーパワーを選
択し、抵抗値変化率が−20%まで下げれる照射幅がも
しあれば、下げる方向に抵抗値を変えるという調整方法
を採用するだけで、どのドット抵抗体の抵抗値も同じ値
に揃えることが出来る。
調整される様子をも示している図である。符号は、図1
3のものに対応している。ドット抵抗体の抵抗値は、±
10%の範囲(つまり20%の範囲)にバラツイてい
る。従って、抵抗値を下げる範囲のレーザーパワーを選
択し、抵抗値変化率が−20%まで下げれる照射幅がも
しあれば、下げる方向に抵抗値を変えるという調整方法
を採用するだけで、どのドット抵抗体の抵抗値も同じ値
に揃えることが出来る。
【0048】この場合の目標抵抗値は、バラツイている
抵抗値の最低値以下、例えば点線ハのレベルの0.9R
0 に設定されることになる。ドットナンバー2のドット
抵抗体の抵抗値を調整する場合は、先ず図7のドット抵
抗値検出部1にて抵抗値が検出され、比較部3にて目標
抵抗値設定部2の目標抵抗値(0.9R0 )と比較され
る。第3実施例では、単に目標抵抗値より大か小かを見
るのではなく、差の値が幾らかまで求める。ドットナン
バー2の場合は、差はΔR2 だけ大であると求められ
る。
抵抗値の最低値以下、例えば点線ハのレベルの0.9R
0 に設定されることになる。ドットナンバー2のドット
抵抗体の抵抗値を調整する場合は、先ず図7のドット抵
抗値検出部1にて抵抗値が検出され、比較部3にて目標
抵抗値設定部2の目標抵抗値(0.9R0 )と比較され
る。第3実施例では、単に目標抵抗値より大か小かを見
るのではなく、差の値が幾らかまで求める。ドットナン
バー2の場合は、差はΔR2 だけ大であると求められ
る。
【0049】それに基づき、レーザーパワー選択部4−
1では、抵抗値を下げる範囲内にあるレーザーパワーで
あって予め定めてあるものの中から適当なものを選択す
る。図2の点A〜Cにおける曲線が変化していることか
ら容易に理解されるように、レーザーパワーによって抵
抗値変化率が異なっており、それぞれのレーザーパワー
に応じて図4に相当する特性曲線も少しずつ異なる。従
って、同じ照射幅でも使用するレーザーパワーの値によ
り低下される抵抗量が異なる。従って、選択の候補とな
るレーザーパワーは複数種類決めておいてもよいし、1
種類に決めておいてもよい。
1では、抵抗値を下げる範囲内にあるレーザーパワーで
あって予め定めてあるものの中から適当なものを選択す
る。図2の点A〜Cにおける曲線が変化していることか
ら容易に理解されるように、レーザーパワーによって抵
抗値変化率が異なっており、それぞれのレーザーパワー
に応じて図4に相当する特性曲線も少しずつ異なる。従
って、同じ照射幅でも使用するレーザーパワーの値によ
り低下される抵抗量が異なる。従って、選択の候補とな
るレーザーパワーは複数種類決めておいてもよいし、1
種類に決めておいてもよい。
【0050】照射幅決定部4−3では、目標抵抗値から
の差の値に応じ、選択したレーザーパワーに対応する図
4の特性を参照しつつ、照射幅を決定する。レーザー発
射部4−2は、上記のレーザーパワー,照射幅にてレー
ザーを発射し、ドットナンバー2のドット抵抗体5を照
射する。その結果、その抵抗値はΔR2 だけ下げられ
て、0.9R0 にされる。他のドット抵抗体5に対して
も同様な照射がなされ、抵抗値が0.9R0 に揃えられ
る。第3実施例ではカッティングされないので、ドット
抵抗体の表面積は変形せず、印字ドットの均一性が保た
れ、高画質となる。
の差の値に応じ、選択したレーザーパワーに対応する図
4の特性を参照しつつ、照射幅を決定する。レーザー発
射部4−2は、上記のレーザーパワー,照射幅にてレー
ザーを発射し、ドットナンバー2のドット抵抗体5を照
射する。その結果、その抵抗値はΔR2 だけ下げられ
て、0.9R0 にされる。他のドット抵抗体5に対して
も同様な照射がなされ、抵抗値が0.9R0 に揃えられ
る。第3実施例ではカッティングされないので、ドット
抵抗体の表面積は変形せず、印字ドットの均一性が保た
れ、高画質となる。
【0051】なお、図7に示した第3実施例では、図1
のように照射中にドット抵抗体5の抵抗値を測定してフ
ィードバックすることはしていない。図4を参照して照
射幅を決定する時に、所望の抵抗値になることは相当の
確度で予測されるからである。しかし勿論、必要に応じ
てフィードバック制御することも可能である。
のように照射中にドット抵抗体5の抵抗値を測定してフ
ィードバックすることはしていない。図4を参照して照
射幅を決定する時に、所望の抵抗値になることは相当の
確度で予測されるからである。しかし勿論、必要に応じ
てフィードバック制御することも可能である。
【0052】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明のサーマルヘッ
ドの抵抗値調整方法および装置によれば、ドット抵抗体
の抵抗値を下げるレーザーパワーとカッティングにより
抵抗値を上げるレーザーパワーとを使い分けることによ
り、カッティング量を減らし、画質を向上させることが
出来る。
ドの抵抗値調整方法および装置によれば、ドット抵抗体
の抵抗値を下げるレーザーパワーとカッティングにより
抵抗値を上げるレーザーパワーとを使い分けることによ
り、カッティング量を減らし、画質を向上させることが
出来る。
【0053】この場合、ドット抵抗体の抵抗値のバラツ
キの中心付近に目標抵抗値を設定して、その上下から抵
抗値を接近させて調整するので、当初の抵抗値バラツキ
範囲が従来より大であっても、調整することが出来る。
キの中心付近に目標抵抗値を設定して、その上下から抵
抗値を接近させて調整するので、当初の抵抗値バラツキ
範囲が従来より大であっても、調整することが出来る。
【0054】また、目標抵抗値をバラツイているドット
抵抗体の抵抗値の最低値以下に設定し、抵抗値を下げる
範囲内にあるレーザーパワーのみを使用して、抵抗値を
調整した場合には、ドット抵抗体はカッティングされな
いので、画質は更に良好となる。
抵抗体の抵抗値の最低値以下に設定し、抵抗値を下げる
範囲内にあるレーザーパワーのみを使用して、抵抗値を
調整した場合には、ドット抵抗体はカッティングされな
いので、画質は更に良好となる。
【図1】 本発明の第1の実施例にかかわるサーマルヘ
ッドの抵抗値調整装置を示す図
ッドの抵抗値調整装置を示す図
【図2】 ドット抵抗体にレーザーを照射した場合のレ
ーザーパワーと抵抗値変化率との関係を示す図
ーザーパワーと抵抗値変化率との関係を示す図
【図3】 ドット抵抗体にレーザーを照射した場合のレ
ーザーパワーと抵抗値変化率との関係の具体例を示す図
ーザーパワーと抵抗値変化率との関係の具体例を示す図
【図4】 抵抗値変化率がマイナスとなるレーザーパワ
ーで照射した場合のレーザー照射幅と抵抗値変化率との
関係を示す図
ーで照射した場合のレーザー照射幅と抵抗値変化率との
関係を示す図
【図5】 本発明の第1の実施例で抵抗値が調整される
様子を示す図
様子を示す図
【図6】 ドット抵抗体に対するレーザー照射の仕方の
例を示す図
例を示す図
【図7】 本発明の第3の実施例にかかわるサーマルヘ
ッドの抵抗値調整装置を示す図
ッドの抵抗値調整装置を示す図
【図8】 本発明の第2の実施例および第3の実施例で
抵抗値が調整される様子を示す図
抵抗値が調整される様子を示す図
【図9】 サーマルヘッドの要部を示す図
【図10】ドット抵抗体に対する従来のレーザートリミ
ングを説明する図
ングを説明する図
【図11】ドット抵抗体をカッティングする際のレーザ
ー照射幅と抵抗値変化率との関係を示す図
ー照射幅と抵抗値変化率との関係を示す図
【図12】従来のレーザートリミングによるサーマルヘ
ッドの抵抗値調整装置を示す図
ッドの抵抗値調整装置を示す図
【図13】従来のレーザートリミングにより抵抗値が調
整される様子を示す図
整される様子を示す図
1…ドット抵抗値検出部、2…目標抵抗値設定部、3…
比較部、4…レーザー照射制御部、4−1…レーザーパ
ワー選択部、4−2…レーザー発射部、4−3…照射幅
決定部、5…ドット抵抗体、6,6A…レーザー照射領
域、7…サーマルヘッド、8…共通電極、9…個別電
極、L…照射長、LT …ドット抵抗体長LT 、ΔR2 ,
ΔR4 ,ΔR6 ,ΔR7 …抵抗補正量、R0 …抵抗値、
W,W1 ,W2 …照射幅、WT …ドット抵抗体幅
比較部、4…レーザー照射制御部、4−1…レーザーパ
ワー選択部、4−2…レーザー発射部、4−3…照射幅
決定部、5…ドット抵抗体、6,6A…レーザー照射領
域、7…サーマルヘッド、8…共通電極、9…個別電
極、L…照射長、LT …ドット抵抗体長LT 、ΔR2 ,
ΔR4 ,ΔR6 ,ΔR7 …抵抗補正量、R0 …抵抗値、
W,W1 ,W2 …照射幅、WT …ドット抵抗体幅
Claims (6)
- 【請求項1】 サーマルヘッドを構成する各ドット抵抗
体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃えるサ
ーマルヘッドの抵抗値調整方法において、検出した抵抗
値が目標抵抗値より大であるドット抵抗体に対しては抵
抗値を低下させるパワーでレーザーを照射し、検出した
抵抗値が目標抵抗値より小であるドット抵抗体に対して
は抵抗値を増加させるパワーでレーザーを照射し、抵抗
値が目標抵抗値となったところで照射を停止することを
特徴とするサーマルヘッドの抵抗値調整方法。 - 【請求項2】 サーマルヘッドを構成するドット抵抗体
の抵抗値を検出するドット抵抗値検出部と、ドット抵抗
体の目標抵抗値を設定する目標抵抗値設定部と、検出し
た抵抗値が目標抵抗値より大か小かを判定する比較部
と、ドット抵抗体の抵抗値を低下させる範囲にあり且つ
予め定められている第1のレーザーパワーかドット抵抗
体の抵抗値を増加させる範囲にあり且つ予め定められて
いる第2のレーザーパワーかのいずれかを前記比較部の
判定結果に応じて選択するレーザーパワー選択部と、選
択されたレーザーパワーでレーザーを発射するレーザー
発射部とを具えたことを特徴とするサーマルヘッドの抵
抗値調整装置。 - 【請求項3】 サーマルヘッドを構成する各ドット抵抗
体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃えるサ
ーマルヘッドの抵抗値調整方法において、目標抵抗値を
バラツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に設
定し、抵抗値を低下させるパワーでレーザーを照射し、
抵抗値が目標抵抗値となったところで照射を停止するこ
とを特徴とするサーマルヘッドの抵抗値調整方法。 - 【請求項4】 サーマルヘッドを構成するドット抵抗体
の抵抗値を検出するドット抵抗値検出部と、目標抵抗値
をバラツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に
設定する目標抵抗値設定部と、検出した抵抗値と目標抵
抗値とを比較する比較部と、該比較部での比較結果に応
じてレーザーパワーを選択するレーザーパワー選択部
と、選択されたレーザーパワーでレーザーを発射するレ
ーザー発射部とを具えたことを特徴とするサーマルヘッ
ドの抵抗値調整装置。 - 【請求項5】 サーマルヘッドを構成する各ドット抵抗
体にレーザーを照射して抵抗値を目標抵抗値に揃えるサ
ーマルヘッドの抵抗値調整方法において、目標抵抗値を
バラツイているドット抵抗体の抵抗値の最低値以下に設
定し、前記目標抵抗値との差に応じてドット抵抗体の抵
抗値を低下させる範囲内にあるレーザーパワーを選択す
ると共に照射幅を決定し、該レーザーパワー,該照射幅
でドット抵抗体を所定長照射することにより抵抗値を調
整することを特徴とするサーマルヘッドの抵抗値調整方
法。 - 【請求項6】 サーマルヘッドを構成するドット抵抗体
の抵抗値を検出するドット抵抗値検出部と、ドット抵抗
体の目標抵抗値を設定する目標抵抗値設定部と、検出し
た抵抗値と目標抵抗値とを比較して差を出力する比較部
と、該差に応じてドット抵抗体の抵抗値を低下させる範
囲内にあるレーザーパワーを選択するレーザーパワー選
択部と、前記差に応じて照射幅を決定する照射幅決定部
と、選択されたレーザーパワーおよび決定された照射幅
でレーザーを発射するレーザー発射部とを具え、ドット
抵抗体の表面上を所定長照射することを特徴とするサー
マルヘッドの抵抗値調整装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3262779A JP2776089B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | サーマルヘッドの抵抗値調整方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3262779A JP2776089B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | サーマルヘッドの抵抗値調整方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0569574A true JPH0569574A (ja) | 1993-03-23 |
| JP2776089B2 JP2776089B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=17380484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3262779A Expired - Fee Related JP2776089B2 (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | サーマルヘッドの抵抗値調整方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2776089B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60219709A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-02 | 株式会社東芝 | レ−ザトリミング装置 |
| JPH0334864A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-14 | Aisin Seiki Co Ltd | サーマルヘツドの製造方法 |
-
1991
- 1991-09-13 JP JP3262779A patent/JP2776089B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60219709A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-02 | 株式会社東芝 | レ−ザトリミング装置 |
| JPH0334864A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-14 | Aisin Seiki Co Ltd | サーマルヘツドの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2776089B2 (ja) | 1998-07-16 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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