JPH0570172A - 高膨張性複合材料 - Google Patents
高膨張性複合材料Info
- Publication number
- JPH0570172A JPH0570172A JP3262763A JP26276391A JPH0570172A JP H0570172 A JPH0570172 A JP H0570172A JP 3262763 A JP3262763 A JP 3262763A JP 26276391 A JP26276391 A JP 26276391A JP H0570172 A JPH0570172 A JP H0570172A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composite material
- powder
- thermal expansion
- tridymite
- coefficient
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 49
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 16
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 9
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 5
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 abstract description 3
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 abstract description 3
- HNQGTZYKXIXXST-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Ca+2].[O-][Sn]([O-])=O HNQGTZYKXIXXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 abstract description 2
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010987 cubic zirconia Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 90〜220×10-7/℃程度の高い熱膨張
係数を有し、しかも機械的強度が高く、金属製ICパッ
ケージやサーミスタの被覆に好適な複合材料を得る。 【構成】 低融点ガラス粉末45〜95体積%と、トリ
ジマイト粉末5〜50体積%と、セラミック粉末0〜4
0体積%を混合してなる。なおセラミック粉末としては
アルミナ、ジルコニア、マグネシア、カルシア、すず酸
亜鉛、すず酸カルシウム等の酸化物粉末を使用する。
係数を有し、しかも機械的強度が高く、金属製ICパッ
ケージやサーミスタの被覆に好適な複合材料を得る。 【構成】 低融点ガラス粉末45〜95体積%と、トリ
ジマイト粉末5〜50体積%と、セラミック粉末0〜4
0体積%を混合してなる。なおセラミック粉末としては
アルミナ、ジルコニア、マグネシア、カルシア、すず酸
亜鉛、すず酸カルシウム等の酸化物粉末を使用する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高膨張性複合材料に関
し、より詳しくは金属製ICパッケージの気密封着やサ
ーミスタの被覆等に使用される高膨張性複合材料に関す
るものである。
し、より詳しくは金属製ICパッケージの気密封着やサ
ーミスタの被覆等に使用される高膨張性複合材料に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】ICを実装するための高信頼性パッケー
ジには、アルミナセラミックが広く用いられているが、
近年、ICの大型化に伴い、ICから発生する熱を効率
良く放散するために、より熱伝導率の大きい材料を用い
てパッケージを作製することが検討されている。このよ
うなものとして、例えばアルミニウム、銅、及びこれら
をベースとした合金を使用した金属製パッケージが提案
されている。
ジには、アルミナセラミックが広く用いられているが、
近年、ICの大型化に伴い、ICから発生する熱を効率
良く放散するために、より熱伝導率の大きい材料を用い
てパッケージを作製することが検討されている。このよ
うなものとして、例えばアルミニウム、銅、及びこれら
をベースとした合金を使用した金属製パッケージが提案
されている。
【0003】ところがこの金属製パッケージは、熱膨張
係数が140〜230×10-7/℃と高いために、アル
ミナセラミック製パッケージに使用されている低膨張の
封着材料を使用することができない。
係数が140〜230×10-7/℃と高いために、アル
ミナセラミック製パッケージに使用されている低膨張の
封着材料を使用することができない。
【0004】このような事情から、米国特許第4819
730号において、PbO−B2 O3 系、PbO−Zn
O−B2 O3 系等の低融点ガラス粉末と、フッ化カルシ
ウム粉末やフッ化バリウム粉末を混合した高膨張の封着
材料が提案されている。
730号において、PbO−B2 O3 系、PbO−Zn
O−B2 O3 系等の低融点ガラス粉末と、フッ化カルシ
ウム粉末やフッ化バリウム粉末を混合した高膨張の封着
材料が提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記米
国特許に開示の封着材料は、機械的強度が不十分であ
り、実用に耐えないという問題を有している。
国特許に開示の封着材料は、機械的強度が不十分であ
り、実用に耐えないという問題を有している。
【0006】また、Ni、Mn、Co等の酸化物を焼結
した半導体であるサーミスタは、素子を保護するために
その表面をガラスで被覆しているが、このガラスには、
PbO−B2 O3 −SiO2 系等の被覆用ガラスが用い
られている。
した半導体であるサーミスタは、素子を保護するために
その表面をガラスで被覆しているが、このガラスには、
PbO−B2 O3 −SiO2 系等の被覆用ガラスが用い
られている。
【0007】しかしながら、従来使用されている被覆用
ガラスは、熱膨張係数がサーミスタのそれ(100〜1
10×10-7/℃)よりかなり低い70〜80×10-7
/℃程度であり、しかも機械的強度が低いために、クラ
ックが発生し易いという問題を有している。
ガラスは、熱膨張係数がサーミスタのそれ(100〜1
10×10-7/℃)よりかなり低い70〜80×10-7
/℃程度であり、しかも機械的強度が低いために、クラ
ックが発生し易いという問題を有している。
【0008】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
90〜220×10-7/℃程度の高い熱膨張係数を有
し、しかも機械的強度が高く、金属製ICパッケージの
気密封着やサーミスタの被覆に好適な高膨張性複合材料
を提供することを目的とする。
90〜220×10-7/℃程度の高い熱膨張係数を有
し、しかも機械的強度が高く、金属製ICパッケージの
気密封着やサーミスタの被覆に好適な高膨張性複合材料
を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は種々の研究を
行った結果、トリジマイト(SiO2 )粉末をフィラー
として添加することにより、上記目的が達成できること
を見いだし、本発明として提案するものである。
行った結果、トリジマイト(SiO2 )粉末をフィラー
として添加することにより、上記目的が達成できること
を見いだし、本発明として提案するものである。
【0010】即ち、本発明の高膨張性複合材料は、低融
点ガラス粉末 45〜95体積%、トリジマイト粉末
5〜50体積%、セラミック粉末 0〜40体積%が混
合されてなることを特徴とする。
点ガラス粉末 45〜95体積%、トリジマイト粉末
5〜50体積%、セラミック粉末 0〜40体積%が混
合されてなることを特徴とする。
【0011】
【作用】本発明の高膨張性複合材料は、低融点ガラス粉
末、トリジマイト粉末、及びセラミック粉末が混合され
てなり、30〜250℃において90〜220×10-7
/℃の熱膨張係数を有し、また高い機械的強度を有する
ものである。
末、トリジマイト粉末、及びセラミック粉末が混合され
てなり、30〜250℃において90〜220×10-7
/℃の熱膨張係数を有し、また高い機械的強度を有する
ものである。
【0012】本発明の高膨張性複合材料において、フィ
ラーとして使用するトリジマイト粉末は30〜250℃
における熱膨張係数が300×10-7/℃と非常に高
く、しかも機械的強度の高いものである。なおトリジマ
イト粉末の形状を球形にしたり、またこれらの表面にZ
nOからなる被膜を形成しておくことにより、複合材料
の流動性を改善することが可能である。
ラーとして使用するトリジマイト粉末は30〜250℃
における熱膨張係数が300×10-7/℃と非常に高
く、しかも機械的強度の高いものである。なおトリジマ
イト粉末の形状を球形にしたり、またこれらの表面にZ
nOからなる被膜を形成しておくことにより、複合材料
の流動性を改善することが可能である。
【0013】トリジマイト粉末の混合割合を上記のよう
に限定した理由は、トリジマイト粉末が5体積%より少
ないと熱膨張係数の高い複合材料が得られなくなるとと
もに機械的強度が低下し、一方50体積%より多いと複
合材料の熱膨張係数が大きくなりすぎるためである。
に限定した理由は、トリジマイト粉末が5体積%より少
ないと熱膨張係数の高い複合材料が得られなくなるとと
もに機械的強度が低下し、一方50体積%より多いと複
合材料の熱膨張係数が大きくなりすぎるためである。
【0014】本発明の高膨張性複合材料において、セラ
ミック粉末としてアルミナ、ジルコニア、マグネシア、
カルシア、すず酸亜鉛、すず酸カルシウム等の酸化物粉
末を40体積%以下混合することができる。即ち、トリ
ジマイト粉末は、上記したように熱膨張係数が極めて高
いため、これのみをフィラーとして使用すると、複合材
料の熱膨張係数が高くなりすぎることがある。このよう
な場合、上記したようなセラミック粉末を1種又は2種
以上混合することによって、所望の熱膨張係数に調整す
ることが可能である。
ミック粉末としてアルミナ、ジルコニア、マグネシア、
カルシア、すず酸亜鉛、すず酸カルシウム等の酸化物粉
末を40体積%以下混合することができる。即ち、トリ
ジマイト粉末は、上記したように熱膨張係数が極めて高
いため、これのみをフィラーとして使用すると、複合材
料の熱膨張係数が高くなりすぎることがある。このよう
な場合、上記したようなセラミック粉末を1種又は2種
以上混合することによって、所望の熱膨張係数に調整す
ることが可能である。
【0015】セラミック粉末の混合割合を上記のように
限定した理由は、これらのフィラーを40体積%より多
くするとトリジマイト粉末を添加する余地が小さくな
り、熱膨張係数の高い複合材料が得られなくなることに
よる。
限定した理由は、これらのフィラーを40体積%より多
くするとトリジマイト粉末を添加する余地が小さくな
り、熱膨張係数の高い複合材料が得られなくなることに
よる。
【0016】また本発明の高膨張性複合材料において、
低融点ガラス粉末としては、例えばPbO−B2 O3
系、PbO−ZnO−B2 O3 系、PbO−PbF2 −
B2 O3 系、PbO−V2 O5 系、PbO−V2 O5 −
TeO2 系、PbO−V2 O5−P2 O5 系、PbO−
Bi2 O3 −B2 O3 −TeO2 系ガラス等を使用する
ことができる。なお、ICパッケージの封着に使用する
場合、実装するICに悪影響を及ぼさないように封着温
度を500℃以下にする必要がある。このような場合、
350℃以下の転移点を有する低融点ガラスを使用する
ことが好ましい。
低融点ガラス粉末としては、例えばPbO−B2 O3
系、PbO−ZnO−B2 O3 系、PbO−PbF2 −
B2 O3 系、PbO−V2 O5 系、PbO−V2 O5 −
TeO2 系、PbO−V2 O5−P2 O5 系、PbO−
Bi2 O3 −B2 O3 −TeO2 系ガラス等を使用する
ことができる。なお、ICパッケージの封着に使用する
場合、実装するICに悪影響を及ぼさないように封着温
度を500℃以下にする必要がある。このような場合、
350℃以下の転移点を有する低融点ガラスを使用する
ことが好ましい。
【0017】低融点ガラス粉末の混合割合を上記のよう
に限定した理由は、低融点ガラス粉末が45体積%より
少ないと複合材料の流動性が低下し、95体積%より多
いと複合材料の機械的強度が不十分になるためである。
に限定した理由は、低融点ガラス粉末が45体積%より
少ないと複合材料の流動性が低下し、95体積%より多
いと複合材料の機械的強度が不十分になるためである。
【0018】
【実施例】以下、本発明の高膨張性複合材料を実施例及
び比較例に基づいて説明する。
び比較例に基づいて説明する。
【0019】(実施例1)低融点ガラス粉末、トリジマ
イト粉末、立方晶ジルコニア粉末をそれぞれ体積%で6
0%、25%、15%の割合で混合し、金属製ICパッ
ケージ封着用複合材料を作製した。
イト粉末、立方晶ジルコニア粉末をそれぞれ体積%で6
0%、25%、15%の割合で混合し、金属製ICパッ
ケージ封着用複合材料を作製した。
【0020】低融点ガラス粉末は次のようにして調製し
た。
た。
【0021】重量%でPbO 84.3%、B2 O3 1
1.9%、ZnO 2.8%、SiO2 1.0%の組成
になるように、鉛丹、硼酸、亜鉛華、及び珪石粉を調合
し、白金るつぼを用いて900℃で1時間溶融した後、
水冷ローラーにより、薄板状に成形した。次いでこの成
形物をボールミルにて粉砕し、250メッシュの篩を通
過させて低融点ガラス粉末を得た。このガラスは30〜
250℃における熱膨張係数が112×10-7/℃、転
移点が300℃であった。
1.9%、ZnO 2.8%、SiO2 1.0%の組成
になるように、鉛丹、硼酸、亜鉛華、及び珪石粉を調合
し、白金るつぼを用いて900℃で1時間溶融した後、
水冷ローラーにより、薄板状に成形した。次いでこの成
形物をボールミルにて粉砕し、250メッシュの篩を通
過させて低融点ガラス粉末を得た。このガラスは30〜
250℃における熱膨張係数が112×10-7/℃、転
移点が300℃であった。
【0022】トリジマイト粉末は、平均粒径6μmの石
英粉末を1450℃で16時間加熱してトリジマイト化
したものを使用した。
英粉末を1450℃で16時間加熱してトリジマイト化
したものを使用した。
【0023】立方晶ジルコニアは次のようにして調製し
た。まず、低α線タイプのジルコニア原料及び炭酸カル
シウムをZrO2 80mol%、CaO 20mol%
の割合になるように調合し、1550℃で16時間焼成
した。その後、この焼成物をボールミルにて粉砕し、3
50メッシュの篩を通過させて平均粒径5μmの立方晶
ジルコニアを得た。
た。まず、低α線タイプのジルコニア原料及び炭酸カル
シウムをZrO2 80mol%、CaO 20mol%
の割合になるように調合し、1550℃で16時間焼成
した。その後、この焼成物をボールミルにて粉砕し、3
50メッシュの篩を通過させて平均粒径5μmの立方晶
ジルコニアを得た。
【0024】この複合材料は、30〜250℃における
熱膨張係数が160×10-7/℃、、封着温度が430
℃、曲げ強度が580kg/cm2 であり、誘電率が1
2.5であった。
熱膨張係数が160×10-7/℃、、封着温度が430
℃、曲げ強度が580kg/cm2 であり、誘電率が1
2.5であった。
【0025】さらにこの複合材料を用いて、Al 70
重量%、Si 30重量%よりなり、160×10-7/
℃の熱膨張係数を有する金属製パッケージ(18リー
ド)の封着を行った。封着は、通常行われているように
ビークルを用いて複合材料をペースト化し、パッケージ
にスクリーン印刷した後、空気中、430℃で10分間
熱処理した。このようにして得られた封着物は気密性の
高いものであった。
重量%、Si 30重量%よりなり、160×10-7/
℃の熱膨張係数を有する金属製パッケージ(18リー
ド)の封着を行った。封着は、通常行われているように
ビークルを用いて複合材料をペースト化し、パッケージ
にスクリーン印刷した後、空気中、430℃で10分間
熱処理した。このようにして得られた封着物は気密性の
高いものであった。
【0026】なお、熱膨張係数は、外径4mm、長さ5
0mmに加熱成形した試料を用いて、石英押棒式熱膨張
計により測定し、曲げ強度は、複合材料を加熱して作製
したブロックから10×10×50mmの大きさに切り
出した試料を用いて3点曲げ試験により求めた。また誘
電率は、外径35mm、厚さ1.5mmの円板状に加熱
成形した試料を用いて、LCRメーター(25℃、1M
Hz)によって測定した。
0mmに加熱成形した試料を用いて、石英押棒式熱膨張
計により測定し、曲げ強度は、複合材料を加熱して作製
したブロックから10×10×50mmの大きさに切り
出した試料を用いて3点曲げ試験により求めた。また誘
電率は、外径35mm、厚さ1.5mmの円板状に加熱
成形した試料を用いて、LCRメーター(25℃、1M
Hz)によって測定した。
【0027】(比較例)実施例1において使用した低融
点ガラス粉末60体積%と、フッ化カルシウム粉末40
体積%を混合して複合材料を得た。
点ガラス粉末60体積%と、フッ化カルシウム粉末40
体積%を混合して複合材料を得た。
【0028】この複合材料は、30〜250℃における
熱膨張係数が148×10-7/℃、封着温度が430
℃、誘電率が11.9であり、実施例1の複合材料とほ
ぼ同等の値を示した。またこの複合材料を用いて、実施
例1で使用した金属製パッケージを同様の方法で封着し
たところ、気密性の高い封着物が得られた。しかしなが
ら、曲げ強度は400kg/cm2 であり、実施例1の
複合材料に比べて180kg/cm2 も低かった。
熱膨張係数が148×10-7/℃、封着温度が430
℃、誘電率が11.9であり、実施例1の複合材料とほ
ぼ同等の値を示した。またこの複合材料を用いて、実施
例1で使用した金属製パッケージを同様の方法で封着し
たところ、気密性の高い封着物が得られた。しかしなが
ら、曲げ強度は400kg/cm2 であり、実施例1の
複合材料に比べて180kg/cm2 も低かった。
【0029】なお、フッ化カルシウム粉末は、原料粉末
を1000℃で5時間焼成して粒成長させた後、ボール
ミルにて粉砕し、350メッシュの篩を通過させて、平
均粒径5μmの粉末としたものを使用した。
を1000℃で5時間焼成して粒成長させた後、ボール
ミルにて粉砕し、350メッシュの篩を通過させて、平
均粒径5μmの粉末としたものを使用した。
【0030】(実施例2)低融点ガラス粉末90体積%
と、トリジマイト粉末10体積%を混合し、サーミスタ
被覆用複合材料を得た。
と、トリジマイト粉末10体積%を混合し、サーミスタ
被覆用複合材料を得た。
【0031】低融点ガラス粉末は次のようにして調製し
た。
た。
【0032】重量%でPbO 70.0%、B2 O3 1
7.0%、ZnO 3.0%、SiO2 10.0%の組
成になるように、鉛丹、硼酸、亜鉛華、及び珪石粉を調
合し、白金るつぼを用いて1100℃で1時間溶融した
後、水冷ローラーにより、薄板状に成形した。次いでこ
の成形物をボールミルにて粉砕し、250メッシュの篩
を通過させて低融点ガラス粉末を得た。このガラスは3
0〜250℃における熱膨張係数が81×10-7/℃、
転移点が400℃、曲げ強度が300kg/cm2 であ
った。
7.0%、ZnO 3.0%、SiO2 10.0%の組
成になるように、鉛丹、硼酸、亜鉛華、及び珪石粉を調
合し、白金るつぼを用いて1100℃で1時間溶融した
後、水冷ローラーにより、薄板状に成形した。次いでこ
の成形物をボールミルにて粉砕し、250メッシュの篩
を通過させて低融点ガラス粉末を得た。このガラスは3
0〜250℃における熱膨張係数が81×10-7/℃、
転移点が400℃、曲げ強度が300kg/cm2 であ
った。
【0033】トリジマイト粉末は、実施例1と同様にし
て作製した。
て作製した。
【0034】この複合材料は、30〜250℃における
熱膨張係数が92×10-7/℃、熱処理温度が500
℃、曲げ強度が500kg/cm2 であった。
熱膨張係数が92×10-7/℃、熱処理温度が500
℃、曲げ強度が500kg/cm2 であった。
【0035】さらにこの複合材料を用いて、NiOを焼
結してなるサーミスタ(熱膨張係数100×10-7/
℃)を被覆したところ、クラックは全く認められなかっ
た。
結してなるサーミスタ(熱膨張係数100×10-7/
℃)を被覆したところ、クラックは全く認められなかっ
た。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明の低融点高膨
張性複合材料は、熱膨張係数が90〜220×10-7/
℃と高く、しかも機械的強度が高いため、金属製ICパ
ッケージの気密封着やサーミスタの被覆に好適である。
張性複合材料は、熱膨張係数が90〜220×10-7/
℃と高く、しかも機械的強度が高いため、金属製ICパ
ッケージの気密封着やサーミスタの被覆に好適である。
Claims (1)
- 【請求項1】 低融点ガラス粉末 45〜95体積%、
トリジマイト粉末5〜50体積%、セラミック粉末 0
〜40体積%が混合されてなることを特徴とする高膨張
性複合材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26276391A JP3227735B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 高膨張性複合材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26276391A JP3227735B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 高膨張性複合材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0570172A true JPH0570172A (ja) | 1993-03-23 |
| JP3227735B2 JP3227735B2 (ja) | 2001-11-12 |
Family
ID=17380254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26276391A Expired - Fee Related JP3227735B2 (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 高膨張性複合材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3227735B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006151774A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 封着材料 |
| JP2008032753A (ja) * | 2002-08-07 | 2008-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 荷重センサ及びその製造方法 |
| JP2015205801A (ja) * | 2014-04-22 | 2015-11-19 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | ガラス接合材 |
| JP2015205800A (ja) * | 2014-04-22 | 2015-11-19 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 高熱膨張フィラー組成物およびその製造方法 |
-
1991
- 1991-09-12 JP JP26276391A patent/JP3227735B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008032753A (ja) * | 2002-08-07 | 2008-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 荷重センサ及びその製造方法 |
| JP2006151774A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 封着材料 |
| JP2015205801A (ja) * | 2014-04-22 | 2015-11-19 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | ガラス接合材 |
| JP2015205800A (ja) * | 2014-04-22 | 2015-11-19 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 高熱膨張フィラー組成物およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3227735B2 (ja) | 2001-11-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4710479A (en) | Sealing glass composition with lead calcium titanate filler | |
| JPH10251042A (ja) | シリカフィラー粉末及びガラス−セラミック組成物 | |
| JPH06171982A (ja) | 低温焼成セラミックス基板 | |
| JPH07102982B2 (ja) | 低温封着用フリット | |
| JP5545589B2 (ja) | 封着材料の製造方法 | |
| JP2002037644A (ja) | 封着用ガラス及びそれを用いた封着材料 | |
| JP3227733B2 (ja) | 高膨張性封着材料 | |
| KR100479688B1 (ko) | 유전체 세라믹 조성물 및 이를 이용한 저온소성 유전체 세라믹의 제조방법 | |
| JPH0725570B2 (ja) | 着色結晶化ガラス体とその製造法 | |
| JP3082862B2 (ja) | 封着材料 | |
| JP3402314B2 (ja) | 低融点封着用組成物の製造方法及びその使用方法 | |
| JPH07315867A (ja) | 封着用組成物 | |
| JP3227735B2 (ja) | 高膨張性複合材料 | |
| JPH0419176B2 (ja) | ||
| JP3180299B2 (ja) | 低融点封着用組成物 | |
| JPH0375239A (ja) | 封着材料 | |
| JPH04349146A (ja) | 低融点高膨張性封着材料 | |
| JP3151794B2 (ja) | 低融点封着用組成物 | |
| JPS6227353A (ja) | ガラスセラミツク複合材 | |
| JP2005068008A (ja) | 電子回路基板 | |
| JP3149929B2 (ja) | 低融点封着用組成物 | |
| KR100281991B1 (ko) | 복합체 필러를 사용한 저융점 접착 유리조성물 | |
| JP2001328837A (ja) | 封着用ガラス及びそれを用いた封着材料 | |
| JPH03112830A (ja) | 封着材料 | |
| KR100281992B1 (ko) | 저팽창성 마그네슘 알루미늄 지르코늄 실리케이트 복합체 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |