JPH0571582B2 - - Google Patents
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- JPH0571582B2 JPH0571582B2 JP30178387A JP30178387A JPH0571582B2 JP H0571582 B2 JPH0571582 B2 JP H0571582B2 JP 30178387 A JP30178387 A JP 30178387A JP 30178387 A JP30178387 A JP 30178387A JP H0571582 B2 JPH0571582 B2 JP H0571582B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
[産業上の利用分野]
本発明は、新規な含フツ素芳香族ジアミンに関
するものである。 ジアミンは縮重合高分子材料のモノマーとして
重要な化合物であり、ポリイミド、ポリアミド、
あるいはポリアミドイミドなどの塩基成分として
用いられる。殊に全芳香族縮合高分子材料は、耐
熱性を要求される構造材料、電子材料などとして
注目されており、これらへのパーフルオロアルキ
ル基の導入は耐湿性の向上、誘電率の低下をもた
らすことから、特に電子材料用途には好ましい物
性の付与が期待できる。本発明は上記観点からな
されたもので、パーフルオロアルキル基を置換基
として有する新規な芳香族ジアミンを提供するも
のである。 [従来技術] 従来、パーフルオロアルキル基を置換基として
有する含フツ素芳香族ジアミンについては知られ
ていない。 [問題点を解決するための手段] 本発明は、ポリイミド、ポリアミド、などの塩
基成分として有用な化合物について検討の結果パ
ーフルオロアルキル基を置換基として有する新規
な含フツ素芳香族ジアミンを得、本発明に至つ
た。 すなわち本発明は、一般式
するものである。 ジアミンは縮重合高分子材料のモノマーとして
重要な化合物であり、ポリイミド、ポリアミド、
あるいはポリアミドイミドなどの塩基成分として
用いられる。殊に全芳香族縮合高分子材料は、耐
熱性を要求される構造材料、電子材料などとして
注目されており、これらへのパーフルオロアルキ
ル基の導入は耐湿性の向上、誘電率の低下をもた
らすことから、特に電子材料用途には好ましい物
性の付与が期待できる。本発明は上記観点からな
されたもので、パーフルオロアルキル基を置換基
として有する新規な芳香族ジアミンを提供するも
のである。 [従来技術] 従来、パーフルオロアルキル基を置換基として
有する含フツ素芳香族ジアミンについては知られ
ていない。 [問題点を解決するための手段] 本発明は、ポリイミド、ポリアミド、などの塩
基成分として有用な化合物について検討の結果パ
ーフルオロアルキル基を置換基として有する新規
な含フツ素芳香族ジアミンを得、本発明に至つ
た。 すなわち本発明は、一般式
【化】
(式中、R1,R2は炭素数1〜10のパーフルオ
ロアルキル基または水素であつて、R1=R2=H
でない)で表わされる新規な含フツ素芳香族ジア
ミンであり、このものは、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフエニル)ヘキサフルオロプロパンを塩
基の存在下に一般式
ロアルキル基または水素であつて、R1=R2=H
でない)で表わされる新規な含フツ素芳香族ジア
ミンであり、このものは、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフエニル)ヘキサフルオロプロパンを塩
基の存在下に一般式
【化】
(式中、R1,R2は炭素数1〜10のパーフルオ
ロアルキル基又は水素であつて、R1=R2=Hで
なく、Xはハロゲン原子である)で表わされるニ
トロベンゼン類と非プロトン性溶媒中で縮合させ
て得られる一般式
ロアルキル基又は水素であつて、R1=R2=Hで
なく、Xはハロゲン原子である)で表わされるニ
トロベンゼン類と非プロトン性溶媒中で縮合させ
て得られる一般式
【化】
(式中、R1,R2は一般式()の場合と同じ
である)で表わされるジニトロ化合物を還元する
ことにより得ることができる。 ここで用いられるニトロベンゼン類()は、
4−ハロゲノ−2−パーフルオロアルキルニトロ
ベンゼン、4−ハロゲノ−3−パーフルオロアル
キルニトロベンゼン、4−ハロゲノ−2,5−ビ
スパーフルオロアルキルニトロベンゼンであつ
て、具体的には4−クロロ−3−トリフルオロメ
チルニトロベンゼン、4−クロロ−3−ノナフル
オロブチルニトロベンゼン、4−クロロ−2−ト
リフルオロメチルニトロベンゼン、4−クロロ−
2−ノナフルオロブチルニトロベンゼン、4−ク
ロロ−2,5−ビストリフルオロメチルニトロベ
ンゼン等が例示できる。使用量は、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンに対して1.05〜1.2倍モルであることが好ま
しい。 使用される塩基としては、アルカリ金属の水酸
化物、炭酸塩、炭酸水素塩、水素化物などであつ
て、具体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、
水素化ナトリウムなどが例示できる。塩基の量は
2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)ヘキサ
フルオロプロパンに対して1〜5倍当量好ましく
は1〜3倍当量である。 使用される非プロトン性極性溶媒としては、ア
ミド、スルホキシド、スルホン、ニトリルなどで
あつて、具体的にはN−メチルホルムアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルスルホン、スルホラン、1−メチル−2−ピロ
リジノン、ベンゾニトリルなどが例示できる。溶
媒の量は原料に対して1〜10重量倍が用いられ
る。 反応方法としては、塩基として水酸化物を用い
る場合には、水が生成するため、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンと、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼン等の溶媒を仕込み、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフエニル)ヘキサフルオロプロパンの
アルカリ金属塩を調整し、生ずる水を溶媒との共
沸混合物として除去したのち、溶媒を非プロトン
性極性溶媒に変換し、ニトロベンゼン類と縮合さ
せる方法と、塩基として水酸化物以外を用いる場
合には、2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、ニトロベンゼン類
と、塩基、非プロトン性極性溶媒すべてを仕込み
1段で縮合を行わせる2通りの方法がある。 反応温度は100〜150℃で好ましくは120〜140℃
である。 また反応時間は1〜2時間で十分である。 反応終了後、塩基、生成したハロゲン化アルカ
リを除去し、反応液中に水を加えるとジニトロ化
合物が得られる。 このジニトロ化合物を接触還元により、目的の
新規ジアミンを合成する。 還元反応の溶媒としてはジニトロ化合物が可溶
で原料、生成物に不活性なものであれば限定され
るものではなく、アルコール類、エーテル類、エ
ステル類で、具体的にはメタノール、エタノー
ル、エーテル、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等が挙げられる。 触媒としては、一般に接触還元に用いられる金
属触媒を用いればよく、工業的にはパラジウム触
媒を使用するのが好ましい。使用量はジニトロ化
合物に対して0.1〜5重量%である。 反応温度は40〜100℃の範囲が好ましく、反応
圧は4〜10Kg/cm2の範囲が好ましい。 反応は、原料、触媒、溶媒を仕込み、所定の温
度で攪拌下で水素を導入して反応を行う。反応の
終点は水素吸収量によつて決定できる。 反応終了後、終了をロ別し、溶媒を留去すると
目的の新規ジアミンが得られる。 以下、実施例により本発明を詳細に説明する。 実施例 1 温度計、攪拌器、冷却管を備えた500ml四ツ口
フラスコに2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン67.2g(0.2モル)、
4−クロロ−5−トリフルオロメチルニトロベン
ゼン108.g(0.48モル)、炭酸カリウム67.2g、
N,Nジメチルアセトアミド300mlを仕込み、約
1時間で130℃まで昇温させた。このままの温度
で1時間反応させた。室温まで冷却後、KCl,
K2CO3等をロ別した。ロ液を攪拌しながら200ml
の水を加えジニトロ化合物を析出させ、ロ別しメ
タノールで洗浄後、乾燥して、2,2−ビス
[(4−ニトロ−2−トリフルオロメチルフエノキ
シ)フエニル]ヘキサフルオロプロパンの黄色結
晶を得た。収量121.3g(収率84.9%)、純度97.8
%(HPLC)、m.P172.0〜173.7℃、19 Fnmr,δCFCl3−62.19ppm(S,6F,−CF3) −64.43ppm(S,6F,CF3 + CF3) この2,2−ビス[(4−ニトロ−2−トリフ
ルオロメチルフエノキシ)フエニル]ヘキサフル
オロプロパン104g(0.14モル)、5%pd/Clg、
酢酸エチル200gを1SUS加圧反応器に仕込
み、所定量の水素が消費されるまで2時間反応を
行つた。室温まで冷却後、触媒をロ別し、溶媒を
留去して、2,2−ビス[(4−アミノ−2−ト
リフルオロメチルフエノキシ)フエニル]ヘキサ
フルオロプロパンの黄色ワツクス状物を得た。収
量98.7g(収率96.5%)、純度99.5%(HPLC)、
一部をn−ヘキサンにて処理し結晶化した。m.
p58.0〜60.5℃、 19Fnmr,δCFCl3−61.01ppm(S,6F,−CF3) −63.57ppm(S,6F,CF3 + CF3) 実施例 2 温度計、攪拌器、冷却管を備えた50ml四ツ口フ
ラスコに2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン3.36g(0.01モル)、
4−クロロ−2−トリフルオロメチルニトロベン
ゼン5.4g(0.024モル)、炭酸カリウム3.36g、
N,N−ジメチルアセトアミド15mlを仕込み、約
1時間反応させた。室温まで冷却後、KCl,K2
CO3等をロ別した。ロ液を攪拌しながら50mlの水
を加えると、ジニトロ化合物は油状物となつた。
水をデカンテーシヨンによつて除き、ジニトロ化
合物をジエチルエーテルに溶解し、硫酸マグネシ
ウムを加え1晩乾燥を行つた。エーテルを留去し
黄色油状の粗生成物6.9gを得た。純度79.4%
(HPLC)塩化メチレン/nヘキサン=1/1で
カラムクロマトグラフにより2,2−ビス[(4
−ニトロ−3−トリフルオロメチルフエノキシ)
フエニル]ヘキサフルオロプロパンのワツクス状
物を得た。収量5.0g(収率70.2%)、純度94.2%
(HPLC) 19Fnmr,δCFCl3−59.78ppm(S,6F,−CF3) −63.43ppm(S,6F,CF3 + CF3) この化合物の赤外吸収スペクトルを第1図に示
した。上記、2,2−ビス[(4−ニトロ−3−
トリフルオロメチルフエノキシ)フエニル]ヘキ
サフルオロプロパン5.0g(0.007モル)5%pd/
C0.01g、酢酸エチル10gを50mlSUS耐圧反応器
に仕込み、所定量の水素が消費されるまで約3時
間反応を行つた。室温まで冷却後、触媒をロ別
し、溶媒を留去して、2,2−ビス[(4−アミ
ノ−3−トリフルオロメチルフエノキシ)フエニ
ル]ヘキサフルオロプロパンの黄色ワツクス状物
を得た。 収量4.35g(収率95.0%)、純度94.6%
(HPLC)、 19Fnmr,δCFCl3−62.64ppm(S,6F,−CF3) −63.53ppm(S,6F,CF3 + CF3) なお、このものの赤外吸収スペクトルを第2図
に示した。 [発明の効果] 本発明の新規な含フツ素芳香族ジアミンはポリ
イミド、ポリアミド等の塩基成分として優れたも
のであり、これにより得られる重合体は、耐熱性
に優れ、耐湿性の向上、誘電率の低下をはかるこ
とができる極めて有用なものである。
である)で表わされるジニトロ化合物を還元する
ことにより得ることができる。 ここで用いられるニトロベンゼン類()は、
4−ハロゲノ−2−パーフルオロアルキルニトロ
ベンゼン、4−ハロゲノ−3−パーフルオロアル
キルニトロベンゼン、4−ハロゲノ−2,5−ビ
スパーフルオロアルキルニトロベンゼンであつ
て、具体的には4−クロロ−3−トリフルオロメ
チルニトロベンゼン、4−クロロ−3−ノナフル
オロブチルニトロベンゼン、4−クロロ−2−ト
リフルオロメチルニトロベンゼン、4−クロロ−
2−ノナフルオロブチルニトロベンゼン、4−ク
ロロ−2,5−ビストリフルオロメチルニトロベ
ンゼン等が例示できる。使用量は、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンに対して1.05〜1.2倍モルであることが好ま
しい。 使用される塩基としては、アルカリ金属の水酸
化物、炭酸塩、炭酸水素塩、水素化物などであつ
て、具体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、
水素化ナトリウムなどが例示できる。塩基の量は
2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)ヘキサ
フルオロプロパンに対して1〜5倍当量好ましく
は1〜3倍当量である。 使用される非プロトン性極性溶媒としては、ア
ミド、スルホキシド、スルホン、ニトリルなどで
あつて、具体的にはN−メチルホルムアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルスルホン、スルホラン、1−メチル−2−ピロ
リジノン、ベンゾニトリルなどが例示できる。溶
媒の量は原料に対して1〜10重量倍が用いられ
る。 反応方法としては、塩基として水酸化物を用い
る場合には、水が生成するため、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフエニル)ヘキサフルオロプロ
パンと、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼン等の溶媒を仕込み、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフエニル)ヘキサフルオロプロパンの
アルカリ金属塩を調整し、生ずる水を溶媒との共
沸混合物として除去したのち、溶媒を非プロトン
性極性溶媒に変換し、ニトロベンゼン類と縮合さ
せる方法と、塩基として水酸化物以外を用いる場
合には、2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、ニトロベンゼン類
と、塩基、非プロトン性極性溶媒すべてを仕込み
1段で縮合を行わせる2通りの方法がある。 反応温度は100〜150℃で好ましくは120〜140℃
である。 また反応時間は1〜2時間で十分である。 反応終了後、塩基、生成したハロゲン化アルカ
リを除去し、反応液中に水を加えるとジニトロ化
合物が得られる。 このジニトロ化合物を接触還元により、目的の
新規ジアミンを合成する。 還元反応の溶媒としてはジニトロ化合物が可溶
で原料、生成物に不活性なものであれば限定され
るものではなく、アルコール類、エーテル類、エ
ステル類で、具体的にはメタノール、エタノー
ル、エーテル、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等が挙げられる。 触媒としては、一般に接触還元に用いられる金
属触媒を用いればよく、工業的にはパラジウム触
媒を使用するのが好ましい。使用量はジニトロ化
合物に対して0.1〜5重量%である。 反応温度は40〜100℃の範囲が好ましく、反応
圧は4〜10Kg/cm2の範囲が好ましい。 反応は、原料、触媒、溶媒を仕込み、所定の温
度で攪拌下で水素を導入して反応を行う。反応の
終点は水素吸収量によつて決定できる。 反応終了後、終了をロ別し、溶媒を留去すると
目的の新規ジアミンが得られる。 以下、実施例により本発明を詳細に説明する。 実施例 1 温度計、攪拌器、冷却管を備えた500ml四ツ口
フラスコに2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン67.2g(0.2モル)、
4−クロロ−5−トリフルオロメチルニトロベン
ゼン108.g(0.48モル)、炭酸カリウム67.2g、
N,Nジメチルアセトアミド300mlを仕込み、約
1時間で130℃まで昇温させた。このままの温度
で1時間反応させた。室温まで冷却後、KCl,
K2CO3等をロ別した。ロ液を攪拌しながら200ml
の水を加えジニトロ化合物を析出させ、ロ別しメ
タノールで洗浄後、乾燥して、2,2−ビス
[(4−ニトロ−2−トリフルオロメチルフエノキ
シ)フエニル]ヘキサフルオロプロパンの黄色結
晶を得た。収量121.3g(収率84.9%)、純度97.8
%(HPLC)、m.P172.0〜173.7℃、19 Fnmr,δCFCl3−62.19ppm(S,6F,−CF3) −64.43ppm(S,6F,CF3 + CF3) この2,2−ビス[(4−ニトロ−2−トリフ
ルオロメチルフエノキシ)フエニル]ヘキサフル
オロプロパン104g(0.14モル)、5%pd/Clg、
酢酸エチル200gを1SUS加圧反応器に仕込
み、所定量の水素が消費されるまで2時間反応を
行つた。室温まで冷却後、触媒をロ別し、溶媒を
留去して、2,2−ビス[(4−アミノ−2−ト
リフルオロメチルフエノキシ)フエニル]ヘキサ
フルオロプロパンの黄色ワツクス状物を得た。収
量98.7g(収率96.5%)、純度99.5%(HPLC)、
一部をn−ヘキサンにて処理し結晶化した。m.
p58.0〜60.5℃、 19Fnmr,δCFCl3−61.01ppm(S,6F,−CF3) −63.57ppm(S,6F,CF3 + CF3) 実施例 2 温度計、攪拌器、冷却管を備えた50ml四ツ口フ
ラスコに2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン3.36g(0.01モル)、
4−クロロ−2−トリフルオロメチルニトロベン
ゼン5.4g(0.024モル)、炭酸カリウム3.36g、
N,N−ジメチルアセトアミド15mlを仕込み、約
1時間反応させた。室温まで冷却後、KCl,K2
CO3等をロ別した。ロ液を攪拌しながら50mlの水
を加えると、ジニトロ化合物は油状物となつた。
水をデカンテーシヨンによつて除き、ジニトロ化
合物をジエチルエーテルに溶解し、硫酸マグネシ
ウムを加え1晩乾燥を行つた。エーテルを留去し
黄色油状の粗生成物6.9gを得た。純度79.4%
(HPLC)塩化メチレン/nヘキサン=1/1で
カラムクロマトグラフにより2,2−ビス[(4
−ニトロ−3−トリフルオロメチルフエノキシ)
フエニル]ヘキサフルオロプロパンのワツクス状
物を得た。収量5.0g(収率70.2%)、純度94.2%
(HPLC) 19Fnmr,δCFCl3−59.78ppm(S,6F,−CF3) −63.43ppm(S,6F,CF3 + CF3) この化合物の赤外吸収スペクトルを第1図に示
した。上記、2,2−ビス[(4−ニトロ−3−
トリフルオロメチルフエノキシ)フエニル]ヘキ
サフルオロプロパン5.0g(0.007モル)5%pd/
C0.01g、酢酸エチル10gを50mlSUS耐圧反応器
に仕込み、所定量の水素が消費されるまで約3時
間反応を行つた。室温まで冷却後、触媒をロ別
し、溶媒を留去して、2,2−ビス[(4−アミ
ノ−3−トリフルオロメチルフエノキシ)フエニ
ル]ヘキサフルオロプロパンの黄色ワツクス状物
を得た。 収量4.35g(収率95.0%)、純度94.6%
(HPLC)、 19Fnmr,δCFCl3−62.64ppm(S,6F,−CF3) −63.53ppm(S,6F,CF3 + CF3) なお、このものの赤外吸収スペクトルを第2図
に示した。 [発明の効果] 本発明の新規な含フツ素芳香族ジアミンはポリ
イミド、ポリアミド等の塩基成分として優れたも
のであり、これにより得られる重合体は、耐熱性
に優れ、耐湿性の向上、誘電率の低下をはかるこ
とができる極めて有用なものである。
第1図は本発明化合物の製造中間体であるニト
ロ化物の赤外吸収スペクトルを示す。また第2図
は本発明化合物の赤外吸収スペクトルを示す。
ロ化物の赤外吸収スペクトルを示す。また第2図
は本発明化合物の赤外吸収スペクトルを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 【化】 (式中、R1,R2は炭素数1〜10のパーフルオ
ロアルキル基または水素であつて、R1=R2=H
でない)で表わされる新規な含フツ素芳香族ジア
ミン。 2 2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)ヘ
キサフルオロブロパンと一般式 【化】 (式中、R1,R2は一般式()の場合と同じ
意味であつてXはハロゲン原子である)で表わさ
れるニトロベンゼン類を非プロトン性溶媒中、塩
基の存在下で縮合させて一般式 【化】 (式中、R1,R2は一般式()の場合と同じ
意味である)で表わされるジニトロ化合物を得、
ついで還元することを特徴とする一般式 【化】 (式中、R1,R2は炭素数1〜10のパーフルオ
ロアルキル基または水素であつて、R1=R2=H
でない)で表わされる新規な含フツ素芳香族ジア
ミンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30178387A JPH01246247A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 新規な含フッ素芳香族ジアミンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30178387A JPH01246247A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 新規な含フッ素芳香族ジアミンおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01246247A JPH01246247A (ja) | 1989-10-02 |
| JPH0571582B2 true JPH0571582B2 (ja) | 1993-10-07 |
Family
ID=17901117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30178387A Granted JPH01246247A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 新規な含フッ素芳香族ジアミンおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01246247A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5206438A (en) * | 1989-10-24 | 1993-04-27 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Aromatic diamine compounds, bismaleimide compounds, thermosetting resin forming compositions therefrom, resins therefrom, and methods for their preparation |
| US5354839A (en) * | 1992-04-07 | 1994-10-11 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Polyimide and preparation process of same |
| JP2624433B2 (ja) * | 1992-12-22 | 1997-06-25 | セントラル硝子株式会社 | 芳香族ジニトロ化合物類の製造方法 |
| US5320650A (en) * | 1993-05-04 | 1994-06-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated aromatic polyimide, polyamide and polyamide-imide gas separation membranes |
| EP1783158B1 (en) | 2004-10-13 | 2013-12-11 | Central Glass Company, Limited | Fluorine-containing polymerizable monomer and polymer compound using same |
| JP5804314B2 (ja) * | 2011-06-10 | 2015-11-04 | 日立化成株式会社 | 絶縁電線用ポリアミドイミド樹脂、絶縁電線用絶縁塗料及びそれを用いた絶縁電線 |
| CN111039802A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-21 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 芳香二醚二胺的制备方法 |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP30178387A patent/JPH01246247A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01246247A (ja) | 1989-10-02 |
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