JPH0572014B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0572014B2 JPH0572014B2 JP57233620A JP23362082A JPH0572014B2 JP H0572014 B2 JPH0572014 B2 JP H0572014B2 JP 57233620 A JP57233620 A JP 57233620A JP 23362082 A JP23362082 A JP 23362082A JP H0572014 B2 JPH0572014 B2 JP H0572014B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- gas
- ferromagnetic
- ferromagnetic material
- inert gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法に
関し、特に短波長域での優れたＣ／Ｎ特性を有す
る媒体を再現よく生産する方法に関するものであ
る。 従来例の構成とその問題点 近年、高密度記録に適する媒体として、強磁性
薄膜を磁気記録層とする媒体が注目され、一部で
はオーデイオ用途で実用に供されている。 金属薄膜型磁気記録媒体をビデオ用途に実用化
する努力を各方面で続けられているものの、公知
の斜め蒸着法による蒸着テープでは、磁性の不均
一性からくるノイズが大きく、感度が高いにもか
かわらず、結果的にＣ／Ｎが低いという課題があ
り、本発明者等は、既に酸素を真空雰囲気に導入
することと、変形した斜め蒸着の組み合わせによ
る、前記課題を改良する方法を既に提案した。
（特公昭57−29770号公報） この方法により、生産性の面と、Ｃ／Ｎ面での
改良は見込めるものの、長尺での安定性、ロツト
間の再現性は充分ではなかつた。 発明の目的 金属薄膜型磁気記録媒体の製造法で、長尺での
安定性、ロツト間の再現性の改良された方法を提
供する。 発明の構成 回転支持体に沿つて移動する基材に、酸化性気
体を最大分圧とする真空雰囲気で、強磁性層を蒸
着法により形成する際、前記強磁性材料の蒸発を
集束電子ビームの衝撃加熱にて行うと共に、前記
電子ビームの走査部分及び基材が強磁性体の蒸着
を受ける部分の近傍より主として排気することを
要旨とするものである。 強磁性材料の加熱蒸発に用いる集束電子ビーム
が、大電流の電子ビームであると、電子同志の反
発力により、ビームが発散する傾向を持つ。しか
し、大電流の電子ビームに不活性ガスを導入し、
不活性ガスと電子との相互作用で発生する不活性
ガスのイオンが電子を引きつけ、電子同志の反発
力を小さくするガス集束法を用いると、大電流の
電子ビームの発散を防止し、電子ビームを集束さ
せることができる。従つて、大電流の電子ビーム
の集束には、ガス集束法が最も適しており、その
結果、投入電力密度が大きくとれ、Co等の高融
点材料の大量蒸発を実現することができる。 熱電子の発生源が、工業的には、高温のタング
ステンで構成されるため、酸素をガス集束のため
に用いると、前記タングステンが急速に酸化され
破損することが多く実用にならないからである。 しかしこの不活性気体は、強磁性薄膜形成雰囲
気に流入し、酸素効果を妨害する。 即ち酸素効果により極微細化した磁区が、局所
的にアルゴン等の不活性気体の影響により、大き
な磁区が発生し、その結果短波長域でのノイズを
大きくすると共に、かつロツト間の再現性を悪く
するもとになるのである。 この原因を排除する最も優れた実用的な方法は
電子ビームの走査部分（これは、広幅の基材に均
一な膜厚、磁気特性を得る上で不可欠の構成要素
である。）近傍より、主排気を行うことである。 ここでいう主排気の意味は、巻取り蒸着では一
般に蒸着部分と巻取部分とに２分して別々に排気
したり、グロー処理するために、補助的な排気系
を準備することが多いのであるが、蒸着雰囲気を
最大の排気速度で排気する排気系を指しており、
蒸着室に２系統排気系が配設されても、いずれか
のうち大きな排気速度を有する排気系による排気
を主排気と呼んでいるのである。 前記した主排気法の他の作用は、酸素等の酸化
性気体を真空槽内に導入することで、強磁性金属
粒子の表面を部分酸化する際、基材が蒸着時に受
ける熱で基材の温度があがり、基材より放出され
る水蒸気等の気体が酸素を妨害する不都合を無視
できる程度に排気してしまう作用である。 そのため、前記した主排気は、電子ビームの走
査部分及び基材が強磁性体の蒸着を受ける部分の
近傍より行われるような構成が最も優れていると
いえる。 実施例の説明 第１図は本発明を実施するのに用いた装置の要
部構成図である。 基材１は、回転キヤン２の周側面に沿つて送り
出し軸３より、巻き取り軸４へ移動するよう構成
される。巻取り系の公知要素で、巻取り蒸着には
不可欠ではあつても、本発明に直接関連のないも
のは、簡略化して省いてある。 蒸発源容器５に、保持された強磁性材料６の加
熱は、加速された電子ビーム７により行われる。 電子発生源８はピアス型電子銃が用いられ、バ
リアブルリークバルブ９の調節により、ガス集束
のためのガスを外部より導入する。 ガス集束された電子ビーム７は、走査コイル１
０の発生する走査磁界により、基材の幅方向に走
査され、強磁性材料６の蒸発分布を制御し、膜厚
をはじめ、所要の磁気特性が基材の幅方向に均一
になるよう調整される。 主排気系１１は真空槽１２内部を排気するので
あるが、基材が強磁性体の蒸着を受ける部分の近
傍で、構造的に許される限り、前記電子ビームの
走査部分の近傍で構成されるのが望ましい。 その結果、模式的に示したように、ガス集束用
のガス１３、基材等からでる不要のガス１４が有
効に排気され、バイアブルリークバルブ１５の調
節により真空槽内に導入される、例えば酸素等の
酸化性気体の、強磁性蒸着膜に与える効果が再現
よく得られることになる。１６は、磁気特性の調
節のために、入射角を限定するマスクである。 比較の例として、真空槽の基板の幅方向の中心
位置で、回転支持体直下に、排気系１７を配設し
た場合（破線で示した。）を取りあげた。 〔実施例 １〕 図に要部構成を示した装置により、第１表の条
件で、50cm幅、長さ4000m、厚み10μmのポリエ
チレンテレフタレート基材上に蒸着を実施し、磁
気記録媒体を得た。 比較例は、前記した排気系位置を用いた場合で
ある。 入射角は45°一度とし、回転支持体の表面温度
は５±0.5℃に制御した。 他にポリエチレンテレフタレートの厚みを8μm
から25μmまで変化させ、他の条件はサンプル２
の条件で、磁気記録媒体を得た。 基材の種類については、ポリエチレンテレフタ
レートの他に、ポリアミド、ポリイミドについて
も前記同様に本発明を実施した。 磁性材料については、Co，CoNi系合金、
CoNiCr系合金を中心に検討し、CoAg，CoFe，
CoSi，CoPt等についても実施した。 〔実施例 ２〕 実施例１の系で、基材長さを３倍の12000mと
した場合について本発明と比較例を検討した。
関し、特に短波長域での優れたＣ／Ｎ特性を有す
る媒体を再現よく生産する方法に関するものであ
る。 従来例の構成とその問題点 近年、高密度記録に適する媒体として、強磁性
薄膜を磁気記録層とする媒体が注目され、一部で
はオーデイオ用途で実用に供されている。 金属薄膜型磁気記録媒体をビデオ用途に実用化
する努力を各方面で続けられているものの、公知
の斜め蒸着法による蒸着テープでは、磁性の不均
一性からくるノイズが大きく、感度が高いにもか
かわらず、結果的にＣ／Ｎが低いという課題があ
り、本発明者等は、既に酸素を真空雰囲気に導入
することと、変形した斜め蒸着の組み合わせによ
る、前記課題を改良する方法を既に提案した。
（特公昭57−29770号公報） この方法により、生産性の面と、Ｃ／Ｎ面での
改良は見込めるものの、長尺での安定性、ロツト
間の再現性は充分ではなかつた。 発明の目的 金属薄膜型磁気記録媒体の製造法で、長尺での
安定性、ロツト間の再現性の改良された方法を提
供する。 発明の構成 回転支持体に沿つて移動する基材に、酸化性気
体を最大分圧とする真空雰囲気で、強磁性層を蒸
着法により形成する際、前記強磁性材料の蒸発を
集束電子ビームの衝撃加熱にて行うと共に、前記
電子ビームの走査部分及び基材が強磁性体の蒸着
を受ける部分の近傍より主として排気することを
要旨とするものである。 強磁性材料の加熱蒸発に用いる集束電子ビーム
が、大電流の電子ビームであると、電子同志の反
発力により、ビームが発散する傾向を持つ。しか
し、大電流の電子ビームに不活性ガスを導入し、
不活性ガスと電子との相互作用で発生する不活性
ガスのイオンが電子を引きつけ、電子同志の反発
力を小さくするガス集束法を用いると、大電流の
電子ビームの発散を防止し、電子ビームを集束さ
せることができる。従つて、大電流の電子ビーム
の集束には、ガス集束法が最も適しており、その
結果、投入電力密度が大きくとれ、Co等の高融
点材料の大量蒸発を実現することができる。 熱電子の発生源が、工業的には、高温のタング
ステンで構成されるため、酸素をガス集束のため
に用いると、前記タングステンが急速に酸化され
破損することが多く実用にならないからである。 しかしこの不活性気体は、強磁性薄膜形成雰囲
気に流入し、酸素効果を妨害する。 即ち酸素効果により極微細化した磁区が、局所
的にアルゴン等の不活性気体の影響により、大き
な磁区が発生し、その結果短波長域でのノイズを
大きくすると共に、かつロツト間の再現性を悪く
するもとになるのである。 この原因を排除する最も優れた実用的な方法は
電子ビームの走査部分（これは、広幅の基材に均
一な膜厚、磁気特性を得る上で不可欠の構成要素
である。）近傍より、主排気を行うことである。 ここでいう主排気の意味は、巻取り蒸着では一
般に蒸着部分と巻取部分とに２分して別々に排気
したり、グロー処理するために、補助的な排気系
を準備することが多いのであるが、蒸着雰囲気を
最大の排気速度で排気する排気系を指しており、
蒸着室に２系統排気系が配設されても、いずれか
のうち大きな排気速度を有する排気系による排気
を主排気と呼んでいるのである。 前記した主排気法の他の作用は、酸素等の酸化
性気体を真空槽内に導入することで、強磁性金属
粒子の表面を部分酸化する際、基材が蒸着時に受
ける熱で基材の温度があがり、基材より放出され
る水蒸気等の気体が酸素を妨害する不都合を無視
できる程度に排気してしまう作用である。 そのため、前記した主排気は、電子ビームの走
査部分及び基材が強磁性体の蒸着を受ける部分の
近傍より行われるような構成が最も優れていると
いえる。 実施例の説明 第１図は本発明を実施するのに用いた装置の要
部構成図である。 基材１は、回転キヤン２の周側面に沿つて送り
出し軸３より、巻き取り軸４へ移動するよう構成
される。巻取り系の公知要素で、巻取り蒸着には
不可欠ではあつても、本発明に直接関連のないも
のは、簡略化して省いてある。 蒸発源容器５に、保持された強磁性材料６の加
熱は、加速された電子ビーム７により行われる。 電子発生源８はピアス型電子銃が用いられ、バ
リアブルリークバルブ９の調節により、ガス集束
のためのガスを外部より導入する。 ガス集束された電子ビーム７は、走査コイル１
０の発生する走査磁界により、基材の幅方向に走
査され、強磁性材料６の蒸発分布を制御し、膜厚
をはじめ、所要の磁気特性が基材の幅方向に均一
になるよう調整される。 主排気系１１は真空槽１２内部を排気するので
あるが、基材が強磁性体の蒸着を受ける部分の近
傍で、構造的に許される限り、前記電子ビームの
走査部分の近傍で構成されるのが望ましい。 その結果、模式的に示したように、ガス集束用
のガス１３、基材等からでる不要のガス１４が有
効に排気され、バイアブルリークバルブ１５の調
節により真空槽内に導入される、例えば酸素等の
酸化性気体の、強磁性蒸着膜に与える効果が再現
よく得られることになる。１６は、磁気特性の調
節のために、入射角を限定するマスクである。 比較の例として、真空槽の基板の幅方向の中心
位置で、回転支持体直下に、排気系１７を配設し
た場合（破線で示した。）を取りあげた。 〔実施例 １〕 図に要部構成を示した装置により、第１表の条
件で、50cm幅、長さ4000m、厚み10μmのポリエ
チレンテレフタレート基材上に蒸着を実施し、磁
気記録媒体を得た。 比較例は、前記した排気系位置を用いた場合で
ある。 入射角は45°一度とし、回転支持体の表面温度
は５±0.5℃に制御した。 他にポリエチレンテレフタレートの厚みを8μm
から25μmまで変化させ、他の条件はサンプル２
の条件で、磁気記録媒体を得た。 基材の種類については、ポリエチレンテレフタ
レートの他に、ポリアミド、ポリイミドについて
も前記同様に本発明を実施した。 磁性材料については、Co，CoNi系合金、
CoNiCr系合金を中心に検討し、CoAg，CoFe，
CoSi，CoPt等についても実施した。 〔実施例 ２〕 実施例１の系で、基材長さを３倍の12000mと
した場合について本発明と比較例を検討した。
【表】
発明の効果
第１表にＣ／Ｎの値と再現性について示した。
Ｃ／Ｎの値については、キヤリアの中心周波数
を5.5MHzにとり、キヤリア近傍のノイズが、磁
気特性の不均一性を反映していると考えられるこ
とから、5MHzのノイズを測定して算出した。 基準のテープは、改良されたγ−Fe2O3の塗布
型テープで市販されてるものの中で、最もＣ／Ｎ
の優れたものを用いた。 テープとヘツドの相対速度は2m／secとした。 また、再現性については、同一条件設定で５ロ
ツトの間のＣ／Ｎのバラツキで比較した。 第１表より明らかなように、Ｃ／Ｎ、再現性共
に本発明品が優れている。 これらの効果は、第１表に示さなかつた、前記
の多くの実施例でも確認された。 又実施例２についても得られたＣ／Ｎについて
は殆んど実施例１と同じであつたが、再現性につ
いてみると、従来例と本発明の差は更に開き実施
例−１の１から５の条件相当では±1.5dBであつ
たのに対し、比較例（６，７相当条件）では夫々
±4.6dB±5.9dBであつた。 本発明は前記実施例に限定されるものではない
のは勿論で、使用される装置条件も、回転キヤン
によらない、例えばエンドレスベルトで構成され
た回転支持体でも良いし、排気系の基本要件を満
たせば、種類は問わないものである。 近年より短波長化の進む磁気記録分野に、優れ
た媒体の大量供給を可能にする本発明の有価値性
は極めて大きい。
を5.5MHzにとり、キヤリア近傍のノイズが、磁
気特性の不均一性を反映していると考えられるこ
とから、5MHzのノイズを測定して算出した。 基準のテープは、改良されたγ−Fe2O3の塗布
型テープで市販されてるものの中で、最もＣ／Ｎ
の優れたものを用いた。 テープとヘツドの相対速度は2m／secとした。 また、再現性については、同一条件設定で５ロ
ツトの間のＣ／Ｎのバラツキで比較した。 第１表より明らかなように、Ｃ／Ｎ、再現性共
に本発明品が優れている。 これらの効果は、第１表に示さなかつた、前記
の多くの実施例でも確認された。 又実施例２についても得られたＣ／Ｎについて
は殆んど実施例１と同じであつたが、再現性につ
いてみると、従来例と本発明の差は更に開き実施
例−１の１から５の条件相当では±1.5dBであつ
たのに対し、比較例（６，７相当条件）では夫々
±4.6dB±5.9dBであつた。 本発明は前記実施例に限定されるものではない
のは勿論で、使用される装置条件も、回転キヤン
によらない、例えばエンドレスベルトで構成され
た回転支持体でも良いし、排気系の基本要件を満
たせば、種類は問わないものである。 近年より短波長化の進む磁気記録分野に、優れ
た媒体の大量供給を可能にする本発明の有価値性
は極めて大きい。
図は本発明の製造方法の実施に用いられる巻取
蒸着装置の一例の要部構成図である。 １……基材、２……回転キヤン、５……蒸発源
容器、６……蒸着材料、７……電子ビーム、８…
…電子発生源、１１……排気系。
蒸着装置の一例の要部構成図である。 １……基材、２……回転キヤン、５……蒸発源
容器、６……蒸着材料、７……電子ビーム、８…
…電子発生源、１１……排気系。
Claims (1)
- １ 回転支持体に沿つて移動する基材に、酸化性
気体を最大分圧とする真空雰囲気で、強磁性層を
蒸着させる方法において、集束電子ビームを走査
する手段より手前であつて、電子ビームが通過す
る通路に、不活性ガスを導入する不活性ガス導入
手段を備えたガス集束型ビアス電子銃が放射する
前記集束電子ビームによる衝撃加熱にて、強磁性
材料の蒸発を行うと共に、前記集束電子ビームの
走査部分及び前記基材が前記強磁性層の蒸着を受
ける部分の近傍より主として排気することを特徴
とする金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57233620A JPS59124037A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57233620A JPS59124037A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59124037A JPS59124037A (ja) | 1984-07-18 |
| JPH0572014B2 true JPH0572014B2 (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=16957896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57233620A Granted JPS59124037A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59124037A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59210539A (ja) * | 1983-05-16 | 1984-11-29 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP57233620A patent/JPS59124037A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59124037A (ja) | 1984-07-18 |
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