JPH0573756B2 - - Google Patents

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JPH0573756B2
JPH0573756B2 JP63312164A JP31216488A JPH0573756B2 JP H0573756 B2 JPH0573756 B2 JP H0573756B2 JP 63312164 A JP63312164 A JP 63312164A JP 31216488 A JP31216488 A JP 31216488A JP H0573756 B2 JPH0573756 B2 JP H0573756B2
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JP
Japan
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independently
formula
integer
alkyl
bisbenzocyclobutene
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JP63312164A
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JPH01197491A (ja
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Kei Shaarotsuku Aran
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Dow Chemical Co
Original Assignee
Dow Chemical Co
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
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    • C07F7/0834Compounds having one or more O-Si linkage
    • C07F7/0838Compounds with one or more Si-O-Si sequences

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明はビスベンゾシクロブテン単量体に関す
る。さらに詳細には、それはポリオルガノシロキ
サン基により架橋されたビスベンゾシクロブテン
単量体に関する。 〔従来の技術〕 ビスベンゾシクロブテン単量体から誘導された
重合体は、米国特許第4540763号明細書に開示さ
れている。重合体は、ビスベンゾシクロブテン単
量体を重合に十分な温度に置くことにより製造さ
れる。重合体は、高温度における優れた熱安定
性、多くの工業用溶媒に対する良好な化学的抵抗
性、良好な物理的及び機械的性質及び水に対する
低い感受性を示す。重合体は、複合体、コーテイ
ング及びフイルムを製造するのに有用であり;さ
らに接着剤として有用である。 残念ながら、米国特許第4540763号の重合体が
誘導されるビスベンゾシクロブテン単量体は、室
温で固体である。それ故、多数の適用において、
単量体は、処理が生ずる前に200℃にも及ぶ高温
度で溶解すべきか又は溶媒に溶解しなければなら
ない。これは、時間がかかりそして高価な余分の
処理工程を必要とする。その上、単量体を溶解す
るのに必要な溶媒は、最終の硬化工程(重合体内
に孔を生じさせるかもしれない)前に除去しなけ
ればならない。 従来の技術の欠点を考慮して、液体ビスベンゾ
シクロブテン単量体が要求される。さらに、単量
体を溶解する溶媒を要することなく室温で処理で
きるビスベンゾシクロブテン単量体が要求され
る。 〔発明の概要〕 本発明は式
【化】 (式中各Rは独立してC1〜6アルキル、シクロア
ルキル、アラルキル又はフエニルであり; 各R1は独立してビニル、アリル又はメタリル
であり; 各R2は独立してC1〜6アルキル又はメトキシで
あり; 各R3は独立してC1〜6アルキル又はシアノであ
り; nは1又はそれ以上の整数であり;そして 各q及びrは独立して零又は1の整数である) により表されるビスベンゾシクロブテン単量体で
ある。 他の態様において、本発明はビスベンゾシクロ
ブテン単量体を製造する方法である。単量体は過
剰のハロベンゾシクロブテンとオルガノポリシロ
キサンとを反応させることにより製造される。 単量体は、室温で液体である。それ故、それは
単量体を溶解する高温度処理又は単量体を溶解す
る溶媒の何れも必要としない。単量体は、繊維補
強複合体の製造用の繊維の予備含浸、さらに特に
エレクトロニツクス応用のためのコーテイング及
び接着剤の製造に特に有用である。 本発明のビスベンゾシクロブテン単量体は、オ
ルガノポリシロキサン基により架橋された単量体
である。単量体は、式
【化】 (式中各Rは独立してC1〜6アルキル、シクロア
ルキル、アラルキル又はフエニルであり; 各R1は独立してビニル(−CH=CH−)、アリ
ル(−CH=CH−CH2−)又はメタリル
【式】)であり; 各R2は独立してC1〜6アルキル又はメトキシで
あり; 各R3は独立してC1〜6アルキル又はシアノであ
り; nは1又はそれ以上の整数であり;そして 各q及びrは独立して零又は1の整数である) により表わされる。 好ましいアルキル基はメチルでありそして好ま
しい単量体は式
【化】 (式中各Rは独立してメチル、シクロアルキ
ル、アラルキル又はフエニルであり; 各R1は独立してビニル、アリル又はメタリル
であり; 各R2は独立してメチル又はメトキシであり; 各R3は独立してメチル又はシアノであり; nは1及び4500の間の整数(1及び4500を含
む)であり;そして 各q及びrは独立して零又は1の整数である) により表わされる。 好ましいアラルキル基はベンジルであり;そし
てnは1及び1000の間好ましくは1及び100の間
さらに好ましくは1及び20の間の整数(最小及び
最大を含む)である。好ましくは、単量体のベン
ゾシクロブテン基は無置換でありそして単量体は
【化】 (式中各Rは独立してメチル、シクロアルキル
又はフエニルであり; 各R1は独立してビニル、アリル又はメタリル
であり;そして nは1及び10の間の整数(1及び10を含む)で
ある) により表わされる。 好ましいシクロアルキル基はシクロヘキシルで
ある。さらに好ましい単量体は、式
【化】 (式中各Rは独立してメチル又はフエニルであ
り、そしてn=1、2又は3である) により表わされる。 最も好ましい単量体は式
【化】 により表わされる。 本発明のビスベンゾシクロブテン単量体は、過
剰のハロベンゾシクロブテン好ましくはブロモベ
ンゾシクロブテンと所望のオルガノポリシロキサ
ン架橋基とを反応させることにより製造できる。
概して、少なくとも1.5:1のブロモベンゾシク
ロブテン対オルガノポリシロキサン架橋基のモル
比が望ましく、好ましくは少くとも2:1であ
る。好ましくは、ブロメベンゾシクロブテンは式
【化】 (式中R2はC1〜6アルキル又はメトキシであ
り; R3はC1〜6アルキル又はシアノであり;そして 各q及びrは独立して零又は1の整数である) により表わされる4−ブロモベンゾシクロブテン
である。 所望のオルガノポリシロキサン架橋基は式
【化】 〔式中各Rは独立してC1〜6アルキル、シクロア
ルキル、アラルキル又はフエニルであり; 各R4は独立してビニル(−CH=CH2)、アリ
ル(−CH2−CH=CH2)又はメタリル
〔実施例〕
下記の実施例は説明のためであり本発明の範囲
を制限しない。 実施例 下記の式により示されるビスベンゾシクロブテ
ン単量体の製造
【化】 還流冷却器及び磁気攪拌棒を備えた50ml容の二
口丸底フラスコ中の3.0g(1.64×10-2m)の4−
ブロモベンゾシクロブテン、1.52g(8.2×10-3
m)の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサン、1.66g(1.64×10-2m)
のトリエチルアミン、0.152g(5.0×10-4m)の
トリ−o−トリルホスフイン、72mg(3.21×10-4
m)の酢酸パラジウム()及び10mlのアセトニ
トリルの溶液を24時間還流加熱した。24時間後、
反応混合物を室温に冷却し次に60mlの10%塩酸水
溶液に注いだ。得られた混合物を50mlずつの塩化
メチレンにより2回抽出し、合わせた塩化メチレ
ン溶液を100mlずつの水で3回洗つた。有機相を
無水硫酸マグネシウムにより乾燥し過しそして
真空下蒸発して黄色の油を得た。油をヘプタン中
20%のトルエンにより溶離するシリカゲルのクロ
マトグラフイにかけた。生成物をカラムから除
き、溶媒を除いて無色の油を得た。逆相高速液体
クロマトグラフイは、1種の主な成分を有する混
合物を示した。1H−NMR(CDCl3)7.3〜6.1(m,
10H)3.2(s,8H)、0.2(s,12H)ppm。 生成物混合物のサンプルを型に注ぎ、型を徐々
に250℃に加熱することにより重合した。得られ
た重合体を透明な硬い空所のない部分として型か
ら除いた。生成物混合物の他のサンプルを基体の
表面上に注ぎ、平らにしそして硬化して透明な可
とう性のコーテイングを形成した。この方法で製
造した重合体は、400℃付近の熱重量分析法によ
り測定した重合損失の始まりを示し、高温度で有
用な証拠を示した。 置換又は無置換のブロモベンゾシクロブテンを
変えそしてオルガノポリシロキサン架橋基を変え
て本実施例の方法を繰返すことにより、本発明の
範囲内の他のビスベンゾシクロブテン単量体が製
造できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 【化】 (式中各Rは独立して、C1-6アルキル、シクロ
    アルキル、アラルキル又はフエニルであり; 各R1は独立して、−CH=CH−、 −CH=CH−CH2−又は【式】 であり; 各R2は独立して、 C1-6アルキル、又はメトキシであり; 各R3は独立して、 C1-6アルキル、又はシアノであり; nは1又はそれ以上の整数であり;そして 各q及びrは独立して、零又は1の整数であ
    る) により表されるビスベンゾシクロブテン単量体。 2 式 【化】 (式中各Rは独立して、メチル、シクロアルキ
    ル、アラルキル又はフエニルであり; 各R1は独立して、−CH=CH、 −CH=CH−CH2−又は【式】 であり; 各R2は独立して、メチル、又はメトキシであ
    り; 各R3は独立して、メチル、又はシアノであ
    り; nは1及び4500の間の整数であり;そして 各q及びrは独立して、零又は1の整数であ
    る) により表される、請求項1記載のビスベンゾシク
    ロブテン単量体。 3 式 【化】 (式中各Rは独立して、メチル、シクロアルキ
    ル又はフエニルであり; 各R1は独立して、−CH=CH−、 −CH=CH−CH2−又は【式】 であり;そして nは1及び10の間の整数である) により表される、請求項1記載のビスベンゾシク
    ロブテン単量体。 4 式 【化】 (式中各Rは独立して、メチル又はフエニルで
    あり、そしてn=1,2又は3である) により表される、請求項3記載のビスベンゾシク
    ロブテン単量体。 5 式 【化】 により表される、請求項4記載のビスベンゾシク
    ロブテン単量体。 6 式【式】 (式中R2は、 C1-6アルキル又はメトキシであり; R3は C1-6アルキル又はシアノであり、Xはハロゲン
    であり;そして 各q及びrは独立して、零又は1の整数であ
    る) により表される4−ハロベンゾシクロブテンの過
    剰量と式【式】 (式中各Rは独立してC1-6アルキル、シクロア
    ルキル、アラルキル又はフエニルであり; 各R4は独立してビニル、アリル又はメタリル
    であり;そしてnは1又はそれ以上の整数であ
    る) により表されるオルガノポリシロキサンとを反応
    させることを特徴とする式 【化】 (式中R,R2,R3、及びnは前記の通りであ
    り、R1は−CH=CH−、−CH=CH−CH2−又は
    【式】である) により表されるビスベンゾシクロブテン単量体の
    製造法。
JP63312164A 1987-12-14 1988-12-12 ポリオルガノシロキサン架橋ビスベンゾシクロブテン単量体 Granted JPH01197491A (ja)

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US07/132,734 US4812588A (en) 1987-12-14 1987-12-14 Polyorganosiloxane-bridged bisbenzocyclobutene monomers
US132734 1987-12-14

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JPH01197491A JPH01197491A (ja) 1989-08-09
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EP (1) EP0320832A3 (ja)
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KR (1) KR920000562B1 (ja)
BR (1) BR8806547A (ja)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003522046A (ja) * 2000-02-02 2003-07-22 ザ ダウ ケミカル カンパニー 強化ベンゾシクロブテン系ポリマーおよびプリント配線基板の組立における該ポリマーの用途

Families Citing this family (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5705598A (en) 1985-04-23 1998-01-06 The Boeing Company Polyester sulfone oligomers and blends
US5210213A (en) 1983-06-17 1993-05-11 The Boeing Company Dimensional, crosslinkable oligomers
US5693741A (en) 1988-03-15 1997-12-02 The Boeing Company Liquid molding compounds
US5714566A (en) 1981-11-13 1998-02-03 The Boeing Company Method for making multiple chemically functional oligomers
US5969079A (en) 1985-09-05 1999-10-19 The Boeing Company Oligomers with multiple chemically functional end caps
US5516876A (en) 1983-09-27 1996-05-14 The Boeing Company Polyimide oligomers and blends
US5512676A (en) 1987-09-03 1996-04-30 The Boeing Company Extended amideimide hub for multidimensional oligomers
US5026892A (en) * 1984-08-27 1991-06-25 The Dow Chemical Company Novel poly(arylcyclobutenes)
US4999449A (en) * 1984-08-27 1991-03-12 The Dow Chemical Company Novel poly(arylcyclobutenes)
US5288914A (en) * 1984-08-27 1994-02-22 The Dow Chemical Company Poly(arylcyclobutenes)
US5618907A (en) 1985-04-23 1997-04-08 The Boeing Company Thallium catalyzed multidimensional ester oligomers
US5817744A (en) 1988-03-14 1998-10-06 The Boeing Company Phenylethynyl capped imides
US5034485A (en) * 1990-05-30 1991-07-23 The Dow Chemical Company Multifunctional cyclobutarene peroxide polymerization initiators
JP2722832B2 (ja) * 1991-02-22 1998-03-09 日本電気株式会社 液晶表示素子
US5136069A (en) * 1991-03-28 1992-08-04 The Dow Chemical Company Process for preparing vinylically-unsaturated compounds (II)
US5264646A (en) * 1991-03-28 1993-11-23 The Dow Chemical Company Process for preparing vinylically-unsaturated compounds
EP0506314B1 (en) * 1991-03-28 2002-01-30 The Dow Chemical Company Process for preparing vinylically-unsaturated compounds
US5138081A (en) * 1991-04-30 1992-08-11 The Dow Chemical Company Process for purifying vinylically-unsaturated organosilicon compounds
US5185391A (en) * 1991-11-27 1993-02-09 The Dow Chemical Company Oxidation inhibited arylcyclobutene polymers
EP0616701B1 (en) * 1991-12-10 2002-02-13 The Dow Chemical Company Photocurable cyclobutarene compositions
US5391650A (en) * 1992-12-30 1995-02-21 The Dow Chemical Company Bisbenzocyclobutene thermosetting compounds and process for preparing the same
US5276228A (en) * 1993-01-25 1994-01-04 The Dow Chemical Company Liquid bisarylcyclobutene monomers and polymers
US5854302A (en) * 1993-04-29 1998-12-29 The Dow Chemical Company Partially polymerized divinylsiloxane linked bisbenzocyclobutene resins and methods for making said resins
US5354929A (en) * 1993-09-28 1994-10-11 The Dow Chemical Company Bisbenzocyclobutene compounds with hydrophobic substituents, a method for making same
WO1995017006A1 (en) * 1993-12-13 1995-06-22 National Semiconductor Corporation A method of planarizing a dielectric layer of an integrated circuit
US5416233A (en) * 1994-01-25 1995-05-16 The Dow Chemical Company Preparation of vinylsilane-benzocyclobutenes
US5668210A (en) * 1994-10-24 1997-09-16 The Dow Chemical Company Adhesion promoter and self-priming arylcyclobutene resin compositions
US5994489A (en) * 1994-10-24 1999-11-30 The Dow Chemical Company Adhesion promoter and self-priming arylcyclobutene resin compositions
US5567835A (en) * 1995-10-27 1996-10-22 The Dow Chemical Company Preparation of a vinylsiloxane-benzocylobutene from a hydrolyzable vinylsilane-benzocylobutene
DE19600305C2 (de) * 1996-01-05 2001-05-03 Siemens Ag Herstellverfahren für eine Siliziumdioxid-Schicht auf einer Topographie sowie eine nach diesem Verfahren hergestellte Siliziumdioxidschicht
US5670651A (en) * 1996-02-12 1997-09-23 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Thermosetting resins derived from 4-hydroxy- and 4-trimethylsiloxy-benzocyclobutene
US5616765A (en) * 1996-02-12 1997-04-01 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Method for the preparation of 4-hydroxy-and 4-trimethylsiloxybenzocyclobutene
US5711987A (en) * 1996-10-04 1998-01-27 Dow Corning Corporation Electronic coatings
US6184284B1 (en) 1998-08-24 2001-02-06 The Dow Chemical Company Adhesion promoter and self-priming resin compositions and articles made therefrom
US6361926B1 (en) * 1998-10-23 2002-03-26 The Dow Chemical Company Acid functional polymers based on benzocyclobutene
ATE323132T1 (de) * 1998-11-24 2006-04-15 Dow Global Technologies Inc Eine zusammensetzung enthaltend einen vernetzbaren matrixpercursor und eine porenstruktur bildendes material und eine daraus hergestellte poröse matrix
KR100795714B1 (ko) * 2000-08-21 2008-01-21 다우 글로벌 테크놀로지스 인크. 마이크로일렉트로닉 장치의 제조에 있어서 유기 중합체유전체용 하드마스크로서의 유기 규산염 수지
US6919164B2 (en) * 2001-06-08 2005-07-19 The Penn State Research Foundation Patterning compositions using E-beam lithography and structures and devices made thereby
WO2003010565A2 (en) * 2001-07-26 2003-02-06 The Penn State Research Foundation Optical waveguides and grating structures fabricated using polymeric dielectric compositions
US7019093B2 (en) * 2002-10-18 2006-03-28 Dow Global Technologies Inc. Aqueous developable, photosensitive benzocyclobutene-based oligomers and polymers with high moisture resistance
US20040159923A1 (en) * 2003-02-15 2004-08-19 Sergei Skokov Using benzocyclobutene based polymers as underfill materials
JP2005307183A (ja) * 2004-03-23 2005-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 膜形成用組成物、それを含有する塗布液及びその塗布液を用いて得られる絶縁膜を有する電子デバイス
WO2006044337A1 (en) 2004-10-13 2006-04-27 Dow Global Technologies Inc. Benzocyclobutene based polymer formulations and methods for processing such formulations in oxidative environments
WO2006044338A1 (en) 2004-10-13 2006-04-27 Dow Global Technologies Inc. Aqueous developable benzocyclobutene-based polymer composition and method of use of such compositions
US20060275616A1 (en) * 2005-06-03 2006-12-07 Clough Robert S Silane-based coupling agent
US20070004844A1 (en) * 2005-06-30 2007-01-04 Clough Robert S Dielectric material
JP2008306021A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Ushio Inc Ledチップの製造方法
US9269623B2 (en) 2012-10-25 2016-02-23 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Ephemeral bonding
US9273215B2 (en) 2012-10-30 2016-03-01 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Adhesion promoter
US9315696B2 (en) 2013-10-31 2016-04-19 Dow Global Technologies Llc Ephemeral bonding
US9153357B1 (en) 2014-03-27 2015-10-06 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Adhesion promoter
WO2016070434A1 (zh) * 2014-11-07 2016-05-12 中国科学院上海有机化学研究所 含苯并环丁烯基团的有机硅氧烷及其制备和应用
US9644118B2 (en) 2015-03-03 2017-05-09 Dow Global Technologies Llc Method of releasably attaching a semiconductor substrate to a carrier
US9296915B1 (en) 2015-04-10 2016-03-29 Dow Global Technologies Llc Toughened arylcyclobutene polymers
JP6413916B2 (ja) * 2015-05-11 2018-10-31 三菱ケミカル株式会社 新規化合物、絶縁膜材料、絶縁膜及び有機デバイス
US9441055B1 (en) 2015-09-18 2016-09-13 Dow Global Technologies Llc Arylcyclobutenes
US10113024B2 (en) 2015-12-21 2018-10-30 Dow Global Technologies Llc Arylcyclobutenes
US20170174805A1 (en) 2015-12-21 2017-06-22 Dow Global Technologies Llc Arylcyclobutenes
US20190112400A1 (en) 2017-10-12 2019-04-18 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Polymers from bis-arylcyclobutene group containing monomers that cure through other groups and methods for making the same
US20220002474A1 (en) 2020-07-02 2022-01-06 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Bisbenzocyclobutene formulations
US20240199918A1 (en) 2021-03-30 2024-06-20 Nissan Chemical Corporation Adhesive composition, laminate, method of manufacturing laminate, and method of manufacturing processed substrate
CN117157739A (zh) 2021-03-31 2023-12-01 日产化学株式会社 层叠体、剥离剂组合物以及经加工的半导体基板的制造方法
EP4310157A4 (en) 2021-03-31 2025-12-03 Nissan Chemical Corp LAMINATE, ANTI-STICK AGENT COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING A MACHINED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
KR20230164088A (ko) 2021-03-31 2023-12-01 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 적층체, 박리제 조성물 및 가공된 반도체 기판의 제조 방법
US20250065601A1 (en) 2021-10-29 2025-02-27 Nissan Chemical Corporation Laminate, release agent composition, and method for producing processed semiconductor substrate
CN119039588B (zh) * 2024-09-10 2026-01-27 大连理工大学 硅氧烷苯并环丁烯预聚物、无溶剂喷墨3d打印用耐高温低介电油墨及其制备方法和应用

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2611774A (en) * 1950-01-09 1952-09-23 Dow Corning Diphenylsiloxane copolymers and methods of preparation thereof
US3922299A (en) * 1974-03-05 1975-11-25 Univ Delaware Vinylic substitution reactions
US4536950A (en) * 1983-02-10 1985-08-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for making semiconductor device
US4540763A (en) * 1984-09-14 1985-09-10 The Dow Chemical Company Polymers derived from poly(arylcyclobutenes)
US4759874A (en) * 1987-08-03 1988-07-26 The Dow Chemical Company Benzocyclobutene-based die attach adhesive compositions

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003522046A (ja) * 2000-02-02 2003-07-22 ザ ダウ ケミカル カンパニー 強化ベンゾシクロブテン系ポリマーおよびプリント配線基板の組立における該ポリマーの用途

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