JPH0573827A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 各種情報機器に使用される磁気ヘッドにおい
て、高密度記録、オーバライト特性等に優れ、かつ高周
波数域における再生能力に優れた低原価で量産性に適し
た磁気ヘッドの提供を目的とする。 【構成】 本発明の磁気ヘッドは、第１磁性コア２と、
第２磁性コア５と、前記第１磁性コア２と前記第２磁性
コア５の対向面に形成された巻線溝３及びギャップ材６
とを有する磁気ヘッドであって、少なくともいずれかの
巻線溝斜面４に形成された磁性膜１が、記録媒体走行面
８に露出して形成された構成からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はビデオテープレコーダー
やコンピュータ等に用いられる磁気ヘッド及びその製造
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータの補助記憶装置である磁気
ディスク装置は、小型化、高容量化の技術開発が積極的
に行なわれている。磁気ディスク装置の主要部品のひと
つである磁気記録媒体においては、高保磁力（Ｈｃ）化
や薄膜化の技術が進み短波長域での信号の記録、再生を
可能にしている。一方磁気ヘッドにおいては、高保磁力
（Ｈｃ）を有する磁気記録媒体に飽和記録するために高
い飽和磁束密度（Ｂｓ）を有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金
やアモルファス合金等の金属磁性材料で磁気ギャップ近
傍を形成する所謂メタル−イン−ギャップ磁気ヘッド
（以下、ＭＩＧ磁気ヘッドと略す）が主流になりつつあ
る。

【０００３】以下に従来のＭＩＧ磁気ヘッドについて説
明する。図６、図７、図８は従来用いられている各種Ｍ
ＩＧ磁気ヘッドの要部側面図である。１１は第１磁性コ
ア、１２は巻線溝、１３は巻線溝斜面、１４は第２磁性
コア、１５は磁性膜、１６はフロントギャップ、１７は
ガラス材、１８はリアギャップである。

【０００４】以上のように構成された従来のＭＩＧ磁気
ヘッドについて、以下その製造方法について説明する。

【０００５】図６のＭＩＧ磁気ヘッドは、第１磁性コア
１１にダイヤモンド砥石等により巻線溝１２を設けた
後、巻線溝斜面１３を鏡面に仕上げる。次に第１磁性コ
ア１１及び第２磁性コア１４のギャップ形成面を鏡面に
加工した後、スパッタリング等の真空薄膜形成技術によ
りＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金等の磁性膜１５を少なくともフ
ロントギャップ１６部に１〜１０μｍ程度成膜する。次
に作動ギャップとなるＳｉＯ₂等の非磁性材を介して第
１磁性コア１１と第２磁性コア１４を対向させ巻線溝先
端部にてガラス材１７で溶融・接合して磁気ヘッドを得
る。

【０００６】次に、図７のＭＩＧ磁気ヘッドの製造方法
について説明する。図６に示すＭＩＧ磁気ヘッドとほぼ
同様に製作するが、記録能力を向上させるために磁性膜
１５を第１磁性コア１１、第２磁性コア１４の両方に成
膜している。しかし前述した２種類の磁気ヘッドはリア
ギャップ１８部にも磁性膜１５が存在するため第１磁性
コア１１と第２磁性コア１４の接着強度が弱く製品歩留
りが低いという欠点がある。又電気抵抗の低い磁性膜１
５がリアギャップ１８部全体に形成されているため高い
周波数では透磁率の劣化により再生能力の劣る磁気ヘッ
ドとなる。更に、他の従来例として図８に示す特開昭５
６−４１５２０号公報で提案されているＭＩＧ磁気ヘッ
ドの製造方法は、磁性膜１５を形成した後、ギャップ形
成面をラッピング等の機械加工によりリアギャップ１８
部の磁性膜１５を除去する工程が必要である。この時フ
ロントギャップ１６の磁性膜１５も、１０〜１５μｍ程
度除去されるため磁性膜１５は、当初１５〜２０μｍ程
度厚みに成膜する必要がある。図６及び図７に示す磁気
ヘッドでは、磁性膜１５の成膜厚さは、ＭＩＧ磁気ヘッ
ドとしての必要厚さのみでよいので５μｍ以下で製作で
きるのに対し、図８の磁気ヘッドは量産性に欠け、ま
た、厚膜に成膜することによる磁性膜１５の応力の作用
で剥離等により低い製品歩留りとなっていた。

【０００７】次に、ＭＩＧ磁気ヘッドの性能を決定する
最も重要なポイントであるフロントギャップ１６近傍で
の第１磁性コア１１と高飽和磁束密度（Ｂｓ）を有する
磁性膜１５との接合構造について説明する。図９乃至図
１１は図６乃至図８に示す従来のＭＩＧ磁気ヘッドの各
々のフロントギャップ部の要部拡大図である。いずれも
第１磁性コア１１と磁性膜１５との接合面ａ−ａ′とギ
ャップ突き合わせ面ｇ−ｇ′と平行に構成されている。
このため記録時にフロントギャップ１６近傍を通る磁束
は、巻線溝１２のフロントギャップ１６近傍のテーパー
形状により二磁路の断面積が減少しているので、フロン
トギャップ１６部で最も磁束が集中し磁束密度が高くな
る。しかし、磁性膜厚１５が薄い場合には、磁束の流れ
る方向に沿った磁性膜１５の断面積がギャップ突合わせ
面ｇ−ｇ′での断面積（ＳＧ）と第１磁性コア１１と磁
性膜１５との接合面ａ−ａ′での断面積（Ｓａ）とがＳ
Ｇ≒Ｓａとなるため磁性膜厚さ内での磁束の濃縮効果が
得られず起磁力を増大したとき第１磁性コア１１と磁性
膜１５の接合面ａ−ａ′付近の第１磁性コア１１側で磁
気飽和が始まることになる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、ＭＩＧ磁気ヘッドの磁性膜と第１磁性コア
との接合面ａ−ａ′がギャップ突合わせ面ｇ−ｇ′と平
行であるために磁性膜中を通る磁束の濃縮効果が少な
く、その結果ＭＩＧ磁気ヘッドの種々の性能を発揮でき
ないという問題点を有していた。

【０００９】本発明は上記問題点を解決することを目的
とし、高密度記録、オーバライト特性等に優れ、かつ高
周波数域における再生能力に優れたＭＩＧ磁気ヘッドの
提供を目的とするものであり、また、その製造方法は、
ギャップデプス及び記録媒体走行面への磁性膜の露出幅
を簡単な操作で高精度で調整することができ低原価で高
い製品歩留りで製造することができる磁気ヘッドの製造
方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気ヘッドは、巻線溝のフロントギャップ近
傍の傾斜面、またはギャップ面を介して両側に成膜形成
された磁性膜のギャップ側に延在した端面の少なくとも
一方の面の端部が、磁気記録媒体対向面に露出するよう
に形成された構成を有し、また、その製造方法は巻線溝
を形成した磁性コアの少なくとも巻線溝斜面に磁性膜を
成膜した磁性コアをギャップ材を介して突合わせ一体化
したのち、いわゆるギャップデプス加工を行い、記録媒
体対向面に巻線溝斜面に形成した磁性膜層の一部を媒体
対向面に露出させる工程を備えた構成を有している。

【００１１】

【作用】この構成によって本発明の磁気ヘッドは、磁性
膜内での磁束の濃縮（磁束密度の上昇）効果を高めるこ
とができ、ギャップ突合わせ面で、高磁界を形成し高記
録密度特性を得ることができる。また本発明による磁気
ヘッドの製造方法は媒体対向面のラップ等による簡単な
仕上げだけで高信頼性の磁気ヘッドを高い製品歩留りで
製造できる。

【００１２】

【実施例】

（実施例１）以下本発明の第一実施例について、図面を
参照しながら説明する。

【００１３】図１は本発明の磁気ヘッドの要部側面図で
ある。１は磁性膜、２は第１磁性コア、３は巻線溝、４
は巻線溝斜面、５は第２磁性コア、６はギャップ材、７
はガラス材、８は記録媒体走行面である。

【００１４】以上のように構成された磁気ヘッドについ
て、以下その製造方法を図３の工程図を用いて説明す
る。

【００１５】（ａ）において、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等
の磁性コア２にダイヤモンド砥石等により巻線溝３を形
成した後、巻線溝斜面４を砥粒径の小さいダイヤモンド
砥石等により鏡面に仕上げる。巻線溝斜面４の角度θ１
は、３０°〜６０°程度が望ましい。次に（ｂ）におい
て、スパッタリング等の真空薄膜形成技術によりＦｅ−
Ａｌ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金等の高飽和磁束密度
（Ｂｓ）を有する磁性膜１を巻線溝斜面４と略直角方向
から５〜１０μｍ程度成膜した後磁性膜１の透磁率
（μ）が向上する温度条件で熱処理を行う。（ｃ）にお
いて、第１磁性コア２及び第２磁性コア５のギャップ形
成面をダイヤモンド砥粒を用いたラッピング加工等によ
り鏡面に加工する。このラッピング加工によりギャップ
形成面に成膜された磁性膜１は除去され、磁性膜１は巻
線溝斜面４部にのみ残る。次に、（ｄ）において、ギャ
ップ形成面にＳｉＯ2やガラス等を真空薄膜形成法によ
りギャップ長（Ｇ．Ｌ）と同等寸法のギャップ材６を成
膜し第１磁性コア２と第２磁性コア５のギャップ形成面
を対向し加圧する。その後巻線溝３にガラス材７を挿入
し７００℃前後で第１磁性コア２と第２磁性コア５を接
着する。次に（ｅ）において、記録媒体走行面８をダイ
ヤモンド砥粒等を用いた研削加工やラッピング加工によ
り磁性膜１の一部が露出するまで加工する。（ｇ）はそ
の底面端面図である。更に（ｆ）において、磁気ヘッド
の用途等に合わせ研削し磁性膜１を露出させる。（ｈ）
はその記録媒体走行面を形成する低面端面図である。記
録媒体走行面の磁性膜１の幅は巻線溝斜面４の角度θ１
と磁性膜１の成膜した厚みにより決定される。例えばギ
ャップ深さ（Ｇ．Ｄ）が１５μｍの場合には、巻線溝斜
面４の角度θ１を３０°に設定し磁性膜１を巻線溝斜面
４と略直角方向から１０μｍ成膜し、記録媒体走行面８
に２．５μｍ幅の磁性膜１が露出する様に加工する。こ
の時記録媒体走行面８に露出する磁性膜１の幅によりギ
ャップデプス（Ｇ．Ｄ）寸法が計算できるため、コンポ
ジットタイプ浮動型磁気ヘッド等のギャップデプス
（Ｇ．Ｄ）寸法が直読できない磁気ヘッドはこの方法に
より生産性の向上及び歩留りの向上を図ることも可能で
ある。又、近年は磁気ヘッドの狭トラック化が進んでい
るが、狭トラックの磁気ヘッドで従来の磁気ヘッドに近
い高出力を得るためギャップ深さ（Ｇ．Ｄ）は１０μｍ
以下にする場合が増えている。そのため磁性膜１は、５
〜６μｍ程度の成膜で良く図８に示す従来の磁気ヘッド
に比べてさらに量産性を図ることが可能である。

【００１６】（実施例２）以下本発明の第２の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。

【００１７】図２は本発明の第２実施例の磁気ヘッドの
要部側面図である。２は第１磁性コア、５は第２磁性コ
ア、８は記録媒体走行面で、以上は図１の構成と同様な
ものである。図１と構成の異なるのは、第１磁性コア２
の磁性膜１ａ、第２磁性コア５の磁性膜１ｂ、θ１の傾
斜角を有する第１磁性コア２の巻線溝斜面４ａ、θ２の
傾斜角を有する第２磁性コアの巻線溝斜面４ｂである。

【００１８】以上のように構成された第２実施例の磁気
ヘッドについて、以下その製造方法を説明する。第１磁
性コア２及び第２磁性コア５の両磁性コアに磁性膜１を
形成するいわゆる両面ＭＩＧ磁気ヘッドの場合は、図１
に示す一対の第１磁性コア２のギャップ形成面を対向し
７００℃前後で接着する方法がある。しかしこの方法で
は、ギャップデプス（Ｇ．Ｄ）方向に２つの磁性コア間
でズレが発生する可能性があり、記録媒体走行面を加工
しギャップデプス（Ｇ．Ｄ）寸法をコントロールする時
に片方の磁性コアの磁性膜１が記録媒体走行面８に露出
しないことが考えられる。それを防止し第１磁性コア２
でギャップデプス（Ｇ．Ｄ）寸法が決まる様に、第２磁
性コア５の巻線溝斜面４ｂの角度θ２を１０〜２０°程
度に小さくし、磁性膜１ｂをギャップ形成面に幅広く露
出するよう製作する。例えば第２磁性コア５の巻線溝斜
面４ｂの角度θ２を１０°で加工し磁性膜１ｂを巻線溝
斜面４ｂと略直角方向から８μｍ成膜しギャップ形成面
を鏡面に加工した場合、ギャップ形成面に露出する磁性
膜の幅は４６μｍ程度である。一方第１磁性コア２の巻
線溝斜面４ａの角度θ１を４５°で加工し磁性膜１ａを
巻線溝斜面４ａと略直角方向から８μｍ成膜した場合、
ギャップ形成面に露出する磁性膜１の幅は１１μｍ程度
となる。第２磁性コア５の磁性膜１ｂと第１磁性コア２
の磁性膜１ａを対向してギャップ形成するためには、双
方の磁性膜の膜厚の差つまり３５μｍ程度までのギャッ
プデプス（Ｇ．Ｄ）方向の磁性コア間のズレが許され
る。以上のように磁性膜１を両磁性コアに成膜する磁気
ヘッドにおいても本発明が適用できる。

【００１９】次に、その他の実施例も含めギャップ近傍
の要部拡大図を図４に示す。図４ａは図１に示す磁気ヘ
ッドのギャップ近傍の拡大図である。図４ｂは図４ａと
同方法で製造し、記録媒体走行面８に磁性膜１が露出し
た瞬間に記録媒体走行面８の加工をやめて製作した実施
例であるが電磁変換特性は、図４ａとほぼ同等である。
又図４ｃ，ｄ，ｅ，ｆは、第１磁性コア２、第２磁性コ
ア５の両磁性コアに磁性膜１を形成した実施例であり、
本発明の製造方法で製作した第１磁性コア１と従来のメ
タル−イン−ギャップタイプ磁気ヘッドの製造方法で製
作した第２磁性コア５の組合わせで磁気ヘッドを製作す
ることができる。これらの磁気ヘッドの電磁変換特性は
図２に示す磁気ヘッドと同等の電磁変換特性である。

【００２０】（実施例３〜５）以下本発明の第３乃至第
５の実施例について図面を参照しながら説明する。

【００２１】図５は第３乃至第５実施例の磁気ヘッドの
要部側面図である。（ａ）は第３実施例を示し、リアギ
ャップ９に磁性膜１を残した構成からなる。（ｂ）は第
４実施例を示し、巻線溝３全体に磁性膜１を設けた構成
からなる。（ｃ）は第５実施例を示し、巻線溝３のうち
巻線溝斜面４のみに磁性膜１を形成した構成からなる。
いずれの磁気ヘッドも本発明を応用したものである。な
おこの様な実施例を図４の実施例に組合わせて使用でき
ることはいうまでもない。

【００２２】次に、本発明の磁気ヘッドについて、以下
そのギャップ近傍部における磁束の流れを説明する。

【００２３】図１２はギャップ近傍部における磁束の流
れを示す模式図である。（ａ）は本発明の磁気ヘッドの
ギャップ近傍の磁束の流れを示した模式図であり、
（ｂ）は従来の磁気ヘッドの磁束の流れを示した模式図
である。（ｂ）に示す従来の磁気ヘッドでは記録時にフ
ロントギャップ近傍の第１磁性コア２が飽和し飽和磁束
密度の高い磁性膜１に磁束が多く流れる。磁性膜１を流
れる磁束はフロントギャップ１６を通過するときほとん
どが第２磁性コア５へ流れるため記録媒体２０を記録す
るための磁界へは貢献しない。これに対し（ａ）に示す
本発明の磁気ヘッドは、第１磁性コア２の断面積が小さ
くなるに従って飽和磁束密度の高い磁性膜１の比率が高
くなるため磁気ヘッドの飽和は発生しないし、ギャップ
デプス（Ｇ．Ｄ）方向のどの部分も磁束量は一定となる
ため、記録媒体２０を記録する記録磁界は大きくなる。
又磁束が第１磁性コア２から徐々に磁性膜１に移るため
第１磁性コア２と磁性膜１との境界での漏れ磁束が従来
構造に比べて著しく小さく境界での疑似出力の発生が問
題にならない等の特徴がある。

【００２４】

【発明の効果】以上のように本発明の磁気ヘッドは、巻
線溝斜面上の磁性膜が記録媒体走行面に一部露出してい
るので、高密度記録、オーバーライト特性が向上し更
に、高周波数域においても高い再生能力を有する優れた
磁気ヘッドを実現できるものであり、更に、本発明の磁
気ヘッドの製造方法は、巻線溝斜面上に磁性膜を成膜
し、記録媒体走行面に磁性膜の一端部を露出させる簡単
な工程で、高品質、高信頼性の磁気ヘッドを高い歩留り
で量産性よく製造できる優れたものであり、また、ギャ
ップデプス（Ｇ．Ｄ）寸法の変化と共に磁性膜の記録媒
体走行面に露出する幅を自由に変えることができるため
ギャップデプス寸法のコントロールモニタとなりギャッ
プデプス寸法精度の高い磁気ヘッドを提供できる優れた
磁気ヘッドの製造方法を実現できるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例の磁気ヘッドの要部側面図

【図２】本発明の第２実施例の磁気ヘッドの要部側面図

【図３】（ａ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造
工程図 （ｂ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｃ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｄ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｅ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｆ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図

【図４】（ａ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドのギャ
ップ部の要部拡大図 （ｂ）（ａ）の応用例を示すギャップ部の要部拡大図 （ｃ）本発明の第２実施例のギャップ部の要部拡大図 （ｄ）（ｃ）の応用例を示すギャップ部の要部拡大図 （ｅ）本発明の第２実施例の他の応用例のギャップ部の
要部拡大図 （ｆ）（ｅ）の応用例を示すギャッブ部の要部拡大図

【図５】（ａ）本発明の第３実施例の磁気ヘッドの要部
側面図 （ｂ）本発明の第４実施例の磁気ヘッドの要部側面図 （ｃ）本発明の第５実施例の磁気ヘッドの要部側面図

【図６】従来の磁気ヘッドの要部側面図

【図７】従来の磁気ヘッドの要部側面図

【図８】従来の磁気ヘッドの要部側面図

【図９】（ａ）図６に示す従来の磁気ヘッドのギャップ
部の要部拡大図 （ｂ）図６に示す従来の磁気ヘッドの応用例のギャップ
部の要部拡大図

【図１０】（ａ）図７に示す従来の磁気ヘッドのギャッ
プ部の要部拡大図 （ｂ）図７に示す従来の磁気ヘッドの応用例のギャップ
部の要部拡大図

【図１１】（ａ）図８に示す従来の磁気ヘッドのギャッ
プ部の要部拡大図 （ｂ）図８に示す従来の磁気ヘッドの応用例のギャップ
部の要部拡大図

【図１２】（ａ）本発明の磁気ヘッドのギャップ近傍の
磁束の流れを示す模式図 （ｂ）従来例のギャップ近傍の磁束の流れを示す模式図

【符号の説明】

１，１５ 磁性膜 ２，１１ 第１磁性コア ３，１２ 巻線溝 ４，１３ 巻線溝斜面 ５，１４ 第２磁性コア ６，ギャップ材 ７，１７ ガラス材 ８，記録媒体走行面 １６ フロントギャップ ９，１８ リアギャップ ２０ 記録媒体

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成４年１０月１５日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例の磁気ヘッドの要部側面図

【図２】本発明の第２実施例の磁気ヘッドの要部側面図

【図３】（ａ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造
工程図 （ｂ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｃ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｄ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｅ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｆ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｇ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図 （ｈ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドの製造工程図

【図４】（ａ）本発明の第１実施例の磁気ヘッドのギャ
ップ部の要部拡大図 （ｂ）（ａ）の応用例を示すギャップ部の要部拡大図 （ｃ）本発明の第２実施例のギャップ部の要部拡大図 （ｄ）（ｃ）の応用例を示すギャップ部の要部拡大図 （ｅ）本発明の第２実施例の他の応用例のギャップ部の
要部拡大図 （ｆ）（ｅ）の応用例を示すギャップ部の要部拡大図

【図５】（ａ）本発明の第３実施例の磁気ヘッドの要部
側面図 （ｂ）本発明の第４実施例の磁気ヘッドの要部側面図 （ｃ）本発明の第５実施例の磁気ヘッドの要部側面図

【図６】従来の磁気ヘッドの要部側面図

【図７】従来の磁気ヘッドの要部側面図

【図８】従来の磁気ヘッドの要部側面図

【図９】（ａ）図６に示す従来の磁気ヘッドのギャップ
部の要部拡大図 （ｂ）図６に示す従来の磁気ヘッドの応用例のギャップ
部の要部拡大図

【図１０】（ａ）図７に示す従来の磁気ヘッドのギャッ
プ部の要部拡大図 （ｂ）図７に示す従来の磁気ヘッドの応用例のギャップ
部の要部拡大図

【図１１】（ａ）図８に示す従来の磁気ヘッドのギャッ
プ部の要部拡大図 （ｂ）図８に示す従来の磁気ヘッドの応用例のギャップ
部の要部拡大図

【図１２】（ａ）本発明の磁気ヘッドのギャップ近傍の
磁束の流れを示す模式図 （ｂ）従来例のギャップ近傍の磁束の流れを示す模式図

【符号の説明】 １，１５ 磁性膜 ２，１１ 第１磁性コア ３，１２ 巻線溝 ４，１３ 巻線溝斜面 ５，１４ 第２磁性コア ６ ギャップ材 ７，１７ ガラス材 ８ 記録媒体走行面 １６ フロントギャップ ９，１８ リアギャップ ２０ 記録媒体

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】第１磁性コアと、第２磁性コアと、前記第
   １磁性コアと前記第２磁性コアの対向面に形成された巻
   線溝及びギャップ部とを有する磁気ヘッドであって、少
   なくともいずれかの巻線溝斜面に形成された磁性膜が、
   記録媒体走行面に露出して形成されていることを特徴と
   する磁気ヘッド。
2. 【請求項２】磁性膜がバックコア側のギャップ突合わせ
   面に形成されていないことを特徴とする請求項１記載の
   磁気ヘッド。
3. 【請求項３】少なくともいずれか一方の磁性コアにフロ
   ントギャップ近傍で傾斜面を有する巻線溝を形成する工
   程と、少なくとも前記巻線溝の傾斜面に磁性膜を形成す
   る工程と、前記磁性コアのギャップ対向面を鏡面加工す
   る工程と、少なくとも１対の磁性コアの一方に前記磁性
   膜が形成された前記磁性コアを用いてギャップ対向面を
   突合わせ接合一体化する工程と、ギャップ部の記録媒体
   対向面を前記磁性膜が露出するまで研磨加工する工程
   と、を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。