JPH0574875A - Tabインナーリードの接合方法 - Google Patents
Tabインナーリードの接合方法Info
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- JPH0574875A JPH0574875A JP23284791A JP23284791A JPH0574875A JP H0574875 A JPH0574875 A JP H0574875A JP 23284791 A JP23284791 A JP 23284791A JP 23284791 A JP23284791 A JP 23284791A JP H0574875 A JPH0574875 A JP H0574875A
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- inner leads
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
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- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体素子の電極とTABテープのインナー
リードの安定した接合が可能で、狭ピッチ化が可能なT
ABインナーリードの接合方法を提供する。 【構成】 第1の発明は、ダイレクトシングルボンディ
ング方式により、接合部温度の高いボンディング初期に
ボンディングツールに印加する超音波振動の方向と直交
する向きに配置された第2辺,第4辺のインナーリード
を最初に接合し、次いで超音波振動の方向とインナーリ
ードの長手方向が一致する第1辺,第3辺を接合する。
第2の発明は、ダイレクトシングルボンディング方式に
より、TABテープの各辺中央に位置するインナーリー
ドを最初に接合した後に、第2辺,第4辺,第1辺,第
3辺の順に全てのインナーリードと半導体素子の電極を
接合する。
リードの安定した接合が可能で、狭ピッチ化が可能なT
ABインナーリードの接合方法を提供する。 【構成】 第1の発明は、ダイレクトシングルボンディ
ング方式により、接合部温度の高いボンディング初期に
ボンディングツールに印加する超音波振動の方向と直交
する向きに配置された第2辺,第4辺のインナーリード
を最初に接合し、次いで超音波振動の方向とインナーリ
ードの長手方向が一致する第1辺,第3辺を接合する。
第2の発明は、ダイレクトシングルボンディング方式に
より、TABテープの各辺中央に位置するインナーリー
ドを最初に接合した後に、第2辺,第4辺,第1辺,第
3辺の順に全てのインナーリードと半導体素子の電極を
接合する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の実装に用
いられるTAB(Tape Automated Bo
nding:テープ オートメーテッド ボンディン
グ)用テープキャリアのインナーリードと半導体素子の
電極とを接合する方法に関する。
いられるTAB(Tape Automated Bo
nding:テープ オートメーテッド ボンディン
グ)用テープキャリアのインナーリードと半導体素子の
電極とを接合する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、TABテープのインナーリードと
半導体素子の電極を逐次方式で接合するシングルボンデ
ィング方式では、図3に示すように半導体素子1のAl
電極部2またはTABのインナーリード5の先端部のい
ずれか一方にバンプ10となる突起を形成した後、バン
プ10を介してボンディングツール11によって超音波
と熱を併用した方法で接合を行っていた。一般にバンプ
を形成するためにはリソグラフィ等の複雑な工程が必要
であり、しかも高価な設備が必要とされる。このため、
バンプ形成工程を必要とするTABインナーリードの接
合方法では、実装コストが高くなる課題があった。
半導体素子の電極を逐次方式で接合するシングルボンデ
ィング方式では、図3に示すように半導体素子1のAl
電極部2またはTABのインナーリード5の先端部のい
ずれか一方にバンプ10となる突起を形成した後、バン
プ10を介してボンディングツール11によって超音波
と熱を併用した方法で接合を行っていた。一般にバンプ
を形成するためにはリソグラフィ等の複雑な工程が必要
であり、しかも高価な設備が必要とされる。このため、
バンプ形成工程を必要とするTABインナーリードの接
合方法では、実装コストが高くなる課題があった。
【0003】そこで、バンプが不要で半導体素子のAl
電極とTABインナーリードを直接接合可能なダイレク
トシングルボンディング方式が提案されている(特開平
3−85895号公報)。ダイレクトシングルボンディ
ングは、まず図2に示すように、インナーリード5と半
導体素子1のAl電極2との目合わせを行った後、ボン
ディングツール7をインナーリード5に押し込み、イン
ナーリード5にボンディングツール7の先端形状が転写
された窪み9を形成し、ボンディングツール7の先端と
インナーリード5を密着させ、同時にインナーリード5
をAl電極2に加圧接触させる。次に、このような接触
状態を保ったまま、ボンディングツール7に超音波振動
8を印加してインナーリード5とAl電極2とを接合す
る。この時、半導体素子は加熱ステージにより、250
℃程度に加熱されている。
電極とTABインナーリードを直接接合可能なダイレク
トシングルボンディング方式が提案されている(特開平
3−85895号公報)。ダイレクトシングルボンディ
ングは、まず図2に示すように、インナーリード5と半
導体素子1のAl電極2との目合わせを行った後、ボン
ディングツール7をインナーリード5に押し込み、イン
ナーリード5にボンディングツール7の先端形状が転写
された窪み9を形成し、ボンディングツール7の先端と
インナーリード5を密着させ、同時にインナーリード5
をAl電極2に加圧接触させる。次に、このような接触
状態を保ったまま、ボンディングツール7に超音波振動
8を印加してインナーリード5とAl電極2とを接合す
る。この時、半導体素子は加熱ステージにより、250
℃程度に加熱されている。
【0004】ここで一般に、ボンディングの順序は、接
合時間を極力短縮するための隣接するインナーリードを
順次接合していた。例えば図1において、TABテープ
の第1辺の端から第2辺,第3辺,第4辺と順次ボンデ
ィングを行っていた。
合時間を極力短縮するための隣接するインナーリードを
順次接合していた。例えば図1において、TABテープ
の第1辺の端から第2辺,第3辺,第4辺と順次ボンデ
ィングを行っていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】超音波併用熱圧着によ
るダイレクトシングルボンディング方法で安定した接合
強度を得るには、超音波振動によりAl電極表面に存在
するAlの自然酸化膜を十分に破壊し、加熱ステージに
よる熱エネルギによりインナーリード表面のAuとAl
電極表面のAlとの合金層を形成することが条件とな
る。ここで、図1に矢印8で示すように超音波の振動方
向は、第1辺,第3辺に対してはインナーリードの長手
方向に対して平行で、第2辺,第4辺に対してはインナ
ーリードの長手方向に直交する方向である。
るダイレクトシングルボンディング方法で安定した接合
強度を得るには、超音波振動によりAl電極表面に存在
するAlの自然酸化膜を十分に破壊し、加熱ステージに
よる熱エネルギによりインナーリード表面のAuとAl
電極表面のAlとの合金層を形成することが条件とな
る。ここで、図1に矢印8で示すように超音波の振動方
向は、第1辺,第3辺に対してはインナーリードの長手
方向に対して平行で、第2辺,第4辺に対してはインナ
ーリードの長手方向に直交する方向である。
【0006】第2辺,第4辺のように超音波振動がイン
ナーリードの長手方向に対して直交する方向に印加され
た場合には、超音波振動を接合界面に十分に伝達するこ
とができず、Al酸化膜を十分に破壊することができな
かった。このため、第2辺および第4辺の接合強度は第
1辺,第3辺に比べ低下する課題があった。さらに、第
1辺から順次接合を行った場合、接合されたインナーリ
ードを通じ熱伝導により半導体素子から熱が放熱するた
め、最終接合辺である第4辺では接合面の温度が低下
し、接合強度が不足する課題があった。
ナーリードの長手方向に対して直交する方向に印加され
た場合には、超音波振動を接合界面に十分に伝達するこ
とができず、Al酸化膜を十分に破壊することができな
かった。このため、第2辺および第4辺の接合強度は第
1辺,第3辺に比べ低下する課題があった。さらに、第
1辺から順次接合を行った場合、接合されたインナーリ
ードを通じ熱伝導により半導体素子から熱が放熱するた
め、最終接合辺である第4辺では接合面の温度が低下
し、接合強度が不足する課題があった。
【0007】また一般に、シングルボンディング方式で
は、上述したような超音波併用の熱圧着で接合が行われ
るため、超音波振動の機械的作用により、インナーリー
ドと半導体素子の電極との間に相対的な位置ズレが生じ
る。さらに、TABテープのサポートリングであるポリ
イミドテープは、半導体素子からインナーリードを通じ
て流出する熱により変形を生じるため、熱的作用により
インナーリードと半導体素子との間に相対的な位置ズレ
が生じる課題もあった。このような、機械的および熱的
作用により生じるインナーリードと半導体素子の電極と
の間の相対的な位置ズレのため、狭ピッチ化TAB実装
が困難であるという解決すべき課題があった。
は、上述したような超音波併用の熱圧着で接合が行われ
るため、超音波振動の機械的作用により、インナーリー
ドと半導体素子の電極との間に相対的な位置ズレが生じ
る。さらに、TABテープのサポートリングであるポリ
イミドテープは、半導体素子からインナーリードを通じ
て流出する熱により変形を生じるため、熱的作用により
インナーリードと半導体素子との間に相対的な位置ズレ
が生じる課題もあった。このような、機械的および熱的
作用により生じるインナーリードと半導体素子の電極と
の間の相対的な位置ズレのため、狭ピッチ化TAB実装
が困難であるという解決すべき課題があった。
【0008】本発明の目的は、このような従来の課題を
解決し、接合強度にバラツキのない安定した接合を実現
するTABインナーリードの接合方法を提供することに
ある。
解決し、接合強度にバラツキのない安定した接合を実現
するTABインナーリードの接合方法を提供することに
ある。
【0009】本発明の他の目的は、狭ピッチ化TAB実
装が可能なTABインナーリードの接合方法を提供する
ことにある。
装が可能なTABインナーリードの接合方法を提供する
ことにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、第1の発明のTABインナーリードの接合方法は、
半導体素子の電極とTABテープのインナーリードをボ
ンディングツールを用いて超音波熱圧着併用で直接接続
するダイレクトシングルボンディング方式において、前
記インナーリードの接続は、該インナーリードの長手方
向が前記ボンディングツールの振動方向に対して直交す
る前記インナーリードから接続することを特徴とする。
め、第1の発明のTABインナーリードの接合方法は、
半導体素子の電極とTABテープのインナーリードをボ
ンディングツールを用いて超音波熱圧着併用で直接接続
するダイレクトシングルボンディング方式において、前
記インナーリードの接続は、該インナーリードの長手方
向が前記ボンディングツールの振動方向に対して直交す
る前記インナーリードから接続することを特徴とする。
【0011】第2の発明は、第1の発明のTABインナ
ーリードの接合方法において、前記TABテープの各辺
中央に位置する前記インナーリードを最初に接続後、未
接続の前記インナーリードを順次接合することを特徴と
する。
ーリードの接合方法において、前記TABテープの各辺
中央に位置する前記インナーリードを最初に接続後、未
接続の前記インナーリードを順次接合することを特徴と
する。
【0012】
【作用】本発明の超音波熱圧着併用のダイレクトシング
ルボンディング方式では、接合部温度の高いボンディン
グ初期に第2辺,第4辺を最初に接合することにより、
超音波作用の不足を補い、安定した良好な接合を実現す
ることができる。また、第1辺,第3辺については、イ
ンナーリードからの放熱のため、接合部温度が低下する
が超音波振動を接合面に十分に作用させることができる
ため、安定した良好な接合を実現することが可能とな
る。
ルボンディング方式では、接合部温度の高いボンディン
グ初期に第2辺,第4辺を最初に接合することにより、
超音波作用の不足を補い、安定した良好な接合を実現す
ることができる。また、第1辺,第3辺については、イ
ンナーリードからの放熱のため、接合部温度が低下する
が超音波振動を接合面に十分に作用させることができる
ため、安定した良好な接合を実現することが可能とな
る。
【0013】超音波振動の機械的作用と放熱の熱的作用
によるインナーリードと半導体素子の電極との相対的な
ピッチズレについては、各辺の中央に位置するインナー
リードを最初に接合することにより、機械的作用による
ピッチズレを小さくし、また、最初に接合したインナー
リードを境に両側に均等に熱変形の影響が分散すること
により、熱的作用によるピッチズレの影響を従来の接合
方法に比べ半減できる。これらにより狭ピッチ化TAB
実装が可能となる。
によるインナーリードと半導体素子の電極との相対的な
ピッチズレについては、各辺の中央に位置するインナー
リードを最初に接合することにより、機械的作用による
ピッチズレを小さくし、また、最初に接合したインナー
リードを境に両側に均等に熱変形の影響が分散すること
により、熱的作用によるピッチズレの影響を従来の接合
方法に比べ半減できる。これらにより狭ピッチ化TAB
実装が可能となる。
【0014】
【実施例】以下本発明の実施例について図面を用いて詳
細に説明する。
細に説明する。
【0015】図1に本発明のインナーリードの接合方法
を示す概略図を、図2に先端に丸みを有するボンディン
グツールによる接合状態を説明する概略図を示す。図
1,2において、1は半導体素子、2はAl電極、3は
パシベーション膜、4はテープキャリア、5はインナー
リード、6はトランスデューサ、7はボンディングツー
ル、8は超音波振動の方向、9は窪みである。なお、本
発明の実施例では、インナーリード幅が60μm、イン
ナーリードピッチが100μm、インナーリード厚さが
35μmのCuリードに0.6μmのAuメッキが施さ
れたTABテープを用い、半導体素子のAl電極との接
合を行った。
を示す概略図を、図2に先端に丸みを有するボンディン
グツールによる接合状態を説明する概略図を示す。図
1,2において、1は半導体素子、2はAl電極、3は
パシベーション膜、4はテープキャリア、5はインナー
リード、6はトランスデューサ、7はボンディングツー
ル、8は超音波振動の方向、9は窪みである。なお、本
発明の実施例では、インナーリード幅が60μm、イン
ナーリードピッチが100μm、インナーリード厚さが
35μmのCuリードに0.6μmのAuメッキが施さ
れたTABテープを用い、半導体素子のAl電極との接
合を行った。
【0016】まず第1の実施例について説明する。ボン
ディングツールは、図2に示す先端部が円錐状でかつ丸
みを有するボンディングツール7を用いた。図1に示す
ように、半導体素子1のAl電極2とインナーリード5
との目合わせを行った後、トランスデューサ6の超音波
振動8の方向に対して直交する方向に位置する第4辺の
インナーリード5を最初にボンディングした。
ディングツールは、図2に示す先端部が円錐状でかつ丸
みを有するボンディングツール7を用いた。図1に示す
ように、半導体素子1のAl電極2とインナーリード5
との目合わせを行った後、トランスデューサ6の超音波
振動8の方向に対して直交する方向に位置する第4辺の
インナーリード5を最初にボンディングした。
【0017】図2に示すように、ボンディングツール7
に荷重をF=60gf印加し、ボンディングツール7を
インナーリード5に押圧した。次いで、ボンディングツ
ール7に印加する荷重をF=60gfに保持した状態
で、ボンディングツール7に超音波振動8を印加し、半
導体素子1の加熱温度280℃の下でインナーリード5
とAl電極2との接合を行った。
に荷重をF=60gf印加し、ボンディングツール7を
インナーリード5に押圧した。次いで、ボンディングツ
ール7に印加する荷重をF=60gfに保持した状態
で、ボンディングツール7に超音波振動8を印加し、半
導体素子1の加熱温度280℃の下でインナーリード5
とAl電極2との接合を行った。
【0018】以上の操作を第4辺,第2辺,第3辺,第
1辺の順に行い、全インナーリード5をAl電極2に接
合した後、接合強度の測定およびAl電極面2に発生し
たクラックの有無を観察した。その結果、プル強度は第
1辺から第4辺まで全ての辺で40gf/リード以上と
十分な強度で接合でき、しかもAl電極面2にはクラッ
クの発生がないことを確認した。
1辺の順に行い、全インナーリード5をAl電極2に接
合した後、接合強度の測定およびAl電極面2に発生し
たクラックの有無を観察した。その結果、プル強度は第
1辺から第4辺まで全ての辺で40gf/リード以上と
十分な強度で接合でき、しかもAl電極面2にはクラッ
クの発生がないことを確認した。
【0019】第2の実施例では、図1に示すように最初
に第4辺の、第2辺の、第3辺の、第1辺のの
インナーリード5を順次ボンディングし、Al電極2と
インナーリード5を固定した。次に、第1の実施例と同
様に第4辺,第2辺,第3辺,第1辺の順に全てのイン
ナーリード5とAl電極2との接合を行い、接合強度の
測定およびインナーリード5とAl電極の位置ズレ量を
観察した。その結果、プル強度は平均40gf/リード
と第1の実施例と同様に十分な強度が得られ、インナー
リード5とAl電極の位置ズレ量は10μmと第1の実
施例に比べ約半分に減少することができた。
に第4辺の、第2辺の、第3辺の、第1辺のの
インナーリード5を順次ボンディングし、Al電極2と
インナーリード5を固定した。次に、第1の実施例と同
様に第4辺,第2辺,第3辺,第1辺の順に全てのイン
ナーリード5とAl電極2との接合を行い、接合強度の
測定およびインナーリード5とAl電極の位置ズレ量を
観察した。その結果、プル強度は平均40gf/リード
と第1の実施例と同様に十分な強度が得られ、インナー
リード5とAl電極の位置ズレ量は10μmと第1の実
施例に比べ約半分に減少することができた。
【0020】なお本発明は、図3に示すような従来のバ
ンプを用いたシングルボンディング方法にも同様の効果
があることを確認した。
ンプを用いたシングルボンディング方法にも同様の効果
があることを確認した。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のTABイ
ンナーリードの接合方法によれば、接合強度のバラツキ
が小さい安定した接合を実現することができ、さらに、
インナーリードと半導体素子の電極との相対的な位置ズ
レを最小限に押さえることが可能であり、狭ピッチTA
B実装を実現できる効果がある。
ンナーリードの接合方法によれば、接合強度のバラツキ
が小さい安定した接合を実現することができ、さらに、
インナーリードと半導体素子の電極との相対的な位置ズ
レを最小限に押さえることが可能であり、狭ピッチTA
B実装を実現できる効果がある。
【図1】本発明のインナーリードの接合方法を示す概略
図である。
図である。
【図2】先端に丸みを有するボンディングツールによる
接合状態を説明する概略図である。
接合状態を説明する概略図である。
【図3】従来のTABインナーリードの接合方法を示す
概略図である。
概略図である。
1 半導体素子 2 Al電極 3 パシベーション膜 4 テープキャリア 5 インナーリード 6 トランスデューサ 7 ボンディングツール 8 超音波振動 9 窪み 10 バンプ 11 従来のボンディングツール
Claims (2)
- 【請求項1】半導体素子の電極とTABテープのインナ
ーリードをボンディングツールを用いて超音波熱圧着併
用で直接接続するダイレクトシングルボンディング方式
において、前記インナーリードの接続は、接続インナー
リードの長手方向が前記ボンディングツールの振幅方向
に対して直交する前記インナーリードから接続すること
を特徴とするTABインナーリードの接合方法。 - 【請求項2】前記TABテープの各辺中央に位置する前
記インナーリードを最初に接続後、未接続の前記インナ
ーリードを順次接合することを特徴とする請求項1記載
のTABインナーリードの接合方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23284791A JPH0574875A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | Tabインナーリードの接合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23284791A JPH0574875A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | Tabインナーリードの接合方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0574875A true JPH0574875A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=16945741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23284791A Pending JPH0574875A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | Tabインナーリードの接合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0574875A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0675533A1 (en) * | 1994-03-30 | 1995-10-04 | Nec Corporation | Single point bonding method |
| KR20020069884A (ko) * | 2001-02-28 | 2002-09-05 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지의 와이어 본딩 방법 |
-
1991
- 1991-09-12 JP JP23284791A patent/JPH0574875A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0675533A1 (en) * | 1994-03-30 | 1995-10-04 | Nec Corporation | Single point bonding method |
| US5662263A (en) * | 1994-03-30 | 1997-09-02 | Nec Corporation | Single point bonding method |
| KR20020069884A (ko) * | 2001-02-28 | 2002-09-05 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지의 와이어 본딩 방법 |
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