JPH0576796B2 - - Google Patents

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JPH0576796B2
JPH0576796B2 JP59155699A JP15569984A JPH0576796B2 JP H0576796 B2 JPH0576796 B2 JP H0576796B2 JP 59155699 A JP59155699 A JP 59155699A JP 15569984 A JP15569984 A JP 15569984A JP H0576796 B2 JPH0576796 B2 JP H0576796B2
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pattern
resin
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JP59155699A
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Aasaa Chandorosu Edoin
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AT&T Corp
Original Assignee
American Telephone and Telegraph Co Inc
AT&T Corp
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Publication date
Application filed by American Telephone and Telegraph Co Inc, AT&T Corp filed Critical American Telephone and Telegraph Co Inc
Publication of JPS6068688A publication Critical patent/JPS6068688A/ja
Publication of JPH0576796B2 publication Critical patent/JPH0576796B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent materials, e.g. electroluminescent or chemiluminescent
    • C09K11/06Luminescent materials, e.g. electroluminescent or chemiluminescent containing organic luminescent materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0266Marks, test patterns or identification means
    • H05K1/0269Marks, test patterns or identification means for visual or optical inspection
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/16Inspection; Monitoring; Aligning
    • H05K2203/161Using chemical substances, e.g. colored or fluorescent, for facilitating optical or visual inspection

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は電子機器に関し、特にプリント配線板
に関する。 プリント配線板は、電子機器に広く使用されて
いる。そのような板では一般に金属製、例えば銅
パターンがポリマー基板上に作られている。基板
は代表的には、必要なレジン、例えばエポキシレ
ジンを含むラツカーをフアイバーガラス網のよう
な補強格子上にスプレーすることにより形成され
る。銅パターンを作る種々の方法が用いられる。
これらの方法の代表には、リトグラフ法、および
ウエツトエツチング法が含まれる。ウエツトエツ
チング法は、かなり信用出来るが、しばしば所望
のパターンに異常を生ずることがある。例えば、
金属パターンラインの不連続、または巾が狭くな
つたり拡がつたりすることが起る。そのような異
常は、しばしば部品性能の劣化、最終的には器機
の欠陥となる。 その後の処理が行われる前に異常を見つけるこ
とは望ましいことである。金属パターンが作られ
た後、電子部品がパターンにハンダ付けのような
種々の手段によつて取付けられる。当然の事なが
ら、部品が取付けられた後に、もしパターンに欠
陥が生じると板を交換するかあるいは、かわりに
欠陥を発見し、それの修理に膨大な費用がかか
る。これに比し、もし異常が部品の取付け前に発
見されれば、比較的高価でない板は廃棄される
か、あるいは応急的に修理される。 配線部品の組立て前にパターンのきずの存在を
決定するため種々の方法がこれまで調査されてい
る。例えば、米国特許第4152723号に記載されて
いるように、パターンのきずは、発光技術を用い
て発見可能である。特に、レーザーのような光源
はポリマー基板の発光に使用される。金属パター
ンで被覆されていない基板の部分だけが発光し、
且つ蛍光である。金属パターンの区域は、パター
ン付けされた表面を横断して光線を一掃して光増
強装置(photomuliplier)のような通常の装置で
一掃の間蛍光強さの変動をモニターすることによ
り発見される範囲までである。しかし、この技術
は、パターンのきずの信頼出来る観測にならな
い。 プリント配線板上のパターンのきずの、信頼で
きる迅速な検出は、レジンと染料の組合せを注意
して選択し、特定の方法と連けいすることにより
達成される。特に、プリント配線板の基板は、下
記式で示される環状系を有する蛍光材料の空間的
に均一な分布で作られる。
【化】
【化】 これらのレジン組成物は、He−Cdレザー操作
を用いて、例えば442nmで容易に励起され、蛍
光は通常の検出範囲即ち460乃至550nmで励起さ
れる。発光の励起および便宜上の手段を利用した
その後のモニタリングは50μm程度の小さいパタ
ーンの傷まで検出される。 特定の基板組成の使用により、プリント配線板
パターン中のきずの有効且つ迅速な決定が可能で
ある。基板組成物中に使用されている染料は、或
る標準を満足すべきである。染料は基板の所望の
物理的または電気的性質を変えるべきでない。例
えば、高イオン性染料の使用は、基板の電導性を
向上し、それにより金属パターンの接続していな
い部分の間の導電性を妨げるための絶縁抵抗を、
実質的に劣化させ得る。同様に、基板の物理的無
きずを劣化する染料、例えば反応によつて基板レ
ジンの分解、またはキユアリングまたは早期熟成
を起す染料は、同様に望ましくなく、除外される
べきである。 染料は、基板内に実質的に均質に分散されるべ
きである。即ち104(μm)2の面積域の平均蛍光強
度は、配線板の全パターン域中で平均10パーセン
トより小さい価で変化すべきである。一般に、こ
の標準を満足するために、直接レジン中に容易に
分散する染料を発見するか、あるいは、例えばラ
ツカーのような、配線板基板を作るための媒質中
に共融する染料を発見することが必要である。 染料はまた、ある光学的標準を満足すべきであ
る。発光される蛍光は、520nmの波長より低い
その強度の実質的部分をむしろ持つべきである。
代表的には、もし蛍光がより高い波長で生ずる
と、通常の手法を用いることによる蛍光の検出
が、極端に更に困難である。460nmより低い実
質的な蛍光は受入れ可能であるが、一般に生成さ
れない。単一光子方法では、発光される蛍光は、
励起される光の波長より長い波長で起る。He−
Cdレザーのような便宜上の光源は、代表的に
420nmより高い波長で発光する。レザーを使用
することは、強度を保持したまま最も小さい金属
パターン寸法より小さい一点に容易に光源を集中
出来るので好ましい。このように通常の光源に対
する420nmより低い蛍光は一般に、現在では使
用されていない。 染料によつて生ずる観察できる蛍光強さは、染
料が存在しない基板中で生ずる蛍光レベルより少
くとも10倍大きくあるべきである。照射された表
面から1mmより離れて吸収される光は、実質的に
基板内に分散し、且つ、そのように直ちに検出さ
れない蛍光を生ずる。基板表面の1mm以内の0.5
乃至0.005重量パーセントの染料濃度は所望の吸
収を生じ、He−Cdレザーのような代表的光源に
対しては、適当な蛍光を生ずる。対照サンプル
は、所望の吸収レベルに対する正確な染料濃度を
決定するために使用される。しかし、1パーセン
トより大きい染料濃度は、典型的に濃い色の基板
を作り、さけるべきである。 染料はまた、基板内に移行すべきでない。この
ような移行は、不均質および前述の、目的に反す
る結果をもたらす。 本発明に含まれる全てのこれまでの標準は下記
の構造をベースとする構造をもつ染料を使用する
ことにより得られる。
【化】 または
【化】 ここでYはSO3G(Gはアルカリ金属カチオン
である)、また水素;R1およびR2は夫々水素、メ
チルまたはエチル;R3は水素、低級アルキル
(望ましくは5より小さい炭素原子)、p−トルイ
ルまたはキシリルのようなグループであり、Zは
Cl-、Br-、I-、NO3 -またはp−トルエンスルフ
オネートである。化合物(2)は、エポキシレジン、
例えばビスフエノールAジグリシジルエーテルレ
ジン類のようなレジンに、レジンラツカーに染料
を溶解および/または分散する簡単な手段により
均質に分散可能である、 組成(1)の染料は、同様に組成(2)の染料で議論し
たように溶解および/または分散可能である。別
に、組成(1)の染料は、N,N−ジメチルフオルム
アミドまたはN−メチルピロリドンのような代表
的ラツカー媒体に十分可溶である。そのため、レ
ジンと染料の両者を含む溶液をラツカーとして作
ることが出来る。同様に、組成(1)の染料には、母
発色団(Y、R1、R2、およびR3の全てはHであ
る)を最初に過剰のビスフエノールAジグリシジ
ルエーテルと反応させることにより変性して溶解
性を改良するのが好ましい。(例えば、少くとも
2モルのビスフエノールAジグリシジルエーテル
が染料組成物の1モル当り使用される)。この反
応が、反応性エポキシ基を有する更に溶解性の染
料組成物を作る。染料溶液は、それからラツカー
状のレジンと結合する。ラツカーを通常の技術に
よつてガラスの網にほどこしてガラスフアイバで
補強されたポリマー基板を作る。染料が変性され
エポキシ基が含まれるので、レジン硬化として反
応し、レジンの実質的な機械的または電気的性質
の変化なしに、また染料の蛍光性質を変えること
なくレジン内に化学的に結合される。このように
して、長期間の安定性を有する均質分散が効果的
に作られる。この反応方法はエポキシレジンにつ
いて書かれているが、その他の基板レジンの使用
にかなう反応性基を有するため染料を変性するこ
とも同様に可能である。 しばしば、硬化剤がレジンの硬化に使用され
る。例えばエポキシレジンの場合には、ジシアン
ジアミドのような硬化剤が使用される。硬化が始
まる前のこの硬化剤の実質的崩壊は不都合であ
る。組成物(1)および(2)の組成物は、代表的硬化剤
とはわずかな温度では実質的には反応せず、その
効果を顕著には劣化しない。更に、これらの染料
はレジンの早期硬化を起さない。 実施例 1 ナシヨナルエレクトリカルマニユフアクチヤー
ズ アソシエーシヨンのFR−4規格を満足する
プリント配線板を、A.N.シアンシアルロ
(Cianciarulo)およびR.L.ウエツブ(Webb)が
第23回年次技術会議、補強プラスチツク/コンポ
ジツト部、ザ ソサエテイー オブ ザ プラス
チツク インダストリー、インコーポレーテツ
ド、1968、セクシヨン5B、1−6頁に記載した
ように作つた。しかしこの方法は、レジン中また
はレジン溶媒中に染料を導入することにより変更
した。三種の染料を夫々配線板の製造に使用し
た。第1と第2の染料、即ちアクリジンイエロー
G(前にZ=Clの(2)と呼ばれる化合物)とブリリ
アントサルフアフラビン(前にR1=R2=H、R3
=p−トルイル、Y=SO3Naの(1)と呼ばれる化
合物)を、夫々溶媒に直接分散し、製造に使用し
た。 第3の染料をそのレジンに加えた。染料を、4
−アミノ1,8−ナフタルイミド(0.24モル、
50.4g)とビスフエノールAジグリシジルエーテ
ル(0.48モル、163.2g)を1−メチル−2−ピ
ロリジノン(287g)に加えることにより作つた。
混合物を機械的撹拌機を用いて撹拌しながら窒素
下で155℃で加熱した。この加熱と撹拌を約6時
間連続して固形物の溶解を確認し、更に2時間加
熱、撹拌した。溶液をその後冷却し、セライト
(ジヨンスマンビル社で作られ、主として細粉さ
れたSiO2であるフイルタ助剤)を通して過し、
アミノナフタルイミド発色団をベースとして10.1
重量パーセント濃度の溶液を得た。染料溶液をそ
の後ジメチルフオルムアミド中のレジン溶液に加
え、レジン中の0.01重量パーセント濃度の染料
(母発色団として明示された)を得た。 実施例 2 実施例1の配線板を20μmのスポツトの大き
さに集光した5mWのHe−Cdレザーを用いて検
査した。このレザーによつて発光した蛍光を光増
倍管を用いて検出した。光増倍管の前に置いたカ
ツト−オフフイルターを用い、レザーの優勢な波
長を取除いた。板を横切るレザーをスキヤンして
観測された蛍光を完全に形成された配線板に期待
されるパターンと比較した。50μmまでの欠陥が
発見された。 比較例 実施例1の方法に従つて、ブロム化ビスフエノ
ールAグリシジルエーテル、ジシアンジアミド、
ベンジルジメチルアミンからFR−4調合物を調
製し、下記の染料を加えてを混合し、95℃でキユ
アーし、170℃の温度での最終キユアーを1時間
行つてプリント配線板を製造した。 使用した化合物: (イ) 本発明の蛍光染料 (i) ブリリアント・サルフアフラビン (ii) アクリジン・イエローG (ロ) 比較染料 (iii) フルオレツセン・ジナトリウム塩
【化】 (iv) 9−アミノアクリジン塩酸塩
【化】 (v) サリチルアルデヒド・アジン
【化】 (vi) フロンブリリアント・フラビンS−8GF
(サンド社製) 結 果 ブリリアント・スルフアフラビンおよびアクリ
ジン・イエローGは測定できる蛍光を示したが、
(iii)乃至(vi)の染料は実施例2の光源で検出できる蛍
光を示さなかつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 重合性基板上の金属パターンを含むパターン
    づけされた基板において、電磁放射線で基板を照
    らし基板から生じた蛍光を検出する手段による金
    属パターン中のきずの検出を可能にするために、
    該基板が蛍光発光可能な染料を含み、該染料が下
    記(1)および(2)式からなる群から選らばれるメンバ
    ーによつて示される化学構造を有することを特徴
    とするパターンづけされた基板。 【化】 【化】 上記式において、YはSO2G(Gはアルカリ金
    属カチオン)またはH;R1およびR2は夫々H、
    メチル、またはエチル;R3は低級アルキル、p
    −トルイル、キシリルまたはH;そしてZはCl-
    Br-、I-、NO3 -またはp−トルエンスルフオネ
    ートを示す。 2 該染料が該基板に化学的に結合していること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項のパターンづ
    けされた基板。 3 該染料が該基板内に実質上均質的に分散して
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1または
    2項のパターンづけされた基板。 4 該染料が基板に混入される前に、該基板を作
    るために使用される材料に該染料をより可溶性に
    する官能基で既に変性されていることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1、2または3項のパターン
    づけされた基板。 5 該基板が硬化したエポキシレジンと、エポキ
    シ官能基を含むため変性された下記式からなる染
    料を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1−
    4項のいづれか1項のパターンづけされた基板。 【化】 6 該基板が電子配線板であることを特徴とする
    特許請求の範囲第1−5項の何れか1項のパター
    ンづけされた基板。 7 該パターンがパターンづけされた銅層を含む
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1−6項の何
    れか1項のパターンづけされた基板。 8 該パターンがパターンづけされた銅メツキを
    含むことを特徴とする特許請求の範囲第7項のパ
    ターンづけされた基板。
JP59155699A 1983-07-29 1984-07-27 配線板品質の制御 Granted JPS6068688A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US51845583A 1983-07-29 1983-07-29
US518455 1983-07-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6068688A JPS6068688A (ja) 1985-04-19
JPH0576796B2 true JPH0576796B2 (ja) 1993-10-25

Family

ID=24064009

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59155699A Granted JPS6068688A (ja) 1983-07-29 1984-07-27 配線板品質の制御

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EP (1) EP0133351B1 (ja)
JP (1) JPS6068688A (ja)
KR (1) KR890000286B1 (ja)
CA (1) CA1215615A (ja)
DE (1) DE3471318D1 (ja)
GB (1) GB2144923B (ja)
HK (1) HK74486A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US4965208A (en) * 1983-07-29 1990-10-23 At&T Bell Laboratories Inspection of multipattern circuit boards
US4697923A (en) * 1986-03-25 1987-10-06 Ibm Corporation Method for visual inspection of multilayer printed circuit boards

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GB1142504A (en) * 1964-12-29 1969-02-12 Dainichiseika Color Chem Fluorescent and coloured polymers
DE2408012C2 (de) * 1974-02-20 1983-03-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt 4-Amino-1,8-naphthalsäureimid-3-sulfonsäuren, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Farbstoffe zum Färben von natürlichen oder synthetischen Polyamidfasern

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Publication number Publication date
EP0133351A3 (en) 1986-01-15
GB8418397D0 (en) 1984-08-22
JPS6068688A (ja) 1985-04-19
CA1215615A (en) 1986-12-23
EP0133351A2 (en) 1985-02-20
GB2144923A (en) 1985-03-13
HK74486A (en) 1986-10-10
KR850000903A (ko) 1985-03-09
DE3471318D1 (en) 1988-06-23
KR890000286B1 (ko) 1989-03-13
GB2144923B (en) 1986-01-29
EP0133351B1 (en) 1988-05-18

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