JPH057748B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ＜発明の技術分野＞ 本発明は、例えば小切手等に押された印鑑の真
偽を判別する場合において、小切手から印影を読
み取つて画像化し、印影画像から輪郭線が急峻に
変化する点（以下特異点という）を抽出して、印
影等の照合処理を実行する画像の特異点抽出方法
に関する。

＜発明の背景＞ 従来この種特異点抽出方法は、例えば印影を画
像化した後、画像全体につき印影の輪郭線をデー
タ抽出し、然る後輪郭線をデータ追跡することに
より、輪郭線が急峻に変化する部分を検出して、
これを特異点としている。これがため特異点の抽
出処理が複雑化して、処理効率が悪く、またメモ
リの大容量化を招く等の不利があつた。

そこで発明者は、画像化された図形に対し、矩
形状視野をもつマスクを設定して画面を走査する
と共に、マスクの４辺を走査して、マスクの１辺
のみまたは隣接する２辺のみと交叉する画像の部
分パターンを検出した後、マスクの視野内の部分
パターンにつき条件判定を行つて特異点の存在を
認定し、然る後、特異点の存在位置を算出する特
異点抽出方法を開発した。

この方法によれば、画像全体の輪郭線を抽出す
る必要がなく、また輪郭線上をデータ追跡してゆ
く必要もないから、特異点抽出処理が簡略化さ
れ、処理効率の向上、メモリ容量の節減を実現で
きる。ところがこの方法において、マスク内に着
目する字画部分の他に周辺の字画部分が含まれる
ことがある。かかる場合には字画部分がマスクの
多数辺と交叉することになつて、特異点の抽出が
不能となり、これがため、特異点の抽出数が少な
く、印鑑等の照合精度が低下する不利があつた。

＜発明の目的＞ 本発明は、矩形状マスクを用いた特異点の抽出
方法に更に改良を加えて、特異点の抽出数を増す
ことによつて、特異点抽出処理の効率向上並びに
メモリ容量の節減を実現すると共に、印鑑等の照
合精度を向上させた画像の特異点抽出方法を提供
することを目的とする。

＜発明の構成および効果＞ 上記目的を達成するため、本発明では、対象物
の画像を矩形状視野をもつ大マスクおよび大マス
クの視野内に含まれる矩形状視野をもつ小マスク
により走査しつつ各走査位置で大マスクおよび小
マスクの小なくとも一方の４辺を走査することに
より、いずれかマスクの１辺のみまたは隣接する
２辺のみと交叉する前記画像の部分パターンを検
出したとき、そのマスク内の部分パターンに特異
点が存在するものと推定する推定工程と、前記推
定工程で特異点の存在が推定されたとき、前記マ
スク内の部分パターンよりその部分パターンの形
状的特徴を表す所定のパラメータを計測してその
計測値から特異点の存在を認定するための条件判
定を行う条件判定工程と、前記条件判定工程で特
異点の存在が認定されたとき、特異点の位置を計
測する位置計測工程とを一連に実施して画像の特
異点を抽出するようにした。

本発明によれば、画像全体の輪郭線をデータ抽
出する旧来の方式に比較して、特異点抽出処理が
簡略化され、処理効率の向上、メモリ容量の節減
を実現し得ると共に、特異点の抽出数減少による
印鑑等の照合精度の低下を防止できる等、発明目
的を達成した優れた効果を奏する。

＜実施例の説明＞ 第１図は、小切手に押された印鑑が真正印鑑
か、偽造印鑑かを判別する装置例を示している。

図示例の装置は、ケース１０内に収容した複数
枚の小切手１を最下部より１枚づつ取り出して、
搬送ベルト１１上へ送り出す。

各小切手１は、その搬送途中において、小切手
に押された印影がチエツクされ、搬送路下流の振
分け装置２が判別結果に基づき、真正印鑑が使用
された小切手、偽造印鑑が使用された小切手およ
び、判別不能な小切手の３種に振り分け、夫々回
収ケース２１，２２，２３へ送り込む。

前記の搬送路途中には、小切手１に印字された
コード番号を光学的若しくは磁気的方法にて読み
取る読取装置５０と、小切手１に押印された印影
を画像化するカメラ装置３とが配備してあり、読
取装置５０の出力は外部メモリ５へ、またカメラ
装置３の出力は画像プロセツサ４へ、夫々データ
バス４０を介して送られる。前記外部メモリ５に
は、複数個の参照印影が格納されており、読取装
置５０で読み取られたコード番号に基づき、対応
する参照印影の画像データが取り出されて、画像
プロセツサ４へ送られる。

前記カメラ装置３は、第２図に示す如く、読取
ラインセンサ３１と二値化回路３２とを含み、読
取ラインセンサ３１は被照合印影を画像化し、こ
の印影画像を行毎に走査することにより画像構成
に応じた光信号を取り出すと共に、この光信号を
光電変換してアナログ量の画像信号i₁を出力す
る。また二値化回路３２は、画像信号を二値化
し、この二値信号i₂を列対応のビツトシリアルに
データパス４０を介して画像プロセツサ４へ送出
する。図中発振器３３は、読取ライシセンサ３１
に読出しパルスを供給すると共に、現信号のポイ
ント座標を計算するためのＸ軸座標カウンタ３４
にクロツクパルスを供給する。更にこのＸ軸座標
カウンタ３４からは桁上げ信号i₃が出力され、こ
の桁上げ信号i₃はＹ軸座標を計算するためのＹ軸
座標カウンタ３５に供給され、これらＸ軸座標カ
ウンタ３４およびＹ軸座標カウンタ３５の各出力
は、データパス４０を介して画像プロセツサ４に
入力される。

画像プロセツサ４は、第６図および第７図に示
す特異点抽出用プログラム、更には印影の照合や
真偽判別に必要な各種プログラムを格納するプロ
グラムメモリ４１と、印影画像をXY座標と対応
させて特定するためのデータをストアするエリア
Ａ（第１０図に示す）、後記するマスクのサイズや
各辺の座標に関するデータをストアするエリア
Ｂ，Ｃおよび、特異点に関するデータをストアす
るエリアＤ，Ｅを有する画像メモリ４３と、画像
メモリ４３よりデータを読み出しプログラムを解
読実行して特異点抽出更には印影照合にかかる各
種演算や一連の処理を制御する演算制御部４２
（以下単にCPUという）とから構成され、CPU４
３は更に印鑑の真偽判別結果に基づき、出力機器
２４を介して前記振分け装置２へ制御命令を下
す。

第３図は特異点抽出方法の一例を示すもので、
本考案は印影画像を含む画面６０上に縦Ａビツ
ト、横Ｂビツトの矩形状視野をもつ大マスク６Ａ
と、大マスク６Ａの視野内に含まれる縦ａビツト
（ａ＜Ａ）、横ｂビツト（ｂ＜Ｂ）の矩形状視野を
もつ小マスク６Ｂを設定し、両マスク６Ａ，６Ｂ
を一体に横方向へ走査してゆき、走査過程におい
て、第４図１，２に示す如く、いずれかマスクの
視野内に特異点を有する字画部分７が含まれたと
き、マスク内を走査して特異点の存在位置を検出
するようにしたものである。

第５図はマスク内に含まれた特異点Ｐを有する
字画部分７がパターン例を示し、第５図１〜４に
示す第１〜第４のパターンは特異点Ｐが字画部分
７の右端、下端、左端、上端に夫々存在位置し、
第５図５〜８に示す第５〜第８のパターンは字画
部分７の右下端、左下端、左上端、右上端に夫々
存在位置する。

上記の各パターンにおいて、第１〜第４のパタ
ーンは字画部分７がマスクの１辺のみと交叉し、
第５〜第８のパターンは字画部分７がマスクの隣
接する２辺のみと交叉している。

第６図および第７図は特異点抽出動作の具体例
を示す。

まず第６図のステツプ80において、前記大マス
ク６Ａおよび小マスク６Ｂの視野サイズ等、各種
初期値が画像メモリ４３のエリアＡ等に設定され
た後、ステツプ81で小マスク６Ｂを含む大マスク
６Ａ（以下単に大マスク６Ａという）が画面６０
上を１列分走査したか否かをチエツクする。図示
例の場合、CPU４２内のメモリエリア４４（第
９図に示す）に列カウンタＭを設定し、列カウン
タＭの内容が設定値ｍに達したか否かを判定する
ことにより、画面１列分の走査完了を判断してい
る。この場合、ステツプ81の判定は“NO”であ
るから、ステツプ82へ進み、つぎに横フラグF_H
がセツト済か否かをチエツクする。この横フラグ
F_Hは、マスク内に第１〜第８のいずれかパター
ンが含まれたときにセツトされるフラグであり、
この場合、ステツプ82の「F_H＝１」の判定は
“NO”となつて、ステツプ83へ進み、大マスク
６Ａが1 2マスク分（1/2Ｂビツト）横移動し、更
にステツプ84で列カウンタＭの内容が１加算され
る。

つぎのステツプ85は大マスク６Ａが画面６０上
の全行に亘る走査を完了したか否かをチエツクす
るものであり、図示例の場合、メモリエリア４４
内に設定された行カウンタＮの内容が設定値ｎに
達したか否かをもつて判断する。この場合ステツ
プ85の判定は“NO”であるから、ステツプ８６
へ進み、大マスク６Ａ内に第１〜第８のいずれか
パターンが含まれているが否かの判断処理に移
る。この処理は、まず大マスク６Ａの各辺を順次
走査し、第１１図１に示す如く、４辺の内１辺ま
たは隣接する２辺にのみ印影の構成点（以下「黒
画素」と称する）が存在する場合に、マスク６Ａ
内に特異点を有する字画部分７が含まれていると
推定する。そしてこの条件を充足するとき、ステ
ツプ876判定が“YES”となり、ステツプ90へ進
む。一方第１１図２に示す如く、大マスク６Ａ内
に着目する字画部分７の他の周辺の字画部分７
０，７１が含まれ、これがため大マスク６Ａの４
辺の内、３辺に印影の構成点が存在するような場
合には、ステツプ87の判定が“NO”となり、ス
テツプ88へ進み、つぎに小マスク６Ｂの各辺を順
次走査する。そして小マスク６Ｂの４辺の内、１
辺または隣接する２辺にのみ印影の構成点が存在
する場合には、ステツプ89の判定が“YES”と
なり、ステツプ９０へ進む。

尚ステツプ87、89の何れもが“NO”の判定の
場合、ステツプ81へ戻り、同様の操作が繰り返し
実行される。そして画面１列分の走査が完了する
と、列カウンタＭの内容が設定値ｍに達して、ス
テツプ81の判定が“YES”となり、ステツプ92
へ進み、つぎに縦フラグF_vがセツトされている
か否かをチエツクする。この縦フラグF_vは、各
行の走査において、特異点Ｐが抽出されたときに
セツトされるフラグであり、ステツプ92の「F_v
＝１」の判定が“NO”の場合、ステツプ93へ進
み、大マスク６Ａが1/2マスク分（1/2Ａビツト）
縦移動し、更にステツプ94で行カウンタＮの内容
が１加算される。

上記大マスク６Ａの走査過程において、ステツ
プ87またはステツプ89のいずれか判定が“YES”
となつて、いずれかマスク６Ａ，６Ｂ内に特異点
を有する字画部分が存在する可能性があると判断
されたとき、ステツプ90へ進み、特異点としての
条件を充足すれば、その特異点の座標データを算
出し、更につぎのステツプ91で横フラグF_Hおよ
び縦フラグF_vが夫々セツトされる。これにより
ステツプ82の「F_H＝１」の判定が“YES”とな
り、ステツプ95で横フラグF_Hがクリアされた後、
ステツプ96で大マスク６Ａは１マスク分（ｂビツ
ト）横移動し、ステツプ97で列カウンタＭの内容
が２加算される。かかるステツプ96、97の処理
は、各マスク６Ａ，６Ｂが同一の特異点を２度抽
出しないことを考慮したものである。また前記ス
テツプ91で縦フラグF_vがツトされているから、
走査がつぎの行へ進む際ステツプ92の「F_v＝１」
の判定が“YES”となり、同様の趣旨から、ス
テツプ98で縦フラグF_vをクリアした後、ステツ
プ99で大マスク６Ａを１マスク分（Ａビツト）縦
移動し、ステツプ100で列カウンタＮの内容を２
加算する。

第７図のフローチヤートは特異点抽出動作の詳
細を示す。まずステツプ１１０において、第４図
１，２に示す如く、字画部分７を含むマスク６Ａ
（６Ｂ）の１辺若しくは隣接２辺につき、両端に
位置する黒画素の点Ｑ，Ｒを検出した後、線分
QR間の長さＳを算出する。つぎのステツプ111
は長さＳと設定値T_Hとを比較するものであり、
「Ｓ×T_H」の条件を充足するとき、ステツプ111
が“YES”となつて、つぎのステツプ112へ進
み、線分QRの中心点Ｃの相対座標（x₀，y₀）を
算出する。一方ステツプ111の条件を充足しない
とき、その判定が“NO”となり、特異点存在せ
ずとして特異点抽出動作を終了する。ついでステ
ツプ113において、字画部分７の各輪郭点の相対
的座標を（xi，yi）（但しｉ＝１、２、……、ｎ）
とすると、中心点Ｃから各輪郭点までの距離diを
次式をもつて算出して、画像メモリ４３のエリア
Ｅへストアする。

つぎにステツプ114において、上記の各距離値
中、その最大値Ｔを抽出し、つぎのステツプ115
において、T/S値と設定値T_H2とを比較する。そ
してステツプ１１５の「T/S〉T_H22」の判定が
“NO”のとき、特異点存在せずとして特異点抽
出動作を完了し、一方ステツプ115の判定が
“YES”のとき、ステツプ116へ進み、最大値Ｔ
にかかる輪郭点を特異点Ｐとして、マスク６Ａ
（６Ｂ）内の相対的座標を算出する（ステツプ
116）。今特異点Ｐの相対的座標を（xi，yi）とす
ると、つぎのステツプ117ではこの相対座標を画
面６０における絶対座標（Xi，Yi）に変換する。
この絶対座標（Xi，Yi）は画面６０上における
マスク６Ａ（６Ｂ）の始端点Ｚ（第８図に示す）の
絶対座標を（ｉ，ｊ）、画面６０の原点０の絶対
座標を（１，１）とすると、次式で与えられる。

Xi＝ｉ＋xi−１ Yi＝ｊ＋ｙ−１ 上記の演算によつて、特異点Ｐの絶対座標が算
出され、かかる座標データは画像メモリ４３のエ
リアＤへストアされる。

【図面の簡単な説明】

第１図は印鑑照合装置の構成を示す説明図、第
２図はカメラ装置の回路ブロツク図、第３図およ
び第４図(1)(2)は特異点抽出方法を示す説明図、第
５図(1)〜(8)はマスク内のパターン例を示す説明
図、第６図および第７図は特異点抽出動作を示す
フローチヤート、第８図は座標変換の原理を示す
説明図、第９図および第１０図はメモリ構成を示
す説明図、第１１図１，２は本発明にかかる特異
点抽出方法を示す説明図である。 ６Ａ……大マスク、６Ｂ……小マスク、Ｐ……
特異点。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 対象物の画像から輪郭線が急峻に変化する点
   を特異点として抽出する画像の特異点抽出方法で
   あつて、 対象物の画像を矩形状視野をもつ大マスクおよ
   び大マスクの視野内に含まれる矩形状視野をもつ
   小マスクにより走査しつつ各走査位置で大マスク
   および小マスクの少なくとも一方の４辺を走査す
   ることにより、いずれかマスクの１辺のみまたは
   隣接する２辺のみと交叉する前記画像の部分パタ
   ーンを検出したとき、そのマスク内の部分パター
   ンに特異点が存在するものと推定する推定工程
   と、 前記推定工程で特異点の存在が推定されたと
   き、前記マスク内の部分パターンよりその部分パ
   ターンの形状的特徴を表す所定のパラメータを計
   測してその計測値から特異点の存在を認定するた
   めの条件判定を行う条件判定工程と、 前記条件判定工程で特異点の存在が認定された
   とき、特異点の位置を計測する位置計測工程とを
   一連に実施して画像の特異点を抽出することを特
   徴とする画像の特異点抽出方法。