JPH057866B2 - - Google Patents

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JPH057866B2
JPH057866B2 JP18377986A JP18377986A JPH057866B2 JP H057866 B2 JPH057866 B2 JP H057866B2 JP 18377986 A JP18377986 A JP 18377986A JP 18377986 A JP18377986 A JP 18377986A JP H057866 B2 JPH057866 B2 JP H057866B2
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JP
Japan
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conductive
substrate
connection
semiconductor element
electrical connection
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JP18377986A
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JPS6340331A (ja
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Masakazu Kobayashi
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Fujifilm Business Innovation Corp
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Fuji Xerox Co Ltd
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、導電パターンを有する基板と集積回
路等の半導体素子との電気的接続方法に係り、特
に基板上に一括接続を確実に行うことができるよ
うにしたものである。
〔従来の技術〕
集積回路等を導電パターンを持つ基板上に実装
する場合の電気的接続方法としては、従来から圧
着、導体ペーストもしくは導電性接着剤による接
着、ワイヤボンデイングによる接続、フイルムキ
ヤリアによる接続、フリツプチツプによる接着、
異方導電材料による接着などが行われていた。
圧着、導体ペーストもしくは導電性接着剤によ
る接着は、導電パターン上に集積回路等を載せて
加熱もしくは超音波を与えながら圧着したり、ハ
ンダ等の導電体のペーストで接続するものであ
り、ワイヤボンデイングは、導電パターンを有す
る基板上の所定の位置に配置した半導体素子の電
極と導電パターンの接続パツド間を金あるいはア
ルミニウム線からなるワイヤ等で圧着接続するも
のである。
フイルムキヤリアによる接続は、所定の間隔を
持つて形成されたバンプを有するフイルムをキヤ
リアとして基板上にバンプを転写し、該バンプを
介して半導体装置の電極とフエースダウンで電気
的接続を行うものであり(特開昭60−92648号公
報参照)、フリツプチツプによる接続はLSIチツ
プの電極パツド部にハンダボールを形成し、これ
を介して導電パターンを有する基板上の接続パツ
ド部にフエースダウンでハンダ付けする方法であ
る。これらの方法は接続パツドを半導体装置の周
辺ばかりでなく内部にも形成出来ること、接続が
機械的に強固である利点がある。
異方導電材料による接続は、樹脂等の絶縁膜中
に金属粒(例えばハンダ等)が混在された異方導
電性を有するフイルムを半導体素子と導電パター
ンを有する基板の間にはさみ両者を通電して電気
的接続を行うものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところで前記の各技術には次のような問題点が
ある。
圧着、導体ペーストもしくは導電性接着剤によ
る接着は信頼性が低いこと、導電パターンの間隔
から来る接続ピツチが約300μmが限界に近く装
置の小型化が望めないという問題点がある。
ワイヤボンデイングによる接着は各電極毎にボ
ンデイングを行うのでボンデイング箇所が多くな
るとそれに比例して作業時間がかかること、接続
ピツチが90〜100μm程度が限界となるなどの問
題点がある。
フイルムキヤリアによる接続、フリツプチツプ
による接続では電気的接続は強固であるが接続ま
での工程数が多く、半導体素子の電極をフエース
ダウン(素子表面を下側にした状態)で接続を行
うため完成品の歩留りを低下させること、装置の
価格が増大すること、さらに接続ピツチがそれぞ
れ約250μm、約100μmが限界である等の問題点
がある。
異方導電材料による接続は、異方導電性フイル
ムを集積回路に接続させることにより集積回路等
半導体素子の破壊や通電する場合の電流密度が高
くなりすぎるとそこに熱をもつので大電流に使用
することが困難である等の問題点があつた。
従つて本発明の目的は、これらの問題点を除去
するために基板の導電パターン上に正確に電気的
接続が得られてかつ製造コストを低くおさえるこ
とが出来る電気的接続方法を提供するものであ
る。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕
本発明は上面に導電パターンを有する基板の電
気的接続箇所に複数個の金属突起を形成しそれを
介して電気的接続を行うものである。
このように接続箇所に導電性突起を複数個設け
て電気的接続を行うことによつて基板と集積回路
等半導体素子の平行度に多少の不完全状態があつ
ても接続を確実に行わせることができる。
〔実施例〕
はじめに本発明の原理を第1図および第2図に
もとづき説明する。
第1図において、1は導電性パターンを持つ基
板、2は該導電パターン上の接続パツド、3は導
電性突起、4は集積回路素子のような電気的接続
を必要とする半導体素子であり、5はその電極部
分を示す。
まず、第1図a,bに示す如く、上面に導電パ
ターンを有する基板1上の接続パツド2に、例え
ば電解・無電解メツキ等の金属形成工程によつて
高さ方向に導電性突起3を複数個形成する。それ
から第1図c,dに示す如く、半導体素子4の表
面を下にして電極5と基板1上の接続パツド2と
の位置合せ後、圧着あるいは合金化により電気的
接続を行う。
また、第2図a,bに示す如く、導電性突起3
の形成後ポリマー等の樹脂膜6を突起の表面に被
覆あるいは分散させてから、同図cに示す如く、
半導体素子4と接続を行うこともできる。この場
合樹脂は接着剤として作用するとともに、電気的
接続を行つた時点で導電性突起3上の樹脂6は流
動し電気的接続のさまたげとはならない。
本発明の複数の実施例を第3図〜第8図につい
て説明する。
図中同一符号部は同一部分を表わすものとす
る。
第3図は本発明の第一実施例を示し、図におい
て左図は基板1の一部の平面図、右図はそのC−
C′断面図〔aに例示)を示し、7はフオトレジス
ト、8はフオトレジストの開口部、9は樹脂球を
示す。
(1) まず上面に導電パターを有する基板1上の接
続パツド2上の所定の位置にフオトリソグラフ
イによりフオトレジスト7に開口部8を設け
る。この場合例えば100μm角の接続パツド2
上に直径20μmの開口部を5箇所設けたものを
示している〔第3図a〕。
(2) 次に電解メツキ技術により接続パツド2の開
口部8に導電性突起3としてニツケルあるいは
金を高さ方向に約5μm成長させた〔第3図
b〕。
(3) 基板1の表面上に熱可塑性樹脂膜6として粘
度の低い樹脂をデイツプで基板上にのせ、スピ
ンによる遠心力を応用することにより塗布膜の
厚さが均一で薄くなるように塗布した〔第3図
c〕。
(4) 続いて接続パツド2上の導電性突起3間のす
きまに直径5μm程度の熱可塑性樹脂球9を配
置する。これは単にばらまいただけで圧力がか
かれば十分に横方向に移動できるし、接続パツ
ド2以外の領域に流れこんでも問題はない〔第
3図d〕。
(5) 集積回路等の半導体素子4の電極5を下にし
て基板1の接続パツド2上において接続する場
所の位置合せを行つてから熱圧着し、その後加
圧したまま冷却して接続を完成する。熱圧着し
た時点で塗布した樹脂膜6と樹脂球9が融解し
て基板1と半導体素子4間、あるいは基板1と
導電性突起3、導電性突起3と被接続部材であ
る半導体素子4との間がより一層接着性の向上
した樹脂膜9′によつて覆われる。なお9″は圧
着した時に残る気泡を示す〔第3図e〕。
この実施例では導電性突起3の形成後樹脂膜6
と樹脂球9を接続パツド2上に配置したものにつ
いて説明したが、本発明はこれに限られるもので
はなく、熱可塑性樹脂球9を配置せずに樹脂膜6
を塗布後半導体素子4と熱圧着等により接続させ
たり(第4図参照)、反対に樹脂膜6を塗布せず
に熱可塑性樹脂球9を直接配置してから(第5図
a)、半導体素子4との接続を行つても(第6図
b)同様の効果を得ることができる。
またさらに導電性突起3の形成後樹脂膜6の塗
布や熱可塑性樹脂球9の配置を行わず半導体素子
4に加圧治具を用いて常に両者間に圧力がかかる
ようにして圧着による接触接続を行うこともでき
る(第6図)。
導電性突起3の材料として先の実施例ではニツ
ケルあるいは金を用いた例について説明したが、
この導電性突起3を形成後その表面に半導体素子
4の電極5と合金化し易い材料例えばアルミニウ
ムから成る被膜を形成し、両者の電気的接続が形
成されると導電性突起3の表面に半導体素子4例
えば集積回路のアルミニウム電極と合金化した部
分3′が形成されるものや〔第7図a〕、あるいは
導電性突起3自体を合金形成可能な材料で形成し
てもよい〔第7図b〕。
導電性突起の形状も前記実施例では円柱形のも
ので説明したが本発明はこれに限られるものでは
なく、第8図a−1,〜a−3あるいはb−1〜
b−3にそれぞれ示すように、環礁状に形成しそ
の中央部に熱可塑性樹脂球9を介在させて基板1
と被接続部材4との接着性の向上をはかることも
できる。
〔発明の効果〕
本発明により基板の導電パターン上に複数個設
けた導電性突起を介して被接続部材である半導体
素子と接続するため、必ずしも表面の平行度が保
たれていない基板上に被接続部材を接続させる場
合にも突起のどれかによつて確実に接続が遂行さ
れる効果があり、機械的強度とともに信頼性が増
大する。
また基板と半導体素子が接触して半導体素子が
破壊したりすることもなく、フイルムキヤリア方
式のように接続バンプを転写する等の複雑な工程
を用いず従来からある技術を利用した比較的短い
プロセスで接続が遂行するので、作業時間を短縮
することが出来るとともに装置全体のコストを低
く押さえることができる。
また接続ピツチが例えば約100μm程度と短か
くすることができ、装置の小型化がすすめられ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の原理説明図、第3
図は本発明の第一実施例の工程説明図、第4図〜
第8図は本発明の他の実施例をそれぞれ示す。 1……基板、2……接続パツド、3……導電性
突起、4……半導体素子、5……電極、6……樹
脂膜、9……樹脂球。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 導電パターンを有する基板と半導体素子との
    電極部分とを電気的に接続させる方法において、
    基板上の電気的接続領域にその領域面積より小さ
    い導電性突起を複数個形成し、それらの突起を介
    して被接続部材の電極部分を重ね合せて電気的接
    続を行うことを特徴とする基板と半導体素子との
    電気的接続方法。
JP18377986A 1986-08-05 1986-08-05 基板と半導体素子との電気的接続方法 Granted JPS6340331A (ja)

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JP18377986A JPS6340331A (ja) 1986-08-05 1986-08-05 基板と半導体素子との電気的接続方法

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JP18377986A JPS6340331A (ja) 1986-08-05 1986-08-05 基板と半導体素子との電気的接続方法

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JPS6340331A JPS6340331A (ja) 1988-02-20
JPH057866B2 true JPH057866B2 (ja) 1993-01-29

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JP (1) JPS6340331A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0617557A (ja) * 1992-07-01 1994-01-25 Nippon Steel Corp 降伏点の異なる鋼材を組合せた構造物用耐震壁
US10115691B2 (en) 2016-05-13 2018-10-30 Canon Kabushiki Kaisha Module, method for manufacturing the same, and electronic device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0617557A (ja) * 1992-07-01 1994-01-25 Nippon Steel Corp 降伏点の異なる鋼材を組合せた構造物用耐震壁
US10115691B2 (en) 2016-05-13 2018-10-30 Canon Kabushiki Kaisha Module, method for manufacturing the same, and electronic device

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JPS6340331A (ja) 1988-02-20

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