JPH0579449B2 - - Google Patents

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JPH0579449B2
JPH0579449B2 JP3307214A JP30721491A JPH0579449B2 JP H0579449 B2 JPH0579449 B2 JP H0579449B2 JP 3307214 A JP3307214 A JP 3307214A JP 30721491 A JP30721491 A JP 30721491A JP H0579449 B2 JPH0579449 B2 JP H0579449B2
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JP
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zro
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ceramic
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alon
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Hidetoshi Baba
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NGK Spark Plug Co Ltd
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  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】 本発明は、Al2O3−ZrO2
系セラミツク焼結体を基材とする高靭性高耐久性
被覆セラミツク工具の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】 従来のAl2O3系およびAl2O3
TiC系セラミツク工具は、高温における硬さが大
きいという利点をもつているが、反面、強度又は
靭性については必ずしも良好ではないため、荒加
工する場合に適さず、また最近の工作機械のNC
化が進んでいる状況下では、工具としての信頼性
が乏しいという欠点がある。
【0003】 これに対して、ZrO2系セラミツク工
具は、特開昭55−140762号に開示されるように、
その基材としてのZrO2系セラミツクが、抗折力
100Kg/mm2以上、靭性(Kic)30Kg/mm3/2以上を
示すように、超硬合金に匹敵する優れた諸特性を
備えており、このような高強度、高靭性のZrO2
系セラミツクは、主成分としてのZrO2にCaO、
MgO、Y2O3等の酸化物を添加して、高温におけ
る正方晶や立方晶などの高温安定相を常温付近に
おいても部分的に安定化させることにより得られ
るものである。
【0004】 また、Al2O3−ZrO2系セラミツクを開
示する特開昭52−86413号、特開昭54−60308号お
よび特開昭54−61215号公報によれば、Al2O3
トリツクス中にZrO2を分散させることにより、
かなり高い靭生を発揮することが知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】 しかしなが
ら、かかる従来のZrO2系セラミツクおよびAl2O3
−ZrO2系セラミツクを切削工具材として用いた
場合には、Al2O3セラミツクやAl2O3−TiC系セ
ラミツクに比べて強度および靭性の点で優れてい
るため、荒加工するときには好適であるが、一
方、例えば強靱で切削困難なダクタイル鋳鉄や鋼
材を被切削材とするときには、フランク摩耗、ク
レータ摩耗ともに顕著となる。このため従来の
ZrO2系セラミツクやAl2O3−ZrO2系セラミツク
からなる工具は、対摩耗性が良好でなく切削工具
としての十分な機能を発揮することができなかつ
た。さらにこれらの難削材を高速で切削するため
には、高度な耐衝撃性がその耐久性にとつて不可
欠である。
【0006】 本発明は、このような従来法の問題点
を解消することを基本的目的とし、十分な高強度
および高靱性をもち併せて、とくに難削材に対し
ても高い耐久性をもつセラミツク工具を提供する
ことを目的とする。
【0007】
【課題を達成するための手段】 そのために本発
明のセラミツク工具の製造方法は、十分な強度及
び靱性をもつ基材に、その基材の本来の特性を劣
化させることなく高い高度及び付着力をもつ被覆
層を設ける。即ち、本発明は、その第1の視点に
おいて、基材としてのAl2O3−ZrO2系セラミツク
と、その表面に形成する被覆層を、TiC、TiN、
TiCN、Al2O3、AlONのうちの少なくとも一種
のセラミツクによりCVD法により形成すること
により、高靱性かつ耐衝撃性の高い高耐久性セラ
ミツク工具を提供する。
【0008】 本発明の第2の視点において、上記目
的は、ZrO21〜50wt%、残部実質的にAl2O3
組成を有するAl2O3−ZrO2系セラミツク焼結体か
ら成る基材の表面に、 (イ) TiC、TiN若しくはTiCN又はこれらの組合
せから成る内層をCVD法により形成する工程、 (ロ) 内層の表面にAlONから成る中間層をCVD
法により形成する工程、及び (ハ) 中間層の表面に、Al2O3から成る外層をCVD
法により形成する工程、 を含むことを特徴とする高靭性高耐久性被覆セラ
ミツク工具の製造方法によつて達成される。
【0009】 本発明の第3の視点において、上記目
的は、ZrO21〜50wt%、残部実質的にAl2O3
組成を有するAl2O3−ZrO2系セラミツク焼結体か
ら成る基材の表面に、 (イ) AlONから成る内層をCVD法により形成す
る工程、 (ロ) 内層の表面に、Al2O3から成る層をCVD法に
より形成する工程、 を含むことを特徴とする高靭性高耐久性被覆セラ
ミツク工具の製造方法によつて達成される。
【0010】 基材としてのAl2O3−ZrO2系セラミツ
ク焼結体の組成は、ZrO21〜50wt%、残部実質
的にAl2O3からなり、好ましくはZrO21〜30wt
%、残部実質的にAl2O3がよい。ZrO2を1wt%以
上とすることにより基材の強度、特に靱性が格段
に改善されるからである。また、ZrO2を50wt%
以下(さらに好ましくは30wt%以下)とすると
基材の特性劣化を生ずることなく(特にCVD法
の場合必要である)高温下で被覆層を所定の厚さ
に形成することができる。
【0011】 従来ZrO2焼結体を1000℃近くの高温
に保持することは、急激な体積変化を伴う相転移
【数1】(単斜晶正方晶) を招来するため基材の急激な強度劣化をもたらす
と考えられていた。しかし、本発明によれば、
ZrO250wt%以下とすることにより、基材の劣化
を生ずることなく、高温下での被膜形成が可能と
なつたものである。
【0012】
【好適な実施の態様】 このうちZrO2は、好ま
しくは、CaO、MgO、Y2O3などの希土類酸化物
の安定化剤を含むが、必ずしも含まなくてもよ
い。該安定化剤を含む場合、CaOまたはMgOは
トータルでZrO2に対して15wt%以下、Y2O3は同
じくZrO2に対して9wt%以下が好ましい。この場
合のZrO2は、その総量に対して正方晶ZrO2
5wt%以上を含む部分安定化構造をもつようにす
るのがよい。尚、製造に際し、Al2O3にZrO2を添
加する際には、予め部分安定化したZrO2をAl2O3
に添加してもよいし、また単斜晶ZrO2と安定化
剤をそれぞれ単独でAl2O3に添加してもよい。
【0013】 一方、安定化剤を含まない場合は、平
均粒径0.3μm以下のZrO2を使用するのが好まし
い。ZrO2のAl2O3への添加のさいに、微粒ZrO2
がAl2O3に分散すると、ZrO2が正方晶のまま残留
し、これにより靱性の良好なAl2O3−ZrO2系セラ
ミツク基材が得られるからである。
【0014】 Al2O3−ZrO2系セラミツク基材の焼成
条件は、酸化雰囲気中、温度1350〜1650℃、処理
時間数分ないし数時間が良い。温度1350℃未満で
は焼成が十分に行われず、1650℃を超えると結晶
粒の成長が著しくなつて基材の強度および靱性が
ともに劣化するからである。このようにして構成
される基材は、抗折強度約60Kg/mm2以上、破壊靱
性Kic約20Kg/mm3/2以上のものが得られる。
【0015】 次に被覆剤としてのセラミツクは、第
1の視点によれば、TiC、TiN、TiCN、Al2O3
もしくはAlON又はこれらの成分の組合せからな
り(但しAlONは外層としては好ましくない)、
上記基材の表面に対して単層被覆してもよいし多
層被覆にしてもよい。上記成分を組合せて多層被
覆した場合の被覆層は、2層以上とし、例えば第
1表に示すような内層、中間層、外層をもつよう
にするのがよい(中間層としてはAlONが好まし
い)。第2、第3の視点によれば、外層としては
Al2O3が最適である(Al2O3はマイクロビツカー
ス高度2000Kg/mm2以上の高い高度のため)。Al2
O3層の内側層(内層又は中間層)としてはAlON
が最適である(硬いAl2O3層の付着力を高めハク
リを防止するため)。
【0016】 この場合の被覆方法は、一般的には
PVD法(Physical Vapor Deposition)とCVD
法(Chemical Vapor Deposition)、その他の物
理的ないし化学的析着被膜形成方法が考えられる
が、被覆材の密着性均質性および被覆速度の点か
らして、本発明では下記に反応によるCVD法を
用いる。
【0017】 TiCl4+CH4→TiC+4HCl 2TiCl4+N2+4H2→2TiN+3HCl 2TiCl4+2CH4+N2→2TiCN+8HCl 2AlCl3+3CO2+3H2→Al2O3+3CO+6HCl 2AlCl+2CO2+N2+3H2→2AlON+2CO+6HCl
【0018】 特にAl2O3、AlON層については、
CVD法でないと本発明の目的に適う実用的な被
膜形成が(特に膜形成速度、膜安定性上)困難で
ある。TiC、TiN、TiCN、Al2O3、AlONの被覆
方法の詳細は、それ自体公知のため記述を省くが
一般にかなりの高温が不可欠である(800℃以上
好ましくは950〜1100℃程度)。
【0019】 超硬合金上へCVD法により各種被覆
層を設ける方法は特公昭42013(TiC)を初めとし
て多数有り、TiN、TiCNは特公昭51−24982、
Al2O3は特開昭48−217、TiC、TiN/Al2O3
AlON/Al2O3の2重被覆はそれぞれ特公昭52−
13201、特開昭54−29185があり、同様な被覆方法
を用いることができる。但しこれらは、いずれも
超硬合金を母材としているため、高速切削には不
向きであつたものである。なお、従来ZrO2を含
むセラミツク基材については、焼成(冷却)後
1000℃以上の高温に保持することは、この温度域
でZrO2に大きな体積変化を伴う相変態
【数2】(単斜晶正方晶) が生じ、強度が著しく劣化するため、禁忌とされ
ていたものである。しかしながら、本発明によれ
ば、そのような予期に反し、飛躍的に顕著な特性
の改善が達成されたことは驚くべきことである。
【0020】 被覆層の膜厚は0.3〜15μmとする。な
ぜなら、0.3μm未満では被覆材としての機能が薄
れるとともに、15μmを超えると被覆のさいに粒
成長が著しく剥離しやすくなるからである。Al2
O3を被覆する場合のAl2O3層厚は0.3〜5μm程度が
好ましい。
【0021】 このようにして構成されるセラミツク
工具は、靱削材の衝撃的高速切削の反復に十分耐
える高強度、高靱性を備えるうえに、耐摩耗性の
点においても優れた特性を発揮する。その結果高
度に自動化された切削機に用いることができる信
頼性の高い切削工具が製造できる。このことを以
下に述べる実施例に基づいて説明する。
【0022】
【実施例】 基材に用いた原料は、Al2O3につい
ては純度(wt%)99.9%、平均粒径0.6μm、単斜
晶ZrO2については純度99%以上、平均粒径
0.2μm、CaCO3については原料CaO純度98%、
MgOについては純度97%以上、Y2O3については
純度99.9%以上であつた。基材の各試料は第2表
のような組成とし、所定の原料を湿式混合したあ
と、乾燥、バインダ添加を経て造粒したのち圧力
1.5Kg/cm2にてプレス成形した。この圧粉体は、
仮焼によりバインダを除去したのち、電気炉内に
て1400〜1650℃で1時間焼成した。この焼成体を
サイズ4×8×25mmに研摩した。
【0023】 こうして作成された各試料の諸特性は
第2表に示すとおりである。第2表から明らかな
ように、各試料は、通常のAl2O3の抗折力50Kg/
mm2以下、靱性(Kic)10Kg/mm3/2以下に比べ、か
なり高い抗折力および靱性を示している。
【0024】 尚、試料の各特性の測定法は次のとお
りである。(1)曲げ強度はJIS B4104により測定、
5本の平均値を示す。(2)破壊靱性はASTMスペ
シヤルテクニカルパブリケーシヨンNo.410に準じ
て、巾4mm、厚さ5mm、長さ25mmの試片に深さ
0.5mm、巾0.15mmの切欠きを入れ、スパン20mmの
三点曲げ切欠き法によつて測定した。測定値は各
5本の平均値である。(3)結晶系は理学電機製ガイ
ガーフレツクスRAD−γA型を用い、X線回折法
により行つた。まず、15μmダイヤモンドペース
トで鏡面研摩した試片をX線回折で測定し、単斜
晶ZrO2
【数3】(111) 面と(111)面の積分強度Imと、正方晶ZrO2
(111)面と立方晶ZrO2の(111)面の積分強度の
和It+Ieの比から、単斜晶ZrO2の量を決定した。
ついで焼結体を325メツシユ全通迄粉砕し、同条
件でX線回折し、再度単斜晶ZrO2と立方晶ZrO2
の積分強度I′mおよびI′eを求めた。この際、焼結
体中の残留正方晶ZrO2は粉砕によつて機械的応
力を受け、すべて単斜晶ZrO2に変態すると考え
られるので、I′e/(I′m+I′e)から立方晶ZrO2
量が決定されついで正方晶ZrO2量も決定した。
【0025】 次に、これらの各試料を
SNGN432TN(JIS008Bによるスローアウエイチ
ツプ形状表示法)の形状に加工し、この成形体
(基材)の表面にCVD法により所定の被覆層を形
成した。具体的には、基材をセツトした反応容器
内にキヤリアガスとしてH2ガスを流し、前述の
化学反応を伴わせて基材の表面に所定の被覆材を
付着させた(第3表参照)。反応容器の内圧は、
TiC、Al2O3、AlONを被覆する場合100mb、同
じくTiCNの場合300mb、TiNの場合500mbと
し、反応容器内の温度は1050℃にセツトした。被
覆速度は、TiC、TiN、TiCNについては1μm/
hr、Al2O3、AlONについては0.5μm/hrに設定
した。
【0026】 このようにして得られたセラミツク工
具(試料)を用いて、ダクタイル鋳鉄(FCD55)
のフライス切削(テスト1)と、クロムモリブデ
ン合金鋼(SCM44C)の旋削(テスト2)を行つ
た。切削条件は第4表のとおりである。
【0027】 この切削試験の結果は、第3表に示す
とおりであり、この表からわかるように、テスト
1において、試料No.2〜8は略約4000〜5000回の
衝撃に十分耐えるのに対し、参考試料No.1および
9は2000〜2500回の衝撃で欠損している。これら
No.2〜8,10およびNo.4a〜4gの両グループは比
較例1〜4に比べ寿命が極めて長い(10〜50倍以
上にも達する)ことから所定の被覆層を形成して
成るAl2O3−ZrO2系セラミツクが、所定の膜厚で
ダクタイル鋳鉄のフライス切削に特に有効である
ことがわかる。また、テスト2からも同様に、所
定の被覆層を形成してなるAl2O3−ZrO2系セラミ
ツクが、鋼の旋削において耐フランク摩耗性に優
れていることがわかる。なおAlON層の効果はNo.
4a、No.4と、No.4b,4dとを夫々比例することに
より明らかである。
【0028】 ■■■ 亀の甲 [0002] ■■■
【0029】 ■■■ 亀の甲 [0003] ■■■
【0030】 ■■■ 亀の甲 [0004] ■■■
【0031】 ■■■ 亀の甲 [0005] ■■■
【0032】
【発明の効果】 以上説明したように、本発明に
よれば、基材としてAl2O3を主体とするAl2O3
ZrO2系セラミツクを用いるとともに、その基材
の表面に所定の薄膜としてのTiC、TiN、
TiCN、Al2O3、AlONのうちの少なくとも一種
のセラミツクからなる被覆層をCVD法により形
成することにより、基材の劣化を招来することな
く極めて高い強度および靱性(耐衝撃性)を発揮
するセラミツク工具が製造できる(第1の視点)。
その結果従来のセラミツク工具では得られなかつ
た優れた耐摩耗製を発揮するという効果がある。
特に第2、第3の視点において、高硬度のAl2O3
(外層)をAlON(その内側層)を介して、共に
CVD法により、ZrO2基材の強度劣化を招くこと
なく形成し得たことは、当業者の予期の範囲を超
えたものである。
【0033】 本発明により製造されるセラミツク工
具は単に切削、旋削用工具のみならず線引き用ダ
イス、その他の、耐摩耗製、靱性、硬度を兼ね備
えることを要求される、金属等加工用工具として
も応用できる。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ZrO21〜50wt%、残部実質的に
    Al2O3の組成を有するAl2O3−ZrO2系セラミツク
    焼結体から成る基材の表面に、TiC、TiN、
    TiCN、Al2O3若しくはAlON又はこれらの組合
    せから成る被覆層をCVD法により形成すること
    を特徴とする高靭性高耐久性被覆セラミツク工具
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記被覆層を0.3〜15μmの厚さに
    形成する特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
  3. 【請求項3】 ZrO21〜50wt%、残部実質的に
    Al2O3の組成を有するAl2O3−ZrO2系セラミツク
    焼結体から成る基材の表面に、 (イ) TiC、TiN若しくはTiCN又はこれらの組合
    せから成る内層をCVD法により形成する工程、 (ロ) 内層の表面にAlONから成る中間層をを
    CVD法により形成する工程、及び (ハ) 中間層の表面に、Al2O3から成る外層をCVD
    法により形成する工程、 を含むことを特徴とする高靭性高耐久性被覆セラ
    ミツク工具の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記内層、中間層、及び外層から
    成る被覆層を、0.3〜15μmの厚さに形成する特許
    請求の範囲第3項記載の製造方法。
  5. 【請求項5】 Al2O3の外層を0.3〜5μmに形成す
    る特許請求の範囲第3項又は第4項記載の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 ZrO21〜50wt%、残部実質的に
    Al2O3の組成を有するAl2O3−ZrO2系セラミツク
    焼結体から成る基材の表面に、 (イ) AlONから成る内層をCVD法により形成す
    る工程、 (ロ) 内層の表面に、Al2O3から成る層をCVD法に
    より形成する工程、 を含むことを特徴とする高靭性高耐久性被覆セラ
    ミツク工具の製造方法。
  7. 【請求項7】 内層及びAl2O3層から成る被覆層
    を、0.3〜15μmに形成する特許請求の範囲第6項
    記載の製造方法。
  8. 【請求項8】 Al2O3層は0.3〜5μmの厚さに形成
    する特許請求の範囲第7項記載の製造方法。
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