JPH0579937A - 半導体圧力センサ - Google Patents
半導体圧力センサInfo
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- JPH0579937A JPH0579937A JP24373491A JP24373491A JPH0579937A JP H0579937 A JPH0579937 A JP H0579937A JP 24373491 A JP24373491 A JP 24373491A JP 24373491 A JP24373491 A JP 24373491A JP H0579937 A JPH0579937 A JP H0579937A
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- Japan
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- semiconductor substrate
- pressure sensor
- differential pressure
- semiconductor
- static pressure
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は静圧下ならびに差圧下で生じる信号
を補償するとともに、静圧および差圧を同一半導体基板
上で、しかも極めて精度良く、かつ高い信頼性で検出す
る。 【構成】 1つの台座管4の一端側中央部分に半導体基
板2を接合して前記台座管4に形成された導圧路18を
介して前記半導体基板2の下面側に形成された空洞6に
圧力を導いて差圧センサ部として使用し、かつ前記半導
体基板2と完全に分離された半導体基板3を前記台座管
4の前記一端側周辺部分に接合して前記半導体基板3を
静圧センサ部として使用する。
を補償するとともに、静圧および差圧を同一半導体基板
上で、しかも極めて精度良く、かつ高い信頼性で検出す
る。 【構成】 1つの台座管4の一端側中央部分に半導体基
板2を接合して前記台座管4に形成された導圧路18を
介して前記半導体基板2の下面側に形成された空洞6に
圧力を導いて差圧センサ部として使用し、かつ前記半導
体基板2と完全に分離された半導体基板3を前記台座管
4の前記一端側周辺部分に接合して前記半導体基板3を
静圧センサ部として使用する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は圧力を検出する半導体圧
力センサに係わり、特に静圧下ならびに差圧下で生じる
信号を検出し、静圧および差圧を極めて精度よく検出し
得るようにした半導体圧力センサに関する。
力センサに係わり、特に静圧下ならびに差圧下で生じる
信号を検出し、静圧および差圧を極めて精度よく検出し
得るようにした半導体圧力センサに関する。
【0002】
【従来の技術】圧力の検出を行なうためのセンサの1つ
として、従来、半導体圧力センサが知られている。
として、従来、半導体圧力センサが知られている。
【0003】この半導体圧力センサは単結晶半導体(例
えば、シリコン等)の優れた弾性を利用し、薄膜シリコ
ンダイヤフラムの両端にかかる圧力差に応答する応力を
検出する。
えば、シリコン等)の優れた弾性を利用し、薄膜シリコ
ンダイヤフラムの両端にかかる圧力差に応答する応力を
検出する。
【0004】図3はこのような半導体圧力センサの一例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【0005】この図に示す半導体圧力センサ100はn
形面からなるシリコン単結晶基板101の一面に凹部1
02を形成して薄肉部のダイヤフラム部103とし、前
記凹部102側の面と反対側の表面にp形不純物を拡散
して図4に示す如く差圧センサ(ストレインゲージ抵
抗)104〜106を形成した後、これら差圧センサ1
04〜106を形成した単結晶基板101の表面に酸化
膜107を形成して前記各差圧センサ104〜106を
被膜し、さらにこの酸化膜107に貫通して設けられた
孔108を介して前記各差圧センサ104〜106の両
端に各々電極層109を接続して形成したものであり、
円筒状に形成された台座管112に固定されるととも
に、金線等によって構成されるワイヤ110によって前
記電極層109と外部端子(図示は省略する)とが接続
されて使用される。
形面からなるシリコン単結晶基板101の一面に凹部1
02を形成して薄肉部のダイヤフラム部103とし、前
記凹部102側の面と反対側の表面にp形不純物を拡散
して図4に示す如く差圧センサ(ストレインゲージ抵
抗)104〜106を形成した後、これら差圧センサ1
04〜106を形成した単結晶基板101の表面に酸化
膜107を形成して前記各差圧センサ104〜106を
被膜し、さらにこの酸化膜107に貫通して設けられた
孔108を介して前記各差圧センサ104〜106の両
端に各々電極層109を接続して形成したものであり、
円筒状に形成された台座管112に固定されるととも
に、金線等によって構成されるワイヤ110によって前
記電極層109と外部端子(図示は省略する)とが接続
されて使用される。
【0006】なお、図4においては、右側の差圧センサ
104〜106部分にのみに電極層109を設けている
が、実際には各差圧センサ104〜106毎に各々電極
層109が設けられている。
104〜106部分にのみに電極層109を設けている
が、実際には各差圧センサ104〜106毎に各々電極
層109が設けられている。
【0007】そして、このように構成された半導体圧力
センサ100においては、ダイヤフラム部103が圧力
によって応力を受けると、ダイヤフラム部103の表面
に形成された差圧センサ104〜106のうち、予め決
められた結晶軸方向に配置されたものの抵抗値が増加す
るとともに、他の決められた結晶軸方向に配置されたも
のの抵抗値が減少して、これら各差圧センサ104〜1
06によって構成されているホィートストンブリッジ回
路(図示は省略する)の出力電圧が変化し、この変化分
に対応した検出信号が出力される。
センサ100においては、ダイヤフラム部103が圧力
によって応力を受けると、ダイヤフラム部103の表面
に形成された差圧センサ104〜106のうち、予め決
められた結晶軸方向に配置されたものの抵抗値が増加す
るとともに、他の決められた結晶軸方向に配置されたも
のの抵抗値が減少して、これら各差圧センサ104〜1
06によって構成されているホィートストンブリッジ回
路(図示は省略する)の出力電圧が変化し、この変化分
に対応した検出信号が出力される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな半導体圧力センサ100においては、静圧(ダイヤ
フラムの両面にかかる共通な圧力)下でも、ゼロシフト
と呼ばれる誤信号を生じる。
うな半導体圧力センサ100においては、静圧(ダイヤ
フラムの両面にかかる共通な圧力)下でも、ゼロシフト
と呼ばれる誤信号を生じる。
【0009】そこで、このような問題を解決する方法と
てして、半導体圧力センサ100と別個の圧力センサを
用いて静圧を検出し、この検出結果に基づいて半導体圧
センサ100の出力を補正する方法が実施されている。
てして、半導体圧力センサ100と別個の圧力センサを
用いて静圧を検出し、この検出結果に基づいて半導体圧
センサ100の出力を補正する方法が実施されている。
【0010】しかしながら、このような方法では、2つ
の素子を使用しなければならないため、なるべくなら
ば、シングルタイプの素子を用いて、2つの信号から単
純な補正で2つの信号を生成するようにすることが望ま
しい。
の素子を使用しなければならないため、なるべくなら
ば、シングルタイプの素子を用いて、2つの信号から単
純な補正で2つの信号を生成するようにすることが望ま
しい。
【0011】そこで、このような要求を満たす方法とし
て、シリコン単結晶基板101の表面(前記台座管11
2と接合する面と反対側の面)に、差圧センサ104〜
106と同様な配置で静圧によって生じる歪みを検出す
るセンサ(静圧センサ)を設け、この静圧センサの出力
に基づいて前記差圧センサ104〜106の出力を補正
することも行われている。
て、シリコン単結晶基板101の表面(前記台座管11
2と接合する面と反対側の面)に、差圧センサ104〜
106と同様な配置で静圧によって生じる歪みを検出す
るセンサ(静圧センサ)を設け、この静圧センサの出力
に基づいて前記差圧センサ104〜106の出力を補正
することも行われている。
【0012】しかしながら、このような半導体圧力セン
サで用いられる静圧センサは、温度に対する影響を共通
化するために、差圧センサ104〜106と同一基板上
で、同じ配置位置関係となるように静圧センサを配置し
ているので、静圧センサにも差圧歪みによる影響が出て
しまい、その応答特性が一義的な信号にならないことが
多いばかりか、このような静圧センサに対しても、差圧
センサの出力に基づいて補正を行なう必要があるため、
極めて厄介補正関係が必要であった。
サで用いられる静圧センサは、温度に対する影響を共通
化するために、差圧センサ104〜106と同一基板上
で、同じ配置位置関係となるように静圧センサを配置し
ているので、静圧センサにも差圧歪みによる影響が出て
しまい、その応答特性が一義的な信号にならないことが
多いばかりか、このような静圧センサに対しても、差圧
センサの出力に基づいて補正を行なう必要があるため、
極めて厄介補正関係が必要であった。
【0013】このため、静圧センサによって差圧センサ
の信号を補正する方法では、極めて大きな誤差を与える
危険がある。
の信号を補正する方法では、極めて大きな誤差を与える
危険がある。
【0014】本発明は上記の事情に鑑み、静圧下ならび
に差圧下で生じる信号を補償することができるととも
に、静圧および差圧を同一半導体基板上で、しかも極め
て精度良く、かつ高い信頼性で検出することができる半
導体圧力センサを提供することを目的としている。
に差圧下で生じる信号を補償することができるととも
に、静圧および差圧を同一半導体基板上で、しかも極め
て精度良く、かつ高い信頼性で検出することができる半
導体圧力センサを提供することを目的としている。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明による半導体圧力センサは、第1面および第
2面を有し、前記第1面に空洞が形成される単結晶半導
体材料からなる第1半導体基板と、第1面および第2面
を有し、前記第1半導体基板の周囲に配置される単結晶
半導体材料からなる第2半導体基板と、その一端が前記
第1半導体基板の前記第1面に形成された前記空洞を取
り囲むように前記第1、第2半導体基板の各第1面に接
合され、かつ検出すべき圧力を前記空洞に導入する導圧
路を有する所定形状の台座管と、前記第1半導体基板の
前記第2面で前記空洞の反対側に形成された少なくとも
1個の垂直方向の差圧センサおよび少なくとも1個の平
行方向の差圧センサと、前記第2半導体基板の前記第2
面で前記台座管に接合された一端の反対側に形成される
少なくとも1個の垂直方向の静圧センサおよび少なくと
も1個の平行方向の静圧センサとを備えたことを特徴と
している。
めに本発明による半導体圧力センサは、第1面および第
2面を有し、前記第1面に空洞が形成される単結晶半導
体材料からなる第1半導体基板と、第1面および第2面
を有し、前記第1半導体基板の周囲に配置される単結晶
半導体材料からなる第2半導体基板と、その一端が前記
第1半導体基板の前記第1面に形成された前記空洞を取
り囲むように前記第1、第2半導体基板の各第1面に接
合され、かつ検出すべき圧力を前記空洞に導入する導圧
路を有する所定形状の台座管と、前記第1半導体基板の
前記第2面で前記空洞の反対側に形成された少なくとも
1個の垂直方向の差圧センサおよび少なくとも1個の平
行方向の差圧センサと、前記第2半導体基板の前記第2
面で前記台座管に接合された一端の反対側に形成される
少なくとも1個の垂直方向の静圧センサおよび少なくと
も1個の平行方向の静圧センサとを備えたことを特徴と
している。
【0016】
【作用】上記の構成において、1つの台座管の一端側中
央部分に第1半導体基板を接合して前記台座管に形成さ
れた導圧路を介して前記第1半導体基板の下面側に形成
された空洞に圧力を導いて差圧センサ部として使用し、
かつ前記第1半導体基板と完全に分離された第2半導体
基板を前記台座管の前記一端側周辺部分に接合して前記
第2半導体基板を静圧センサ部として使用することによ
り、静圧下ならびに差圧下で生じる信号を補償するとと
もに、静圧および差圧を同一半導体基板上で、しかも極
めて精度良く、かつ高い信頼性で検出する。
央部分に第1半導体基板を接合して前記台座管に形成さ
れた導圧路を介して前記第1半導体基板の下面側に形成
された空洞に圧力を導いて差圧センサ部として使用し、
かつ前記第1半導体基板と完全に分離された第2半導体
基板を前記台座管の前記一端側周辺部分に接合して前記
第2半導体基板を静圧センサ部として使用することによ
り、静圧下ならびに差圧下で生じる信号を補償するとと
もに、静圧および差圧を同一半導体基板上で、しかも極
めて精度良く、かつ高い信頼性で検出する。
【0017】
【実施例】図1は本発明による半導体圧力センサの一実
施例を示す断面図である。
施例を示す断面図である。
【0018】この図に示す半導体圧力センサ1は薄い方
形の半導体基板2と、前記半導体基板2の周囲にこの半
導体基板2と分離して配置される口形の半導体基板3
と、これらの各半導体基板2、3の一面に接合される台
座管4とによって構成されている。
形の半導体基板2と、前記半導体基板2の周囲にこの半
導体基板2と分離して配置される口形の半導体基板3
と、これらの各半導体基板2、3の一面に接合される台
座管4とによって構成されている。
【0019】半導体基板2はシリコンのような単結晶材
料によって構成される矩形状の基板5によって構成され
ており、この半導体基板2の中央部分下側(図1におい
て下側)に矩形状の凹部6を形成して作った薄肉のダイ
ヤフラム部7が形成されるとともに、図2に示す如く前
記ダイヤフラム部7の上側(図1において上側)にボロ
ン等の不純物を拡散により注入して前記基板5と一体に
形成したピエゾ特性を有する所望形状の差圧センサ8〜
11が形成されている。
料によって構成される矩形状の基板5によって構成され
ており、この半導体基板2の中央部分下側(図1におい
て下側)に矩形状の凹部6を形成して作った薄肉のダイ
ヤフラム部7が形成されるとともに、図2に示す如く前
記ダイヤフラム部7の上側(図1において上側)にボロ
ン等の不純物を拡散により注入して前記基板5と一体に
形成したピエゾ特性を有する所望形状の差圧センサ8〜
11が形成されている。
【0020】この場合、前記各差圧センサ8〜11は差
圧センサ8、9が一方の結晶軸方向に配置され、他方の
各差圧センサ10、11が前記結晶軸方向と直交する方
向に配置されている。
圧センサ8、9が一方の結晶軸方向に配置され、他方の
各差圧センサ10、11が前記結晶軸方向と直交する方
向に配置されている。
【0021】そして、前記ダイヤフラム部7の上面側
と、下面側との差圧によって前記ダイヤフラム部7が歪
んだとき、この歪みに応じて前記各差圧センサ8〜11
の抵抗値が変化してこれが差圧検出信号として外部に出
力される。
と、下面側との差圧によって前記ダイヤフラム部7が歪
んだとき、この歪みに応じて前記各差圧センサ8〜11
の抵抗値が変化してこれが差圧検出信号として外部に出
力される。
【0022】また、半導体基板3はシリコンのような単
結晶材料によって構成される口形の基板12によって構
成されており、図2に示す如くこの半導体基板3の上側
(図1において上側)にボロン等の不純物を拡散注入し
て前記半導体基板3と一体に形成したピエゾ特性を所望
形状の有する静圧センサ13〜16が形成されている。
結晶材料によって構成される口形の基板12によって構
成されており、図2に示す如くこの半導体基板3の上側
(図1において上側)にボロン等の不純物を拡散注入し
て前記半導体基板3と一体に形成したピエゾ特性を所望
形状の有する静圧センサ13〜16が形成されている。
【0023】この場合、前記各静圧センサ13〜16は
静圧センサ13、14が一方の結晶軸方向に配置され、
他方の各静圧センサ15、16が前記結晶軸方向と直交
する方向に配置されている。
静圧センサ13、14が一方の結晶軸方向に配置され、
他方の各静圧センサ15、16が前記結晶軸方向と直交
する方向に配置されている。
【0024】そして、前記半導体基板3が収められてい
る部分の静圧によって前記半導体基板3が歪んだとき、
この歪みに応じて前記各静圧センサ13〜16の抵抗値
が変化してこれが静圧検出信号として出力される。
る部分の静圧によって前記半導体基板3が歪んだとき、
この歪みに応じて前記各静圧センサ13〜16の抵抗値
が変化してこれが静圧検出信号として出力される。
【0025】また、台座管4はパイレックガラス等によ
って構成され、その外径が前記半導体基板3の外縁を形
成する一辺の長さと同じ長さに形成されるとともに、そ
の内径が前記凹部6の径よりもかなり短く形成される断
面円形の円筒部材17によって構成されており、その上
端(図1において上端)が前記各半導体基板2、3の下
面に接合され、その内部に形成された断面円形の導圧路
18によって前記半導体基板2の凹部6に検出対象とな
る圧力媒体を導く。
って構成され、その外径が前記半導体基板3の外縁を形
成する一辺の長さと同じ長さに形成されるとともに、そ
の内径が前記凹部6の径よりもかなり短く形成される断
面円形の円筒部材17によって構成されており、その上
端(図1において上端)が前記各半導体基板2、3の下
面に接合され、その内部に形成された断面円形の導圧路
18によって前記半導体基板2の凹部6に検出対象とな
る圧力媒体を導く。
【0026】次に、図1および図2を参照しながらこの
実施例の構造と効果と関係を説明する。
実施例の構造と効果と関係を説明する。
【0027】まず、ダイヤフラム部7が形成されている
半導体基板2の周囲に配置されている半導体基板3に対
して異種材料となるパイレックガラス等の台座管4を接
合しているため、ダイヤフラム部7にかかる差圧がゼロ
で、静圧のみが加えられたときには、圧縮率の大きい台
座管4側から圧縮率の小さい半導体基板2、3により大
きな歪みが伝わり易いために、半導体基板3と台座管4
との接合面直上の半導体基板3の上面(図1において上
面)側に誘起される歪みはダイヤフラム部7に誘起され
る歪みよりもかなり大きい。
半導体基板2の周囲に配置されている半導体基板3に対
して異種材料となるパイレックガラス等の台座管4を接
合しているため、ダイヤフラム部7にかかる差圧がゼロ
で、静圧のみが加えられたときには、圧縮率の大きい台
座管4側から圧縮率の小さい半導体基板2、3により大
きな歪みが伝わり易いために、半導体基板3と台座管4
との接合面直上の半導体基板3の上面(図1において上
面)側に誘起される歪みはダイヤフラム部7に誘起され
る歪みよりもかなり大きい。
【0028】一方、差圧センサ8〜11が形成されてい
る半導体基板2と、静圧センサ13〜16が形成されて
いる半導体基板3とが完全に分離されているので、ダイ
ヤフラム部7の両面にかかる差圧によってダイヤフラム
面に誘起される歪みは、このダイヤフラム部7が形成さ
れている半導体基板2と完全に分離された半導体基板3
側の上面に極めて伝わり難くい。
る半導体基板2と、静圧センサ13〜16が形成されて
いる半導体基板3とが完全に分離されているので、ダイ
ヤフラム部7の両面にかかる差圧によってダイヤフラム
面に誘起される歪みは、このダイヤフラム部7が形成さ
れている半導体基板2と完全に分離された半導体基板3
側の上面に極めて伝わり難くい。
【0029】これによって、静圧を主として検出する静
圧センサ13〜16は差圧による誤差が小さくなり、か
つ差圧の測定範囲内では一義的な誤差特性を表わす。
圧センサ13〜16は差圧による誤差が小さくなり、か
つ差圧の測定範囲内では一義的な誤差特性を表わす。
【0030】この結果、1つの組になった4個の差圧セ
ンサ8〜11は主としてダイヤフラム部7にかかる差圧
を検出し、別の組にった4個の静圧センサ13〜16は
半導体基板3と台座管4とにかかる静圧変化によっての
み生じる信号を出力するので、静圧センサ13〜16か
ら出力される信号によって差圧センサ8〜11から出力
される信号を補正することにより、前記差圧センサ8〜
11の出力に含まれる静圧誤差信号成分を除去すること
ができる。
ンサ8〜11は主としてダイヤフラム部7にかかる差圧
を検出し、別の組にった4個の静圧センサ13〜16は
半導体基板3と台座管4とにかかる静圧変化によっての
み生じる信号を出力するので、静圧センサ13〜16か
ら出力される信号によって差圧センサ8〜11から出力
される信号を補正することにより、前記差圧センサ8〜
11の出力に含まれる静圧誤差信号成分を除去すること
ができる。
【0031】このようにこの実施例においては、半導体
基板2の中央部分下面にパイレックガラス等によつて構
成される台座管4を接合して前記半導体基板2を差圧セ
ンサ部7として使用し、前記半導体基板2の周辺部に前
記半導体基板2と完全に分離した半導体基板3を配置す
るとともに、この半導体基板3の下面を前記台座管4に
接合して前記半導体基板3を静圧センサ部として使用す
るようにしたので、静圧下ならびに差圧下で生じる信号
を補償することができるとともに、静圧および差圧を同
一半導体基板上で、しかも極めて精度良く、かつ高い信
頼性で検出することができる。
基板2の中央部分下面にパイレックガラス等によつて構
成される台座管4を接合して前記半導体基板2を差圧セ
ンサ部7として使用し、前記半導体基板2の周辺部に前
記半導体基板2と完全に分離した半導体基板3を配置す
るとともに、この半導体基板3の下面を前記台座管4に
接合して前記半導体基板3を静圧センサ部として使用す
るようにしたので、静圧下ならびに差圧下で生じる信号
を補償することができるとともに、静圧および差圧を同
一半導体基板上で、しかも極めて精度良く、かつ高い信
頼性で検出することができる。
【0032】また、上述した実施例においては、各半導
体基板2、3の外縁を方形にしてその下面側に、円形の
外縁を有する台座管4を接合するようにしているが、こ
れらの形状を他の形状、例えば半導体基板2、3の外縁
形状を円形とし、これと接合される台座管4の形状を円
筒状にするようにしても上述した実施例と同様な効果を
得ることができる。
体基板2、3の外縁を方形にしてその下面側に、円形の
外縁を有する台座管4を接合するようにしているが、こ
れらの形状を他の形状、例えば半導体基板2、3の外縁
形状を円形とし、これと接合される台座管4の形状を円
筒状にするようにしても上述した実施例と同様な効果を
得ることができる。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、静
圧下ならびに差圧下で生じる信号を補償することができ
るとともに、静圧および差圧を同一半導体基板上で、し
かも極めて精度良く、かつ高い信頼性で検出することが
できる。
圧下ならびに差圧下で生じる信号を補償することができ
るとともに、静圧および差圧を同一半導体基板上で、し
かも極めて精度良く、かつ高い信頼性で検出することが
できる。
【図1】本発明による半導体圧力センサの一実施例を示
す断面図である。
す断面図である。
【図2】図1に示す半導体圧力センサの平面図である。
【図3】従来から知られている半導体圧力センサの一例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図4】図3に示す半導体圧力センサの平面図である。
2 半導体基板(第1半導体基板) 3 半導体基板(第2半導体基板) 4 台座管 6 空洞 8、9 垂直方向の差圧センサ 10、11 平行方向の差圧センサ 13、14 垂直方向の静圧センサ 15、16 平行方向の静圧センサ 18 導圧路
Claims (1)
- 【請求項1】 第1面および第2面を有し、前記第1面
に空洞が形成される単結晶半導体材料からなる第1半導
体基板と、 第1面および第2面を有し、前記第1半導体基板の周囲
に配置される単結晶半導体材料からなる第2半導体基板
と、 その一端が前記第1半導体基板の前記第1面に形成され
た前記空洞を取り囲むように前記第1、第2半導体基板
の各第1面に接合され、かつ検出すべき圧力を前記空洞
に導入する導圧路を有する所定形状の台座管と、 前記第1半導体基板の前記第2面で前記空洞の反対側に
形成された少なくとも1個の垂直方向の差圧センサおよ
び少なくとも1個の平行方向の差圧センサと、 前記第2半導体基板の前記第2面で前記台座管に接合さ
れた一端の反対側に形成される少なくとも1個の垂直方
向の静圧センサおよび少なくとも1個の平行方向の静圧
センサと、 を備えたことを特徴とする半導体圧力センサ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24373491A JPH0579937A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 半導体圧力センサ |
| US07/950,162 US5291788A (en) | 1991-09-24 | 1992-09-24 | Semiconductor pressure sensor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24373491A JPH0579937A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 半導体圧力センサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0579937A true JPH0579937A (ja) | 1993-03-30 |
Family
ID=17108199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24373491A Pending JPH0579937A (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 半導体圧力センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0579937A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009503445A (ja) * | 2005-07-22 | 2009-01-29 | エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. | 二重測定スケールおよび高フルスケール値を有する集積化圧力センサ |
-
1991
- 1991-09-24 JP JP24373491A patent/JPH0579937A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009503445A (ja) * | 2005-07-22 | 2009-01-29 | エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. | 二重測定スケールおよび高フルスケール値を有する集積化圧力センサ |
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