JPH0580464A - 感光材料の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 自動現像機の水洗槽内に水垢が発生するのを
防止するのと同時に装置のメンテナンスが少なくて済む
感光材料の処理方法を提供する。 【構成】 ハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機１を
用いて処理するに際し、自動現像機１の水洗槽４におい
てその洗浄液に遠赤外線10を照射しながら処理すること
を特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は自動現像機を用いたハロ
ゲン化銀感光材料の処理方法に於いて特にその水洗工程
の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】露光済みのハロゲン化銀写真感光材料
（以後感光材料という）を自動現像機で処理する場合、
現像、定着、水洗の各処理液がそれぞれ入れられた複数
の処理槽が並設され、感光材料を順次通過させて各処理
液に所定時間浸漬することにより行われる。

【０００３】ここで上記処理工程中、水洗工程において
水洗槽内にバクテリア、黴等による水垢の発生が起こ
り、処理する感光材料に転写し画像の品質低下をもたら
し、ひどい場合には自動現像機内の搬送不良まで起こす
ことは従来より知られていることである。

【０００４】近年、上記水洗槽中の水垢を防止する方法
として、特開平3-43734号で示されるオゾンによる水垢
防止法や特願平3-63901号等では酸化剤添加による水垢
防止法が唱われているが前者は充分な効果を出すには相
当の安全機構が必要でありコスト的に非常に高価なもの
になってしまい、後者は酸化剤の反応で硫化銀等の生成
物が発生し汚れの原因となるケースがあった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は水洗槽
内に水垢が発生するのを防止するのと同時に装置のメン
テナンスが少ない感光材料の処理方法を提供することに
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題に
鑑み、鋭意研究の結果、ハロゲン化銀写真感光材料を自
動現像機を用いて処理する場合において、水洗槽におい
て洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理することによ
り、また、水洗槽に供給する洗浄液にあらかじめ遠赤外
線を照射し、水洗槽中に供給することにより処理するこ
とによって達成することを見出した。

【０００７】以下、本発明を更に詳細に説明する。

【０００８】本発明で言う遠赤外線とは波長１〜2000μ
mのものを指し、好ましくは１〜30μmである。遠赤外線
を発する放射源としては、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｋ₂Ｏ、
Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣａＯ、ＴｉＯ₂、ＭｇＯ、Ｎａ₂Ｏ、ＮｉＯ
等の金属酸化物やこれらの混合物、炭素、グラファイト
およびこれに他の材料（金属酸化物、金属炭化物等）を
添加したもの、ＴａＣ、ＺｒＣ、ＳｉＣ、ＢＣ等の金属
炭化物、天然ゼオライトおよびこれに他材料を添加した
もの等が挙げられる。

【０００９】本発明におけるひとつの照射方法として
は、フィルム搬送に悪影響が出なければ水洗槽中のどこ
で遠赤外線照射を行ってもかまわないが、特に水垢が発
生蓄積しやすい水洗槽底部が好ましい。放射体への供給
電力は200Ｗ〜2000Ｗが好ましく、照射時間としては間
欠的に上記供給電力200Ｗの場合は一日１時間以上、200
0Ｗのときは３分以上照射することが好ましい。

【００１０】他の照射方法としては、水洗槽に洗浄液を
送り込む前の配管中や、異物除去フィルターのカートリ
ッジ部分に上記放射源を設置してもよいが、照射時間を
ある程度維持するため洗浄液を一時的に溜めておくタン
クを設け、そのタンク中で照射することが好ましい。放
射体への供給電力は200Ｗ〜2000Ｗが好ましく、照射時
間としては１リットルあたりの洗浄液に対し上記供給電
力200Ｗの場合は２分以上、2000Ｗのときは５秒以上照
射することが好ましい。

【００１１】また、本発明は他の水垢防止機構と併用す
ることでその効果をいっそう高めることができる。例え
ば上記酸化剤を用いた水垢防止法、オゾンを用いた水垢
防止法、水洗槽にシアヌル酸およびその誘導体、チアゾ
リンおよびその誘導体等の殺菌剤を投入する水垢防止
法、除菌・抗菌フィルターを用いた水垢防止法、紫外線
照射を用いた水垢防止法、水洗槽の加熱による水垢防止
法およびこれらの組み合わせなどである。

【００１２】図１は本発明における自動現像機の水洗槽
において洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理する方式
の１例を示すものである。

【００１３】図１において、自動現像機１は現像槽２、
定着槽３、水洗槽４を備えており、水源５から水は電磁
弁６、異物除去フィルター７を経て水洗槽４に供給され
る。水洗槽４の水はオーバーフロー９および電磁弁８を
介して排水される。水洗槽４の底部に遠赤外線放射体10
がガラス管11に保護されて設置されている。

【００１４】図２は本発明における自動現像機の水洗槽
に、あらかじめ遠赤外線を照射した洗浄液を供給して処
理する方式の１例を示すものである。

【００１５】図２において、自動現像機12は現像槽13、
定着槽14、オーバーフロー16を備えた水洗槽15の主要部
からなっている。水源17からの水は、電磁弁18、異物除
去フィルター19を介して貯水タンク20に入る。貯水タン
ク20にはガラス管21で保護された遠赤外線放射源22が設
置されており、底部からポンプ23、電磁弁24を介して水
洗槽15に供給される。供給量はオーバーフロー16の水量
と電磁弁25とにより調整される。

【００１６】本発明に適用するハロゲン化銀感光材料は
好ましくは黒白感光材料であり、特に好ましくは黒白ネ
ガフィルム、黒白反転フィルム、Ｘレイフィルム、複写
用フィルム、印刷用フィルム、グラビアフィルム、黒白
ペーパー、電算写植用ペーパー等が挙げられる。

【００１７】また、本発明を適用する自動現像機の現像
部、定着部、乾燥部については従来公知の種々の方式全
てもちいることができる。

【００１８】使用される黒白現像液には現像主薬として
ジヒドロキシベンゼン類と１−フェニル−３−ピラゾリ
ドン類の組合せが好ましく用いられる。勿論この他にｐ
−アミノフェノール系現像主薬を含んでもよい。

【００１９】用いられるジヒドロキシベンゼン現像主薬
としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロ
ムハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン、２，３−ジクロロハイドロキノン、
２，５−ジクロロハイドロキノン、２，３−ジプロムハ
イドロキノン、２，５−ジメチルハイドロキノンなどが
あるが特にハイドロキノンが好ましい。

【００２０】１−フェニル−３−ピラゾリドン又はその
誘導体の現像主薬としては１−フェニル−４，４−ジメ
チル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−
４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニ
ル−４，４−ジヒドロキシメチル−３−ピラゾリドンな
どがある。

【００２１】Ｐ−アミノフェノール系現像主薬としては
Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノ
ール、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−ｐ−アミノフェ
ノール、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）グリジン、２
−メチル−ｐ−アミノフェノール、ｐ−ベンジルアミノ
フェノール等があるが、Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノ
ールが好ましい。

【００２２】現像主薬は通常０．０１モル／リットル〜
１．２モル／リットルの量で用いられるのが好ましい。

【００２３】用いられる現像液のｐＨは９から１３の範
囲のものが好ましい。更に好ましくはｐＨ１０から１２
の範囲である。

【００２４】ｐＨの設定のために用いるアルカリ剤には
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリ
ウムの如きｐＨ調節剤を含む。

【００２５】特開昭６１−２８７０８号（ホウ酸塩）、
特開昭６０−９３４３９号（例えば、サッカロース、ア
セトオキシム、６−スルホサルチル酸）、リン酸塩、炭
酸塩などの緩衝剤を用いてもよい。

【００２６】上記成分以外に用いられる添加剤としては
亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、
亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫
酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなど
の亜硫酸塩；臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化カリ
ウムの如き現像抑制剤：エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ジメチルホル
ムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、
エタノール、メタノールの如き有機溶剤：１−フェニル
−５−メルカプトテトラゾール、２−メルカプトベンツ
イミダゾール−５−スルホン酸ナトリウム塩等のメルカ
プト系化合物、５−ニトロインダゾール等のインダゾー
ル系化合物、５−メチルベンツトリアゾール等のベンツ
トリアゾール系化合物などのカブリ防止剤を含んでもよ
く、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消抱剤、硬
水軟化剤、特開昭５６−１０６２４４号記載のアミノ化
合物などを含んでもよい。

【００２７】現像液に銀汚れ防止剤、例えば特開昭５６
−２４３４７号に記載の化合物を用いることもできる。

【００２８】用いられる現像液には、特開昭５６−１０
６２４４号に記載のアルカノールアミンなどのアミノ化
合物を用いることができる。

【００２９】この他Ｌ．Ｆ．Ａ．メソン著「フォトグラ
フィック・プロセシン・ケミストリー」、フォーカル・
プレス刊（１９６６年）の２２６〜２２９頁、米国特許
第２，１９３，０１５号、同２，５９２，３６４号、特
開昭４８−６４９３３号などに記載のものを用いてもよ
い。

【００３０】用いられる定着液はチオ硫酸塩を含む水溶
液であり、ｐＨ３．８以上、好ましくは４．２〜５．５
を有する。

【００３１】定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ
硫酸アンモニウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニ
ウムイオンとを必須成分とするものであり、定着速度の
点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の
使用量は適宜変えることができ、一般には約０．１〜６
モル／リットルである。

【００３２】定着液には硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩を含んでも良く、それらには、例えば塩化
アルミニウム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがあ
る。定着液には、酒石酸、クエン酸あるいはそれらの導
体を単独で、あるいは２種以上、併用することができ
る。これらの化合物に定着液１リットルにつき０．００
５モル以上含むものが有効で、特に０．０１モル／リッ
トル〜０．０３モル／リットルが特に有効である。

【００３３】具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒
石酸ナトリウム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン
酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸
リチウム、クエン酸アンモニウムなどがある。

【００３４】定着液には所望により保恒剤（例えば、亜
硫酸塩、重亜硫酸塩）、ｐＨ緩衝剤（例えば、酢酸、硝
酸）、ｐＨ調整剤（例えば硫酸）、硬水軟化能のあるキ
レート剤や特願昭６０−２１３５６２号記載の化合物を
含むことができる。

【００３５】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。

【００３６】実施例１ 図１に示すように自動現像機（ＧＲ−27 コニカ（株）
製）の水洗槽底部に遠赤外線放射体を搭載したものにて
大全フィルムを処理した（大全サイズ508×610mm²）。
処理中の洗浄液は、放射源への供給電力1500Ｗ、照射時
間１時間おきに１分間で水洗槽底部で遠赤外線照射（放
射主波長５〜８μm）を行いながら処理をした。水の供
給量は大全１枚あたり5.7リットルで１枚処理が行われ
ると電磁弁が作動し水源から５リットル／分のペースで
洗浄液が水洗槽中に供給され余った洗浄液はオーバーフ
ローから排液される。以上の動作を現像挿入部のフィル
ム感知センサーを利用し、電磁弁とタイマーを用いて自
動的に行った。

【００３７】実施例２ 実施例１において、遠赤外線照射を、放射源への供給電
力1000Ｗ、照射時間１時間おきに３分間に変えた以外は
実施例１と同様に処理した。

【００３８】比較例１ 上記遠赤外線照射機構を設けていない通常の自動現像機
（ＧＲ−27 コニカ（株）製）にて処理した。これらの
方法にて大全サイズフィルムを間欠的に１日あたり120
枚ずつ２ヶ月間処理を続けた。

【００３９】上記実施例１，２および比較例１におい
て、いづれも一日の処理終了時には水洗槽の洗浄液を電
磁弁を用いて自動的に抜いている。

【００４０】評価として水洗槽ラックの汚れ状態を表１
に併せて表示した。なお、上記フィルムは明室返し用フ
ィルムＣＲＨＥ−Ａ（コニカ（株）製）を製版用プリン
ターＰ−607（大日本スクリーン（株）製）にて露光、
黒化率約20％を使用し、現像液ＣＤＭ−651Ｋ、定着液
ＣＦＬ851（いずれもコニカ（株）製）にて現像28℃30
秒にて処理を行った。

【００４１】

【表１】 上記表１から判る通り、本発明の処理方法は長期連続使
用でもメインテナンスフリーの水垢防止が可能であるこ
とは明らかである。

【００４２】実施例３ 図２に示すように配管を接続した自動現像機（ＧＲ−27
コニカ（株）製）にて大全フィルムを処理した（大全
サイズ508×610mm²）。処理中の洗浄液は表２に示す条
件で貯水タンク（５リットル）中で遠赤外線照射を放射
源への供給電力1500Ｗ、放射主波長５〜８μm、水１リ
ットル当りの照射時間８秒で行った後、水洗槽に供給さ
れる。水の供給量は大全１枚あたり1.5リットルで５枚
処理が行われる度に3.3リットルの洗浄液が水洗槽に供
給される。以上の動作を定着液補充信号を利用し、電磁
弁とタイマーを用いて自動的に行った。

【００４３】実施例４ 実施例３における遠赤外線照射を、放射源への供給電力
1000Ｗ、水１リットル当りの照射時間12秒に変えた以外
は実施例３と同様に処理した。

【００４４】比較例２ 上記遠赤外線照射機構を設けていない通常の自動現像機
（ＧＲ−27 コニカ（株）製）にて処理した。これらの
方法にて大全サイズフィルムを間欠的に１日あたり120
枚ずつ２ヶ月間処理を続けた。

【００４５】上記実施例３，４および比較例２におい
て、いづれも一日の処理終了時には水洗槽の洗浄液を電
磁弁を用いて自動的に抜いている。評価として水洗槽ラ
ックの汚れ状態を表２に併せて表示した。なお、上記フ
ィルムは明室返し用フィルムＣＲＨＥ−Ａ（コニカ
（株）製）を製版用プリンターＰ−607（大日本スクリ
ーン（株）製）にて露光、黒化率約20％を使用し、現像
液ＣＤＭ−651Ｋ、定着液ＣＦＬ851（いずれもコニカ
（株）製）にて現像28℃30秒にて処理を行った。

【００４６】

【表２】 表２から判る通り、本発明の処理方法によれば長期連続
使用でもメインテナンスフリーの水垢汚れ防止が可能で
あることが明らかである。

【００４７】

【発明の効果】本発明によれば、自動現像機の水洗槽の
かび、バクテリアの発生を抑制し、水垢による汚れを防
止し、かつ安価でしかも長期連続使用でもメインテナン
スフリーの水垢防止が可能な感光材料の処理方法を提供
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における、自動現像機の水洗槽において
洗浄液に遠赤外線を照射しながら処理する方式の１例を
示す概略構成図である。

【図２】本発明における、自動現像機の水洗槽にあらか
じめ遠赤外線を照射した洗浄液を供給して処理する方式
の１例を示す概略構成図である。

【符号の説明】

１，12 自動現像機 ２，13 現像槽 ３，14 定着槽 ４，15 水洗槽 ５，17 水源 10，22 遠赤外線放射体

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機
   を用いて処理する場合において、水洗槽において洗浄液
   に遠赤外線を照射しながら処理することを特徴とする感
   光材料の処理方法。
2. 【請求項２】 ハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機
   を用いて処理する場合において、水洗槽に供給する洗浄
   液にあらかじめ遠赤外線を照射し、水洗槽中に供給する
   ことを特徴とする感光材料の処理方法。