JPH0581707A - 情報記憶媒体原盤作成用マスク及びその製造方法並びに情報記憶媒体原盤作成用マスクを用いた情報記憶媒体原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数の透過光量が異なる開口部を有するマス
クを用いて情報記憶媒体原盤を作成する。 【構成】 ガラス基板１上にレジスト層２を塗布し、こ
のレジスト層２に複数の透過光量が異なる開口部１３ａ
〜１３ｃを有するマスク１６を密着し、マスク１６上か
ら全面に光２０を照射して露光し、ガラス基板１上に開
口部１３ａ〜１３ｃに夫々対応して深さが異なる情報ピ
ット４ａ、案内溝４ｂ，４ｃを形成する。 【効果】 簡単な工程で均一な特性の情報記憶媒体原盤
を得ることができ、スタンパの歩留まり及び特性を向上
して安定した情報記憶媒体を供給でき、しかも任意の光
源で高密度の細い情報記録用溝及び案内溝を持つ情報記
憶媒体原盤を製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、情報を凹凸パタンと
して記録した情報記録用溝と、この溝と深さの異なる案
内溝を有する情報記憶媒体を得るための情報記憶媒体原
盤作成用マスク及びその製造方法並びに情報記憶媒体原
盤作成用マスクを用いた情報記憶媒体原盤の製造方法に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図３は従来の光ディスク原盤の製造方法
の主要工程を示す断面図であり、図３（ａ）に示すよう
に、ガラス基板１上にポジ型レジスト層２を塗布し、図
３（ｂ）に示すように、集光したレーザ光３ａあるいは
レーザ光３ａより弱い強度の集光したレーザ光３ｂ，３
ｃでポジ型レジスト層２を露光し、現像することで、図
３（ｃ）に示すような情報ピット４ａと、情報ピット４
ａと深さの異なる案内溝４ｂ，４ｃを持った光ディスク
原盤５を得ている。一般に主な追記型光ディスクおよび
書換型光ディスクは情報ピット列と案内溝の２重螺旋に
なっており、この２重螺旋をもつ光ディスクの原盤を作
成するために、ガラス基板を回転させると同時に２本の
レーザ光を半径方向に移動させながら１本の案内溝と１
列の情報ピットを同時に作成する方法、またはガラス基
板の１回転づつ案内溝と情報ピットを交互にレーザ光を
切り換えながら作成する方法がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の光ディスク原盤
の製造方法は上述のように行われているので、ガラス基
板と同時に２本のレーザ光を移動させたり、ガラス基板
の１回転づつ交互にレーザ光を切換える必要があるなど
の点で光学系が複雑となり、装置調整毎に光学系の状態
を同一にできず、このため製造された光ディスク原盤の
特性が若干異なり、光ディスク原盤から直接スタンパ
（金型）を作成する場合には、スタンパが変わる毎に特
性の異なる光ディスクが作成され、安定した光ディスク
の供給するにはスタンパの歩留まりが悪くなるという問
題点があった。また、スタンパの特性を均一にするため
に、光ディスク原盤からマザーを作成し、そのマザーか
ら複数のスタンパを作成する方法があるが、転写工程が
増えた分スタンパの特性が劣化し、光ディスクの欠陥も
増加するという問題点があった。また、露光時に光ディ
スク原盤の回転と同時にレーザ光の集光した位置を半径
方向に移動させるため、可動部の振動によって光ディス
ク原盤上の露光したい部分にずれを生じ、光ディスク原
盤の特性がばらつくという問題点があった。また、従来
の製造方法では、案内溝または情報ピットの幅は、光学
系よりλ／ＮＡ（開口数）で決定されるレーザ光のスポ
ット径で主に決まるが、高密度化に伴い細い案内溝及び
情報ピットが必要な場合、レンズのＮＡには限界がある
ためレーザ光の波長を短くする必要があり、従来使用さ
れているＡｒイオンレーザ、Ｋｒイオンレーザ、Ｈｅ−
Ｃｄレーザなどの青色レーザではパワーはあるが、波長
が長く十分に対応できず、しかもエキシマレーザなど短
波長でかつ十分なパワーを持つパルスレーザを使用でき
ず、新たに紫外領域でかつ十分なパワーをもった連続発
信可能なレーザが必要であるという問題点があった。

【０００４】この発明はこのような問題点を解決するた
めになされたもので、簡単な構成で情報記憶媒体原盤に
対して深さの異なった複数の溝を形成させることができ
る情報記憶媒体原盤作成用マスクを得ることを目的とす
る。

【０００５】また、簡単な工程の情報記憶媒体原盤作成
用マスクの製造方法を得ることを目的とする。

【０００６】また、簡単な工程で均一な特性の情報記憶
媒体原盤を得ることができ、スタンパの歩留まり及び特
性を向上して安定した情報記憶媒体を供給でき、しかも
任意の光源を用いて高密度の細い情報記録用溝及び案内
溝を有する情報記憶媒体原盤を製造できる情報記憶媒体
作成用マスクを用いた情報記憶媒体原盤の製造方法を得
ることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明に係る情報記憶
媒体原盤作成用マスクは、ガラス基板と、このガラス基
板上に設けられた複数の透過光量が異なる開口部とを備
えたものである。

【０００８】この発明に係る情報記憶媒体原盤作成用マ
スクの製造方法は、第１の主表面に選択的に設けられた
複数の遮光膜を有するガラス基板上に色素を含んだレジ
スト層を塗布する工程と、上記レジスト層の上部より上
記複数の特定の遮光膜間にレーザ光を照射して露光し、
上記ガラス基板の第１の主表面上に複数の透過光量が異
なる開口部を形成する工程とを含むものである。

【０００９】この発明に係る情報記憶媒体原盤作成用マ
スクを用いた情報記憶媒体原盤の製造方法は、ガラス基
板上にレジスト層を塗布する工程と、複数の透過光量が
異なる開口部を有するマスクの該開口部側を上記レジス
ト層に密着し、上記マスク上から全面に光を照射して露
光し、上記ガラス基板上に上記開口部に対応して深さが
異なる複数の溝を形成する工程とを含むものである。

【００１０】

【作用】この発明においては、ガラス基板上に複数の透
過光量が異なる開口部を設ける。このような構成のマス
クを用いることにより、簡単な構成で容易に情報記憶媒
体原盤に深さの異なる複数の溝を形成することができ
る。

【００１１】また、この発明においては、選択的に設け
られた複数の遮光膜を有するガラス基板上に減光用の色
素を含んだレジスト層を塗布し、レジスト層の上部より
複数の特定の遮光膜間にレーザ光を照射して露光し、現
像する。すると、ガラス基板上に複数の透過光量が異な
る開口部が形成される。そして、レジスト層をそのまゝ
開口部用として使用するので簡単な工程で情報記憶媒体
作成用マスクを製造できる。

【００１２】また、この発明においては、ガラス基板上
のレジスト層に情報記憶媒体作成用マスクの開口部側を
密着させ、マスク上から全面に光を照射して一括露光
し、現像する。すると、ガラス基板上にマスクの開口部
に対応して深さの異なる情報記録用溝と案内溝が形成さ
れる。これにより、光学系が簡単でマザーから複数のス
タンパを作成する転写工程を設ける必要がないので、簡
単な工程で均一な特性の情報記憶媒体原盤を得ることが
でき、スタンパの歩留まり及び特性を向上して安定した
情報記憶媒体を供給でき、しかもレーザ光又は水銀ラン
プ光の任意の光源を用いて高密度の細い情報記録用溝及
び案内溝を有する情報記憶媒体原盤を製造できる。

【００１３】

【実施例】

実施例１．以下、この発明の一実施例を、情報記憶媒体
として光ディスクの場合を例にとり、図について説明す
る。図１はこの発明の光ディスク原盤作成用マスクの製
造方法の主要工程を示す断面図である。まず図１（ａ）
に示すように、マスク用ガラス基板１０上に例えば東京
応化製ＯＥＢＲ−１００を用いたネガ型電子線用レジス
ト層１１を塗布し、図１（ｂ）に示すように、光ディス
クの案内溝及び情報ピットパターンを電子線露光装置
（図示せず）を用いて電子線１２ａ，１２ｂ及び１２ｃ
で露光し、図１（ｃ）に示すように、電子線用レジスト
層１１を現像液たとえば東京応化製ＯＥＢＲ−１００用
現像液を用いて現像し、図１（ｄ）に示すように、案内
溝及び情報ピットパターンをもつレジスト層１１つきの
ガラス基板１０にスパッタまたは蒸着などで遮光膜例え
ばＣｒ膜１３を被着し、図１（ｅ）に示すように、電子
線用レジスト層１１を剥離液たとえば東京応化製剥離液
シリーズを用いて剥離すると共に、電子線レジスト層１
１上のＣｒ層１３も剥離すると、情報記録用溝すなわち
情報ピット用開口部１３ａ及び案内溝用開口部１３ｂ，
１３ｃのパタンをもつＣｒ膜１３つきガラス基板１０が
得られる。この方法は一般にリフトオフ法と呼ばれる。
次に案内溝用開口部１３ｂ，１３ｃの部分に減光フィル
タを作成するために、図１（ｆ）に示すように、この情
報ピット用開口部１３ａと案内溝用開口部１３ｂ，１３
ｃのパターンをもつＣｒ膜１３つきガラス基板１０上に
減光用の色素を含んだ例えばポジ型レジスト層１４を塗
布し、図１（ｇ）に示すように、案内溝用開口部１３
ｂ，１３ｃを用いてトラッキングをかけながら情報ピッ
ト用開口部１３ａに近紫外または青色光例えばＡｒイオ
ンレーザ光１５を用いて露光し、現像を行うと、図１
（ｈ）に示すように、完全な情報ピット用開口部１３ａ
とそれぞれ色素を含んだポジ型レジスト層から成る減光
フィルタ１４ｂ，１４ｃを有する案内溝用開口部１３
ｂ，１３ｃすなわち透過光量が異なる開口部１３ａと１
３ｂ，１３ｃを備えた光ディスク原盤作成用マスク１６
が得られる。なお、ポジ型レジスト層１４の代わりにネ
ガ型レジスト層を用いてもよい。このように本実施例で
は、透過光量が異なる開口部を有するマスクを簡単な工
程で作成でき、このマスクを用いることにより容易に光
ディスクの原盤に深さの異なる複数の溝すなわち情報記
録用溝とこれと深さの異なる案内溝を形成できる。

【００１４】実施例２．図２はこの発明の光ディスク原
盤作成用マスクを用いた光ディスク原盤の製造方法の主
要工程を示す断面図である。なお、図２において、図１
及び図３と対応する部分には同一符号を付して説明す
る。まず図２（ａ）に示すように、ガラス基板１上にポ
ジ型レジスト層２をスピンコートで塗布し、図２（ｂ）
に示すように、実施例１で作成したＣｒ膜でできた遮光
部分と案内溝部分に減光フィルタを持つ開口部と情報ピ
ット部分に開口部をもつ光ディスク原盤作成用マスク１
６をその開口部側を下にしてポジ型レジスト層２上に真
空密着させて、レーザ光又は水銀ランプ光２０を用い
て、マスク１６上から全面に一括露光を行う。遮光部分
に来た光は完全に遮光されるため遮光部分で覆われたポ
ジ型レジスト層２の部分は全く感光せず、開口部を通過
した光２０はポジ型レジスト層２にすべて到着するが、
減光フィルタのある開口部を通過した光は減光フィルタ
のない開口部を通過した光に比べ強度が弱まりポジ型レ
ジスト層２を十分に感光しないため、現像を適当な所で
止めることで、ガラス基板１上に情報ピット４ａと、こ
れと深さの異なる案内溝４ｂ，４ｃをもつ光ディスク原
盤５が作成できる。なお、減光フィルタを通してレジス
ト層に照射される光と減光フィルタを通さずに直接レジ
スト層に照射される光の強度比は、減光フィルタの厚さ
及び複素屈折率で決定される。また、露光に用いる光源
としては連続発振可能なレーザに限らずエキシマレーザ
など短波長でかつ十分なパワーをもつパルスレーザやコ
ヒーレントでない通常の水銀ランプ等の紫外線領域の光
源等任意の光源を用いてよい。このように本実施例で
は、従来の如くガラス基板の回転と同時に２本のレーザ
光を半径方向に移動させたり、ガラス基板の１回転づつ
案内溝と情報ピットを交互にレーザ光を切り換えるなど
の機構を必要としないので光学系が簡単となり、装置調
整の困難さからくる光ディスク原盤作成毎の特性の違い
を少なくし、この光ディスク原盤より直接作成するスタ
ンパの歩留まりを大幅に改善でき、常に安定した光ディ
スクを供給できる。また、光ディスク原盤からマザーを
作成し、そのマザーから複数のスタンパを作成する必要
がないので、常に均一の特性のスタンパを得ることがで
きる。また、露光に際して可動部がなく、静止した状態
で露光するので、従来の可動部の振動や移動精度による
光ディスク原盤の特性のばらつきを無くすることができ
る。また、コンタクト露光、つまりマスクをレジスト層
上に密着して露光するので、紫外光の波長以下の従来よ
りかなり小さい案内溝及び情報ピットが作成できる。更
に連続発振可能なレーザに限らず、エキシマレーザなど
短波長でかつ十分なパワーをもつパルスレーザやコヒー
レントでない通常の水銀ランプ等の紫外線領域の光源等
任意の光源を使用できるので汎用性があり、また任意の
光源で高密度の細い案内溝及び情報ピットを作成でき
る。

【００１５】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、ガラ
ス基板と、このガラス基板上に設けられた複数の透過光
量が異なる開口部とを備えたので、簡単な構成で容易に
情報記憶媒体原盤に深さの異なる溝を形成できるという
効果を奏する。

【００１６】また、第１の主表面に選択的に設けられた
複数の遮光膜を有するガラス基板上に色素を含んだレジ
スト層を塗布する工程と、上記レジスト層の上部より上
記複数の特定の遮光膜間にレーザ光を照射して露光し、
上記ガラス基板の第１の主表面上に複数の透過光量が異
なる開口部を形成する工程とを含むので、簡単な工程で
情報記憶媒体作成用マスクを製造できるという効果を奏
する。

【００１７】また、ガラス基板上にレジスト層を塗布す
る工程と、複数の透過光量が異なる開口部を有するマス
クの該開口部側を上記レジスト層に密着し、上記マスク
上から全面に光を照射して露光し、上記ガラス基板上に
上記開口部に対応して深さが異なる複数の溝を形成する
工程とを含むので、簡単な工程で均一な特性の情報記憶
媒体原盤を得ることができ、スタンパの歩留まり及び特
性を向上して安定した情報記憶媒体を供給でき、しかも
任意の光源を用いて高密度の細い情報記録用溝及び案内
溝を有する情報記憶媒体原盤を製造でき、良好な信号が
得られる情報記憶媒体を作成できるという効果を奏す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例による主要工程を示す断面
図である。

【図２】この発明の他の実施例による主要工程を示す断
面図である。

【図３】従来の光ディスク原盤の装置方法の主要工程を
示す断面図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ ポジ型レジスト層 ４ａ 情報ピット ４ｂ，４ｃ 案内溝 ５ 光ディスク原盤 １０ マスク用ガラス基板 １３ Ｃｒ膜 １３ａ〜１３ｃ 開口部 １４ ポジ型レジスト層 １４ｂ，１４ｃ 減光フィルタ １５ Ａｒイオンレーザ光 １６ 光ディスク原盤作成用マスク ２０ レーザ光又は水銀ランプ光

【手続補正書】

【提出日】平成４年８月６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項２

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００１

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、情報を凹凸パタンと
して記録した情報記録用溝（情報ピット）と、この溝と
深さの異なる案内溝を有する情報記憶媒体を得るための
情報記憶媒体原盤作成用マスク及びその製造方法並びに
情報記憶媒体原盤作成用マスクを用いた情報記憶媒体原
盤の製造方法に関するものである。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００８

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００８】この発明に係る情報記憶媒体原盤作成用マ
スクの製造方法は、ガラス基板上の第１の主表面に選択
的に設けられた複数の開口部を有する遮光膜上に色素を
含んだレジスト層を塗布する工程と、上記レジスト層の
上部より特定の上記開口部にレーザ光を照射して露光
し、上記ガラス基板の第１の主表面上に複数の透過光量
が異なる開口部を形成する工程とを含むものである。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１１】また、この発明においては、ガラス基板上
の第１の主表面に選択的に設けられた複数の開口部を有
する遮光膜上に減光用の色素を含んだレジスト層を塗布
し、レジスト層の上部より特定の上記開口部にレーザ光
を照射して露光し、現像する。すると、ガラス基板上に
複数の透過光量が異なる開口部が形成される。そして、
レジスト層をそのまゝ減光フィルタ用として使用するの
で簡単な工程で情報記憶媒体作成用マスクを製造でき
る。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１６】また、ガラス基板上の第１の主表面に選択
的に設けられた複数の開口部を有する遮光膜上に色素を
含んだレジスト層を塗布する工程と、上記レジスト層の
上部より特定の上記開口部にレーザ光を照射して露光
し、上記ガラス基板の第１の主表面上に複数の透過光量
が異なる開口部を形成する工程とを含むので、簡単な工
程で情報記憶媒体作成用マスクを製造できるという効果
を奏する。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基板と、このガラス基板上に設け
   られた複数の透過光量が異なる開口部とを備えたことを
   特徴とする情報記憶媒体原盤作成用マスク。
2. 【請求項２】 第１の主表面に選択的に設けられた複数
   の遮光膜を有するガラス基板上に色素を含んだレジスト
   層を塗布する工程と、 上記レジスト層の上部より上記複数の特定の遮光膜間に
   レーザ光を照射して露光し、上記ガラス基板の第１の主
   表面上に複数の透過光量が異なる開口部を形成する工程
   とを含むことを特徴とする情報記憶媒体原盤作成用マス
   クの製造方法。
3. 【請求項３】 ガラス基板上にレジスト層を塗布する工
   程と、複数の透過光量が異なる開口部を有するマスクの
   該開口部側を上記レジスト層に密着し、上記マスク上か
   ら全面に光を照射して露光し、上記ガラス基板上に上記
   開口部に対応して深さが異なる複数の溝を形成する工程
   とを含むことを特徴とする情報記憶媒体作成用マスクを
   用いた情報記憶媒体原盤の製造方法。