JPH0582622A - 機械式インターフエース装置 - Google Patents
機械式インターフエース装置Info
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- JPH0582622A JPH0582622A JP24085091A JP24085091A JPH0582622A JP H0582622 A JPH0582622 A JP H0582622A JP 24085091 A JP24085091 A JP 24085091A JP 24085091 A JP24085091 A JP 24085091A JP H0582622 A JPH0582622 A JP H0582622A
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- port
- pod
- door
- gas
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 空気中の酸素によるウエハ表面の自然酸化膜
の影響が問題となり、この成長を防止するため、ウエハ
の移動、搬送、処理等を不活性ガス（Ｎ２ガス）雰囲気
中で行なう必要が生じたので、このガス置換が可能とな
る機械式インターフェース装置を提供する。 【構成】 本体ケース１内の空気をＮ２ガスで置換して
Ｎ２ガス雰囲気とし、ポッドＰＯＤ１０内部はＮ２ガス
雰囲気に保たれているが、該ポッドが本体ケース１の天
板２上にセットされる都度、その内部をＮ２ガスで再置
換してより高純度のＮ２ガス雰囲気とする。可搬タイプ
であるポッドへのＮ２ガス注入は、ポッドドア２１で密
閉したままで、本体ケース１側からＮ２ガスを注入す
る。このため二重環状体状のベローズ５０が気密に配設
され、内に複数本の予負荷ばね７０とで付勢装置とし、
ポットドアが任意の所定高さ下降駆動されることを特徴
とする。
の影響が問題となり、この成長を防止するため、ウエハ
の移動、搬送、処理等を不活性ガス（Ｎ２ガス）雰囲気
中で行なう必要が生じたので、このガス置換が可能とな
る機械式インターフェース装置を提供する。 【構成】 本体ケース１内の空気をＮ２ガスで置換して
Ｎ２ガス雰囲気とし、ポッドＰＯＤ１０内部はＮ２ガス
雰囲気に保たれているが、該ポッドが本体ケース１の天
板２上にセットされる都度、その内部をＮ２ガスで再置
換してより高純度のＮ２ガス雰囲気とする。可搬タイプ
であるポッドへのＮ２ガス注入は、ポッドドア２１で密
閉したままで、本体ケース１側からＮ２ガスを注入す
る。このため二重環状体状のベローズ５０が気密に配設
され、内に複数本の予負荷ばね７０とで付勢装置とし、
ポットドアが任意の所定高さ下降駆動されることを特徴
とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体の製造プロセス
で用いられる機械式インターフェース装置に関する。
で用いられる機械式インターフェース装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体の処理は、半導体のパーテ
ィクル汚染を防止するために、特別に設計したクリーン
ルーム内で行なわれていたが、その保守を含めて費用が
かかりすぎるという問題がある他、パーティクル汚染の
汚染レベルの低減には限界があるので、例えば特開昭６
０−１４３６２３号公報に開示されているような標準化
された機械的インターフェース装置（ＳＭＩＦ装置）が
開発された。
ィクル汚染を防止するために、特別に設計したクリーン
ルーム内で行なわれていたが、その保守を含めて費用が
かかりすぎるという問題がある他、パーティクル汚染の
汚染レベルの低減には限界があるので、例えば特開昭６
０−１４３６２３号公報に開示されているような標準化
された機械的インターフェース装置（ＳＭＩＦ装置）が
開発された。
【０００３】このＳＭＩＦ装置は、例えば、図４に示す
ように、ウエハ処理装置（図示しない）を収納し、清浄
空気で満たされている装置の本体ケース１と、可搬式タ
イプのボックス（以下、ポッドＰＯＤという）１０およ
び搬送装置３０を含んでいる。装置本体の本体ケース１
の天板２にはポートプレート３によりポート（ウエハカ
セット２０の搬入・搬出口）４が形成されており、把持
部１０Ａを持つポッドＰＯＤ１０はこのポートプレート
３上に載置される。ポッドＰＯＤ１０はその開口１１の
周囲に環状のフランジ１２を有する形状となっている。
この例の搬送装置３０は昇降装置であって、昇降軸３２
に支持された昇降台３１にウエハカセット２０を載せて
昇降するが、この昇降台３１は、ポートドアとなってお
り、最上昇時には、ポートプレート３に下から当接もし
くは嵌合してポート４を本体ケース１を外部に対して密
閉し、また、ポートドア３１上にあるウエハカセット２
０の台２１はポッドＰＯＤ１０の開口１１の周部に当接
して当該開口１１を密閉する。この台２１を、以下、ポ
ッドドアという。１３はシール材であって、ポッドＰＯ
Ｄ１０の開口とポッドドア２１との間をシールし、シー
ル材１４はポッドＰＯＤ１０のフランジ１２とポートプ
レート３との間をシールし、シール材１５はポートプレ
ート３とポートドア３１との間をシールする。４０はロ
ック機構であって、図示しないギヤードモータにより駆
動されるロックレバー４１を有し、ポッドＰＯＤ１０の
フランジ１２をポートプレート３上へ押し下げる働きを
する。この例においては、処理前のウエハＷが図示しな
い他の場所からポートドア３１上へ移載されたのち、ポ
ッドＰＯＤ１０をポートプレート３上に載置し、ロック
レバー４１で固定する。ロックレバー４１で固定したの
ち、ポートドア３１を移載位置まで下降する。ポートド
ア３１が移載位置まで下降すると、図示しない移載装置
がポートドア３１上のウエハカセット２０を処理機械へ
搬送する。
ように、ウエハ処理装置（図示しない）を収納し、清浄
空気で満たされている装置の本体ケース１と、可搬式タ
イプのボックス（以下、ポッドＰＯＤという）１０およ
び搬送装置３０を含んでいる。装置本体の本体ケース１
の天板２にはポートプレート３によりポート（ウエハカ
セット２０の搬入・搬出口）４が形成されており、把持
部１０Ａを持つポッドＰＯＤ１０はこのポートプレート
３上に載置される。ポッドＰＯＤ１０はその開口１１の
周囲に環状のフランジ１２を有する形状となっている。
この例の搬送装置３０は昇降装置であって、昇降軸３２
に支持された昇降台３１にウエハカセット２０を載せて
昇降するが、この昇降台３１は、ポートドアとなってお
り、最上昇時には、ポートプレート３に下から当接もし
くは嵌合してポート４を本体ケース１を外部に対して密
閉し、また、ポートドア３１上にあるウエハカセット２
０の台２１はポッドＰＯＤ１０の開口１１の周部に当接
して当該開口１１を密閉する。この台２１を、以下、ポ
ッドドアという。１３はシール材であって、ポッドＰＯ
Ｄ１０の開口とポッドドア２１との間をシールし、シー
ル材１４はポッドＰＯＤ１０のフランジ１２とポートプ
レート３との間をシールし、シール材１５はポートプレ
ート３とポートドア３１との間をシールする。４０はロ
ック機構であって、図示しないギヤードモータにより駆
動されるロックレバー４１を有し、ポッドＰＯＤ１０の
フランジ１２をポートプレート３上へ押し下げる働きを
する。この例においては、処理前のウエハＷが図示しな
い他の場所からポートドア３１上へ移載されたのち、ポ
ッドＰＯＤ１０をポートプレート３上に載置し、ロック
レバー４１で固定する。ロックレバー４１で固定したの
ち、ポートドア３１を移載位置まで下降する。ポートド
ア３１が移載位置まで下降すると、図示しない移載装置
がポートドア３１上のウエハカセット２０を処理機械へ
搬送する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は、ウ
エハＷのパーティクル汚染が問題になっていたが、半導
体集積回路の高密度化が進むに従い、空気中の酸素によ
るウエハ表面の自然酸化膜の影響が問題となり始め、こ
の自然酸化膜の成長を防止するため、ウエハＷの移動、
搬送、処理等を不活性ガス（Ｎ2 ガス）雰囲気中で行な
う必要が生じ、現在では、Ｏ2 、Ｈ2 Ｏの濃度が１０ｐ
ｐｍ以下であるＮ2 ガス雰囲気が要求されている。
エハＷのパーティクル汚染が問題になっていたが、半導
体集積回路の高密度化が進むに従い、空気中の酸素によ
るウエハ表面の自然酸化膜の影響が問題となり始め、こ
の自然酸化膜の成長を防止するため、ウエハＷの移動、
搬送、処理等を不活性ガス（Ｎ2 ガス）雰囲気中で行な
う必要が生じ、現在では、Ｏ2 、Ｈ2 Ｏの濃度が１０ｐ
ｐｍ以下であるＮ2 ガス雰囲気が要求されている。
【０００５】上記したＳＭＩＦ装置を用いる場合には、
本体ケース１内の空気をＮ2 ガスで置換してＮ2 ガス雰
囲気とし、ポッドＰＯＤ１０内部はＮ2 ガス雰囲気に保
たれているが、該ポッドＰＯＤ１０が本体ケース１の天
板２上にセットされる都度、その内部をＮ2 ガスで再置
換してより高純度のＮ2 ガス雰囲気とすることになる。
可搬タイプであるポッドＰＯＤ１０へのＮ2 ガスの注入
は、本体ケース１側に設けるＮ2 ガスボンベから行なう
必要があるが、ポッドＰＯＤ１０をポッドドア２１で密
閉したままで、本体ケース１側からＮ2 ガスを注入する
ことは簡単ではなく、構造的に複雑になる。
本体ケース１内の空気をＮ2 ガスで置換してＮ2 ガス雰
囲気とし、ポッドＰＯＤ１０内部はＮ2 ガス雰囲気に保
たれているが、該ポッドＰＯＤ１０が本体ケース１の天
板２上にセットされる都度、その内部をＮ2 ガスで再置
換してより高純度のＮ2 ガス雰囲気とすることになる。
可搬タイプであるポッドＰＯＤ１０へのＮ2 ガスの注入
は、本体ケース１側に設けるＮ2 ガスボンベから行なう
必要があるが、ポッドＰＯＤ１０をポッドドア２１で密
閉したままで、本体ケース１側からＮ2 ガスを注入する
ことは簡単ではなく、構造的に複雑になる。
【０００６】本発明はこの問題を解消するためになされ
たもので、ポッド内のガス置換が容易に可能であり、簡
単な部材を付加するだけでこのガス置換が可能となる機
械式インターフェース装置を提供することを目的とす
る。
たもので、ポッド内のガス置換が容易に可能であり、簡
単な部材を付加するだけでこのガス置換が可能となる機
械式インターフェース装置を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、請求項１では、本体ケースに設けられ被処理
物の搬入・搬出用ポートを形成するポートプレート上に
載置されて前記ポートを覆う開口フランジ付ポッド、こ
のポッドの開口を閉鎖可能なポッドドア、前記本体ケー
ス内に昇降可能に支持され最上昇時に上記ポートプレー
トに係合して前記ポートを閉鎖するポートドアを備え、
このポートドアが上記ポッドドアを上記ポッド内から本
体ケースへまたその逆へ搬送する機械式インターフェー
ス装置において、上記ポートドアが所定高さ昇降動可能
な筒状空間を内部に区画するとともに上記ポートプレー
トの下面に気密に係合可能な上係合周部を有する可動の
ポートスカート、上記ポートドアもしくは当該ポートド
アとともに昇降する部材に配設され上記ポートスカート
を上記ポートプレートへ向けて付勢する付勢装置を備
え、上記ポートプレートは内周面に開口する排気口とこ
の内周面に開口するとともにＮ2 ガス源に接続される給
気口を有し、上記付勢装置は、ポートドアの昇降軸に固
着された台とポートスカートの下フランジとの間に介装
された複数本の予負荷ばねであり、上記台とポートスカ
ートの下フランジとの間に当該ポートスカートの下開口
を取り巻く二重環体状のベローズが気密に配設され、上
記複数本の予負荷ばねはこのベローズ内に配設され、上
記ポッド内へのＮ2 ガス注入に際し、上記ポートドアが
任意の所定高さ下降駆動される構成とした。
するため、請求項１では、本体ケースに設けられ被処理
物の搬入・搬出用ポートを形成するポートプレート上に
載置されて前記ポートを覆う開口フランジ付ポッド、こ
のポッドの開口を閉鎖可能なポッドドア、前記本体ケー
ス内に昇降可能に支持され最上昇時に上記ポートプレー
トに係合して前記ポートを閉鎖するポートドアを備え、
このポートドアが上記ポッドドアを上記ポッド内から本
体ケースへまたその逆へ搬送する機械式インターフェー
ス装置において、上記ポートドアが所定高さ昇降動可能
な筒状空間を内部に区画するとともに上記ポートプレー
トの下面に気密に係合可能な上係合周部を有する可動の
ポートスカート、上記ポートドアもしくは当該ポートド
アとともに昇降する部材に配設され上記ポートスカート
を上記ポートプレートへ向けて付勢する付勢装置を備
え、上記ポートプレートは内周面に開口する排気口とこ
の内周面に開口するとともにＮ2 ガス源に接続される給
気口を有し、上記付勢装置は、ポートドアの昇降軸に固
着された台とポートスカートの下フランジとの間に介装
された複数本の予負荷ばねであり、上記台とポートスカ
ートの下フランジとの間に当該ポートスカートの下開口
を取り巻く二重環体状のベローズが気密に配設され、上
記複数本の予負荷ばねはこのベローズ内に配設され、上
記ポッド内へのＮ2 ガス注入に際し、上記ポートドアが
任意の所定高さ下降駆動される構成とした。
【０００８】請求項２で、ポートドアが下降する任意の
所定高さは、ポートドアの下降に伴う上記ベローズの変
位がポートスカートに作用する引張力が、予負荷ばねの
ばね力を超えない範囲であることを特徴とする。
所定高さは、ポートドアの下降に伴う上記ベローズの変
位がポートスカートに作用する引張力が、予負荷ばねの
ばね力を超えない範囲であることを特徴とする。
【０００９】請求項３は、台には、ベローズ内部に開口
する孔を有し、この孔は本体ケース外へ延びる配管が接
続されていることを特徴とする。
する孔を有し、この孔は本体ケース外へ延びる配管が接
続されていることを特徴とする。
【００１０】請求項４は、ポートプレート上にポッドが
セットされたのち、ポートドアが任意の所定高さ下降
し、密封空間形成後、排気口を閉鎖して給気口からＮ2
ガスを、所定時間もしくは酸素濃度が所定値以下になる
まで注入し、その後に、上記ポートドアが被処理物移載
位置へ下降することを特徴とする。
セットされたのち、ポートドアが任意の所定高さ下降
し、密封空間形成後、排気口を閉鎖して給気口からＮ2
ガスを、所定時間もしくは酸素濃度が所定値以下になる
まで注入し、その後に、上記ポートドアが被処理物移載
位置へ下降することを特徴とする。
【００１１】請求項５は、ポートドアの下降前に、Ｎ2
ガスのポート内吹き込みが行なわれることを特徴とす
る。
ガスのポート内吹き込みが行なわれることを特徴とす
る。
【００１２】
【作用】本発明では、ポッド内へのガス注入に際して
は、ポートドアを任意の高さだけ下降してＮ2 ガスを注
入すればよい。ポートドアの下降に伴い、付勢装置のば
ねは縮むが、ポートスカートに充分な付勢力が作用する
よう上記ばねを予負荷してあるので、ポートスカートは
ポートプレートに圧接したままとなる。このポートドア
の下降により、ポッドドアもポートドアと一緒に下降す
るので、ポッド開口が開くが、ポートスカートの下端は
ベローズで密封され、ポートスカート内は外に対して気
密に遮蔽されているので、ポッド内は外に対して気密に
遮蔽された状態にあり、ポッド開口が開くので、ガス供
給口、ガス排気口がポッド内と連通する。
は、ポートドアを任意の高さだけ下降してＮ2 ガスを注
入すればよい。ポートドアの下降に伴い、付勢装置のば
ねは縮むが、ポートスカートに充分な付勢力が作用する
よう上記ばねを予負荷してあるので、ポートスカートは
ポートプレートに圧接したままとなる。このポートドア
の下降により、ポッドドアもポートドアと一緒に下降す
るので、ポッド開口が開くが、ポートスカートの下端は
ベローズで密封され、ポートスカート内は外に対して気
密に遮蔽されているので、ポッド内は外に対して気密に
遮蔽された状態にあり、ポッド開口が開くので、ガス供
給口、ガス排気口がポッド内と連通する。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の１実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
【００１４】図１において、３３は短筒体のポートスカ
ートであって、ポートドア３１が内部を昇降可能な内部
空間Ａを区画し、下端部には内方へ向く下係合周部（下
フランジ）３３Ａが形成され、この下フランジ３３Ａに
は複数個のガイド孔３３ａが形成されている。また、ポ
ートスカート３３の上端部に外向きの上係合周部（上フ
ランジ）３３Ｂ形成されている。
ートであって、ポートドア３１が内部を昇降可能な内部
空間Ａを区画し、下端部には内方へ向く下係合周部（下
フランジ）３３Ａが形成され、この下フランジ３３Ａに
は複数個のガイド孔３３ａが形成されている。また、ポ
ートスカート３３の上端部に外向きの上係合周部（上フ
ランジ）３３Ｂ形成されている。
【００１５】ポートドア３１の昇降軸３２にはばね座と
なる台座７１が固定され、この台座７１とポートスカー
ト３３の下フランジ３３Ａとの間に、複数本の押し上げ
用のコイルばね７０が予負荷状態で配設されている。
なる台座７１が固定され、この台座７１とポートスカー
ト３３の下フランジ３３Ａとの間に、複数本の押し上げ
用のコイルばね７０が予負荷状態で配設されている。
【００１６】５０は内側ベローズ５１Ａと外側ベローズ
５１Ｂからなる二重環体のベローズであって、台座７１
とポートスカート３３の下フランジ３３Ａとの間にポー
トスカート３３の下開口を取り巻いて気密に取着されて
おり、上記複数本のコイルばね７０はこのベローズ５０
内に配設されている。この台座７１には、内側ベローズ
５１Ａと外側ベローズ５１Ｂが形成する空間に開口する
通気孔７１Ａが形成されている。７２は配管であって、
一端は上記通気孔７１Ａに接続され、他端は図示しない
フィルタを介して本体ケース１外へ引き出されている。
５１Ｂからなる二重環体のベローズであって、台座７１
とポートスカート３３の下フランジ３３Ａとの間にポー
トスカート３３の下開口を取り巻いて気密に取着されて
おり、上記複数本のコイルばね７０はこのベローズ５０
内に配設されている。この台座７１には、内側ベローズ
５１Ａと外側ベローズ５１Ｂが形成する空間に開口する
通気孔７１Ａが形成されている。７２は配管であって、
一端は上記通気孔７１Ａに接続され、他端は図示しない
フィルタを介して本体ケース１外へ引き出されている。
【００１７】３Ａはポートプレート３の下部側を半径方
向に貫通するガス給気口であって配管３ａを通して、図
示しないＮ2 ガスボンベに接続されている。３Ｂはポー
トプレート３の下部側を半径方向に貫通するガス排気
口、３Ｃは配管３ｂに設けられた電磁バルブである。
向に貫通するガス給気口であって配管３ａを通して、図
示しないＮ2 ガスボンベに接続されている。３Ｂはポー
トプレート３の下部側を半径方向に貫通するガス排気
口、３Ｃは配管３ｂに設けられた電磁バルブである。
【００１８】なお、箱体本体ケース１内は、Ｎ2 ガス雰
囲気にあり、常時、２０リットル／分のＮ2 ガス注入に
より与圧されている。
囲気にあり、常時、２０リットル／分のＮ2 ガス注入に
より与圧されている。
【００１９】次に、本実施例の動作を図２、図３を参照
して説明する。
して説明する。
【００２０】今、ポッドＰＯＤ１０が装置外から本体ケ
ース１のポートプレート３上へ移載され、図示しないが
前記ロックレバー４１でポートプレート３上に固定され
たものとする。この状態では、ポッドＰＯＤ１０の開口
１１とポッドドア２１との間はシール材１３で密封さ
れ、ポッドＰＯＤ１０のフランジ１２とポートプレート
３との間はシール材１４で密封される。また、ポートス
カート３３はコイルばね７０により上方に付勢されて、
その上係合周部３３Ｂがシール材３３ｂを介してポート
プレート３下面に圧接し、シール材３３ｂがポートスカ
ート３３とポートプレート３との間をシールしている。
ース１のポートプレート３上へ移載され、図示しないが
前記ロックレバー４１でポートプレート３上に固定され
たものとする。この状態では、ポッドＰＯＤ１０の開口
１１とポッドドア２１との間はシール材１３で密封さ
れ、ポッドＰＯＤ１０のフランジ１２とポートプレート
３との間はシール材１４で密封される。また、ポートス
カート３３はコイルばね７０により上方に付勢されて、
その上係合周部３３Ｂがシール材３３ｂを介してポート
プレート３下面に圧接し、シール材３３ｂがポートスカ
ート３３とポートプレート３との間をシールしている。
【００２１】次に、ポッドＰＯＤ１０内にＮ2 ガスを注
入して内部をＮ2 ガスで置換するが、ガス注入前に、ポ
ートドア３１を図２に示すように任意の所定の小距離だ
け下降させる。この小距離は、昇降軸３２の下降に伴う
ベローズ５０の伸長変位がポートスカート３３に引張力
を作用しない範囲において、任意の距離いあればよい
く、この条件下では、ポートスカート３３の上係合周部
３３ｂがシール材３３ｂを介してポートプレート３の下
面に圧接している。
入して内部をＮ2 ガスで置換するが、ガス注入前に、ポ
ートドア３１を図２に示すように任意の所定の小距離だ
け下降させる。この小距離は、昇降軸３２の下降に伴う
ベローズ５０の伸長変位がポートスカート３３に引張力
を作用しない範囲において、任意の距離いあればよい
く、この条件下では、ポートスカート３３の上係合周部
３３ｂがシール材３３ｂを介してポートプレート３の下
面に圧接している。
【００２２】ポートドア３１の下降に伴い、コイルばね
７０は伸びる、ある程度伸長してもポートスカート３３
に充分な押力が作用するようコイルばね７０を予負荷し
てあるので、ベローズ５０の上記引張力がコイルばね７
０の予負荷を超えない限りは、ポートスカート３３はポ
ートプレート３に圧接したままとなる。このポートドア
３１の下降により、ポッドドア２１もポートドア３１と
一緒に下降するので、ポッドＰＯＤ１０の開口１１が開
くが、ポートスカート３３の下開口はベローズ５０で密
封され、ポートスカート３３内は本体ケース１の内部に
対して気密に遮蔽された状態にあり、ポッドＰＯＤ１０
内の空気が本体ケース１内に侵入する恐れは無い。ポー
トドア３１およびポッドドア２１の下降により、ポッド
ＰＯＤ１０の開口１１が開くので、ガス供給口３Ａ、ガ
ス排気口３ＢがポッドＰＯＤ１０内と連通する。
７０は伸びる、ある程度伸長してもポートスカート３３
に充分な押力が作用するようコイルばね７０を予負荷し
てあるので、ベローズ５０の上記引張力がコイルばね７
０の予負荷を超えない限りは、ポートスカート３３はポ
ートプレート３に圧接したままとなる。このポートドア
３１の下降により、ポッドドア２１もポートドア３１と
一緒に下降するので、ポッドＰＯＤ１０の開口１１が開
くが、ポートスカート３３の下開口はベローズ５０で密
封され、ポートスカート３３内は本体ケース１の内部に
対して気密に遮蔽された状態にあり、ポッドＰＯＤ１０
内の空気が本体ケース１内に侵入する恐れは無い。ポー
トドア３１およびポッドドア２１の下降により、ポッド
ＰＯＤ１０の開口１１が開くので、ガス供給口３Ａ、ガ
ス排気口３ＢがポッドＰＯＤ１０内と連通する。
【００２３】本実施例では、上記のように、ポートドア
３１を下降させてポッドＰＯＤ１０の開口１１を開いた
後、電磁弁３Ｃを開弁し、Ｎ2 ガスをガス供給口３Ａか
らポッドＰＯＤ１０内へ、例えば、７０リットル／分、
ほぼ５分間注入して、ポッドＰＯＤ１０内の空気をガス
排気口３Ｂから排気させてポッドＰＯＤ１０内をＮ2 ガ
スで置換する。
３１を下降させてポッドＰＯＤ１０の開口１１を開いた
後、電磁弁３Ｃを開弁し、Ｎ2 ガスをガス供給口３Ａか
らポッドＰＯＤ１０内へ、例えば、７０リットル／分、
ほぼ５分間注入して、ポッドＰＯＤ１０内の空気をガス
排気口３Ｂから排気させてポッドＰＯＤ１０内をＮ2 ガ
スで置換する。
【００２４】このガス置換が終わると、図３に示すよう
にポートドア３１を所定の位置（移載位置）まで下降さ
せる。これにより、ポッドＰＯＤ１０は本体ケース１内
部と連通することになるが、ポッドＰＯＤ１０内がＮ2
ガス雰囲気になっているので、濃本体ケース１内のＮ2
ガス濃度が低下する恐れは無い。ポートドア３１が上記
移載位置まで下降すると、ポートドア３１上のウエハカ
セット２０は図示しない移載装置によりＮ2 ガス雰囲気
中を処理装置側へ運ばれる。
にポートドア３１を所定の位置（移載位置）まで下降さ
せる。これにより、ポッドＰＯＤ１０は本体ケース１内
部と連通することになるが、ポッドＰＯＤ１０内がＮ2
ガス雰囲気になっているので、濃本体ケース１内のＮ2
ガス濃度が低下する恐れは無い。ポートドア３１が上記
移載位置まで下降すると、ポートドア３１上のウエハカ
セット２０は図示しない移載装置によりＮ2 ガス雰囲気
中を処理装置側へ運ばれる。
【００２５】この処理装置で処理されたウエハカセット
２０は、上記図示しない移載装置によりポートドア３１
上へ移載されて当該ポートドア３１によりポッドＰＯＤ
内へ運ばれ、ポートドア３１が最上昇位置まで上昇して
ポート４を密閉したのち、装置外へ運ばれる。
２０は、上記図示しない移載装置によりポートドア３１
上へ移載されて当該ポートドア３１によりポッドＰＯＤ
内へ運ばれ、ポートドア３１が最上昇位置まで上昇して
ポート４を密閉したのち、装置外へ運ばれる。
【００２６】本実施例では、ポート４を閉鎖しているポ
ートドア３１上に、処理前のウエハを収納したウエハカ
セット２０が移載されたのち、ポートプレート３上へポ
ッドＰＯＤ１０がセットされると、ポートドア３１が所
定の小距離だけ下降して、密封空間Ａが形成され、この
密封空間Ａが形成されたのち、ポッドＰＯＤ１０内がＮ
2 ガスで置換され、ポッドＰＯＤ１０内がＮ2 ガス雰囲
気になったのち、ポッドＰＯＤ１０内が本体ケース１内
と連通するので、本体ケース１内に外部空気や塵埃が持
ち込まれる恐れは皆無となる。
ートドア３１上に、処理前のウエハを収納したウエハカ
セット２０が移載されたのち、ポートプレート３上へポ
ッドＰＯＤ１０がセットされると、ポートドア３１が所
定の小距離だけ下降して、密封空間Ａが形成され、この
密封空間Ａが形成されたのち、ポッドＰＯＤ１０内がＮ
2 ガスで置換され、ポッドＰＯＤ１０内がＮ2 ガス雰囲
気になったのち、ポッドＰＯＤ１０内が本体ケース１内
と連通するので、本体ケース１内に外部空気や塵埃が持
ち込まれる恐れは皆無となる。
【００２７】本実施例のベローズ５０が無い構成では、
ポートドア３１を下フランジ３３Ａ上まで下げて、密封
空間Ａを形成する必要があり、この構成では、ポートド
ア３１が下フランジ３３Ａ上に密接するまでの間、ポッ
ドＰＯＤ１０の内部は、ポッドドア２１の周側面および
ポートドア３１の周側面とポートスカート２２との間に
形成される間隙、ポートスカート３３の下開口を通し
て、本体ケース１内と連通するので、ポッドＰＯＤ１０
内部にある塵埃等が本体ケース１内へ入り込む恐れがあ
るが、本実施例のベローズ５０はこれを確実に防止して
いる。
ポートドア３１を下フランジ３３Ａ上まで下げて、密封
空間Ａを形成する必要があり、この構成では、ポートド
ア３１が下フランジ３３Ａ上に密接するまでの間、ポッ
ドＰＯＤ１０の内部は、ポッドドア２１の周側面および
ポートドア３１の周側面とポートスカート２２との間に
形成される間隙、ポートスカート３３の下開口を通し
て、本体ケース１内と連通するので、ポッドＰＯＤ１０
内部にある塵埃等が本体ケース１内へ入り込む恐れがあ
るが、本実施例のベローズ５０はこれを確実に防止して
いる。
【００２８】また、本実施例では、予負荷ばね７０をベ
ローズ５０内に配設してあるので、予負荷ばね７０から
の発塵が本体ケース１内に散逸する恐れは無い。
ローズ５０内に配設してあるので、予負荷ばね７０から
の発塵が本体ケース１内に散逸する恐れは無い。
【００２９】本実施例では、ポッドＰＯＤ１０が装置外
から本体ケース１のポートプレート３上へセットされた
状態では、ベローズ５０がポートスカート３３の下開口
を気密に閉鎖しているので、ポートドア３１を下降した
ポッドＰＯＤ１０の開口を開く前に、電磁弁３Ｃを開弁
し、Ｎ2 ガスをガス供給口３Ａからポート４内へ吹き込
ませると、ポートドア３１の表面やポッドドア２１の表
面を浄化することができる利点がある。
から本体ケース１のポートプレート３上へセットされた
状態では、ベローズ５０がポートスカート３３の下開口
を気密に閉鎖しているので、ポートドア３１を下降した
ポッドＰＯＤ１０の開口を開く前に、電磁弁３Ｃを開弁
し、Ｎ2 ガスをガス供給口３Ａからポート４内へ吹き込
ませると、ポートドア３１の表面やポッドドア２１の表
面を浄化することができる利点がある。
【００３０】上記説明では、ポッドＰＯＤ１０内へのＮ
2 ガスの注入量を時間で規定しているが、ガス排気口３
Ｂを含む排気系に酸素濃度計を設けて、測定酸素濃度が
所定値以下になると、Ｎ2 ガスの注入を停止するように
する場合もある。
2 ガスの注入量を時間で規定しているが、ガス排気口３
Ｂを含む排気系に酸素濃度計を設けて、測定酸素濃度が
所定値以下になると、Ｎ2 ガスの注入を停止するように
する場合もある。
【００３１】なお、上記実施例では、本体ケース１がウ
エハ処理装置を収納する場合について説明したが、本体
ケース１がＮ2 ガス雰囲気とされたストッカーの場合も
ある。
エハ処理装置を収納する場合について説明したが、本体
ケース１がＮ2 ガス雰囲気とされたストッカーの場合も
ある。
【００３２】
【発明の効果】本発明は以上説明した通り、ポートドア
を任意の所定高さ下降させて、ポッドに連通する密封区
間を形成させ、この密封区間を通して外部のＮ2 ガス源
からポッド内にＮ2 ガスを注入させる構成であるから、
ポートドア、ポッドドアと共同して上記密封区間を区画
する部材を設けるだけで済むみ、安価な費用で、信頼性
の高いポッド内ガス置換システムを構築することができ
る。
を任意の所定高さ下降させて、ポッドに連通する密封区
間を形成させ、この密封区間を通して外部のＮ2 ガス源
からポッド内にＮ2 ガスを注入させる構成であるから、
ポートドア、ポッドドアと共同して上記密封区間を区画
する部材を設けるだけで済むみ、安価な費用で、信頼性
の高いポッド内ガス置換システムを構築することができ
る。
【図１】本発明の実施例を示す縦断面図である。
【図２】上記実施例のＮ2 ガス注入時の状態を示す縦断
面図である。
面図である。
【図３】上記実施例における被処理物ロード／アンロー
ドプロセス中の状態を示す縦断面図である。
ドプロセス中の状態を示す縦断面図である。
【図４】従来のＳＭＩＦ装置の概略を示す図である。
１ 本体ケース ３ ポートプレート ３Ａ 給気口 ３Ｂ 排気口 ３Ｃ 電磁弁 ４ ポート １０ ポッドＰＯＤ １１ ポッドＰＯＤの開口 １２ ポッドＰＯＤのフランジ １３〜１４ シール材 ２０ ウエハカセット ２１ ポッドドア ３１ ポートドア ３２ 昇降軸 ３３ ポートスカート ３３Ａ ポートスカートの下係合周部 ３３Ｂ ポートスカートの上係合周部 ３３ｂ シール材 ４０ ロック機構 ５０ ベローズ ５１Ａ 内側ベローズ ５１Ｂ 外側ベローズ ７０ 付勢装置であるコイルばね ７１ 台座 ７１ａ 通気孔 ７２ 配管 Ａ 密封空間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 日也 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 河野 等 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 奥野 敦 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 津田 正徳 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 林 満弘 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内
Claims (5)
- 【請求項１】 本体ケースに設けられ被処理物の搬入・
搬出用ポートを形成するポートプレート上に載置されて
前記ポートを覆う開口フランジ付ポッド、このポッドの
開口を閉鎖可能なポッドドア、前記本体ケース内に昇降
可能に支持され最上昇時に上記ポートプレートに係合し
て前記ポートを閉鎖するポートドアを備え、このポート
ドアが上記ポッドドアを上記ポッド内から本体ケースへ
またその逆へ搬送する機械式インターフェース装置にお
いて、 上記ポートドアが所定高さ昇降動可能な筒状空間を内部
に区画するとともに上記ポートプレートの下面に気密に
係合可能な上係合周部を有する可動のポートスカート、
上記ポートドアもしくは当該ポートドアとともに昇降す
る部材に配設され上記ポートスカートを上記ポートプレ
ートへ向けて付勢する付勢装置を備え、上記ポートプレ
ートは内周面に開口する排気口とこの内周面に開口する
とともにＮ2 ガス源に接続される給気口を有し、 上記付勢装置は、ポートドアの昇降軸に固着された台と
ポートスカートの下フランジとの間に介装された複数本
の予負荷ばねであり、上記台とポートスカートの下フラ
ンジとの間に当該ポートスカートの下開口を取り巻く二
重環体状のベローズが気密に配設され、上記複数本の予
負荷ばねはこのベローズ内に配設され、 上記ポッド内へのＮ2 ガス注入に際し、上記ポートドア
が任意の所定高さ下降駆動されることを特徴とする機械
式インターフェース装置。 - 【請求項２】 ポートドアが下降する任意の所定高さ
は、ポートドアの下降に伴う上記ベローズの変位がポー
トスカートに作用する引張力が、予負荷ばねのばね力を
超えない範囲であることを特徴とする請求項１に記載の
機械式インターフェース装置。 - 【請求項３】 台には、ベローズ内部に開口する孔を有
し、この孔は本体ケース外へ延びる配管が接続されてい
ることを特徴とする請求項１または２に記載の機械式イ
ンターフェース装置。 - 【請求項４】 ポートプレート上にポッドがセットされ
たのち、ポートドアが任意の所定高さ下降し、密封空間
形成後、排気口を閉鎖して給気口からＮ2 ガスを、所定
時間もしくは酸素濃度が所定値以下になるまで注入し、
その後に、上記ポートドアが被処理物移載位置へ下降す
ることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の機
械式インターフェース装置。 - 【請求項５】 ポートドアの下降前に、Ｎ2 ガスのポー
ト内吹き込みが行なわれることを特徴とする請求項１〜
４のいずれかに記載の機械式インターフェース装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24085091A JP3084827B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 機械式インターフェース装置 |
| TW81110159A TW221079B (ja) | 1991-09-20 | 1992-12-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24085091A JP3084827B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 機械式インターフェース装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0582622A true JPH0582622A (ja) | 1993-04-02 |
| JP3084827B2 JP3084827B2 (ja) | 2000-09-04 |
Family
ID=17065644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24085091A Expired - Fee Related JP3084827B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 機械式インターフェース装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3084827B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001195997A (ja) | 2000-01-11 | 2001-07-19 | Hitachi Ltd | 陰極線管 |
| WO2004102655A1 (ja) | 2003-05-15 | 2004-11-25 | Tdk Corporation | クリーンボックス開閉装置を備えるクリーン装置 |
-
1991
- 1991-09-20 JP JP24085091A patent/JP3084827B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3084827B2 (ja) | 2000-09-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |