JPH0582623A - 機械式インターフエース装置 - Google Patents
機械式インターフエース装置Info
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- JPH0582623A JPH0582623A JP24086091A JP24086091A JPH0582623A JP H0582623 A JPH0582623 A JP H0582623A JP 24086091 A JP24086091 A JP 24086091A JP 24086091 A JP24086091 A JP 24086091A JP H0582623 A JPH0582623 A JP H0582623A
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- pod
- port
- flange
- door
- port plate
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本体ケースのポートまわりにロック機構等を
設けることなく、簡便な手段で、ポッドと装置本体間の
シール性を確実に向上することができるＳＭＩＦ装置を
提供することを目的とする。 【構成】 本体ケース１に設けられ被処理物の搬入・搬
出用ポート４を形成するポートプレート３上に載置され
て前記ポートを覆う開口フランジ１２付ポッド１０、こ
のポッドの開口１１を閉鎖可能なポッドドア２１、前記
本体ケース１内に昇降可能に支持され最上昇時に上記ポ
ートプレート３に係合して前記ポートを閉鎖するポート
ドア３１、および上記ポッドのフランジ１２を上記ポー
トプレート３に向けて付勢する手段とを備え、このポー
トドア３１が上記ポッドドア２１を上記ポッド内から本
体ケース１内へまたその逆へ搬送するＳＭＩＦ装置にお
いて、上記付勢する手段が、上記ポートプレート３と上
記ポッド１０のフランジ１２との対向面間に電磁吸引力
を作用させる手段であることを特徴とする。
設けることなく、簡便な手段で、ポッドと装置本体間の
シール性を確実に向上することができるＳＭＩＦ装置を
提供することを目的とする。 【構成】 本体ケース１に設けられ被処理物の搬入・搬
出用ポート４を形成するポートプレート３上に載置され
て前記ポートを覆う開口フランジ１２付ポッド１０、こ
のポッドの開口１１を閉鎖可能なポッドドア２１、前記
本体ケース１内に昇降可能に支持され最上昇時に上記ポ
ートプレート３に係合して前記ポートを閉鎖するポート
ドア３１、および上記ポッドのフランジ１２を上記ポー
トプレート３に向けて付勢する手段とを備え、このポー
トドア３１が上記ポッドドア２１を上記ポッド内から本
体ケース１内へまたその逆へ搬送するＳＭＩＦ装置にお
いて、上記付勢する手段が、上記ポートプレート３と上
記ポッド１０のフランジ１２との対向面間に電磁吸引力
を作用させる手段であることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体の製造プロセス
で用いられる機械式インターフェース装置に関する。
で用いられる機械式インターフェース装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体の処理は、半導体のパーテ
ィクル汚染を防止するために、特別に設計したクリーン
ルーム内で行なわれていたが、その保守を含めて費用が
かかりすぎるという問題がある他、パーティクル汚染の
汚染レベルの低減には限界があるので、例えば特開昭６
０−１４３６２３号公報に開示されているような標準化
された機械的インターフェース装置（ＳＭＩＦ装置）が
開発された。
ィクル汚染を防止するために、特別に設計したクリーン
ルーム内で行なわれていたが、その保守を含めて費用が
かかりすぎるという問題がある他、パーティクル汚染の
汚染レベルの低減には限界があるので、例えば特開昭６
０−１４３６２３号公報に開示されているような標準化
された機械的インターフェース装置（ＳＭＩＦ装置）が
開発された。
【０００３】このＳＭＩＦ装置は、例えば、図４に示す
ように、ウエハ処理装置（図示しない）を収納し、清浄
空気で満たされている装置の本体ケース１と、可搬式タ
イプのボックス（以下、ポッドＰＯＤという）１０およ
び搬送装置３０を含んでいる。装置本体の本体ケース１
の天板２にはポートプレート３によりポート（ウエハカ
セット２０の搬入・搬出口）４が形成されており、把持
部１０Ａを持つポッドＰＯＤ１０はこのポートプレート
３上に載置される。ポッドＰＯＤ１０はその開口１１の
周囲に環状部１２ａを持つフランジ１２を有する形状と
なっている。この例の搬送装置３０は昇降装置であっ
て、昇降軸３２に支持された昇降台３１にウエハカセッ
ト２０を載せて昇降するが、この昇降台３１は、ポート
ドアとなっており、最上昇時には、ポートプレート３に
下から当接もしくは嵌合してポート４を本体ケース１を
外部に対して密閉し、また、ポートドア３１上にあるウ
エハカセット２０の台２１はポッドＰＯＤ１０の開口１
１の周部に当接して当該開口１１を密閉する。この台２
１を、以下、ポッドドアという。１３はシール材であっ
て、ポッドＰＯＤ１０の開口とポッドドア２１との間を
シールし、シール材１４はポッドＰＯＤ１０のフランジ
１２とポートプレート３との間をシールし、シール材１
５はポートプレート３とポートドア３１との間をシール
する。４０はロック機構であって、図示しないギヤード
モータにより駆動されるロックレバー４１を有し、ポッ
ドＰＯＤ１０のフランジ１２をポートプレート３上へ押
し下げる働きをする。
ように、ウエハ処理装置（図示しない）を収納し、清浄
空気で満たされている装置の本体ケース１と、可搬式タ
イプのボックス（以下、ポッドＰＯＤという）１０およ
び搬送装置３０を含んでいる。装置本体の本体ケース１
の天板２にはポートプレート３によりポート（ウエハカ
セット２０の搬入・搬出口）４が形成されており、把持
部１０Ａを持つポッドＰＯＤ１０はこのポートプレート
３上に載置される。ポッドＰＯＤ１０はその開口１１の
周囲に環状部１２ａを持つフランジ１２を有する形状と
なっている。この例の搬送装置３０は昇降装置であっ
て、昇降軸３２に支持された昇降台３１にウエハカセッ
ト２０を載せて昇降するが、この昇降台３１は、ポート
ドアとなっており、最上昇時には、ポートプレート３に
下から当接もしくは嵌合してポート４を本体ケース１を
外部に対して密閉し、また、ポートドア３１上にあるウ
エハカセット２０の台２１はポッドＰＯＤ１０の開口１
１の周部に当接して当該開口１１を密閉する。この台２
１を、以下、ポッドドアという。１３はシール材であっ
て、ポッドＰＯＤ１０の開口とポッドドア２１との間を
シールし、シール材１４はポッドＰＯＤ１０のフランジ
１２とポートプレート３との間をシールし、シール材１
５はポートプレート３とポートドア３１との間をシール
する。４０はロック機構であって、図示しないギヤード
モータにより駆動されるロックレバー４１を有し、ポッ
ドＰＯＤ１０のフランジ１２をポートプレート３上へ押
し下げる働きをする。
【０００４】この例においては、処理前のウエハＷが図
示しない他の場所からポートドア３１上へ移載されたの
ち、ポッドＰＯＤ１０をポートプレート３上に載置し、
ロックレバー４１で固定する。ロックレバー４１で固定
したのち、ポートドア３１を移載位置まで下降する。ポ
ートドア３１が移載位置まで下降すると、図示しない移
載装置がポートドア３１上のウエハカセット２０を処理
機械へ搬送する。
示しない他の場所からポートドア３１上へ移載されたの
ち、ポッドＰＯＤ１０をポートプレート３上に載置し、
ロックレバー４１で固定する。ロックレバー４１で固定
したのち、ポートドア３１を移載位置まで下降する。ポ
ートドア３１が移載位置まで下降すると、図示しない移
載装置がポートドア３１上のウエハカセット２０を処理
機械へ搬送する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は、ウ
エハＷのパーティクル汚染が問題になっていたが、半導
体集積回路の高密度化が進むに従い、空気中の酸素によ
るウエハ表面の自然酸化膜の影響が問題となり始め、こ
の自然酸化膜の成長を防止するため、ウエハＷの移動、
搬送等を不活性ガス（Ｎ2 ガス）雰囲気中で行なう必要
が生じ、現在では、Ｏ2 、Ｈ2 Ｏの濃度が１０ｐｐｍ以
下であるＮ2 ガス雰囲気が要求されている。
エハＷのパーティクル汚染が問題になっていたが、半導
体集積回路の高密度化が進むに従い、空気中の酸素によ
るウエハ表面の自然酸化膜の影響が問題となり始め、こ
の自然酸化膜の成長を防止するため、ウエハＷの移動、
搬送等を不活性ガス（Ｎ2 ガス）雰囲気中で行なう必要
が生じ、現在では、Ｏ2 、Ｈ2 Ｏの濃度が１０ｐｐｍ以
下であるＮ2 ガス雰囲気が要求されている。
【０００６】上記したＳＭＩＦ装置を用いる場合には、
本体ケース１内の空気をＮ2 ガスで置換してＮ2 ガス雰
囲気とし、ポッドＰＯＤ１０は、当該ポッドＰＯＤ１０
が本体ケース１の天板２上にセットされる都度、その内
部をＮ2 ガスで置換してＮ2 ガス雰囲気とすることにな
る。
本体ケース１内の空気をＮ2 ガスで置換してＮ2 ガス雰
囲気とし、ポッドＰＯＤ１０は、当該ポッドＰＯＤ１０
が本体ケース１の天板２上にセットされる都度、その内
部をＮ2 ガスで置換してＮ2 ガス雰囲気とすることにな
る。
【０００７】この場合、ポッドＰＯＤ１０とポートプレ
ート３間、ポッドＰＯＤ１０とポッドドア２１との間、
ポートドア２１とポートプレート３との間のシール性、
特に、ポッドＰＯＤ１０とポートプレート３間のシール
性の向上が要求されるが、シール材（Ｏーリング）は製
造上のバラツキがあり、巨視的に見た場合、きれいな平
面に対して波を打った形状のものもあるので、前記ロッ
クレバー４１を用いるような機械的手段でシール材（Ｏ
ーリング）を押圧する方法では、充分なシール性能を得
ることが難しく、この機械的手段でシール性能を向上す
るには、ポートプレート３の周方向に多数のロックレバ
ー４１を配設する必要がある上、ポッドＰＯＤ１０が大
きくなると所要の押圧力が大きくなるので、１つ１つの
ロック機構が大形化し、これに要する費用も高価になる
他、本体ケースのポートまわりが煩雑になり、ロック機
構のために大きなスペースを取るられるという問題があ
る。
ート３間、ポッドＰＯＤ１０とポッドドア２１との間、
ポートドア２１とポートプレート３との間のシール性、
特に、ポッドＰＯＤ１０とポートプレート３間のシール
性の向上が要求されるが、シール材（Ｏーリング）は製
造上のバラツキがあり、巨視的に見た場合、きれいな平
面に対して波を打った形状のものもあるので、前記ロッ
クレバー４１を用いるような機械的手段でシール材（Ｏ
ーリング）を押圧する方法では、充分なシール性能を得
ることが難しく、この機械的手段でシール性能を向上す
るには、ポートプレート３の周方向に多数のロックレバ
ー４１を配設する必要がある上、ポッドＰＯＤ１０が大
きくなると所要の押圧力が大きくなるので、１つ１つの
ロック機構が大形化し、これに要する費用も高価になる
他、本体ケースのポートまわりが煩雑になり、ロック機
構のために大きなスペースを取るられるという問題があ
る。
【０００８】本発明はこの問題を解消するためになされ
たもので、本体ケースのポートまわりにロック機構等を
設けることなく、簡便な手段で、ポッドと装置本体間の
シール性を確実に向上することができる機械式インター
フェース装置を提供することを目的とする。
たもので、本体ケースのポートまわりにロック機構等を
設けることなく、簡便な手段で、ポッドと装置本体間の
シール性を確実に向上することができる機械式インター
フェース装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、 請求項１では、本体ケースに設けられ被処
理物の搬入・搬出用ポートを形成するポートプレート上
に載置されて前記ポートを覆う開口フランジ付ポッド、
このポッドの開口を閉鎖可能なポッドドア、前記本体ケ
ース内に昇降可能に支持され最上昇時に上記ポートプレ
ートに係合して前記ポートを閉鎖するポートドア、およ
び上記ポッドのフランジを上記ポートプレートに向けて
付勢する手段とを備え、このポートドアが上記ポッドド
アを上記ポッド内から本体ケースへまたその逆へ搬送す
る機械式インターフェース装置において、上記付勢する
手段が、上記ポートプレートと上記ポッドのフランジと
の対向面間に電磁吸引力を作用させる手段である構成と
した。
するため、 請求項１では、本体ケースに設けられ被処
理物の搬入・搬出用ポートを形成するポートプレート上
に載置されて前記ポートを覆う開口フランジ付ポッド、
このポッドの開口を閉鎖可能なポッドドア、前記本体ケ
ース内に昇降可能に支持され最上昇時に上記ポートプレ
ートに係合して前記ポートを閉鎖するポートドア、およ
び上記ポッドのフランジを上記ポートプレートに向けて
付勢する手段とを備え、このポートドアが上記ポッドド
アを上記ポッド内から本体ケースへまたその逆へ搬送す
る機械式インターフェース装置において、上記付勢する
手段が、上記ポートプレートと上記ポッドのフランジと
の対向面間に電磁吸引力を作用させる手段である構成と
した。
【００１０】請求項２では、付勢する手段が、ポートプ
レートに設けられ周方向に並ぶ複数の電磁石からなり、
上記ポッドのフランジが磁性体であるかもしくは上記電
磁石列と対向するように周方向に延びる磁性体部材を有
している構成とした。
レートに設けられ周方向に並ぶ複数の電磁石からなり、
上記ポッドのフランジが磁性体であるかもしくは上記電
磁石列と対向するように周方向に延びる磁性体部材を有
している構成とした。
【００１１】請求項３では、ポッドのフランジは、嵌合
部となる環状部と当該環状部から外方に広がる延びる延
長フランジを有し、上記環状部はポートプレートに内嵌
可能であるとともにポッドドアに外嵌可能であり、付勢
する手段は、ポッドのフランジおよびポートプレートの
上記延長フランジ側に設けられている構成とした。
部となる環状部と当該環状部から外方に広がる延びる延
長フランジを有し、上記環状部はポートプレートに内嵌
可能であるとともにポッドドアに外嵌可能であり、付勢
する手段は、ポッドのフランジおよびポートプレートの
上記延長フランジ側に設けられている構成とした。
【００１２】
【作用】本発明では、ポッドをポートプレート上に載置
して、付勢する手段を動作させると、ポッドのフランジ
に電磁吸引力が作用し、全周で両シール材を押圧する。
して、付勢する手段を動作させると、ポッドのフランジ
に電磁吸引力が作用し、全周で両シール材を押圧する。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の１実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
【００１４】図１において、ポッドＰＯＤ１０は非磁性
体であって、そのフランジ１２は図３に示した環状部１
２ａから更に外方に広がる延長フランジ１２Ａが形成さ
れた広幅のフランジとなっている。本実施例の環状部
（以下、符号１２ｂで示す）は嵌合筒部（位置決め用の
嵌合筒部）となっており、ポッドＰＯＤ１０は、この環
状部１２ｂをポートプレート２に内嵌して当該ポートプ
レート２上に載置され、ポッドドア２１はこの環状部１
２ｂに内嵌する。嵌合筒部１２ｂの先端は丸みを帯びた
形状になっている。ポートプレート３の表面の延長フラ
ンジ１２Ａに対向する部分の環状部１２ｂ寄りにはシー
ル溝３ａが形成され、このシール溝３ａにシール材（Ｏ
ーリング）５１が嵌着されている。ポートプレート３に
は、また、ガス給気口３Ａとガス排気口３Ｂが形成され
ている。
体であって、そのフランジ１２は図３に示した環状部１
２ａから更に外方に広がる延長フランジ１２Ａが形成さ
れた広幅のフランジとなっている。本実施例の環状部
（以下、符号１２ｂで示す）は嵌合筒部（位置決め用の
嵌合筒部）となっており、ポッドＰＯＤ１０は、この環
状部１２ｂをポートプレート２に内嵌して当該ポートプ
レート２上に載置され、ポッドドア２１はこの環状部１
２ｂに内嵌する。嵌合筒部１２ｂの先端は丸みを帯びた
形状になっている。ポートプレート３の表面の延長フラ
ンジ１２Ａに対向する部分の環状部１２ｂ寄りにはシー
ル溝３ａが形成され、このシール溝３ａにシール材（Ｏ
ーリング）５１が嵌着されている。ポートプレート３に
は、また、ガス給気口３Ａとガス排気口３Ｂが形成され
ている。
【００１５】５３は電磁石であって、ポートプレート３
の表面の延長フランジ１２Ａに対向する部分に埋設状に
設けられており、この電磁石５３は、図２に示すよう
に、ポートプレート３の周方向に一定間隔を隔てて並ん
でおり、各々の電磁コイル５３Ａは共通の励磁電源（図
示しない）に接続され、各電磁石５３は同時に励磁／消
磁される。５４は環状の磁性部材であって、樹脂コーテ
ィング５５されており、図３に示すようにポッドＰＯＤ
１０の延長フランジ１２Ａの上表面に取着され、電磁石
５３列と対向するように延びている。
の表面の延長フランジ１２Ａに対向する部分に埋設状に
設けられており、この電磁石５３は、図２に示すよう
に、ポートプレート３の周方向に一定間隔を隔てて並ん
でおり、各々の電磁コイル５３Ａは共通の励磁電源（図
示しない）に接続され、各電磁石５３は同時に励磁／消
磁される。５４は環状の磁性部材であって、樹脂コーテ
ィング５５されており、図３に示すようにポッドＰＯＤ
１０の延長フランジ１２Ａの上表面に取着され、電磁石
５３列と対向するように延びている。
【００１６】本実施例のポートドア３１はその下部に鍔
部３１Ａを有し、この鍔部３１Ａにポートプレート３と
の間をシールするシール材１５が嵌着されている。
部３１Ａを有し、この鍔部３１Ａにポートプレート３と
の間をシールするシール材１５が嵌着されている。
【００１７】なお、ガス給気口３Ａとガス排気口３Ｂは
ポッドＰＯＤ１０内をＮ2 ガス置換する場合に利用され
るものであり、ガス給気口３Ａは配管を通して図示しな
いＮ2 ガスボンベに連絡される。３Ｃは電磁弁である。
また本体ケース１内は、Ｎ2 ガス雰囲気にあり、常時、
２０リットル／分のＮ2 ガス注入により与圧されてい
る。
ポッドＰＯＤ１０内をＮ2 ガス置換する場合に利用され
るものであり、ガス給気口３Ａは配管を通して図示しな
いＮ2 ガスボンベに連絡される。３Ｃは電磁弁である。
また本体ケース１内は、Ｎ2 ガス雰囲気にあり、常時、
２０リットル／分のＮ2 ガス注入により与圧されてい
る。
【００１８】本実施例においては、ポッドＰＯＤ１０が
装置外から本体ケース１のポートプレート３上へ移載さ
れたのち、全電磁石５３が同時に励磁される。電磁石５
３が励磁されると、磁性部材５４に対して電磁吸引力が
作用するので、ポッドＰＯＤ１０のフランジ１２がシー
ル材５１の弾力に抗してポートプレート３側へ変位し、
ポートプレート３との間にシール材５１ａ、５１ｂを挟
圧する。上記電磁吸引力は、電磁石５３のアンペアター
ンを変えることにより、任意の大きさの電磁吸引力を得
ることができるので、シール材（Ｏーリング）５１に製
造上のバラツキがあり、巨視的に見た場合、きれいな平
面に対して波を打った形状であって、ポッドＰＯＤ１０
が装置外から本体ケース１のポートプレート３上へ移載
した状態では、シール材５１の一部が延長フランジ１２
Ａの面と非接触状態にある場合にも、シール材１５が全
長で延長フランジ１２Ａの面と圧接するまでシール材１
５を偏平化するに充分な電磁吸引力を容易に得ることが
できる。
装置外から本体ケース１のポートプレート３上へ移載さ
れたのち、全電磁石５３が同時に励磁される。電磁石５
３が励磁されると、磁性部材５４に対して電磁吸引力が
作用するので、ポッドＰＯＤ１０のフランジ１２がシー
ル材５１の弾力に抗してポートプレート３側へ変位し、
ポートプレート３との間にシール材５１ａ、５１ｂを挟
圧する。上記電磁吸引力は、電磁石５３のアンペアター
ンを変えることにより、任意の大きさの電磁吸引力を得
ることができるので、シール材（Ｏーリング）５１に製
造上のバラツキがあり、巨視的に見た場合、きれいな平
面に対して波を打った形状であって、ポッドＰＯＤ１０
が装置外から本体ケース１のポートプレート３上へ移載
した状態では、シール材５１の一部が延長フランジ１２
Ａの面と非接触状態にある場合にも、シール材１５が全
長で延長フランジ１２Ａの面と圧接するまでシール材１
５を偏平化するに充分な電磁吸引力を容易に得ることが
できる。
【００１９】従って、本実施例では、シール材５１はも
ちろんシール材１３も確実にその全周で強く挟圧され良
好なシール性を確保することができる。
ちろんシール材１３も確実にその全周で強く挟圧され良
好なシール性を確保することができる。
【００２０】本実施例のＳＭＩＦ装置は、このようにし
て、ポッドＰＯＤ１０内を確実に外気に対して遮断して
状態で、ガス供給口３Ａおよびガス排気口３Ｂを利用し
て、ポッドＰＯＤ１０内をＮ2 ガスで置換する。このＮ
2ガスで置換のためには、例えば、ポートプレート３の
下に、当該ポートプレート３下面に気密に係合し、ポー
トドア３１が所定距離だけ昇降可能な内部空間を区画す
るスカートをポートプレート３とは別体に設けて、所定
距離（ポッドドア２１が環状部１２ａより下方へ下降す
る位置）だけ下降したポートドア３１がスカートの上記
内部空間の下端を気密に閉鎖するようにし、開口したポ
ッドＰＯＤ１０内へガス供給口３ＤからＮ2 ガスを送り
込む。
て、ポッドＰＯＤ１０内を確実に外気に対して遮断して
状態で、ガス供給口３Ａおよびガス排気口３Ｂを利用し
て、ポッドＰＯＤ１０内をＮ2 ガスで置換する。このＮ
2ガスで置換のためには、例えば、ポートプレート３の
下に、当該ポートプレート３下面に気密に係合し、ポー
トドア３１が所定距離だけ昇降可能な内部空間を区画す
るスカートをポートプレート３とは別体に設けて、所定
距離（ポッドドア２１が環状部１２ａより下方へ下降す
る位置）だけ下降したポートドア３１がスカートの上記
内部空間の下端を気密に閉鎖するようにし、開口したポ
ッドＰＯＤ１０内へガス供給口３ＤからＮ2 ガスを送り
込む。
【００２１】なお、上記実施例では、ホッドＰＯＤ１０
に磁性部材５４を取り付けているが、場合によっては、
ポッドＰＯＤ１０を磁性体としてもよい。
に磁性部材５４を取り付けているが、場合によっては、
ポッドＰＯＤ１０を磁性体としてもよい。
【００２２】また、シール部材５１を延長フランジ１２
Ａ側に設けてもよい。
Ａ側に設けてもよい。
【００２３】
【発明の効果】本発明は以上説明した通り、ポッドのフ
ランジをポートプレートに向けて付勢する手段として、
電磁吸引力を利用する構成としたことにより、所要のシ
ール材挟圧力を容易に得ることができるので、気体に対
する良好なシール性を確実に得ることができ、信頼性を
向上することができる。
ランジをポートプレートに向けて付勢する手段として、
電磁吸引力を利用する構成としたことにより、所要のシ
ール材挟圧力を容易に得ることができるので、気体に対
する良好なシール性を確実に得ることができ、信頼性を
向上することができる。
【００２４】また、本体ケースのポートまわりに部材を
配設する必要がないので、前記ロック機構等を設ける場
合に比して、ポートまわりを簡素化することができる利
点がある。
配設する必要がないので、前記ロック機構等を設ける場
合に比して、ポートまわりを簡素化することができる利
点がある。
【図１】本発明の実施例を示す縦断面図である。
【図２】上記実施例におけるポートプレートの平面図で
ある。
ある。
【図３】上記実施例におけるポッドの平面図である。
【図４】従来のＳＭＩＦ装置の概略を示す図である。
１ 本体ケース ３ ポートプレート ３Ａ 給気口 ３Ｂ 排気口 ３ａ シール溝 ４ ポート １０ ポッドＰＯＤ １１ ポッドＰＯＤの開口 １２ ポッドＰＯＤのフランジ １２Ａ 延長フランジ １２ｂ 環状部 １３、１５ シール材 ２０ ウエハカセット ２１ ポッドドア ３１ ポートドア ３１Ａ ポートドアの鍔部 ３２ 昇降軸 ４０ ロック機構 ５１ シール材 ５２ 配管 ５３ 電磁石 ５４ 磁性部材 ５５ 樹脂コーティング
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林 満弘 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 山下 哲平 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 村田 正直 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 田中 幹 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 森田 日也 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内
Claims (3)
- 【請求項１】 本体ケースに設けられ被処理物の搬入・
搬出用ポートを形成するポートプレート上に載置されて
前記ポートを覆う開口フランジ付ポッド、このポッドの
開口を閉鎖可能なポッドドア、前記本体ケース内に昇降
可能に支持され最上昇時に上記ポートプレートに係合し
て前記ポートを閉鎖するポートドア、および上記ポッド
のフランジを上記ポートプレートとに向けて付勢する手
段とを備え、このポートドアが上記ポッドドアを上記ポ
ッド内から本体ケースへまたその逆へ搬送する機械式イ
ンターフェース装置において、 上記付勢する手段が、上記ポートプレートと上記ポッド
のフランジとの対向面間に電磁吸引力を作用させる手段
であることを特徴とする機械式インターフェース装置。 - 【請求項２】 付勢する手段が、ポートプレートに設け
られ周方向に並ぶ複数の電磁石からなり、上記ポッドの
フランジが磁性体であるかもしくは上記電磁石列と対向
するように周方向に延びる磁性体部材を有していること
を特徴とする請求項１記載の機械式インターフェース装
置。 - 【請求項３】 ポッドのフランジは、嵌合部となる環状
部と当該環状部から外方に広がる延長フランジを有し、
上記環状部はポートプレートに内嵌可能であるとともに
ポッドドアに外嵌可能であり、付勢する手段は、ポッド
のフランジおよびポートプレートの上記延長フランジ側
に設けられていることを特徴とする請求項１または２記
載の機械式インターフェース装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24086091A JPH0582623A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 機械式インターフエース装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24086091A JPH0582623A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 機械式インターフエース装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0582623A true JPH0582623A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17065789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24086091A Pending JPH0582623A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 機械式インターフエース装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0582623A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5695564A (en) * | 1994-08-19 | 1997-12-09 | Tokyo Electron Limited | Semiconductor processing system |
| JP2010502001A (ja) * | 2006-08-18 | 2010-01-21 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 低減容量キャリア、搬送機、積載ポート、緩衝装置システム |
| US9016501B2 (en) | 2010-06-08 | 2015-04-28 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Coupling transfer system |
| KR20150126065A (ko) * | 2006-08-18 | 2015-11-10 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 용량이 축소된 캐리어, 이송, 로드 포트, 버퍼 시스템 |
| US9281223B2 (en) | 2010-06-08 | 2016-03-08 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Coupling system |
-
1991
- 1991-09-20 JP JP24086091A patent/JPH0582623A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5695564A (en) * | 1994-08-19 | 1997-12-09 | Tokyo Electron Limited | Semiconductor processing system |
| US9224628B2 (en) | 2005-11-07 | 2015-12-29 | Brooks Automation. Inc. | Reduced capacity carrier, transport, load port, buffer system |
| US10679882B2 (en) | 2005-11-07 | 2020-06-09 | Brooks Automation, Inc | Reduced capacity carrier, transport, load port, buffer system |
| JP2010502001A (ja) * | 2006-08-18 | 2010-01-21 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 低減容量キャリア、搬送機、積載ポート、緩衝装置システム |
| KR20150126065A (ko) * | 2006-08-18 | 2015-11-10 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 용량이 축소된 캐리어, 이송, 로드 포트, 버퍼 시스템 |
| US9016501B2 (en) | 2010-06-08 | 2015-04-28 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Coupling transfer system |
| US9281223B2 (en) | 2010-06-08 | 2016-03-08 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Coupling system |
| US10115619B2 (en) | 2010-06-08 | 2018-10-30 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (Aist) | Coupling transfer system |
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