JPH0584485B2 - - Google Patents
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- JPH0584485B2 JPH0584485B2 JP59150408A JP15040884A JPH0584485B2 JP H0584485 B2 JPH0584485 B2 JP H0584485B2 JP 59150408 A JP59150408 A JP 59150408A JP 15040884 A JP15040884 A JP 15040884A JP H0584485 B2 JPH0584485 B2 JP H0584485B2
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- focus
- focus detection
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
- G02B7/36—Systems for automatic generation of focusing signals using image sharpness techniques, e.g. image processing techniques for generating autofocus signals
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Focusing (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、合焦検出装置、詳しくはカメラや顕
微鏡などの光学装置の焦点状態を検出する合焦検
出装置に関する。
微鏡などの光学装置の焦点状態を検出する合焦検
出装置に関する。
(従来技術)
第8図は、像の横ズレを利用した従来の合焦検
出装置を一眼レフレツクスカメラに適用した場合
の拡大断面図である。結像レンズ1から入射した
光はフイルム面5に結像するが、その間に設けた
クイツクリターンミラー3の半透鏡部と全反射鏡
のサブミラー4によりフイルム面と共役な面6に
結像されるようになつている。この面6上には受
光素子群Aの受光素子81−A、82−A,…,8
o−Aと受光素子群Bの受光素子81−B,82−
B,…,8o−Bとが順次交互に配置されており、
この受光素子群8の光入射側には遮光部と開口部
とが順次交互に配列されたストライプ・マスク7
が配設されている。なお、符号2は結像レンズ1
の光軸を示す。
出装置を一眼レフレツクスカメラに適用した場合
の拡大断面図である。結像レンズ1から入射した
光はフイルム面5に結像するが、その間に設けた
クイツクリターンミラー3の半透鏡部と全反射鏡
のサブミラー4によりフイルム面と共役な面6に
結像されるようになつている。この面6上には受
光素子群Aの受光素子81−A、82−A,…,8
o−Aと受光素子群Bの受光素子81−B,82−
B,…,8o−Bとが順次交互に配置されており、
この受光素子群8の光入射側には遮光部と開口部
とが順次交互に配列されたストライプ・マスク7
が配設されている。なお、符号2は結像レンズ1
の光軸を示す。
次に、このように構成された装置で横ズレが起
る原理を簡単に説明する。受光素子群Aの受光素
子は主として結像レンズ1の光軸2から上半分1
Aを通過してきた光束を受光するようにし、受光
素子群Bの受光素子は主として結像レンズ1の光
軸2から下半分1Bを通過してきた光束を受光す
るように構成されている。
る原理を簡単に説明する。受光素子群Aの受光素
子は主として結像レンズ1の光軸2から上半分1
Aを通過してきた光束を受光するようにし、受光
素子群Bの受光素子は主として結像レンズ1の光
軸2から下半分1Bを通過してきた光束を受光す
るように構成されている。
ここで、第9図に示すように、光軸上の1点よ
り出た光束が結像レンズ1によつてフイルム面5
と共役な面6の、例えば後方の位置9に像が結像
する場合、すなわち、後ピン状態の場合には、受
光素子群Aに入射する光束の主光線10Aと受光
素子群Bに入射する光束の主光線10Bとがフイ
ルム面と共役な面6上で一致しないで距離dだけ
ずれて、それぞれ11A,11Bを通過する。こ
の距離dが像の横ズレに相当する。
り出た光束が結像レンズ1によつてフイルム面5
と共役な面6の、例えば後方の位置9に像が結像
する場合、すなわち、後ピン状態の場合には、受
光素子群Aに入射する光束の主光線10Aと受光
素子群Bに入射する光束の主光線10Bとがフイ
ルム面と共役な面6上で一致しないで距離dだけ
ずれて、それぞれ11A,11Bを通過する。こ
の距離dが像の横ズレに相当する。
よつて、被写体輝度がなだらかに変化するよう
な被写体、すなわち、フイルム面と共役な面6上
に第10図に示すような強度分布の像を形成する
被写体が、第9図に示すような後ピン状態にある
とき、受光素子群8の出力は、第11図に示すよ
うになる。すなわち、受光素子群Aの出力の包絡
線は実線12のようになり、受光素子群Bの出力
の包絡線は破線13で示すようになる。ここで、
包絡線12と13は横ズレし、その横ズレ量がd
となる。いま、Aiを受光素子群Aのi番目の受
光素子の出力とし、Biを受光素子群Bのi番目
の受光素子の出力とすると、 F=o-1 〓i=1 (|Ai+1−Bi|−|Ai−Bi|) …(1) なる評価関数Fを考えたとき、この(1)式の意味す
るところは、第11図において、受光素子の出力
Aiのサンプリング点と受光素子の出力Ai+1のサン
プリング点の間隔を1ピツチとすると、受光素子
群Aの出力の包絡線12を半ピツチだけ左にずら
した線12Aと受光素子群Bの出力の包絡線13
とで囲まれる面積と、包絡線12を半ピツチだけ
右にずらせた線12Bと包絡線13とで囲まれる
面積との差である。すなわち、このような後ピン
状態では、評価関数Fの値は、線12Aと12B
とで囲まれる面積に相当し、正の値となる。
な被写体、すなわち、フイルム面と共役な面6上
に第10図に示すような強度分布の像を形成する
被写体が、第9図に示すような後ピン状態にある
とき、受光素子群8の出力は、第11図に示すよ
うになる。すなわち、受光素子群Aの出力の包絡
線は実線12のようになり、受光素子群Bの出力
の包絡線は破線13で示すようになる。ここで、
包絡線12と13は横ズレし、その横ズレ量がd
となる。いま、Aiを受光素子群Aのi番目の受
光素子の出力とし、Biを受光素子群Bのi番目
の受光素子の出力とすると、 F=o-1 〓i=1 (|Ai+1−Bi|−|Ai−Bi|) …(1) なる評価関数Fを考えたとき、この(1)式の意味す
るところは、第11図において、受光素子の出力
Aiのサンプリング点と受光素子の出力Ai+1のサン
プリング点の間隔を1ピツチとすると、受光素子
群Aの出力の包絡線12を半ピツチだけ左にずら
した線12Aと受光素子群Bの出力の包絡線13
とで囲まれる面積と、包絡線12を半ピツチだけ
右にずらせた線12Bと包絡線13とで囲まれる
面積との差である。すなわち、このような後ピン
状態では、評価関数Fの値は、線12Aと12B
とで囲まれる面積に相当し、正の値となる。
今、このような被写体の像が合焦状態にあると
きについて考える。このようなとき、第12図に
示すように受光素子群Aの出力の包絡線14と、
受光素子群Bの出力の包絡線15は一致する。従
つて、評価関数Fの値、すなわち包絡線14を半
ピツチだけ左にずらせた14Aと、15(14)
で囲まれる面積と、包絡線14を半ピツチだけ右
にずらせた14Bと15(14)とで囲まれる面
積との差は零となる。従つて、評価関数Fの値は
デフオーカス量に対して第13図に示すように変
化する。すなわち、評価関数Fの値は、前ピンで
負、後ピンで正、合焦で零となる。
きについて考える。このようなとき、第12図に
示すように受光素子群Aの出力の包絡線14と、
受光素子群Bの出力の包絡線15は一致する。従
つて、評価関数Fの値、すなわち包絡線14を半
ピツチだけ左にずらせた14Aと、15(14)
で囲まれる面積と、包絡線14を半ピツチだけ右
にずらせた14Bと15(14)とで囲まれる面
積との差は零となる。従つて、評価関数Fの値は
デフオーカス量に対して第13図に示すように変
化する。すなわち、評価関数Fの値は、前ピンで
負、後ピンで正、合焦で零となる。
ところで、この合焦検出装置においては次に述
べるような欠点がある。被写体輝度が急激に変化
するような被写体、すなわち、第15図に示すよ
うな像面強度分布がステツプ状に変化する被写体
に対しては、次のような不都合が生じることにな
る。例えば、像面上でステツプのエツジがストラ
イプ・マスクに対して、第14図Aの16Aで示
すような位置にあるとき、合焦状態においては、
第14図Bに示すような受光素子の出力となる。
すなわち、Biより左側の出力は全てステツプ像の
シヤドー部分の出力となり、Ai+1より右側の出力
は全てステツプ像のハイライト部分の出力とな
る。第14図Bより明らかなように、受光素子群
Aの出力の包絡線17と、受光素子群Bの出力の
包絡線18は、合焦状態においても一致せず、ま
るで後ピン状態であるかのように横ズレする。従
つて、評価関数Fの値は、合焦状態であるのに正
の値となる。このような被写体に対して評価関数
の値はデフオーカスに対して第16図の実線21
Aのように変化する。すなわち、評価関数Fは、
合焦点付近で乱れ、評価関数Fの値は前ピン位置
(点22A)で零となり、この位置で合焦の判定
を行なつてしまうことになる。
べるような欠点がある。被写体輝度が急激に変化
するような被写体、すなわち、第15図に示すよ
うな像面強度分布がステツプ状に変化する被写体
に対しては、次のような不都合が生じることにな
る。例えば、像面上でステツプのエツジがストラ
イプ・マスクに対して、第14図Aの16Aで示
すような位置にあるとき、合焦状態においては、
第14図Bに示すような受光素子の出力となる。
すなわち、Biより左側の出力は全てステツプ像の
シヤドー部分の出力となり、Ai+1より右側の出力
は全てステツプ像のハイライト部分の出力とな
る。第14図Bより明らかなように、受光素子群
Aの出力の包絡線17と、受光素子群Bの出力の
包絡線18は、合焦状態においても一致せず、ま
るで後ピン状態であるかのように横ズレする。従
つて、評価関数Fの値は、合焦状態であるのに正
の値となる。このような被写体に対して評価関数
の値はデフオーカスに対して第16図の実線21
Aのように変化する。すなわち、評価関数Fは、
合焦点付近で乱れ、評価関数Fの値は前ピン位置
(点22A)で零となり、この位置で合焦の判定
を行なつてしまうことになる。
一方、ステツプ像のエツジの位置が第14図A
の16Bで示すような位置にあるときは、合焦状
態において受光素子の出力は第14図Cに示すよ
うになり、受光素子群Aの出力の包絡線19と、
受光素子群Bの出力の包絡線20とは合焦状態に
おいても一致せず、像は前ピン状態であるかのよ
うに横ズレする。従つて、評価関数Fの値はデフ
オーカスに対して第16図の一点鎖線21Bのよ
うに変化する。
の16Bで示すような位置にあるときは、合焦状
態において受光素子の出力は第14図Cに示すよ
うになり、受光素子群Aの出力の包絡線19と、
受光素子群Bの出力の包絡線20とは合焦状態に
おいても一致せず、像は前ピン状態であるかのよ
うに横ズレする。従つて、評価関数Fの値はデフ
オーカスに対して第16図の一点鎖線21Bのよ
うに変化する。
このように、ステツプ像のエツジの位置は、第
14図Aの16Aと16Bの間のいかなる位置に
も置かれる可能性がある。よつて、この合焦検出
装置による合焦点は第16図の22Aと22Bの
間で変動する。このため、このような被写体に対
しては、合焦精度が悪くなるばかりでなく、手ぶ
れなどにより表示のちらつきが発生するような問
題があつた。
14図Aの16Aと16Bの間のいかなる位置に
も置かれる可能性がある。よつて、この合焦検出
装置による合焦点は第16図の22Aと22Bの
間で変動する。このため、このような被写体に対
しては、合焦精度が悪くなるばかりでなく、手ぶ
れなどにより表示のちらつきが発生するような問
題があつた。
なお、第16図の特性線21A,21Bで示す
ように、これらの評価関数の値は合焦点付近では
乱れるが、大きくボケたところでは乱れない。こ
れは、大ボケのときには像面の強度分布が低周波
化されるためである。このため特性線21A,2
1Bは大ボケのときには一致することになる。
ように、これらの評価関数の値は合焦点付近では
乱れるが、大きくボケたところでは乱れない。こ
れは、大ボケのときには像面の強度分布が低周波
化されるためである。このため特性線21A,2
1Bは大ボケのときには一致することになる。
また、この問題点を軽減させるためには、受光
素子のピツチおよびストライプ・マスクのピツチ
を小さくする必要があるが、光学系の製作上ある
いは受光素子と光学系の位置合せの上で無理が生
じ、小さくするのには限界があつた。
素子のピツチおよびストライプ・マスクのピツチ
を小さくする必要があるが、光学系の製作上ある
いは受光素子と光学系の位置合せの上で無理が生
じ、小さくするのには限界があつた。
(目的)
本発明は、上記従来の欠点を解消し合焦精度を
向上させることを目的とし、輝度分布が急激に変
化するような被写体すなわち、高周波状の被写体
に対しては、従来のものは合焦精度が悪いという
欠点を除去し、高周波状の被写体においても精度
よく合焦検出が可能な横ズレ光学系を備えた合焦
検出装置を提供するにある。
向上させることを目的とし、輝度分布が急激に変
化するような被写体すなわち、高周波状の被写体
に対しては、従来のものは合焦精度が悪いという
欠点を除去し、高周波状の被写体においても精度
よく合焦検出が可能な横ズレ光学系を備えた合焦
検出装置を提供するにある。
(概要)
本発明は、上記目的を達成するために、横ズレ
の検出においては、受光素子および横ズレ光学系
のピツチを小さくする程高周波状の被写体に対し
ては合焦精度は向上するが、このピツチを小さく
することは製作上の限度が存在していたので、本
発明では、二列の受光素子と二列の横ズレ光学系
を使用し、その横ズレ光学系の位相を半ピツチず
らすことにより、それ程細かいピツチでなくとも
精度よく合焦検出ができるようにしたものであ
る。
の検出においては、受光素子および横ズレ光学系
のピツチを小さくする程高周波状の被写体に対し
ては合焦精度は向上するが、このピツチを小さく
することは製作上の限度が存在していたので、本
発明では、二列の受光素子と二列の横ズレ光学系
を使用し、その横ズレ光学系の位相を半ピツチず
らすことにより、それ程細かいピツチでなくとも
精度よく合焦検出ができるようにしたものであ
る。
(実施例)
以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明す
る。第1図は本発明の一実施例を示す横ズレを利
用した合焦検出装置を、一眼レフレツクスカメラ
に適用した概略断面図である。この実施例では受
光素子群は31A,31Bの二列で形成されてお
り、ストライプ・マスクもそれに伴つて30A,
30Bの二列が配置されている。なお、32はス
トライプ・マスクを支持する透明基板である。
る。第1図は本発明の一実施例を示す横ズレを利
用した合焦検出装置を、一眼レフレツクスカメラ
に適用した概略断面図である。この実施例では受
光素子群は31A,31Bの二列で形成されてお
り、ストライプ・マスクもそれに伴つて30A,
30Bの二列が配置されている。なお、32はス
トライプ・マスクを支持する透明基板である。
このストライプ・マスク30A,30Bおよび
受光素子群31A,31Bをサブミラー4側より
見たところの部分拡大図を第2図に示す。この第
2図に示すように、一列目のストライプ・マスク
30Aと二列目のストライプ・マスク30Bの位
相は半ピツチだけ位相がずれている。それぞれの
受光素子列とストライプ・マスクの役割は上記従
来例で述べたものと同じであるが、ストライプ・
マスク30A,30Bの位相が互に半ピツチだけ
ずれているため、次のような効果が生ずる。すな
わち、ステツプ像のエツジが第2図のA0−A0′で
示す線上にある場合には、受光素子群31Aの出
力により得られる評価関数値F1は、デフオーカ
スに対して第16の実線21Aのように変化し、
受光素子群31Bの出力によつて得られる評価関
数F2は、デフオーカスに対して第16図の一点
鎖線21Bのように変化する。従つて、それらの
評価関数F1とF2を加算することにより Ft=F1+F2 新しい評価関数Ftを求めると、Ftはデフオーカ
スに対して、第16図の点線33で示すように変
化する。なお、ステツプ像のエツジの位置が、第
2図のB0−B0′線の位置にある場合においても評
価関数Ftのデフオーカスに対する変化は第16
図の点線33と同じになる。
受光素子群31A,31Bをサブミラー4側より
見たところの部分拡大図を第2図に示す。この第
2図に示すように、一列目のストライプ・マスク
30Aと二列目のストライプ・マスク30Bの位
相は半ピツチだけ位相がずれている。それぞれの
受光素子列とストライプ・マスクの役割は上記従
来例で述べたものと同じであるが、ストライプ・
マスク30A,30Bの位相が互に半ピツチだけ
ずれているため、次のような効果が生ずる。すな
わち、ステツプ像のエツジが第2図のA0−A0′で
示す線上にある場合には、受光素子群31Aの出
力により得られる評価関数値F1は、デフオーカ
スに対して第16の実線21Aのように変化し、
受光素子群31Bの出力によつて得られる評価関
数F2は、デフオーカスに対して第16図の一点
鎖線21Bのように変化する。従つて、それらの
評価関数F1とF2を加算することにより Ft=F1+F2 新しい評価関数Ftを求めると、Ftはデフオーカ
スに対して、第16図の点線33で示すように変
化する。なお、ステツプ像のエツジの位置が、第
2図のB0−B0′線の位置にある場合においても評
価関数Ftのデフオーカスに対する変化は第16
図の点線33と同じになる。
このように、評価関数F1とF2を加算すること
により、それぞれの評価関数の合焦点付近での乱
れをキヤンセルすることができる。
により、それぞれの評価関数の合焦点付近での乱
れをキヤンセルすることができる。
次に、この実施例の電気処理系のブロツク図を
第3図に示す。符号50は受光素子の基板であ
り、二列に配置されたそれぞれ符号31A,31
Bで示す第1および第2の受光素子群(ホト・ダ
イオード・アレイ)がその上に配設されている。
符号51A,51Bはそれぞれ第1および第2の
CCD転送路で、これらのCCDドライバ56によ
つて駆動される。CCD転送路51A,51Bか
らの出力は、アンプ52A,52Bに入力され
る。ここで、光電変換出力は、A/D変換するの
に適正なレベルの信号に変換された後に、A/D
変換器53A,53Bに入力される。A/D変換
器53A,53Bの出力は演算回路54に入力さ
れ、ここで、評価関数Ftが演算される。制御回
路55は上記演算回路54で演算されたFtの値
により前ピン、後ピンおよび合焦などの合焦判定
を行ない、この判定結果をもとにして、図示しな
い合焦表示回路あるいはレンズ駆動回路を制御す
る。また、上記CCDドライバ56、A/D変換
器53A,53Bおよび演算回路54は制御回路
55によつて制御されている。
第3図に示す。符号50は受光素子の基板であ
り、二列に配置されたそれぞれ符号31A,31
Bで示す第1および第2の受光素子群(ホト・ダ
イオード・アレイ)がその上に配設されている。
符号51A,51Bはそれぞれ第1および第2の
CCD転送路で、これらのCCDドライバ56によ
つて駆動される。CCD転送路51A,51Bか
らの出力は、アンプ52A,52Bに入力され
る。ここで、光電変換出力は、A/D変換するの
に適正なレベルの信号に変換された後に、A/D
変換器53A,53Bに入力される。A/D変換
器53A,53Bの出力は演算回路54に入力さ
れ、ここで、評価関数Ftが演算される。制御回
路55は上記演算回路54で演算されたFtの値
により前ピン、後ピンおよび合焦などの合焦判定
を行ない、この判定結果をもとにして、図示しな
い合焦表示回路あるいはレンズ駆動回路を制御す
る。また、上記CCDドライバ56、A/D変換
器53A,53Bおよび演算回路54は制御回路
55によつて制御されている。
この電気処理系のブロツク図は、ほんの一例で
あつて、種々の変更が可能である。例えば、受光
素子群31A,31Bとしての上記CCD撮像素
子の代りにMOS撮像素子を使用してもかまわな
い。また、第4図に示すように、二列に配列され
たCCD転送路57を合流させて、アンプ52お
よびA/D変換器53の数をそれぞれ一つに減ら
すこともできる。また、マイクロコンピユータな
どを使用することにより、演算回路54および制
御回路55を共用してもよい。
あつて、種々の変更が可能である。例えば、受光
素子群31A,31Bとしての上記CCD撮像素
子の代りにMOS撮像素子を使用してもかまわな
い。また、第4図に示すように、二列に配列され
たCCD転送路57を合流させて、アンプ52お
よびA/D変換器53の数をそれぞれ一つに減ら
すこともできる。また、マイクロコンピユータな
どを使用することにより、演算回路54および制
御回路55を共用してもよい。
また、前記式(1)で示す評価関数Fは、前ピン、
後ピンおよび合焦を求める関数であり、レンズの
デフオーカス量を直接求めるためのものではな
い。もし、ここで、受光素子群Aの出力A1,A2,
…Aoと、受光素子群Bの出力B1,B2,…Boとの
相互相関を求めれば、受光素子群Aの出力の包絡
線と受光素子群Bの出力の包絡線の横ズレ量を直
接求めることもできる。ここで、レンズのデフオ
ーカス量ΔZは、像の横ズレ量dと結像光学系の
F値の関数であるため、 ΔZ=f(d,F) の関係式が成立する。
後ピンおよび合焦を求める関数であり、レンズの
デフオーカス量を直接求めるためのものではな
い。もし、ここで、受光素子群Aの出力A1,A2,
…Aoと、受光素子群Bの出力B1,B2,…Boとの
相互相関を求めれば、受光素子群Aの出力の包絡
線と受光素子群Bの出力の包絡線の横ズレ量を直
接求めることもできる。ここで、レンズのデフオ
ーカス量ΔZは、像の横ズレ量dと結像光学系の
F値の関数であるため、 ΔZ=f(d,F) の関係式が成立する。
もし、F値が既知であるならば、像の横ズレ量
dより直接レンズのデフオーカス量ΔZを求める
ことができる。このような評価法を用いた場合
は、第2図の受光素子群31Aより第1のデフオ
ーカス量ΔZ1を求め、受光素子列31Bより第2
のデフオーカス量ΔZ2を求め、その平均値を求め
る次式により ΔZt=(ΔZ1+ΔZ2)/2 新たにΔZtを求めてやつてもよい。
dより直接レンズのデフオーカス量ΔZを求める
ことができる。このような評価法を用いた場合
は、第2図の受光素子群31Aより第1のデフオ
ーカス量ΔZ1を求め、受光素子列31Bより第2
のデフオーカス量ΔZ2を求め、その平均値を求め
る次式により ΔZt=(ΔZ1+ΔZ2)/2 新たにΔZtを求めてやつてもよい。
ただし、このようにΔZ1,ΔZ2を求め、さらに
ΔZtを求めるということは、レンズのデフオーカ
ス量が小さい時(合焦点付近)において必要なこ
とであつて、デフオーカス量が大きいとき(大ボ
ケのとき)においては不要である。これは、大ボ
ケのときにおいては、像面の強度分布が低周波化
されてしまつて、 ΔZ1ΔZ2ΔZt となるためである。
ΔZtを求めるということは、レンズのデフオーカ
ス量が小さい時(合焦点付近)において必要なこ
とであつて、デフオーカス量が大きいとき(大ボ
ケのとき)においては不要である。これは、大ボ
ケのときにおいては、像面の強度分布が低周波化
されてしまつて、 ΔZ1ΔZ2ΔZt となるためである。
このように、レンズのデフオーカス量を直接求
めるという評価法は、レンズの駆動まで含めたオ
ートフオーカスにおいては重要である。これは、
レンズを合焦位置に移動するまでに要する時間が
短くなるためである。
めるという評価法は、レンズの駆動まで含めたオ
ートフオーカスにおいては重要である。これは、
レンズを合焦位置に移動するまでに要する時間が
短くなるためである。
次に、第1図および第2図に示すような光学系
および受光素子を使用し、かつ、レンズのデフオ
ーカス量を直接求める評価法を使用した場合のオ
ートフオーカスのアルゴリズムの1例を第5図に
示す。すなわち、まず始めに第1合焦検出を行な
う。この場合、レンズは大ボケの状態にあること
が多く、第1の受光素子だけを活かして、その出
力よりΔZ1を求める。そして、ΔZ1に従つてレン
ズを駆動する。ここまでの過程は、レンズの粗調
節に当り、次の第2合焦検出によつて微調節を行
なう。すなわち、第2の合焦検出においては、第
1および第2の受光素子列を活かして、ΔZtを求
め、この量だけレンズを駆動する。このようなア
ルゴリズムを使用することによつて、演算時間と
消費電力を節約することができる。
および受光素子を使用し、かつ、レンズのデフオ
ーカス量を直接求める評価法を使用した場合のオ
ートフオーカスのアルゴリズムの1例を第5図に
示す。すなわち、まず始めに第1合焦検出を行な
う。この場合、レンズは大ボケの状態にあること
が多く、第1の受光素子だけを活かして、その出
力よりΔZ1を求める。そして、ΔZ1に従つてレン
ズを駆動する。ここまでの過程は、レンズの粗調
節に当り、次の第2合焦検出によつて微調節を行
なう。すなわち、第2の合焦検出においては、第
1および第2の受光素子列を活かして、ΔZtを求
め、この量だけレンズを駆動する。このようなア
ルゴリズムを使用することによつて、演算時間と
消費電力を節約することができる。
また、第5図では、2回のレンズ駆動によつて
オートフオーカスを終了させているが、3回のレ
ンズ駆動を行なつてオートフオーカスを行なつて
もよい。この場合には、最初の2回を粗調節に当
て、最後の1回を微調節に当ててもよいし、粗調
節と微調節の回数を逆にしてもよい。
オートフオーカスを終了させているが、3回のレ
ンズ駆動を行なつてオートフオーカスを行なつて
もよい。この場合には、最初の2回を粗調節に当
て、最後の1回を微調節に当ててもよいし、粗調
節と微調節の回数を逆にしてもよい。
次に、第6図および第7図は、像の横ズレ光学
系としてストライプ・マスクの代りに臨界角プリ
ズムアレイを使用した実施例である。第6図は一
眼レフレツクスカメラにこの像の横ズレ光学系を
利用した合焦検出装置を適用した場合の拡大断面
図であり、結像レンズ1から入射した光はフイル
ム面5に結像するが、その間に設けたクイツクリ
ターンミラー3の半透鏡部と全反射鏡のサブミラ
ー4によりフイルム面5と共役な面6に結像す
る。この面6上には二列に配置された受光素子群
101A,101Bが設けられ、光の入射面側の
上記受光素子群101A,101B上にはやはり
二列の臨界角プリズムアレイ100A,100B
がそれぞれ設けられている。そして、この臨界角
プリズムアレイ100A,100Bは第7図に示
されるように、その一列目と二列目の臨界角プリ
ズムの位相が半ピツチずらされている。
系としてストライプ・マスクの代りに臨界角プリ
ズムアレイを使用した実施例である。第6図は一
眼レフレツクスカメラにこの像の横ズレ光学系を
利用した合焦検出装置を適用した場合の拡大断面
図であり、結像レンズ1から入射した光はフイル
ム面5に結像するが、その間に設けたクイツクリ
ターンミラー3の半透鏡部と全反射鏡のサブミラ
ー4によりフイルム面5と共役な面6に結像す
る。この面6上には二列に配置された受光素子群
101A,101Bが設けられ、光の入射面側の
上記受光素子群101A,101B上にはやはり
二列の臨界角プリズムアレイ100A,100B
がそれぞれ設けられている。そして、この臨界角
プリズムアレイ100A,100Bは第7図に示
されるように、その一列目と二列目の臨界角プリ
ズムの位相が半ピツチずらされている。
この構成からでも容易に理解できるように、本
実施例においても前記したストライプ・マスクを
使用した場合と全く同様の作用・効果が期待でき
る。
実施例においても前記したストライプ・マスクを
使用した場合と全く同様の作用・効果が期待でき
る。
(発明の効果)
以上述べたように、本発明によれば横ズレの検
出においてそれぞれ二列に配置した受光素子およ
び横ズレ光学系を使用し、その横ズレ光学系の位
相を半ピツチずらせることにより、精度よく合焦
検出ができ、殊にステツプ関数状の高周波状の被
写体であつても合焦精度を向上させることができ
る。
出においてそれぞれ二列に配置した受光素子およ
び横ズレ光学系を使用し、その横ズレ光学系の位
相を半ピツチずらせることにより、精度よく合焦
検出ができ、殊にステツプ関数状の高周波状の被
写体であつても合焦精度を向上させることができ
る。
第1図は、本発明の一実施例を示す合焦検出装
置を、一眼レフレツクスカメラに適用した場合の
拡大概略断面図、第2図は、上記合焦検出装置に
おけるストライプ・マスクと受光素子をサブミラ
ー側より見た部分拡大平面図、第3図は、本発明
の合焦検出装置の電気処理系を示すブロツク図、
第4図は、上記第3図中のCCD撮像素子部分の
変形例を示すブロツク図、第5図は、オートフオ
ーカスのアルゴリズムを示すフローチヤート、第
6図は、本発明の他の実施例を示す合焦検出装置
を、一眼レフレツクスカメラに適用した場合の拡
大概略断面図、第7図は、上記第6図中の臨界角
プリズムと受光素子との関係を拡大して示した断
面図、第8図は、像の横ズレを利用した、従来の
合焦検出装置を一眼レフレツクスカメラに適用し
た場合の拡大概略断面図、第9図は、上記第8図
の装置における後ピン状態を示す拡大概略断面
図、第10図は、被写体の輝度分布を示す線図、
第11図、第12図は、受光素子の出力をそれぞ
れ示した線図、第13図は、評価関数とデフオー
カス量の関係を示した線図、第14図A,B,C
は、高周波状の被写体と横ズレ光学系および受光
素子の関係を説明するための線図、第15図は、
被写体の輝度分布を示す線図、第16図は、評価
関数とデフオーカス量の関係を示した線図であ
る。 1…結像光学系、6…焦平面、30A,30B
…ストライプ・マスク、31A,31B…受光素
子列、100A,100B…臨界角プリズムアレ
イ、101A,101B…受光素子列。
置を、一眼レフレツクスカメラに適用した場合の
拡大概略断面図、第2図は、上記合焦検出装置に
おけるストライプ・マスクと受光素子をサブミラ
ー側より見た部分拡大平面図、第3図は、本発明
の合焦検出装置の電気処理系を示すブロツク図、
第4図は、上記第3図中のCCD撮像素子部分の
変形例を示すブロツク図、第5図は、オートフオ
ーカスのアルゴリズムを示すフローチヤート、第
6図は、本発明の他の実施例を示す合焦検出装置
を、一眼レフレツクスカメラに適用した場合の拡
大概略断面図、第7図は、上記第6図中の臨界角
プリズムと受光素子との関係を拡大して示した断
面図、第8図は、像の横ズレを利用した、従来の
合焦検出装置を一眼レフレツクスカメラに適用し
た場合の拡大概略断面図、第9図は、上記第8図
の装置における後ピン状態を示す拡大概略断面
図、第10図は、被写体の輝度分布を示す線図、
第11図、第12図は、受光素子の出力をそれぞ
れ示した線図、第13図は、評価関数とデフオー
カス量の関係を示した線図、第14図A,B,C
は、高周波状の被写体と横ズレ光学系および受光
素子の関係を説明するための線図、第15図は、
被写体の輝度分布を示す線図、第16図は、評価
関数とデフオーカス量の関係を示した線図であ
る。 1…結像光学系、6…焦平面、30A,30B
…ストライプ・マスク、31A,31B…受光素
子列、100A,100B…臨界角プリズムアレ
イ、101A,101B…受光素子列。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 結像光学系の焦平面の共役な位置に配置され
た第1および第2の受光素子列と、 それぞれ第1および第2の受光素子列の光入射
側に配置され、前記各受光素子列の素子に前記結
像光学系の異なる2つの瞳領域からの光束が交互
に結像するように透光部と遮光部とが繰り返すパ
ターンが前記受光素子列の半分のピツチで形成さ
れ、かつ互いに半ピツチだけ位相がずれているス
トライプマスクからなる第1および第2の像の横
ズレ手段と、 この横ズレ手段を介して入射した第1および第
2の受光素子列からの信号出力を受け、それぞれ
の受光素子列の出力に基づいて演算された評価関
数値の加算値、またはそれぞれの受光素子列の出
力に基づいて演算されたデフオーカス量の平均値
に基づいて合焦状態を検出する合焦検出手段と、 を具備することを特徴とする合焦検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15040884A JPS6128913A (ja) | 1984-07-19 | 1984-07-19 | 合焦検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15040884A JPS6128913A (ja) | 1984-07-19 | 1984-07-19 | 合焦検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6128913A JPS6128913A (ja) | 1986-02-08 |
| JPH0584485B2 true JPH0584485B2 (ja) | 1993-12-02 |
Family
ID=15496302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15040884A Granted JPS6128913A (ja) | 1984-07-19 | 1984-07-19 | 合焦検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6128913A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2960606B2 (ja) * | 1991-10-31 | 1999-10-12 | 株式会社トクヤマ | 導電性酸化スズファイバーの製造方法 |
| JP2005300844A (ja) | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Canon Inc | オートフォーカス用固体撮像装置とそれを用いたオートフォーカスカメラ |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS595213A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-12 | Canon Inc | 合焦状態検出装置 |
-
1984
- 1984-07-19 JP JP15040884A patent/JPS6128913A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6128913A (ja) | 1986-02-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |