JPH0585091A - Semiconductor device - Google Patents
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- JPH0585091A JPH0585091A JP3276825A JP27682591A JPH0585091A JP H0585091 A JPH0585091 A JP H0585091A JP 3276825 A JP3276825 A JP 3276825A JP 27682591 A JP27682591 A JP 27682591A JP H0585091 A JPH0585091 A JP H0585091A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 メモリ2、アドレスカウンタ3、発振器4等
からなる半導体集積回路チップ1の表面に、パッド部6
も含めて、静電シールド材となる導電材よりなるシール
ドリング5を被着することによって、半導体集積回路内
部でシールドを行うことになる。
【効果】 上記半導体集積回路チップを内部に有する半
導体装置を、例えばICカードに適用することによっ
て、静電気の動的変化を含む強電界や放電などによる誘
導電流が引き起こす障害を除去できる。
(57) [Summary] [Structure] The pad portion 6 is formed on the surface of the semiconductor integrated circuit chip 1 including the memory 2, the address counter 3, the oscillator 4 and the like.
By including the shield ring 5 made of a conductive material serving as an electrostatic shield material, the shield is performed inside the semiconductor integrated circuit. [Effect] By applying the semiconductor device having the semiconductor integrated circuit chip therein to, for example, an IC card, it is possible to eliminate a failure caused by an induced current due to a strong electric field or discharge including a dynamic change of static electricity.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えばICカード等に
適用される半導体装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device applied to an IC card or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、カード状構造体の内部にICいわ
ゆる半導体集積回路を内蔵しているICカードが注目さ
れている。上記ICカードは、種々の用途に用いられる
が、例えばタグ(付け札)状に形成して物流システムに
おける物品の認識のために用いたり、カード状に形成し
て(個人認識票)としてゲート等の入退出管理等のセキ
ュリティシステムにおけるチェック等のために使用され
ている。ICカードのうち、マイクロ波による非接触I
Cカードいわゆるマイクロ波カードには、反射型または
能動型のものがある。上記反射型のICカードは、本体
に電波反射用のアンテナを設けて認識装置から送信され
た電波をアンテナで反射させて認識装置に送り返すよう
にしたものである。また、能動型のICカードは認識装
置からの電波を受信してその電波に呼応した認識用のデ
ータ信号の発生及び送信を各回路で行い認識装置に送り
返すようにしたものである。2. Description of the Related Art In recent years, an IC card having an IC, a so-called semiconductor integrated circuit, inside a card-shaped structure has been receiving attention. The IC card is used for various purposes. For example, it is formed into a tag (tag) to be used for recognition of articles in a distribution system, or formed into a card (personal identification tag) as a gate, etc. It is used for checking in security systems such as entry and exit management. Among IC cards, non-contact by microwave I
C cards So-called microwave cards include reflection type or active type. The reflection type IC card is provided with an antenna for reflecting a radio wave in the main body, and the radio wave transmitted from the recognition device is reflected by the antenna and sent back to the recognition device. Further, the active IC card is configured to receive a radio wave from the recognition device, generate and transmit a recognition data signal corresponding to the radio wave in each circuit, and send the data signal back to the recognition device.
【0003】上記反射型のICカードとして、本出願人
は、先に特開平1−18272号の明細書及び図面にお
いて、マイクロ波による非接触ICカードいわゆるマイ
クロ波カードを提案した。この提案における概略構成
は、例えば入射する2.45〔GHz〕のマイクロ波を反射さ
せるアンテナと、送信データの発生回路と、上記送信デ
ータに対応させて上記アンテナのインピーダンスを変化
させるインピーダンス変化回路と、電池とを具備してな
り、アンテナの反射特性がアンテナのインピーダンスの
変化に応じて変わるのを利用してデータを送信すること
を特徴としている。この構成をとることによってICカ
ードは、極めて薄型にすることができる。ここで、上記
送信データの発生回路と上記インーダンス変化回路と
は、いわゆる識別コード発生器として、発振器、アドレ
スカウンタ、メモリ、FETトランジスタが一体的に組
み込まれた半導体集積回路(IC)で構成されている。As the reflection type IC card, the present applicant has previously proposed a non-contact type IC card using microwaves, a so-called microwave card, in the specification and drawings of JP-A-1-18272. The schematic configuration in this proposal is, for example, an antenna that reflects an incident microwave of 2.45 [GHz], a transmission data generation circuit, an impedance change circuit that changes the impedance of the antenna corresponding to the transmission data, and a battery. And transmitting data by utilizing the fact that the reflection characteristic of the antenna changes according to the change of the impedance of the antenna. With this configuration, the IC card can be made extremely thin. Here, the transmission data generating circuit and the impedance changing circuit are configured as a so-called identification code generator by a semiconductor integrated circuit (IC) in which an oscillator, an address counter, a memory, and an FET transistor are integrally incorporated. There is.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、一般的にI
Cにおいては、入出力端子の保護は、ダイオードや基板
を含めたトランジスタ構造によって保護しているが、静
電気の動的変化も含む強電界や放電などによる誘導電流
が近接して与える障害を防ぐ手段をIC内でおこなって
いなかった。また、一部のCMOS(Complementary MO
S)は、キャリア濃度が低く(抵抗値大)、強電界等によ
る衝撃の後、チャージアップしやすく回路動作が暫く停
止するいわゆる眠り込み現象が起こりやすい。By the way, in general, I
In C, the input / output terminal is protected by a transistor structure including a diode and a substrate, but a means for preventing a failure caused by an inductive current caused by a strong electric field or a discharge including a dynamic change of static electricity in proximity. Was not done in the IC. In addition, some CMOS (Complementary MO
S) has a low carrier concentration (large resistance value) and is easily charged up after impact by a strong electric field or the like, so that a so-called sleep phenomenon in which the circuit operation is stopped for a while easily occurs.
【0005】また、例えばカード構造体内部にICを有
してなる上記ICカードのうち、マイクロ波カードにお
いては、ICをガラスエポキシ基板上にボンディングさ
せ約1mm程度の薄型構造にしてあり、オキサイドラプチ
ャーという物理的損傷を与える2〜3kv/mm を1桁越え
る電界が容易にかかる。これに対して、カード構造体に
シールド構造を施すなどの手段を用いても約10kv/mm 程
度の電界に耐えられるぐらいにしかならない。これは、
一般の環境における静電気量が、乾燥した空気( 湿度50
% 以下) 中にある電子機器に帯電した人体( 静電容量10
0 〜300pF)から静電気が放電した場合、一般に、その静
電気帯電電圧が、絨毯を歩く人で12kv、ビニル・タイル
の床を歩く人で4kv に達し、上記の場合の静電帯電電圧
の最大値が13〜39kvに達することから考慮すると問題と
なる。Further, of the above IC cards having an IC inside the card structure, for example, the microwave card has a thin structure of about 1 mm obtained by bonding the IC onto a glass epoxy substrate. It is easy to apply an electric field that exceeds the order of magnitude of 2-3 kv / mm, which causes physical damage. On the other hand, even if a shield structure is applied to the card structure, it can only withstand an electric field of about 10 kv / mm. this is,
The amount of static electricity in a general environment is
Human body (capacitance 10
When static electricity is discharged from (0 to 300 pF), the electrostatic charging voltage generally reaches 12 kv for a person walking on a carpet and 4 kv for a person walking on a floor of vinyl tile, and the maximum electrostatic charging voltage in the above cases. Is a problem when considering that it reaches 13 to 39kv.
【0006】そこで本発明は、上述の問題点に鑑み、動
的変化も含む静電気あるいは誘導電流によるメモリの消
失変化、回路誤動作及び素子破壊を防ぐ半導体装置の提
供を目的とする。In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a semiconductor device which prevents a memory loss change due to static electricity or an induced current including a dynamic change, a circuit malfunction and an element destruction.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体装置
は、半導体集積回路チップを内部に有する半導体装置に
おいて、上記半導体集積回路チップ表面の周辺にリング
状の静電シールド材となる導電材を被着形成してなり上
述の課題を解決する。A semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device having a semiconductor integrated circuit chip therein, wherein a conductive material serving as a ring-shaped electrostatic shield material is provided around the surface of the semiconductor integrated circuit chip. The above-mentioned problems are solved by forming and depositing.
【0008】[0008]
【作用】本発明に係る半導体装置は、内部に有する半導
体集積回路チップの表面の周辺に静電シールド材となる
導電材を被着することによって、半導体集積回路内部で
シールドを行うことになり、静電気の動的変化を含む強
電界や放電などによる誘導電流が引き起こす障害等を除
去する。In the semiconductor device according to the present invention, a conductive material serving as an electrostatic shield material is applied to the periphery of the surface of the semiconductor integrated circuit chip contained therein to perform shielding inside the semiconductor integrated circuit. Eliminates obstacles caused by induced electric current due to strong electric field including static change of static electricity and discharge.
【0009】[0009]
【実施例】以下、本発明に係る半導体装置の具体的な実
施例を説明する。現在、例えばICカードの静電耐圧を
向上させるために、従来ガラスエポキシ基板のパターン
のない部分に配設していたICを電源電圧VDDにつなが
るパターン上にのせ、基板(サブストレート)との間を
導通性接着剤で導通させようと試みられている。これに
対し本発明は、ICチップ表面側でも周囲に直接リング
状のシールド材となる導電材を被着させ動的電界変化や
誘導電流による電位差の発生を押さえ、チップ表裏の導
通もとり上記眠り込みによるチャージも逃そうとするも
のである。EXAMPLES Specific examples of the semiconductor device according to the present invention will be described below. At present, for example, in order to improve the electrostatic withstand voltage of an IC card, an IC, which has been conventionally arranged in a non-patterned portion of a glass epoxy substrate, is placed on a pattern connected to a power supply voltage V DD , and then the substrate (substrate) is formed. Attempts have been made to connect the spaces with a conductive adhesive. On the other hand, according to the present invention, even on the IC chip surface side, a ring-shaped conductive material serving as a shield material is directly applied to the periphery to suppress the generation of a potential difference due to a dynamic electric field change or an induced current, and the conduction between the front and back sides of the chip is also taken into consideration for the sleep It tries to miss the charge by.
【0010】図1は、例えば上記ICカードに適用され
る半導体装置のパッケージ内部に収納された半導体集積
回路チップの構成を示す図である。図1において、半導
体集積回路チップ(ICチップ)1は、メモリ2、アド
レスカウンタ3、発振器4及び図示しないFETトラン
ジスタ等で構成される。ここで、静電シールド材となる
導電材よりなるシールドリング5を、発振器4の周波数
を決めるCR(図示せず)はもちろんパッド部6まで含
む全回路の外側に一周させる。これは、図2に示すよう
に、ICチップ1の多くのポイントでN- のサブストレ
ート7内にN+ のウエル8で導通をとり、上記ICチッ
プを等電位化し、かつショートリングとしての効果をあ
げようとするものである。FIG. 1 is a diagram showing a structure of a semiconductor integrated circuit chip housed in a package of a semiconductor device applied to the above IC card, for example. In FIG. 1, a semiconductor integrated circuit chip (IC chip) 1 is composed of a memory 2, an address counter 3, an oscillator 4, an FET transistor (not shown), and the like. Here, the shield ring 5 made of a conductive material serving as an electrostatic shield material is wound around the entire circuit including the pad portion 6 as well as CR (not shown) that determines the frequency of the oscillator 4. This is because, as shown in FIG. 2, at many points of the IC chip 1, the N + well 8 in the N − substrate 7 conducts electricity to make the IC chip equipotential and to function as a short ring. Is to give up.
【0011】この図2は、パッド部6を含めた全回路の
外側をシールドリング5で囲み、チップ内部でシールド
をとったCMOSの構造を示している。上記CMOS
は、Nチャンネル(電流通路)MOSトランジスタとP
チャンネル(電流通路)MOSトランジスタが直列に接
続されたものである。上記静電シールド材となる導電材
よりなるシールドリング5を上記ICチップ1内部に配
設する場合、その外部回路の接地(グランド)や電源イ
ンピーダンスによってパッド部6の電源電圧端子VDD、
電源電圧端子VSSのどちらに接続した方が有利であるか
が決定される。図1に示されたICチップ1は、パッド
部6の電源電圧端子VDDにシールドリング5が接続され
ている。FIG. 2 shows a CMOS structure in which the entire circuit including the pad portion 6 is surrounded by a shield ring 5 and the inside of the chip is shielded. CMOS above
Is an N-channel (current path) MOS transistor and P
The channel (current path) MOS transistors are connected in series. When the shield ring 5 made of a conductive material that serves as the electrostatic shield material is provided inside the IC chip 1, the power supply voltage terminal V DD of the pad portion 6 due to the grounding of the external circuit or the power supply impedance.
It is determined which of the power supply voltage terminals V SS it is advantageous to connect. In the IC chip 1 shown in FIG. 1, the shield ring 5 is connected to the power supply voltage terminal V DD of the pad section 6.
【0012】ここで、もしシールドリング5をパッド部
6の電源電圧端子VSSに接続する場合には、図2に破線
で示したシールドリング部5を主とした部分9を、図3
に示すような部分10に置き換えればよい。この図3に
おいて、シールドリング5は、図2におけパッド部6の
電源電圧端子VSSに接続される。このとき、P+ のウエ
ル11を下に敷くとサブストレートを電源電圧端子VDD
と同じ電位にした場合、サブストレートのN- 中に生じ
た電子eは電界をかけられることになり速く減退する効
果がある。また、シールドリング5とサブストレート5
に逆電圧をかけることにより空乏層12をリング状に発
生させてもよい。すなわち、IC内に何らかの原因で発
生した電荷eを早期に吸収、減退させることができる。Here, if the shield ring 5 is connected to the power supply voltage terminal V SS of the pad portion 6, the portion 9 shown by the broken line in FIG.
It may be replaced with the portion 10 as shown in. In FIG. 3, the shield ring 5 is connected to the power supply voltage terminal V SS of the pad portion 6 in FIG. At this time, if the P + well 11 is laid down, the substrate is connected to the power supply voltage terminal V DD.
If the same electric potential is used, the electron e generated in N − of the substrate can be applied with an electric field and has an effect of quickly declining. Also, the shield ring 5 and the substrate 5
The depletion layer 12 may be generated in a ring shape by applying a reverse voltage to the. That is, the electric charge e generated in the IC for some reason can be absorbed and reduced at an early stage.
【0013】以上、シールドリング5をパッド6の電源
電圧端子VDD、VSSのどちらに接続しても、本発明に係
る半導体装置に適用されるICチップ1は、表面の周囲
がパッド部6の外側までシールドリング5によって囲ま
れるため、ICチップ1の表面全体に渡って等電位化と
誘導による電流のショートが可能となる。As described above, regardless of whether the shield ring 5 is connected to the power supply voltage terminals V DD or V SS of the pad 6, the IC chip 1 applied to the semiconductor device according to the present invention has a pad portion 6 in the periphery of the surface. Since it is surrounded by the shield ring 5 up to the outer side, it is possible to equalize the potential and short-circuit the current due to induction over the entire surface of the IC chip 1.
【0014】なお、本発明に係る半導体装置は、上述し
たような構成のICチップを用いるだけでなく、例えば
図4に示すような、現在CMOS等においてポリシリコ
ン膜を介して多層配線が行われている技術を応用すれば
チップ表面で外部への引き出しを必要とするパット部1
6を一部除かせてそれ以外は全てシールド15で覆って
しまう構成にしてもよい。これは、静電気障害に対する
さらに強力な保護となる上に、遮光作用により通常パッ
ケージの薄型化にもつながる。さらには、2層、3層構
造の伝送路(ストリップライントリプレット)17とな
り、ICカードに適用する場合、マイクロ波のアンテナ
を直接CMOSに導き開閉するSPカードタイプの場合
の整合にも役立つと思われる。The semiconductor device according to the present invention not only uses the IC chip having the above-described structure, but also, for example, as shown in FIG. If the technology used is applied, the pad part 1 that needs to be pulled out to the outside on the chip surface
6 may be partially removed and all other parts may be covered with the shield 15. This not only provides stronger protection against electrostatic damage, but also leads to a thinner package in general due to the light blocking effect. Furthermore, it becomes a transmission line (stripline triplet) 17 with a two-layer, three-layer structure, and when applied to an IC card, it seems to be useful for matching in the case of an SP card type in which a microwave antenna is directly led to CMOS and opened and closed. Be done.
【0015】次に、上記第1図に示したICチップを内
部に有する半導体装置が適用され、配設されるICカー
ドの具体例を図5を参照して説明する。図5は、ICカ
ードのカード全体の構成を示している。図5において、
IC素子30は、ICカード基板22上の所定位置に配
設され、ペーパーバッテリ28の電源電圧端子に接続さ
れる。ICカード基板22は、シート材を枠状に打ち抜
いて形成された枠体23の枠内に収納される。これに対
してシート部材24はICカード基板22の部品搭載す
る上面から感熱型の接着材で接着される。次に、ICカ
ード基板22の部品搭載面の反対側すなわち基板の裏側
にあるシート部材25は、上記ICカード21の使用上
の注意書等の印刷が下面に施され、感熱型の接着材で接
着される。上記シート部材24、25は、静電気障害を
防止するため、高抵抗部材が使用され、また、光による
障害を防ぐため、光遮断材料が塗布されている。Next, a specific example of an IC card to which the semiconductor device having the IC chip shown in FIG. 1 inside is applied and arranged will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows the configuration of the entire IC card. In FIG.
The IC element 30 is arranged at a predetermined position on the IC card substrate 22, and is connected to the power supply voltage terminal of the paper battery 28. The IC card substrate 22 is housed in a frame of a frame body 23 formed by punching a sheet material into a frame shape. On the other hand, the sheet member 24 is adhered from the upper surface of the IC card substrate 22 on which components are mounted by a heat-sensitive adhesive material. Next, the sheet member 25 on the side opposite to the component mounting surface of the IC card substrate 22, that is, on the back side of the substrate, is printed with a cautionary note on the use of the IC card 21 on its lower surface, and is a thermosensitive adhesive. To be glued. The sheet members 24 and 25 are made of a high resistance material in order to prevent electrostatic damage, and are coated with a light blocking material in order to prevent light damage.
【0016】図6は、ICカード21の内部に位置する
ICカード基板22を示している。ICカード基板22
は、厚さ0.1mm の配線基板26と厚さ0.35mmの補強板2
7を積層して形成される。配線基板26は、上面にアン
テナパターン27a等が形成される。ペーパーバッテリ
28接続用の電極には、正負電極28a、28bがレー
ザ溶接され、ペーパーバッテリ28は、ペーパーバッテ
リ収納用の角孔27bに収納される。FIG. 6 shows the IC card substrate 22 located inside the IC card 21. IC card board 22
Is a wiring board 26 with a thickness of 0.1 mm and a reinforcing plate 2 with a thickness of 0.35 mm.
It is formed by stacking 7. The wiring board 26 has an antenna pattern 27a and the like formed on the upper surface. The positive and negative electrodes 28a and 28b are laser-welded to the electrodes for connecting the paper battery 28, and the paper battery 28 is housed in the square hole 27b for housing the paper battery.
【0017】上述したICカード21は、カードを形成
する構造体自体にシールド効果を施すことで、ある程度
の静電気障害を防ぎ、さらにICカード基板22上の所
定位置に配設されるIC素子30内のICチップ(上記
図1のICチップ1)の表面にもシールドリング5を配
設することによって日常生活で起こる静電気障害に耐え
られる構造となる。In the IC card 21 described above, the structure itself forming the card is provided with a shield effect to prevent a certain amount of electrostatic damage, and further, the IC element 30 arranged at a predetermined position on the IC card substrate 22. By disposing the shield ring 5 also on the surface of the IC chip (IC chip 1 in FIG. 1), the structure can withstand the electrostatic damage that occurs in daily life.
【0018】図7は、上記ICカードとして、上記シー
ルドリング5を電源電圧VDD側に接続したCMOSのI
Cを適用した場合の回路図である。図7において、シー
ルドリング5は、電源電圧VDDに接続されている。ま
た、出力端子VOUT は、ICカードのアンテナ31に接
続されている。FIG. 7 shows, as the IC card, a CMOS I in which the shield ring 5 is connected to the power supply voltage VDD side.
It is a circuit diagram when C is applied. In FIG. 7, the shield ring 5 is connected to the power supply voltage V DD . The output terminal V OUT is connected to the antenna 31 of the IC card.
【0019】なお、現在、約10kv/mm程度の耐静電
圧特性を有するICカードの具体例としては、図8に示
すような構成をとるものがある。図8において、ICカ
ード基板42上には、アンテナ43、ペーパーバッテリ
44、及びICを覆うパターン形状、例えばシリコン樹
脂45が配設される。ここで、帯電防止されたシールド
用のフィルム片46が、ICを配置している領域を含む
局所的な部分すなわち少なくともICを覆うパターン形
状、例えばシリコン樹脂45を含む形状に切り取られた
フィルム片を表側から裏側に回り込ませ、さらにシール
ドの一部をペーパーバッテリ44のパターンに接触させ
ている。すなわち、それ自体としては、シールドされて
いないICを、図8に示す45の位置にのせ、例えばワ
イヤーボンドしているICカードにおいて、静電気のチ
ャージや外部での放電でデータ変化や誤動作が起きない
ようにシールド部46をペーパーバッテリ部44へまた
がせ、約10kv/mm程度の耐静電圧特性を持たせてい
る。At present, as a concrete example of an IC card having a withstand voltage characteristic of about 10 kv / mm, there is one having a structure as shown in FIG. In FIG. 8, an antenna 43, a paper battery 44, and a pattern shape for covering the IC, for example, a silicon resin 45 is provided on the IC card substrate 42. Here, an antistatic shield film piece 46 is a film portion cut out in a local shape including the area where the IC is arranged, that is, a pattern shape that covers at least the IC, for example, a shape including the silicon resin 45. It is made to wrap around from the front side to the back side, and a part of the shield is brought into contact with the pattern of the paper battery 44. That is, as such, an unshielded IC is placed at the position 45 shown in FIG. 8 and, for example, in a wire-bonded IC card, data change or malfunction does not occur due to electrostatic charge or external discharge. As described above, the shield portion 46 is laid over the paper battery portion 44 so as to have the withstand voltage characteristic of about 10 kv / mm.
【0020】なお、本発明に係る半導体装置は、上記I
Cカードにのみ適用が限定されるものではなく、半導体
装置を必要とする多くの機器についても適用される。The semiconductor device according to the present invention has the above I
The application is not limited to the C card, and is also applied to many devices that require semiconductor devices.
【0021】[0021]
【発明の効果】本発明に係る半導体装置は、表面の周辺
にリング状の静電シールド材となる導電材を被着形成さ
れた半導体集積回路(IC)チップを内部に有する構成
とすることによって、IC自体の静電耐圧を向上させデ
ータ変化、誤動作、物理破壊等の静電障害を防ぎ、チャ
ージアップによる動作停止時間いわゆる眠り込み時間を
短縮し、電磁妨害を抑え、特にICが化合物半導体であ
るときは、防湿性にすぐれる。また、ICカードに上記
ICを配設した場合は、厚さ約1mmの薄型であっても、
静電耐圧が大幅に向上される。The semiconductor device according to the present invention has a semiconductor integrated circuit (IC) chip internally formed with a conductive material serving as a ring-shaped electrostatic shield material deposited on the periphery of the surface thereof. , The electrostatic breakdown voltage of the IC itself is improved to prevent electrostatic damage such as data change, malfunction, physical destruction, etc., the operation stop time due to charge-up, so-called sleep time, is shortened, and electromagnetic interference is suppressed, especially when the IC is a compound semiconductor. In some cases, it has excellent moisture resistance. In addition, when the above IC is installed on an IC card, even if it is thin with a thickness of about 1 mm,
The electrostatic breakdown voltage is greatly improved.
【図1】本発明に係る半導体装置に配設されるICチッ
プの構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an IC chip arranged in a semiconductor device according to the present invention.
【図2】図1に示されたICチップの一方の構造図であ
る。FIG. 2 is a structural diagram of one side of the IC chip shown in FIG.
【図3】図1に示されたICチップの他方の構造図であ
る。FIG. 3 is another structural view of the IC chip shown in FIG.
【図4】本発明に係る半導体装置に配設されるICチッ
プの他の実施例の構造図である。FIG. 4 is a structural diagram of another embodiment of an IC chip arranged in the semiconductor device according to the present invention.
【図5】本発明に係る半導体装置を適用したICカード
の構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram of an IC card to which the semiconductor device according to the present invention is applied.
【図6】図5に示されたICカードの要部の構成図であ
る。6 is a configuration diagram of a main part of the IC card shown in FIG.
【図7】図5に示されたICカードの回路図である。7 is a circuit diagram of the IC card shown in FIG.
【図8】シールドをとったICカードの他の例である。FIG. 8 is another example of an IC card having a shield.
1・・・・・ICチップ 2・・・・・メモリ 3・・・・・アドレスカウンタ 4・・・・・発振器 5・・・・・シールドリング 6・・・・・パッド部 1 IC chip 2 Memory 3 Address counter 4 Oscillator 5 Shield ring 6 Pad area
Claims (1)
導体装置において、上記半導体集積回路チップ表面の周
辺にリング状の静電シールド材となる導電材を被着形成
してなる半導体装置。1. A semiconductor device having a semiconductor integrated circuit chip inside, wherein a conductive material serving as a ring-shaped electrostatic shield material is adhered and formed on the periphery of the surface of the semiconductor integrated circuit chip.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3276825A JPH0585091A (en) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3276825A JPH0585091A (en) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | Semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0585091A true JPH0585091A (en) | 1993-04-06 |
Family
ID=17574929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3276825A Withdrawn JPH0585091A (en) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0585091A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005354661A (en) * | 2004-05-11 | 2005-12-22 | Nec Corp | Electronic circuit protection structure for non-contact communication apparatus, method and folding portable telephone set |
-
1991
- 1991-09-27 JP JP3276825A patent/JPH0585091A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005354661A (en) * | 2004-05-11 | 2005-12-22 | Nec Corp | Electronic circuit protection structure for non-contact communication apparatus, method and folding portable telephone set |
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