JPH05863A - 接合構造 - Google Patents
接合構造Info
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- JPH05863A JPH05863A JP3213748A JP21374891A JPH05863A JP H05863 A JPH05863 A JP H05863A JP 3213748 A JP3213748 A JP 3213748A JP 21374891 A JP21374891 A JP 21374891A JP H05863 A JPH05863 A JP H05863A
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- Japan
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- ceramic body
- metal
- nitride ceramic
- metal member
- aln
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Abstract
(57)【要約】
【目的】窒化物セラミック体と金属部材との高い接合強
度を保証することができ、接合部位の形状に何ら制約を
受けずしかも簡単な工程で実施できる接合構造を提供す
ることを目的とする。 【構成】窒化物セラミック体１（例えばＳｉ3 Ｎ4 やＡ
ｌＮ）に、メタライズ層２を介して金属部材３（例えば
周期律表第４，５，６族ａ系列の金属元素粉末）を接合
してなる接合構造において、前記メタライズ層２が少な
くともＡｌＮを含有しているものである。
度を保証することができ、接合部位の形状に何ら制約を
受けずしかも簡単な工程で実施できる接合構造を提供す
ることを目的とする。 【構成】窒化物セラミック体１（例えばＳｉ3 Ｎ4 やＡ
ｌＮ）に、メタライズ層２を介して金属部材３（例えば
周期律表第４，５，６族ａ系列の金属元素粉末）を接合
してなる接合構造において、前記メタライズ層２が少な
くともＡｌＮを含有しているものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は窒化物セラミック体と金
属部材とをメタライズ層を介して強力に接合する接合構
造に関する。
属部材とをメタライズ層を介して強力に接合する接合構
造に関する。
【０００２】
【従来技術】セラミック材料と金属材料との接合は両材
料の複合的工業技術にとって極めて重要な役割をなし、
とりわけ高温特性及び強度の優れたＳｉ3 Ｎ4 （窒化ケ
イ素），ＡｌＮ（窒化アルミニウム）等の窒化物を焼結
した窒化物セラミック体の応用分野が拡大されている現
今、金属との接合技術には高い関心が寄せられている。
即ち、その接合が電気的結合又は機械的結合のいづれで
あっても、窒化物セラミック体と金属部材との接合強度
には相応のものが要求されている。
料の複合的工業技術にとって極めて重要な役割をなし、
とりわけ高温特性及び強度の優れたＳｉ3 Ｎ4 （窒化ケ
イ素），ＡｌＮ（窒化アルミニウム）等の窒化物を焼結
した窒化物セラミック体の応用分野が拡大されている現
今、金属との接合技術には高い関心が寄せられている。
即ち、その接合が電気的結合又は機械的結合のいづれで
あっても、窒化物セラミック体と金属部材との接合強度
には相応のものが要求されている。
【０００３】従来こうした接合に用いられるメタライズ
法、例えば、高融点金属法，金属材料をセラミック体上
に蒸着する方法等、種々の方法が採られているが、いづ
れも多少の技術的問題点を含んでいる。
法、例えば、高融点金属法，金属材料をセラミック体上
に蒸着する方法等、種々の方法が採られているが、いづ
れも多少の技術的問題点を含んでいる。
【０００４】
【発明が解決しようとする問題点】即ち、高融点金属法
により形成される非酸化物セラミック体と金属材との接
合では高強度の接合強度が得られない。又、金属材料を
セラミック体上に蒸着して得られたものでは、形状に制
約があり、コスト高となる。金属材をセラミック体内に
鋳包んだものは用途に制約がある。この他セラミック体
と金属材との間に、両者の熱膨張値の中間値をとるよう
な材質を介装する方法、いわゆる摩擦圧接法も提案され
ているが、前掲方法ともどもいづれも接合強度が小さ
い、接合形状に制約を受けるという問題を払拭し得てい
ない。
により形成される非酸化物セラミック体と金属材との接
合では高強度の接合強度が得られない。又、金属材料を
セラミック体上に蒸着して得られたものでは、形状に制
約があり、コスト高となる。金属材をセラミック体内に
鋳包んだものは用途に制約がある。この他セラミック体
と金属材との間に、両者の熱膨張値の中間値をとるよう
な材質を介装する方法、いわゆる摩擦圧接法も提案され
ているが、前掲方法ともどもいづれも接合強度が小さ
い、接合形状に制約を受けるという問題を払拭し得てい
ない。
【０００５】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は上記現状
に鑑み、窒化物セラミック体への金属部材の接合を種々
研究，実験した結果、窒化物セラミック体と金属部材と
の接合に際し、ＡｌＮを含有するメタライズ層を窒化物
セラミック体と金属部材との間に形成すると、接合部の
形状に制約されることなく、簡単な工程で高強度の接合
強度が得られることを知悉し、本発明の完成に至ったの
である。即ち、本発明は、窒化物セラミック体にメタラ
イズ層を介して金属部材を接合してなる接合構造におい
て、メタライズ層が少なくともＡｌＮを含有しているこ
とを特徴とする接合構造である。
に鑑み、窒化物セラミック体への金属部材の接合を種々
研究，実験した結果、窒化物セラミック体と金属部材と
の接合に際し、ＡｌＮを含有するメタライズ層を窒化物
セラミック体と金属部材との間に形成すると、接合部の
形状に制約されることなく、簡単な工程で高強度の接合
強度が得られることを知悉し、本発明の完成に至ったの
である。即ち、本発明は、窒化物セラミック体にメタラ
イズ層を介して金属部材を接合してなる接合構造におい
て、メタライズ層が少なくともＡｌＮを含有しているこ
とを特徴とする接合構造である。
【０００６】本発明によるメタライズ層の上には常法に
従ってメッキ等を施した後、接合すべき金属部材をロー
付けして構造材として利用したり、電気的良導体金属を
メッキしてプリント基板などの導体配線を形成して電気
的材料に応用するなど、その応用範囲は広い。望ましい
実施例に於いて、メタライズ層と窒化物セラミック体と
の剥離強度は７５Ｍｐａ（メガ・パスカル）以上に及ん
でいる。
従ってメッキ等を施した後、接合すべき金属部材をロー
付けして構造材として利用したり、電気的良導体金属を
メッキしてプリント基板などの導体配線を形成して電気
的材料に応用するなど、その応用範囲は広い。望ましい
実施例に於いて、メタライズ層と窒化物セラミック体と
の剥離強度は７５Ｍｐａ（メガ・パスカル）以上に及ん
でいる。
【０００７】以下に本発明の構成を詳述する。本発明の
接合構造は、例えば、窒化物セラミック体上に、ＡｌＮ
を含有する酸窒化物ガラス及び高融点金属粉末とを含む
メタライズ組成物を定着して焼結することにより得られ
る。メタライズ組成物は、塗布もしくはプリントにより
窒化物セラミック体上に定着される。窒化物セラミック
体としてはＳｉ3 Ｎ4 （窒化ケイ素），ＡｌＮ（窒化ア
ルミニウム）焼結体が挙げられ、これらは工業的に焼結
する場合、焼結助剤として周期律表第２ａ，３ａ族元
素，Ａｌ及びＳｉなどの酸化物及びＡｌＮの単独もしく
は組み合わせをそれぞれ助剤としての使用量（約１０重
量％）含んで良好な焼結を保証するものであるが、これ
ら焼結助剤は焼結によって粒間相は通常酸窒化物ガラス
或いはこのガラスから結晶化した酸窒化物結晶相から構
成されている。
接合構造は、例えば、窒化物セラミック体上に、ＡｌＮ
を含有する酸窒化物ガラス及び高融点金属粉末とを含む
メタライズ組成物を定着して焼結することにより得られ
る。メタライズ組成物は、塗布もしくはプリントにより
窒化物セラミック体上に定着される。窒化物セラミック
体としてはＳｉ3 Ｎ4 （窒化ケイ素），ＡｌＮ（窒化ア
ルミニウム）焼結体が挙げられ、これらは工業的に焼結
する場合、焼結助剤として周期律表第２ａ，３ａ族元
素，Ａｌ及びＳｉなどの酸化物及びＡｌＮの単独もしく
は組み合わせをそれぞれ助剤としての使用量（約１０重
量％）含んで良好な焼結を保証するものであるが、これ
ら焼結助剤は焼結によって粒間相は通常酸窒化物ガラス
或いはこのガラスから結晶化した酸窒化物結晶相から構
成されている。
【０００８】そして、ここで使用する酸窒化物ガラスと
は、上記の窒化物セラミック体中の粒間相を構成してい
る酸窒化物ガラスおよび窒化物と化学的に類似するもの
であれば特に組成に限定を設ける必要がなく、少なくと
もＡｌＮを含有していれば良い。この酸窒化物ガラスは
焼付け温度で流動性のあるものが、塗布，プリントのよ
うな簡単な定着手法を採択できる上で至適である。さら
に、この酸窒化物ガラスとは結晶質を全く含まない純粋
なガラスである必要はなく、多少の結晶質を含んでいて
も、いわゆる“フリット”状にして使用できるものであ
れば、結晶質を含んでいても何ら差し支えないものであ
る。
は、上記の窒化物セラミック体中の粒間相を構成してい
る酸窒化物ガラスおよび窒化物と化学的に類似するもの
であれば特に組成に限定を設ける必要がなく、少なくと
もＡｌＮを含有していれば良い。この酸窒化物ガラスは
焼付け温度で流動性のあるものが、塗布，プリントのよ
うな簡単な定着手法を採択できる上で至適である。さら
に、この酸窒化物ガラスとは結晶質を全く含まない純粋
なガラスである必要はなく、多少の結晶質を含んでいて
も、いわゆる“フリット”状にして使用できるものであ
れば、結晶質を含んでいても何ら差し支えないものであ
る。
【０００９】他方、高融点金属粉末は基本的には焼付温
度で溶融，気化等が起こらない金属，金属のケイ化物，
炭化物の粉末で、焼結した場合、金属，そのケイ化物，
炭化物或いはそれらの混合物として存在するものであれ
ば良く、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍ
ｏ，Ｗなど、周期律表第４，５，６族ａ系列の金属元素
粉末が好適である。酸窒化物ガラスとの混合割合は特に
制限的なものは不要であるが、通常ガラス粉末７〜５０
重量部に対し高融点金属粉末は９３〜５０重量部の範囲
で良い。
度で溶融，気化等が起こらない金属，金属のケイ化物，
炭化物の粉末で、焼結した場合、金属，そのケイ化物，
炭化物或いはそれらの混合物として存在するものであれ
ば良く、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍ
ｏ，Ｗなど、周期律表第４，５，６族ａ系列の金属元素
粉末が好適である。酸窒化物ガラスとの混合割合は特に
制限的なものは不要であるが、通常ガラス粉末７〜５０
重量部に対し高融点金属粉末は９３〜５０重量部の範囲
で良い。
【００１０】メタライズ組成物を窒化物セラミック体上
に定着させる手法としては、既述のようなフリット状の
メタライズ組成物を塗布もしくは印刷によって窒化物セ
ラミック体上に厚み０．０１〜０．１ｍｍ程度に層着す
ることが最も望ましいが、この他吹付等の手法も採用で
きる。層着させるメタライズ組成物を焼結するには、組
成物の内容によっても変わるものの１０００〜１５００
℃の間で還元或いは中性ガス中で焼結すればよい。得ら
れたメタライズ層の上には既述のように接合すべき金属
部材をロー付けして構造材としたり、Ａｕ−Ｓｉ合金の
ような高い導電性を有する金属をメッキしてプリント基
板のような導体配線を形成して電気的材料に応用したり
する。
に定着させる手法としては、既述のようなフリット状の
メタライズ組成物を塗布もしくは印刷によって窒化物セ
ラミック体上に厚み０．０１〜０．１ｍｍ程度に層着す
ることが最も望ましいが、この他吹付等の手法も採用で
きる。層着させるメタライズ組成物を焼結するには、組
成物の内容によっても変わるものの１０００〜１５００
℃の間で還元或いは中性ガス中で焼結すればよい。得ら
れたメタライズ層の上には既述のように接合すべき金属
部材をロー付けして構造材としたり、Ａｕ−Ｓｉ合金の
ような高い導電性を有する金属をメッキしてプリント基
板のような導体配線を形成して電気的材料に応用したり
する。
【００１１】
【作用】窒化物セラミック体の窒化物結晶或いは粒間相
を構成している酸窒化物ガラスに対して、メタライズ組
成物中のＡｌＮが極めて大きな親和性を発揮して窒化物
セラミック体とメタライズ層との強い化学的接合強度を
保証し、一方高融点金属粉末は高温で焼結された場合、
金属，ケイ化物，炭化物もしくはそれらの混合物として
メタライズ層内に存在し、接合すべき金属部材との濡れ
性が良好であるためメタライズ層上に該金属部材を直接
接合して高い接合強度が得られる。必要によってはこの
メタライズ層にさらに電解或いは無電解メッキを行っ
て、これと半田付けもしくはロー付けによって金属部材
を接合すれば接合強度はより高められるのでその採択が
望まれる。
を構成している酸窒化物ガラスに対して、メタライズ組
成物中のＡｌＮが極めて大きな親和性を発揮して窒化物
セラミック体とメタライズ層との強い化学的接合強度を
保証し、一方高融点金属粉末は高温で焼結された場合、
金属，ケイ化物，炭化物もしくはそれらの混合物として
メタライズ層内に存在し、接合すべき金属部材との濡れ
性が良好であるためメタライズ層上に該金属部材を直接
接合して高い接合強度が得られる。必要によってはこの
メタライズ層にさらに電解或いは無電解メッキを行っ
て、これと半田付けもしくはロー付けによって金属部材
を接合すれば接合強度はより高められるのでその採択が
望まれる。
【００１２】
【実施例】図１に本発明の接合構造の一部縦断面斜視図
を示す。図において、窒化物セラミック体１上の接合に
必要なエリアにわたって定着されたメタライズ組成物は
焼結によってメタライズ層２を形成しており、このメタ
ライズ層２上に一例として、コバー金属（ＫＯＶＡＲ）
よりなる金属部材３を銀ロー４（ＢＡｇ−８）を介して
接合してある。この銀ロー４のプレージングはアンモニ
ア分解ガスをウエットガス（水蒸気を含ませたもの）の
状態で導入した雰囲気下で約８５０℃にて溶融させるこ
とによって実施した。
を示す。図において、窒化物セラミック体１上の接合に
必要なエリアにわたって定着されたメタライズ組成物は
焼結によってメタライズ層２を形成しており、このメタ
ライズ層２上に一例として、コバー金属（ＫＯＶＡＲ）
よりなる金属部材３を銀ロー４（ＢＡｇ−８）を介して
接合してある。この銀ロー４のプレージングはアンモニ
ア分解ガスをウエットガス（水蒸気を含ませたもの）の
状態で導入した雰囲気下で約８５０℃にて溶融させるこ
とによって実施した。
【００１３】後記のロー付け後の接合強度の測定方法を
ここで図２を採って説明しておく。
ここで図２を採って説明しておく。
【００１４】テストピースＳである窒化物セラミック体
１は左右より万力８によって中央方向に圧縮力（太字
印）を付与された状態で堅固に固定されており、金属部
材３上に吊金具５をハンダ６をもって固定し、この吊金
具５の上端にプッシュプルゲージ（ゼンマイばねはか
り）７を取付ける。この状態で吊金具５を３０ｍｍ／分
の早さで上方に引き上げ、メタライズ層２が窒化物セラ
ミック体１より剥離した瞬間の強度をゲージ７で読み取
る。
１は左右より万力８によって中央方向に圧縮力（太字
印）を付与された状態で堅固に固定されており、金属部
材３上に吊金具５をハンダ６をもって固定し、この吊金
具５の上端にプッシュプルゲージ（ゼンマイばねはか
り）７を取付ける。この状態で吊金具５を３０ｍｍ／分
の早さで上方に引き上げ、メタライズ層２が窒化物セラ
ミック体１より剥離した瞬間の強度をゲージ７で読み取
る。
【００１５】次に本発明の具体的実施例について説明す
る。
る。
【００１６】（実施例１） （ａ） 窒化物セラミック体：ＭｇＯ ３重量％、Ａｌ
2 Ｏ3 ７重量％を焼結助剤として含むＳｉ3 Ｎ4 セラ
ミック材料をＮ2 雰囲気１６５０℃にて焼成し、接合面
を２５０番ダイアモンドホイールで研磨してテストピー
スを作成した。
2 Ｏ3 ７重量％を焼結助剤として含むＳｉ3 Ｎ4 セラ
ミック材料をＮ2 雰囲気１６５０℃にて焼成し、接合面
を２５０番ダイアモンドホイールで研磨してテストピー
スを作成した。
【００１７】（ｂ） 酸窒化物ガラス：ＭｇＯ １８重
量％、ＡｌＮ ２０重量％、ＳｉＯ2 ６２重量％を混合
調製し、六方晶ＢＮをコーティングしたＳｉＣルツボ中
にて１５００℃で３時間加熱しＮ2 ガスを送りながらル
ツボ中で放冷した。得られたＭｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ
系のガラスからはＸ線回折の結果、Ｓｉ2 Ｎ2 Ｏ・各種
ＳＩＡＬＯＮとみられる微弱な回折線が認められた。こ
うして得たカレットを乳鉢中で粗粉砕した後、振動ミル
により３２５メッシュ以下の粒径に調製した。
量％、ＡｌＮ ２０重量％、ＳｉＯ2 ６２重量％を混合
調製し、六方晶ＢＮをコーティングしたＳｉＣルツボ中
にて１５００℃で３時間加熱しＮ2 ガスを送りながらル
ツボ中で放冷した。得られたＭｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ
系のガラスからはＸ線回折の結果、Ｓｉ2 Ｎ2 Ｏ・各種
ＳＩＡＬＯＮとみられる微弱な回折線が認められた。こ
うして得たカレットを乳鉢中で粗粉砕した後、振動ミル
により３２５メッシュ以下の粒径に調製した。
【００１８】（ｃ） 高融点金属粉末：純度９９％，平
均粒径３μｍのＷ粉末を用意した。
均粒径３μｍのＷ粉末を用意した。
【００１９】（ｄ） 定着及び焼結 ：上記のような準
備された酸窒化物ガラスとＷ粉末とを混合してペースト
とした後、このペーストを窒化物セラミック体上に厚み
２０μｍ、４ｍｍ2 の面積にわたって塗布し、Ｎ2 雰囲
気中で１３５０℃で１時間焼結してメタライズ層を得
た。
備された酸窒化物ガラスとＷ粉末とを混合してペースト
とした後、このペーストを窒化物セラミック体上に厚み
２０μｍ、４ｍｍ2 の面積にわたって塗布し、Ｎ2 雰囲
気中で１３５０℃で１時間焼結してメタライズ層を得
た。
【００２０】（ｅ） 接合：上記メタライズ層にＮｉ無
電解メッキを施し、剥離強度テストのための吊金具をハ
ンダ付けしてメタライズ層と窒化物セラミック体との剥
離強度測定を実施した。テストは２０個のテストピース
につき行い平均強度が８０ＭＰａ、ばらつきはδn-1 ＝
５ＭＰａであった。
電解メッキを施し、剥離強度テストのための吊金具をハ
ンダ付けしてメタライズ層と窒化物セラミック体との剥
離強度測定を実施した。テストは２０個のテストピース
につき行い平均強度が８０ＭＰａ、ばらつきはδn-1 ＝
５ＭＰａであった。
【００２１】（実施例２） （ａ） 窒化物セラミック体：Ｙ2 Ｏ3 ６重量％を焼結
助剤として含むＡｌＮセラミック材料をＮ2 雰囲気下で
１８５０℃にて焼成し接合面を２５０番ダイヤモンドホ
イールにて研磨した。
助剤として含むＡｌＮセラミック材料をＮ2 雰囲気下で
１８５０℃にて焼成し接合面を２５０番ダイヤモンドホ
イールにて研磨した。
【００２２】（ｂ）酸窒化物ガラス：Ｙ2 Ｏ3 ５０重量
％、ＡｌＮ１８重量％、ＳｉＯ2 ３２重量％の割合で調
合し、１７５０℃で１時間溶融してカレットを得た。こ
のＹ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系のガラスからはＸ線回折の
結果、結晶質物質は認められなかった。
％、ＡｌＮ１８重量％、ＳｉＯ2 ３２重量％の割合で調
合し、１７５０℃で１時間溶融してカレットを得た。こ
のＹ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系のガラスからはＸ線回折の
結果、結晶質物質は認められなかった。
【００２３】（ｃ） 高融点金属粉末：上記ガラスを２
５メッシュ以下の粉末とし平均粒径１０μｍのＮｂＳｉ
2 粉末と混合した。
５メッシュ以下の粉末とし平均粒径１０μｍのＮｂＳｉ
2 粉末と混合した。
【００２４】（ｄ） 定着及び焼結 ：この混合物をペ
ーストとして窒化物セラミック体上に厚み２０μｍに塗
布し、１４００℃で１時間焼結した。
ーストとして窒化物セラミック体上に厚み２０μｍに塗
布し、１４００℃で１時間焼結した。
【００２５】（ｅ） 接合：（実施例１）と同様な処置
を施して剥離強度を測定した。
を施して剥離強度を測定した。
【００２６】２０個のテストピースについて行なった平
均剥離強度が４５ＭＰａ、ばらつきはδn-1 ＝５ＭＰａ
であった。
均剥離強度が４５ＭＰａ、ばらつきはδn-1 ＝５ＭＰａ
であった。
【００２７】（実施例３〜７） （実施例１）のＳｉ3 Ｎ4 セラミック体および（実施例
２）のＡｌＮセラミック体のそれぞれについて焼結助
剤，高融点金属粉末をそれぞれ代えて実施したものを
（実施例３〜７）に示し、（実施例１〜７）の内容を表
１，表２にまとめて表示した。
２）のＡｌＮセラミック体のそれぞれについて焼結助
剤，高融点金属粉末をそれぞれ代えて実施したものを
（実施例３〜７）に示し、（実施例１〜７）の内容を表
１，表２にまとめて表示した。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【表２】
【００３０】表２から判明するように、Ｓｉ3 Ｎ4 及び
ＡｌＮ両窒化物セラミック体に対するメタライズ強度が
概ね７０〜８０ＭＰａという極めて高い値を、ロー付け
後の強度も約６０〜７５ＭＰａとかなりの高い値を示し
て、本発明の有効性がここに確認された。
ＡｌＮ両窒化物セラミック体に対するメタライズ強度が
概ね７０〜８０ＭＰａという極めて高い値を、ロー付け
後の強度も約６０〜７５ＭＰａとかなりの高い値を示し
て、本発明の有効性がここに確認された。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、窒化物セラミック体
に、少なくともＡｌＮを含有するメタライズ層を介して
金属部材を接合したので、窒化物セラミック体と金属部
材との高い接合強度を保証することができ、接合部位の
形状に何ら制約を受けずしかも簡単な工程で実施できる
優れた効果を発揮し得るものである。
に、少なくともＡｌＮを含有するメタライズ層を介して
金属部材を接合したので、窒化物セラミック体と金属部
材との高い接合強度を保証することができ、接合部位の
形状に何ら制約を受けずしかも簡単な工程で実施できる
優れた効果を発揮し得るものである。
【図１】本発明の接合構造の一部縦断面斜視図である。
【図２】メタライズ層の上に金属部材をロー付けをした
場合の強度測定テストの概略を示す説明図である。
場合の強度測定テストの概略を示す説明図である。
１ 窒化物セラミック体 ２ メタライズ層 ３ 金属部材
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】窒化物セラミック体にメタライズ層を介し
て金属部材を接合してなる接合構造において、前記メタ
ライズ層が少なくともＡｌＮを含有していることを特徴
とする接合構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3213748A JPH05863A (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 接合構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3213748A JPH05863A (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 接合構造 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59254538A Division JPH0679988B2 (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 窒化物セラミツク体へのメタライズ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05863A true JPH05863A (ja) | 1993-01-08 |
Family
ID=16644372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3213748A Pending JPH05863A (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 接合構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05863A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5551774A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-15 | Kyoto Ceramic | Composition and method for metallizing nonnoxide ceramic body |
| JPS6177681A (ja) * | 1984-09-21 | 1986-04-21 | 住友電気工業株式会社 | 窒化物セラミツクスの接合方法 |
-
1991
- 1991-08-26 JP JP3213748A patent/JPH05863A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5551774A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-15 | Kyoto Ceramic | Composition and method for metallizing nonnoxide ceramic body |
| JPS6177681A (ja) * | 1984-09-21 | 1986-04-21 | 住友電気工業株式会社 | 窒化物セラミツクスの接合方法 |
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