JPH058676Y2

JPH058676Y2 -

Info

Publication number: JPH058676Y2
Application number: JP1985033371U
Authority: JP
Priority date: 1985-03-11
Filing date: 1985-03-11
Publication date: 1993-03-04
Anticipated expiration: 2000-03-11
Also published as: JPS61151335U

Description

【考案の詳細な説明】（産業上の利用分野）この考案は、半導体ウエハの自動洗浄装置など
に用いられる蒸気乾燥装置に関する。

（従来の技術）従来、半導体ウエハをキヤリアにセツトして、
搬送処理ロボツトによつて複数の液槽に渡つて浸
漬したり引上げたりして、レジスト除去・酸化膜
除去・純水洗浄および乾燥工程を行う自動洗浄装
置において、乾燥処理方法には、回転体容器の中
でウエハを回転させて水切りを行うスピン乾燥機
を用いる場合と、アルコールまたはフレオン（商
標名）を加温して、それらの蒸気（ベーパー）に
よつてウエハから水分を分離させるベーパー（蒸
気）乾燥方式とがある。年々ウエハの大口径化に
伴ない、乾燥方式も、機構が複雑であつたり、ス
ペースをとるなどのデメリツトの多いスピン乾燥
方式から、ベーパー乾燥方式に移行する傾向にあ
る。このベーパー乾燥方式は、アルコールを約80
℃に加熱して沸騰した時に発生するベーパーによ
つてウエハを乾燥させる方式と、常温でウエハに
付いた純水をアルコールで分離させた後、フレオ
ンを約50℃に加熱して沸騰した時に発生するベー
パーによつてウエハを乾燥させる方式とが用いら
れており、このような方式を自動洗浄装置内に設
けて半導体ウエハの洗浄工程後の乾燥を行つてい
る。

第２図は従来のベーパー乾燥装置を具体的に示
す図である。この図において、１は液槽で、底部
に、アルコールまたはフレオンからなる溶剤２が
収容される。この溶剤２は、図示しないヒータに
より加熱され沸騰するもので、それにより発生し
たベーパーは、溶剤液面近傍に設けられたベーパ
ーガイド板３に案内されて液槽１内を上昇する。
この上昇ベーパー中に、半導体ウエハ４をキヤリ
ア５にセツトして投入する。すると、ベーパーが
半導体ウエハ４に接触し、この半導体ウエハ４の
強制乾燥が行われる。また、液槽１の上端内側に
冷却パイプ６が設けられており、前記乾燥に作用
し終えたベーパーは、この冷却パイプ６により液
滴となり、液槽１内に還元される。

（考案が解決しようとする問題点）しかるに、上記従来の装置では、ベーパー中に
投入されたウエハ４の表面に、沸騰した溶剤２の
飛沫が付着してシミとして残り、不良の原因とな
るという問題点があつた。

（問題点を解決するための手段）この考案は上記の問題点を解決するため、被乾
燥物と溶剤液面間に、ベーパーのみを通過させる
フイルタを設ける。このフイルタは、目の粗さが
0.5mm程度のフツ素樹脂メツシユ材で構成する。

（作用）すると、沸騰した溶剤の飛沫はフイルタで阻止
され、その飛沫が被乾燥物に付着することは防止
される。

（実施例）以下この考案の一実施例を図面を参照して説明
する。第１図はこの考案の一実施例を示す断面図
である。この図に示すように、この考案の一実施
例では、被乾燥物としての半導体ウエハ４と溶剤
２の液面間に、ベーパーガイド板３の上部におい
て、フイルタ７を設ける。このフイルタ７はフツ
素樹脂メツシユ材からなり、目の粗さは0.5mm程
度（JISメツシユ＃280程度）である。第１図の一
実施例のその他は第２図の従来の装置と同一であ
り、同一部分は、第２図と同一符号を付してその
説明を省略する。

このように構成された装置においては、第２図
の従来装置と全く同様にして半導体ウエハ４のベ
ーパー乾燥が行われるが、その際、沸騰溶剤２か
ら発生したベーパーのみがフイルタ７を通過して
半導体ウエハ４側に上昇し、沸騰した溶剤２の飛
沫はフイルタ７で阻止される。したがつて、この
装置によれば、沸騰した溶剤２の飛沫が半導体ウ
エハ４に付着することが防止され、飛沫がシミと
して残つて不良の原因となることがなくなる。

なお、フイルタ７で、沸騰した溶剤の飛沫の付
着を防止する方法は、半導体ウエハ以外の被乾燥
物の場合にも有効である。

また、溶剤に超音波振動で機械的振動を加えて
ベーパーを発生させる方式においても、同様の飛
沫の付着の問題があるため、その場合もフイルタ
７を適用できる。

さらに、上記一実施例では、目の粗さが0.5mm
程度のフツ素樹脂メツシユ材をフイルタ７として
用いた。フイルタが高温および溶剤に耐えるこ
と、および、溶剤の蒸気は通過させる一方、飛沫
は阻止しなければならないことを考えると、前記
メツシユ材は最適なフイルタ材料であり、良好な
結果が得られた。

（考案の効果）以上詳述したように、この考案の蒸気乾燥装置
では、被乾燥物と溶剤液面の間に、蒸気のみを通
過させるフイルタを設けることにより、被乾燥物
に対する溶剤の飛沫の付着を防止でき、付着によ
る弊害を除去できる。しかもこの考案では、目の
粗さが0.5mm程度のフツ素樹脂メツシユ材をフイ
ルタに用いたので、蒸気はフイルタを良好に通過
させて被乾燥物の乾燥を良好に行うことができる
とともに、飛沫はフイルタで確実に阻止して、被
乾燥物上でのシミ発生を確実に防止できる。さら
に上記フイルタによれば、溶剤非吸収性の材質面
および目の大きさからして、飛沫によりフイルタ
に目づまりする溶剤を少量に抑えることができ、
もつて、該溶剤を短時間のうちにヒータの熱で蒸
発除去できるから、目づまつても目づまり時間を
短時間にすることができ、その結果として蒸気の
通過量を多くできるから、乾燥処理時間の短縮を
図れる。さらにソツ素樹脂メツシユのフイルタに
よれば、腐食がなく、メンテナンスのいらない信
頼性の高いフイルタを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の蒸気乾燥装置の一実施例を
示す断面図、第２図は従来の装置の断面図であ
る。２……溶剤、４……半導体ウエハ、７……フイ
ルタ。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

被乾燥物に溶剤の蒸気を接触させて被乾燥物を
乾燥させる蒸気乾燥装置において、被乾燥物と蒸
気の基材である溶剤液面との間に、目の粗さが
0.5mm程度のフツ素樹脂メツシユ材からなるフイ
ルタを設けたことを特徴とする蒸気乾燥装置。