JPH0586848B2 - - Google Patents

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JPH0586848B2
JPH0586848B2 JP59118401A JP11840184A JPH0586848B2 JP H0586848 B2 JPH0586848 B2 JP H0586848B2 JP 59118401 A JP59118401 A JP 59118401A JP 11840184 A JP11840184 A JP 11840184A JP H0586848 B2 JPH0586848 B2 JP H0586848B2
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JP
Japan
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magnet
assemblies
coil
assembly
pole
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JP59118401A
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JPS607727A (ja
Inventor
Gyarubaato Danieru
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ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISU
ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISUTEMUZU Inc
Original Assignee
ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISU
ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISUTEMUZU Inc
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Publication date
Application filed by ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISU, ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISUTEMUZU Inc filed Critical ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISU
Publication of JPS607727A publication Critical patent/JPS607727A/ja
Publication of JPH0586848B2 publication Critical patent/JPH0586848B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F7/00—Magnets
    • H01F7/06—Electromagnets; Actuators including electromagnets
    • H01F7/066—Electromagnets with movable winding
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/035—DC motors; Unipolar motors
    • H02K41/0352—Unipolar motors
    • H02K41/0354—Lorentz force motors, e.g. voice coil motors
    • H02K41/0356—Lorentz force motors, e.g. voice coil motors moving along a straight path
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K2201/00—Specific aspects not provided for in the other groups of this subclass relating to the magnetic circuits
    • H02K2201/18—Machines moving with multiple degrees of freedom

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電磁アラインメント装置、例えば多
くの他の可能な用途の中でマイクロリソグラフイ
装置におけるウエーハの位置合わせもしくはアラ
インメントでの使用に適応されている電磁アライ
ンメント装置に関する。
従来技術 従来、対象物を平面運動により確定される３つ
の自由度で運動させるために、台もしくはステー
ジを互いに積み重ねるようにして配置し、それぞ
れ単軸のステージもしくは台を駆動するための３
つの個々のリニヤおよび／または回転モータを用
いることが必要であると考えられていた。
上記のような装置は長い年月に亘り用いられて
おり応分の成功を収めている。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、上記のような技術分野における貢献
を企図するものであつて上記のような公知の装置
に対し改良された新規な型のアラインメント装置
を提供することにある。
問題点を解決するための手段 本発明は、少なくとも３つの磁石アツセンブリ
と該磁石アツセンブリを互いに間隔をおいて取付
けるための手段とを特徴とする電磁アラインメン
ト装置を提供しようとするものである。この装置
はさらに、それぞれ磁石アツセンブリの高磁束領
域を通るようにして取付けられた少なくとも３つ
のコイルアツセンブリを備えており、該コイルア
ツセンブリの幅はそれぞれ高磁束領域の幅よりも
実質的に小さい。さらに、コイルアツセンブリそ
れぞれにおける電流の流れを制御するための手段
が設けられる。それに加えて、コイルアツセンブ
リを接続して、磁石アツセンブリに対し運動可能
でありその運動平面内でリジツト（剛性的）であ
る単一構造体を形成するための手段が設けられ、
該構造体上には例えばリソグラフイ装置で用いる
ためのシリコンウエーハを取付けることができ
る。コイルアツセンブリは、コイルに対する電流
の供給を制御することにより前記構造体が選択的
に３つの自由度で運動できるような相互関係で巻
回される。
本発明の一実施態様においては、４つの磁石ア
ツセンブリおよび４つのコイルアツセンブリが用
いられる。本発明の他の様相によれば、磁気回路
の高磁束領域はその両側で閉結されており、それ
により各コイルアツセンブリは常時上記高磁束領
域内に含まれる。本発明の他の様相によれば、イ
ンダクタンスを最小にするために各磁気回路の各
側部要素を取巻いて閉ループのワイヤもしくは導
体が取付けられる。
本発明の他の実施態様においては、４つの磁石
アツセンブリには、該磁石アツセンブリを互いに
矩形関係で取付けるための手段が設けられる。そ
の場合、一対の隣接する磁石アツセンブリは、磁
気回路が第１の磁石の上部磁極から第１の磁石の
下部磁極へ、そしてそこから第２の磁石の下部磁
極を介して該第２の上部磁極へ延び上記第１の磁
石の上部磁極に戻るように配列される。他の対の
隣接する磁石アツセンブリは、磁気回路が第３の
磁石の上部磁極から該第３の磁石の下部磁極へ、
そしてそこから第４の磁石の下部磁極を介して第
５の磁石の上部磁極へと延びて上記第３の磁石の
上部磁極に戻るように配列される。このアツセン
ブリはまた、それぞれ磁石の高磁束領域を通るよ
うに取付けられた４つのコイルアツセンブリを備
えている。コイルアツセンブリの幅は、それぞ
れ、高磁束領域の幅よりも相当に小さい。さらに
コイルアツセンブリを流れる電流を制御するため
の手段ならびにコイルアツセンブリを接続して磁
石に対し運動可能な構造を形成するための手段が
設けられる。コイルアツセンブリは、該コイルへ
の電流の供給を制御することにより上記構造が選
択的に３つの自由度で運動できるような相互関係
で巻回される。
上には、以下の詳細な説明の良き理解を得んが
ため並びに当該技術分野に対する本発明の貢献に
関する深い理解を得んがために本発明の比較的重
要な特徴に関しおおまかに梗概した。これら以外
に本発明の付加的な特徴があることは言うまでも
なく、これら付加的な特徴に関しては追つて詳細
に説明する。また当業者には、本明細書における
開示の基礎となる思想を、本発明の幾つかの目的
を実施するための他の装置の設計の基礎に容易に
利用可能であることは理解されるであろう。した
がつて、本明細書での開示は、本発明の範囲を逸
脱することなく均等な装置をも包摂するものと見
做されるべきである。
実施例 説明の便宜上本発明の幾つかの実施例を選択
し、以下添付図面を参照してこれら実施例に関し
説明する。
第１図を参照するに、この図には、少なくとも
３つの磁石アツセンブリを含む電磁アライメント
（位置合せ）装置が示されている。なお、磁石ア
ツセンブリは総て類似の構造のものであるので図
面には１つの磁石アツセンブリだけを図示するに
留めた。この磁石アツセンブリは第１図に参照数
字１０で全体的に表わされている。この磁石アツ
センブリは、磁気回路もしくは磁路が上部板１２
から上部磁極片１４に、そしてギヤツプ１６を横
切つて下部磁極片１８へと延びるように構成され
ている。第１図に線および矢印２２で図示したよ
うに、磁束は下部磁極片１８の中央部で２手に分
れて側部もしくは角部要素２０を介し上部磁極１
２に戻つている。インダクタンスを最小にするた
めに、角部要素２０を取巻いて閉ループのワイヤ
もしくは導体２４が設けられている。
装置はさらに、それぞれ磁石アツセンブリの高
磁束領域を横切るように取付けられた少なくとも
３つのコイルアツセンブリを備えている。総ての
コイルアツセンブリは類似の構造であるので、１
つのコイルアツセンブリ２６だけを図示するに留
めた。このコイルアツセンブリは磁石アツセンブ
リ１０の高磁束領域１６を横切つている。特に、
このコイルアツセンブリ２６の幅は磁石アツセン
ブリ１０の高磁束領域１６の幅よりも相当に小さ
い点に注意されたい。高磁束領域１６は、側部も
しくは角部要素２０により閉結されており、した
がつてコイルアツセンブリ２６は常時高磁束領域
内に含まれている。
コイルアツセンブリ２６にはリード線２８およ
び３０が設けられている。これらリード線もしく
はリードに供給される電流はコントローラ３２に
よつて制御される。磁石アツセンブリ１０に対し
て可動である構造３４を形成するようにコイルア
ツセンブリを接続するための手段が設けられてお
り、そのコイルアツセンブリのうちの１つが参照
数字２６で示されている。例えばシリコンウエー
ハのような対象物を、マイクロリソグラフイ装置
で使用するために構造体３４上に取付けることが
できる。なお、この装置はマイクロリソグラフイ
での使用に限られるものではなく、他の多くの使
用が可能である。
第１図を参照するに、電流の方向は矢印３６で
示されており、磁気回路は参照数字２２で表わさ
れている。その結果としてコイルおよび構造３４
に生ずる正味の力は矢印３８で示されている。こ
のようにして、３つまたは４つ以上の磁石アツセ
ンブリならびに同数のコイルアツセンブリを単一
平面に取付けた場合には、コイルを流れる電流の
制御で３つの自由度、即ちＸおよびＹ軸方向にお
ける構造３４の運動ならびに回転運動が制御され
る。
次に第２図を参照するに、この図には、互いに
矩形を形成する関係で配列された２対の磁石アツ
センブリ４０，４２，４４および４６を含む本発
明の別の実施例による電磁アラインメント装置が
示してある。これらアツセンブリは総て同一平面
内にある。隣接対をなす磁石アツセンブリ４０お
よび４２においては、磁石は、磁気回路もしくは
磁路４７が第１の磁石４０の上部磁極４８から上
部磁極片５０へ、そしてギヤツプ５２を横切り第
１の磁石の下部磁極５４へと延び、そこから第２
の磁石４２の下部磁極５６へ、そして上向きにギ
ヤツプ５８を横切つて上部磁極片６０へ、そして
そこから該第２の磁石４２の上部磁極６２へと延
び、第１の磁石４０の上部磁極４８に戻つてい
る。一対の磁石アツセンブリ４４および４８は、
上述の磁路に類似の磁路もしくは磁気回路を有す
る。角部要素もしくはコーナ片６４は、支持構造
要素であるが、磁気的に絶縁材料から形成されて
いる。
さらに第２図を参照するに、装置はさらに、そ
れぞれ磁石アツセンブリの高磁束領域を横切るよ
うにして取付けられた４つのコイルアツセンブリ
を備えている。これらコイルアツセンブリは類似
の構造であるので、同図には２つのコイルアツセ
ンブリ６６および６８だけを示すに留めた。コイ
ルアツセンブリ６６は磁石アツセンブリ４０の高
磁束領域５２を横切るようにして設けられ、他方
コイルアツセンブリ６８は磁石アツセンブリ４２
高磁束領域５８を横切るように設けられている。
なお、コイルアツセンブリ６６の幅は高磁束領域
５２の幅よりも相当に小さく、そしてコイルアツ
センブリ６８の幅も高磁束領域５８の幅よりも相
当に小さい点に留意されたい。これら高磁束領域
は、両側において側部もしくは角部要素６４によ
り閉結されておつて、それによりコイルアツセン
ブリ６６および６８はそれぞれ常時高磁束領域内
に含まれている。
コイルアツセンブリ６６には一対のリード７０
および７２が設けられており、そしてコイルアツ
センブリ６８には、一対のリード７４および７６
が設けられている。これらリードに供給される電
流はコントローラ７８によつて制御される。
磁石アツセンブリ４０，４２，４４および４６
に対し運動可能である構造８０を形成するように
コイルアツセンブリを接続するための手段が設け
られており、図にはそのうち２つの手段６６およ
び６８だけが示されている。例えばシリコンフエ
ーハのような対象物は、マイクロリソグラフイ装
置で使用するために構造体８０上に取付けること
ができる。なお装置は、この用途に限られるもの
ではなく他の多くの使用が可能である。
第２図を参照するに、第１のコイルアツセンブ
リ６６における電流の方向は矢印８２で示されて
おり、磁気回路は参照数字４７で示されている。
コイルおよび構造８０上には、矢印８４で示す正
味の力が作用する。第２のコイルアツセンブリ６
８における電流の方向は矢印８６で示されてお
り、磁気回路は参照数字４７で表わされている。
したがつて、コイルおよび構造８０には矢印８８
で示すような正味の力が生ずる。その結果とし
て、コイルアツセンブリ６６および６８ならびに
図示してない２つのコイルアツセンブリにおける
電流の制御で、力８４および８８ならびに図示し
ていない他の２つの力を制御して、それにより３
つの自由度、即ちＸおよびＹ軸方向における構造
８０の運動ならびに回転運動を制御することがで
きる。
次に第３図に示した本発明の実施例について述
べると、強磁性の基部９０上には、総括的に参照
数字９２，９４，９６および９８で示すように互
いに矩形を形成する関係で一平面内に取付けられ
た４つの磁石アツセンブリが設けられている。こ
れら４つのアツセンブリは類似の構造である。各
磁石アツセンブリは、磁気回路もしくは磁路が、
上部磁極片１００から高磁束領域もしくはギヤツ
プ１０２を通つて下部磁極片１０４へと下方に延
びそこから磁石１０６へと延びるように構成され
ている。磁束は中央部で２手に分れて、第１図の
実施例と関連して説明したのと類似の仕方で側部
もしくはコーナ片１０８を介し上部磁極片１００
へと戻る。
装置はさらに、それぞれ磁石アツセンブリ９
２，９４，９６および９８の高磁束領域を横切る
ようにし取付けられた４つのコイルアツセンブリ
１１０，１１２，１１４および１１６を備えてい
る。即ち、コイルアツセンブリ１１２は、磁石ア
ツセンブリ９４の高磁束ギヤツプ１０２を通るよ
うに取付けられている。この場合にも、各コイル
アツセンブリの幅はそれぞれ磁石アツセンブリの
高磁束領域の幅よりも相当に小さいことは諒解さ
れるであろう。１０２で示したような高磁束領域
の各々は、側部もしくは角部要素１０８によつて
両側で閉結されており、したがつて、コイルアツ
センブリ１１２のようなコイルアツセンブリは、
常時高磁束領域内に置かれる。
コイルアツセンブリ１１０にはリード１１８お
よび１２０が設けられており、コイルアツセンブ
リ１１２にはリード１２２および１２４が設けら
れている。同様にして、コイルアツセンブリ１１
４はリード１２６および１２８を有し、他方コイ
ルアツセンブリ１１６はリード１３０および１３
２を有している。これらリードに供給される電流
はコントローラ１３４によつて制御される。
構造もしくは作業台（プラツトフオーム）１３
６を形成するようにコイルアツセンブリを接続す
るための手段が設けられている。作業台もしくは
プラツトフオームは４つの取付けブラケツト１３
８上にしつかりと取付けられている。４つのコイ
ルアツセンブリ１１０，１１２，１１４および１
１６も、ブラケツト１３８に固定的に取付けられ
ておつて、単一のユニツトとして運動可能である
堅牢な構造を形成している。例えば、シリコンウ
エーハのような対象物はこの構造もしくは作業プ
ラツトフオーム上に取付けられる。しかしなが
ら、この装置の他の多くの用途も可能である。各
ブラケツト１３８は、非常に低い摩擦でエアパツ
ド表面１４２上を運動するように適応されたエア
パツド１４０を担持している。なお２つのエアパ
ツドだけを図示するに留めた。高さおよび水平位
調節用アクチユエータ１４４は、エアパツドした
がつてまた作業プラツトフオームの各磁石アツセ
ンブリに対する高さを調節したり水平位調節をす
る働きをなす。
動作において、コントローラ１３４の制御下
で、磁界内のいろいろなコイルアツセンブリに供
給される電流の方向および大きさが制御され、そ
れによりコイル自体ならびに作業プラツトフオー
ムに応力の力が発生されて、固定的に取付けられ
た磁石アツセンブリに対するプラツトフオームの
運動を制御することができる。この構造によれ
ば、３つの自由度即ちＸおよびＹ軸方向における
運動ならびに回転運動が達成される。
上の説明から明らかなように本発明によれば、
大きな力を発生する能力を有し、電力消費が小さ
く、運動質量が小さくて、しかも平面内で大きな
範囲に亘り運動が可能で、ブラシレス直流デバイ
スとして実現することができる改良された電磁ア
ラインメント装置が提案された。
本明細書では、説明の便宜上、本発明のいくつ
かの特定の実施例を開示したが、本発明が属する
技術分野の専門家には、本明細書の検討後、これ
ら実施例の他のいろいろな変更が本発明の範囲を
逸脱することなく可能であろうことを付記する。
発明の効果 本発明によれば、従来、対象物を平面運動によ
り確定される３つの自由度で運動させるために必
要であると考えられていた複数のリニヤモータお
よび／または回転モータを用いずに、３つの自由
度、即ちＸ軸、Ｙ軸方向における対象物の運動な
らびに回転運動の制御可能性が達成され、しかも
本発明によれば、大きな力を発生する能力を有
し、電力消費が小さく、運動質量が小さく、かつ
平面内で大きな範囲に亘り運動が可能で、ブラシ
レス直流デバイスとして実現できる改良された電
磁アラインメント装置が達成される。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の思想に従がつて構成された
電磁アラインメント装置の一部分を示す一部切欠
き斜視図、第２図は、本発明の別の実施例を示す
第１図に類似の一部切欠き斜視図、そして第３図
は、本発明のさらに他の実施例を示す一部切欠き
斜視図である。 １０，４０，４２，４４，４６，４８，９２，
９４，９６，９８，１０６……磁石アツセンブ
リ、１２……上部板、１４，５０，６０，１００
……上部磁極片、１６，５２，５８，１０２……
高磁束領域、１８，５４，１０４……下部磁極
片、２０，６４，１０８……角部要素、２２……
磁束、２４……導体ワイヤ、２６，６６，６８，
１１０，１１２，１１４，１１６……コイルアツ
センブリ、２８，３０，７０，７２，７４，７
６，１２２，１２４，１３０，１３２，……リー
ド、３２，７８，１３４……コントローラ、３
４，８０，１３６……プラツトフオーム、４７…
…磁路、４８，６２……上部磁極、５６……下部
磁極、９０……基部、１３８……取付けブラケツ
ト、１４０……エアパツド、１４４……アクチユ
エータ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ コミユテータのない電磁アラインメント装置
    において、 少なくとも３つの磁石アツセンブリ４０，４
    ２，４４，４６と、該磁石アツセンブリを互いに
    間隔をおいて取付けるための手段と、それぞれ磁
    石アツセンブリの高磁束領域５２，５８を通るよ
    うに取付けられた少なくとも３つのコイルアツセ
    ンブリ６６，６８とを備えており、該コイルアツ
    センブリの幅をそれぞれ前記高磁束領域の幅より
    も実質的に小さくし、 さらに、それぞれ前記コイルアツセンブリを流
    れる電流を制御するための手段７８と、前記コイ
    ルアツセンブリを接続して、運動平面内でリジツ
    ト（剛性的）でありかつ前記磁石アツセンブリに
    対し運動可能なただ１つの構成体を形成する手段
    ８０とを備えており、 前記コイルアツセンブリ６６，６８は、該コイ
    ルアツセンブリに対する電流の供給を制御するこ
    とにより前記構造体が選択的に３つの自由度で運
    動できるような相互関係で巻回されていることを
    特徴とする電磁アラインメント装置。 ２ 実質的に単一平面内に４つの磁石アツセンブ
    リ４０，４２，４４，４６，９２，９４，９６，
    ９８と４つのコイルアツセンブリ６６，６８，１
    １０，１１２，１１４，１１６とが配置されてい
    る特許請求の範囲第１項記載の電磁アラインメン
    ト装置。 ３ 磁気回路４０，４２，４４，４６の高磁束領
    域５２，５８が両側で閉結されておつて、それに
    より前記コイルアツセンブリがそれぞれ常時該高
    磁束領域内に含まれるようにした特許請求の範囲
    第１項記載の電磁アラインメント装置。 ４ インダクタンスを最小にするために各磁気回
    路４０，４２，４４，４６の各側部片の周りに取
    付けられた閉ループの導体６６，６８を備えてい
    る特許請求の範囲第３項記載の電磁アラインメン
    ト装置。 ５ 前記磁石アツセンブリ４０，４２，４４，４
    ６を互いに矩形関係で取付け、隣接する磁石アツ
    センブリを該矩形の角部分で互いに接続し、各磁
    石アツセンブリを、磁気回路が上部磁極から下部
    磁極へ、そしてそこから隣接の角部分へ延びて該
    角部分を介して上方に延び前記上部磁極に戻るよ
    うに構成されている特許請求の範囲第２項記載の
    電磁アラインメント装置。 ６ 電磁アラインメント装置において、 ４つの磁石アツセンブリ９２，９４，９６，９
    ８と、該磁石アツセンブリを互いに間隔をおいて
    実質的に１つの平面内に取付けるための手段とを
    備えており、 前記磁石アツセンブリ９２，９４，９６，９８
    は互いに矩形の関係に配列されて、隣接の磁石ア
    ツセンブリを前記矩形の角部分１０８で互いに接
    続し、各磁石アツセンブリは、ただ１つの磁気回
    路が上部磁極１００から下部磁極１０６へ、そし
    てそこから隣接の角部分１０８に延び該角部分を
    介して上方へ延びて該上部磁極へと戻るように配
    列されており、 さらに、それぞれ磁石アツセンブリの高磁束領
    域を通るように取付けられた４つのコイルアツセ
    ンブリ１１０，１１２，１１４，１１６を備えて
    おり、該コイルアツセンブリの幅をそれぞれ高磁
    束領域の幅よりも実質的に小さくし、 さらに前記コイルアツセンブリそれぞれを流れ
    る電流を制御するための手段と、前記コイルアツ
    センブリを接続して前記磁石アツセンブリに対し
    運動可能なただ１つの構造体を形成するための手
    段とを備えており、 該手段は、前記４つのコイルアツセンブリをそ
    れぞれ担持する４つの取付けブラケツトと、該４
    つの取付けブラケツトに堅固に取付けられた作業
    プラツトフオーム１３６とを有しており、 各取付けブラケツトは、空気パツド表面上に取
    付けるための空気パツド１４０を担持し、各取付
    けブラケツトは、前記構造体の傾斜および高さを
    制御するための高さおよび水平位制御アクチユエ
    ータ１４４を担持し、前記コイルアツセンブリ
    は、前記コイルに対する電流の供給を制御するこ
    とにより前記構造体が選択的に３つの自由度で運
    動可能なように相互関係で巻回されていることを
    特徴とする電磁アラインメント装置。 ７ 電磁アラインメント装置において、 ４つの磁石アツセンブリ４０，４２，４４，４
    ６と、該磁石アツセンブリ４０，４２，４４，４
    ６を互いに矩形関係で取付けるための手段とを備
    えており、 一対の隣接する前記磁石アツセンブリは、ただ
    １つの磁気回路が第１の磁石４０の上部磁極４８
    から該第１の磁石４０の下部磁石５４へ、そして
    そこから第２の磁石４２の下部磁極５６を経て該
    第２の磁石４２の上部磁極６２へ延び、前記第１
    の磁石４０の上部磁極４８に戻るように配列さ
    れ、隣接する他の対の磁石アツセンブリは、ただ
    １つの磁気回路が、第３の磁石４４の上部磁極か
    ら該第３の磁石４４の下部磁極へ、そしてそこか
    ら第４の磁石４６の下部磁極を介して該第４の磁
    石４６の上部磁極へ延びそして前記第３の磁石４
    ４の上部磁極に戻るように配列されており、 さらにそれぞれ前記磁石アツセンブリ４０，４
    ２，４４，４６の高磁束領域を通るように取付け
    られた４つのコイルアツセンブリ６６，６８を備
    えており、該コイルアツセンブリの幅をそれぞれ
    前記高磁束領域の幅よりも実質的に小さくし、 さらに、前記コイルアツセンブリ６６，６８そ
    れぞれにおける電流の流れを制御するための手段
    と、前記コイルアツセンブリ６６，６８を接続し
    て前記磁石アツセンブリに対し運動可能なただ１
    つの構造体を形成するための手段とを備えてお
    り、 前記コイルアツセンブリは該コイルアツセンブ
    リへの電流の供給を制御することにより前記構造
    体が選択的に３つの自由度で運動できるような相
    互関係で巻回されていることを特徴とする電磁ア
    ラインメント装置。
JP59118401A 1983-06-10 1984-06-11 電磁アラインメント装置 Granted JPS607727A (ja)

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