JPS607727A - 電磁アラインメント装置 - Google Patents

電磁アラインメント装置

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JPS607727A
JPS607727A JP59118401A JP11840184A JPS607727A JP S607727 A JPS607727 A JP S607727A JP 59118401 A JP59118401 A JP 59118401A JP 11840184 A JP11840184 A JP 11840184A JP S607727 A JPS607727 A JP S607727A
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F7/00Magnets
    • H01F7/06Electromagnets; Actuators including electromagnets
    • H01F7/066Electromagnets with movable winding
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/035DC motors; Unipolar motors
    • H02K41/0352Unipolar motors
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    • H02K41/0356Lorentz force motors, e.g. voice coil motors moving along a straight path
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    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、装置、特に、多くの他の可能な用途の中でマ
イクロリトグラフィ装置におけるウェーハの位置合せも
しくはアラインメントでの使用に適応されている電磁ア
ラインメント装置に関する。
従来技術 従来、対象物を平面運動により確定される6つの自由度
で運動させるために、台もしくはステージを互いに積み
重ねるようにして配置し、それぞれ単軸のステージもし
くは台を駆動するための6つの個々のりニヤおよび/ま
たは回転モータを用いることが必要であると考えられて
いた。
上記の様な装置は長い年月に亘り用いられており応分の
成功を収めている。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、上記のような技術分野における貢献を企図す
るものであって上記のような公知の装置に対し改良され
た新規な型のアラインメント装置を提供することにある
問題点を解決するための手段 本発明は、少なくとも3つの磁石アッセンブリと該磁石
アッセンブリを互いに離間関係で取付けるための手段ξ
を特徴とする電磁アラインメント装置を提供しようとす
るものである。この装置はさらに、それぞれ磁石アッセ
ンブリの高磁束領域を通るようにして取付けられた少な
くとも6つのコイルアンセンブリを備えており、該コイ
ルアッセンブリの幅はそれぞれ高磁束領域の幅よりも相
当に小さい。さらに、コイルアンセンブリそれぞれにお
ける電流の流れを制御するだめの手段が設けられる。そ
れに加えて、コイルアンセンブリを接続して、磁石アッ
センブリに対して運動可能な構造を形成するための手段
が設げられ、該構造上には例えばIJ )グラフィ装置
で用いるためのシリコンウェーハを取付けることができ
る。コイルアンセンブリは、コイルに対する電流の供給
を制御することにより上記構造が選択的に3つの自由度
で運動できるような相互関係で巻回される。
本発明の一実施態様においては、4つの磁石゛アッセン
ブリおよび4つのコイルアンセンブリが用いられる。本
発明の他の様相によれは、磁気回路の高磁束領域はその
両側で閉結されておって、それにより各コイルアンセン
ブリは常時上記高磁束領域内に含まれる。本発明の他の
様相によれば、インダクタンスを最小にするために各磁
気回路の各側部要素を取巻いて閉ループのワイヤもしく
は導体が取付けられる。
本発明の他の実施態様においては、4つの磁石アッセン
ブリには、該磁石アッセンブリを互いに矩形関係で取付
けるための手段が設けられる。その場合、一対の隣接す
る1石アッセンブリは、磁気回路が第1の磁石の上部磁
極から第1の磁石の下部磁極へ、そしてそこから第2の
磁石の下部磁極を介して該第2の上部磁極へ延び上記第
1の磁石の上部磁極に戻るように配列される。他の対の
隣接する缶石アッセンブリは、磁気回路が第6の磁石の
上部磁極から該第6の磁石の下部磁極へ、そしてそこか
ら第4の磁石の下部磁極を介し第5の磁石の上部磁極へ
と延びて上記第3の磁石の上部磁極に戻るように配列さ
れる。このアッセンブリはまた、それぞれ磁石の高磁束
領域を通るように取付けられた4つのコイルアンセンブ
リを備えている。コイルアッセンブリの幅は、それぞれ
、高磁束領域の幅よりも相当に小さい。さらにコイルア
ンセンブリを流れる電流を制御するための手段ならびに
コイルアンセンブリを接続して磁石に対し運動可能な構
造を形成するための手段が設げられる。コイルアッセン
ブリは、該コイルへの電流の供給を制御することにより
上記構造が選択的に3つの自由度で運動できるような相
互関係で巻回される。。
上には、以下の詳細な説明の良き理解を得んがため並び
に当該技術分野に対する本発明の貢献に関する深い理解
を得んがために本発明の比較的重要な特徴に関しおおま
かに梗概した。これら以外に本発明の付加的な特徴があ
ることは言うまでもな(、これら付加的な特徴に関して
は追って詳細に説明する。また当業者には、本明細書に
おける開示の基礎となる思想を、本発明の幾つかの目的
を実施するための他の装置の設計の基礎に容易に利用可
能であることは理解されるであろう。したがって、本明
細書での開示は、本発明の範囲を逸脱することなく均等
な装置をも包摂するものと見做されるべきである。
実施例 説明の便宜上本発明の幾つかの実施例を選択し、以下添
付図面を参照してこれら実施例に関し説明する。
第1図を参照するに、この図にしま、少なくとも6つの
磁石アッセンブリを含む電磁アライメント(位置合せ)
装置が示されている。なお、磁石アッセンブリは総て類
似の構造のものであるので図面には1つの磁石アッセン
ブリだけを図示するに留めた。この磁石アッセンブリは
第1図に参照数字10で全体的に表わされている。
この磁石アッセンブリは、磁気回路もしくは磁路が上部
板12から」二部磁極片14に、そしてヤヤツプ16を
横切って下部磁極片18へと延びるように構成されてい
る。第1図に線および矢印22で図示したように、磁束
は下部磁極片18の中央部で2手に分れて側部もしくは
角部要素20を介し上部磁極12に戻っている。インダ
クタンスを最小にするために、角部要素20を取巻いて
閉ループのワイヤもしくは導体24が設けられている。
装置はさらに、それぞれ磁石アッセンブリの高磁束領域
を横切るように取付けられた少なくとも6つのコイルア
ンセンブリを備えている。
総てのコイルアンセンブリは類似の構造であるので、1
つのコイルアンセンブリ26だけを図示するに留めた。
このコイルアンセンブリは磁石アッセンブリ10の高磁
束領域16を横切っている。特に、このコイルアンセン
ブリ260幅は磁石アッセンブリ10の高磁束領域′1
6の幅よりも相当に小さい点に注意されたい。高磁束領
域16は、側部もしくは角部要素20により閉結されて
おり、したがってコイルアンセンブリ26は常時高磁束
領域内に含まれている。
コイルアンセンブリ26にはリード線28および30が
設けられている。これらリード線もしくはリードに供給
される電流はコントロー、う32によって制御される。
磁石アッセンブリ10に対して可動である構造34を形
成するようにコイルアンセンブリを接続するだめの手段
が設けられており、そのうちの1つが参照数字26で示
されている。例えばシリコンウェーハのような対象物を
、マイクロリトグラフィ装置で使用するために構造34
上に取付けることができる。なお、この装置はマイクロ
リトグラフィでの使用に限られるものではな(゛、他の
多くの使用が可能である。
第1図を参照するに、電流の方向は矢印36で示されて
おり、磁気回路は参照数字22で表わされている。その
結果としてコイルおよび構造34に生ずる正味の力は矢
印38で示されている。このようにして、6つまたは4
つ以上の磁石アッセンブリならびに同数のコイルアンセ
ンブリを単一平面に取付けた場合には、コイルを流れる
電流の制御で6つの自由度、即ちXおよびY軸方向にお
ける構造34の運動ならびに回転運動が制御される。
次に第2図を参照するに、この図には、互いに矩形を形
成する関係で配列された2対の磁石アッセンブリ40,
42.44および46を含む本発明の別の実施例による
電磁アラインメント装置が示しである。これらアッセン
ブリは総て同一平面内にある。隣接対をなす磁石アッセ
ンブリ40および42においては、磁石は、磁気回路も
しくは磁路47が第1の磁石40の上部磁極48から上
部磁極片50へ、そしてギャツ7652を横切り第1の
磁石の下部磁極54へと延び、そこから第2の磁石42
の下部磁極56へ、そして上向きにギャップ58を゛横
切って上部磁極片60へ、そしてそこから該第2の磁石
42の上部磁極62へと延び、第1の磁石40の上部磁
極48に戻っている。一対の磁石アッセンブリ44およ
び48は、上述の磁路に類似の磁路もしくは磁気回路を
有する。角部要素もしくはコーナ片64は、支持構造要
素であるが、磁気的に絶縁材料から形成されている。
さらに第2図を参照するに、装置はさらに、それぞれ磁
石アッセンブリの高磁束領域を横切るようにして取付け
られた4つのコイルアンセンブリを備えている。これら
コイルアンセンブリは類似の構造であるので、図面には
2つのコイルアンセンブリ66および68だけを示すに
留めた。コイルアンセンブリ66は研石アッセンブリ4
0の高磁束領域52を横切るようにして設けられ、他方
コイルアンセンブリ68は磁石アッセンブリ42高磁束
領域58を横切るように設けられている。なお、コイル
アンセンブリ660幅は高磁束領域520幅よりも相当
に小さく、そしてコイルアンセンブリ68の幅も高磁束
領域58の幅よりも相当に小さい点に留意されたい。こ
れら高磁束領域は、両側において側部もしくは角部要素
64により閉結されておって、それによりコイルアンセ
ンブリ66および68はそれぞれ常時高磁束領域内に含
まれている。
コイルアンセンブリ66には一対のリード70および7
2が設げられており、そしてコイルアンセンブリ68に
は、一対のリード74および76が設けられている。こ
れらリードに供給される電流はコントローラ78によっ
て制御される。
磁石アッセンブリ40,42.44および46に対し運
動可能である構造80を形成するようにコイルアンセン
ブリを接続するための手段が設けられており、図にはそ
のうち2つの手段66および68だけが示されている。
例えはシリコンウェーハのような対象物は、マイクロリ
トグラフィ装置で使用するために構造80上に取付ける
ことができる。なお装置は、この用途に限られるもので
はなく他の多くの使用が可能である。
第2図を参照するに、第1のコイルアンセンブリ66に
おける電流の方向は矢印82で示されており、磁気回路
は参照数字47で示されている。コイルおよび構造80
上には、矢印84で示す正味の力が作用する。第2のコ
イルアンセンブリ68における電流の方向は矢印86で
示されており、磁気回路は参照数字47で表わされてい
る。したがって、コイルおよび構造80には矢印88で
示すような正味の力が生ずる。
その結果として、コイルアンセンブリ66および68な
らびに図示してない2つのコイルアンセンブリにおける
電流の制御で・、力84および88ならびに図示してい
ない他の2つの力を制@Iして、それにより6つの自由
度、即ちXおよびY軸方向における構造80の運動なら
びに回転運動を制御することができる。
次に第6図に示した本発明の実施例について述べると、
強磁性の基部90上には、総括的に参照数字92.94
.96および98で示すように互いに矩形を形成する関
係で一平面内に取付けられた4つの磁石アッセンブリが
設けられている。これら4つのアッセンブリは類似の構
造である。各磁石アッセンブリは、磁気回路もしくは磁
路が、上部磁極片100から高磁束領域もしくはギャッ
プ102を通って下部磁極片104へと下方に延びそこ
から磁石106へと延びるように構成されている。磁束
は中央部で2手に分れて、第1図の実施例と関連して説
明したのと類似の仕方で側部もしくはコーナ片108を
介し上部磁極片100へと戻る。
装置はさらに、それぞれ磁石アッセンブリ92.94.
96および98の高磁束領域を横切るようにし取付けら
れた4つのコイルアンセンブリ110,112.114
および116を備えている。即ち、コイルアンセンブリ
112は、磁石アッセンブリ94の高磁束ギャップ10
2を通るように取付けられている。この場合にも、各コ
イルアンセンブリの幅はそれぞれ磁石アッセンブリの高
磁束領域の幅よりも一相当に小さいことは諒解されるで
あろう。102で示したような高磁束領域の各々は、側
部もしくは角部要素108によって両側で閉結されてお
り、したがって、コイルアンセンブリ112のようなコ
イルアンセンブリは、常時高磁束領域内に置かれる。
コイルアンセンブリ110にはリード118および12
0が設けられており、コイルアンセンブリ112にはリ
ード122および124が設けられている。同様にして
、コイルアンセンブリ114はリード126および12
8を有し、他方コイルアンセンブリ116はリード13
0および132を有している。これらリードに供給すれ
る電流はコントローラ134によって制御される。
構造もしくは作業台(プラットフォーム)136を形成
するようにコイルアンセンブリを接続するための手段が
設けられている。作業台もしくはプラットフォームは4
つの取付はブラケット138上にしつか9と取付けられ
ている。
4つのコイルアツセンプり110,112゜114およ
び116も、ブラケット138に固定的に取付けられて
おって、単一のユニットとして運動可能である堅牢な構
造を形成している。
例えば、シリコンウェーハのような対象物はこの構造も
しくは作業プラットフォーム上に数例けられる。しかし
ながら、この装置の他の多くの用途も可能である。各ブ
ラケット138は、非常に低い摩擦でエアパッド表面1
42上を運動するように適応されたエアパッド140を
担持している。なお2つの千アバツトだけを図示するに
留めた。高さおよび水平位調節用アクチュエータ144
は、エアパッドしたがってまた作業プラットフォームの
各磁石アッセンブリに対する高さを調節したり水平位調
節をする働きをなす。
動作において、コントローラ1340制御下で、磁界内
のも・ろいろなコイルアンセンブリに供給される電流の
方向およ゛び大きさが制御され、それによりコイル自体
ならびに作業プラットフォームに対応の力が発生されて
、固定的に取付けられた磁石アッセンブリに対するプラ
ットフォームの運動を制御することができる。この構造
によれば、6つの自由度即ちXおよびY軸方向における
運動、ならびに回転運動が達成される。
上の説明から明らかなように本発明によれば、大きな力
を発生する能力を有し、電力消費が小さく、運動質量が
小さくて、しかも平面内で大きな範囲に亘り運動が可能
で、ブラシレス直流デバイスとして実現することができ
る改良された電磁アラインメント装置が提案された。
本明細書では、説明の便宜上、本発明のいくつかの特定
の実施例を開示したが、本発明が属する技術分野の専門
家には、本明細書の検討後、これら実施例の他のいろい
ろな変更が本発明の範囲を逸脱することなく可能であろ
うことを付記する。
発明の効果 本発明によれば、従来、対象物を平面運動により確定さ
れる6つの自由度で運動させるために必要であると考え
られていた複数のリニヤモータおよび/または回転モー
タを用いずに、6つの自由度、即ちX軸、Y軸方向にお
ける対象物の運動ならびに回転運動の制御可能性が達成
され、しかも本発明によれば、大きな力を発生する能力
を有し、電力消費が小さく、運動質量が小さく、かつ平
面内で大きな範囲に亘シ運動が可能で、ブラシレス直流
デバイスとして実現できる改良された電磁アラインメン
ト装置が達成される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の思想に従がって構成された電磁アラ
インメント装置の一部分を示す一部切欠き斜視図、第2
図は、本発明の別の実施例を示す第1図に類似の一部切
欠き斜視図、そして第6図は、本発明のさらに他の実施
例を示す一部切欠き斜視図である。 10.40,42,44,46,48,92゜94.9
6.98,106・・・磁石アッセンブリ、12・・・
上部板、14,50,60,100・・・上部磁極片、
16,52,58,102・・・高磁束領域、18,5
4,104・・・下部磁極片、20゜64.108・・
・角部要素、22・・・磁束、24・・・導体ワイヤ、
26,66.68,110,112゜114.116・
・・コイルアッセンブリ、28゜30.70,72,7
4,76.122,124゜130.132・・・リー
ド、32,78,134・・・コントローラ、34,8
0,136・・・プラットフォーム、47・・・磁路、
48.62・・・上部磁極、56・・・下部磁極、90
・・・基部、138・・・取付はブラケット、140・
・・エアパッド、144・・・アクチュエータ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 少なくとも6つの磁石アッセンブリと、該磁石ア
    ッセンブリを互いに離間ないし空間配置関係で取付ける
    だめの手段と、それぞれ磁石アッセンブリの高磁束領域
    を通るように取付けられた少なくとも6つのコイルアン
    センブリとを備え、該コイルアンセンブリの幅をそれぞ
    れ前記高磁束領域の幅よりも相当に小さくシ、さらに、
    それぞれ前記コイルアンセンブリを流れる電流を制御す
    るための手段と、前記コイルアンセンブリを接続して前
    記磁石アッセンブリに対し運動可能な構造を形成する手
    段とを備え、前記コイルアンセンブリは、該コイルアン
    センブリに対する電流の供給を制御することにより前記
    構造が選択的に3つの自由度で運動できるような相互関
    係で巻回されていることを特徴とする電磁アラインメン
    ト装置。 2、実質的に単一平面内に4つの磁石アッセンブリと4
    つのコイルアンセンブリとが配置されている特許請求の
    範囲第1項記載の電磁アラインメント装置。 6、磁気回路の高磁束領域が両側で閉結されておって、
    それにより前記コイルアンセンブリがそれぞれ常時該高
    磁束領域内に含まれるようにした特許請求の範囲第1項
    記載の電磁アラインメント装置。 4、 インダクタンスを最小にするために各磁気回路の
    各側部片の周りに取付けられた閉ループの導体を備えて
    いる特許請求の範囲第6項記載の電磁アラインメント装
    置。 5、磁石アッセンブリを互いに薙形関係で取付け、隣接
    する磁石アッセンブリを該矩形の角部要素で互いに接続
    し、各磁石アッセンブリを、磁気回路が上部磁極から下
    部磁極へ、そしてそこから隣接の角部要素へ延びて該角
    部要素を介し上方に延び前記上部磁極に戻るように構成
    されている特許請求の範囲第2項記載の電磁アラインメ
    ント装置。 6.4つの磁石アッセンブリと、該磁石アッセンブリを
    互いに離間関係で実質的に1つの平面内に取付けるため
    の手段とを備え、前記磁石アッセンブリは互いに矩形の
    関係に配列されて、隣接の磁石アッセンブリを前記矩形
    の角部要素により互いに接続し、各磁石アッセンブリは
    、磁気回路が上部磁極から下部磁極へ、そしてそこから
    隣接の角部要素に延び該角部要素を介して上方に延びて
    該上部磁極へと戻るように配列され、さらに、それぞれ
    磁石アッセンブリの高磁束領域を通るように取付けられ
    た4つのコイルアンセンブリを有し、該コイルアンセン
    ブリの幅をそれぞれ高磁束領域の幅よりも相当に小さく
    シ、さらに前記コイルアンセンブリそれぞれを流れる電
    流を制御するための手段と、前記コイルアンセンブリを
    接続して前記磁石アッセンブリに対し運動可能な構造を
    形成するための手段とを備え、該手段は、前記4つのコ
    イルアンセンブリをそれぞれ担持する4つの取付はブラ
    ケットと、該4つの取付はブラケットに堅固に取付ケラ
    れた作業プラットフォームとを有し、各取付はブラケッ
    トは空気パッド表面上に取付けるだめの空気パッドを担
    持し、各取付はブラケットは前記構造の傾斜および高さ
    を制御するための高さおよび水平位制御アクチュエータ
    を担持し、前記コイルアンセンブリは、前記コイルに対
    する電流の供給を制御することにより前記構造が選択的
    に3つの自由度で運動可能なような相互関係で巻回され
    ていることを特徴とする電磁アラインメント装置。 Z 4つの磁石アッセンブリと、該磁石アッセンブリを
    互いに矩形関係で取付けるための手段とを備え、一対の
    隣接する前記磁石アッセンブリは、磁気回路が第1の磁
    石の上部磁極から該第1の磁石の下部磁極へ、そしてそ
    こから第2の磁石の下部磁極を経て該第2の磁石の上部
    磁極へ延び、前記第1の上部磁極に戻るように配列され
    、隣接する他の対の磁石アッセンブリは、磁気回路が、
    第6の磁石の上部磁極から該第6の磁石の下部磁極へ、
    そしてそこから第4の磁石の下部磁極を介して該第4の
    磁石の上部磁極へ延びそして前記第3の磁石の上部磁極
    に戻るように配列され、さらにそれぞれ前記磁石アッセ
    ンブリの高磁束領域を通るように取付けられた4つのコ
    イ/I/ 7 ツセy フIJ ヲ備え、該コイルアン
    センブリの幅をそれぞれ前記高磁束領域の幅よりも相当
    に小さくシ、さらに、前記コイルアンセンブリそれぞれ
    における電流の流れを制御するための手段と、前記コイ
    ルアンセンブリを接続して前記磁石アッセンブリに対し
    運動可能な構造を形成するための手段とを備え、前記コ
    イルアッセンブリは該コイルアンセンブリへの電流の供
    給を制御することにより前記構造が選択的に6つの自由
    度で運動できるような相互関係で巻回されていることを
    特徴とする電磁アラインメント装置。
JP59118401A 1983-06-10 1984-06-11 電磁アラインメント装置 Granted JPS607727A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US502993 1983-06-10
US06/502,993 US4506204A (en) 1983-06-10 1983-06-10 Electro-magnetic apparatus

Publications (2)

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JPS607727A true JPS607727A (ja) 1985-01-16
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60223119A (ja) * 1984-04-20 1985-11-07 Hitachi Ltd 2軸方向非接触駆動形精密移動台
JPH0280624A (ja) * 1988-09-19 1990-03-20 Layard Enterprises Co Ltd オープンエンドロータ式精紡機及びそのカバーヤーン紡製方法

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD222747A1 (de) * 1983-11-30 1985-05-22 Zeiss Jena Veb Carl X-y-flaechenantrieb mit begrenzter phi-drehung und z-verschiebung
NL8500930A (nl) * 1985-03-29 1986-10-16 Philips Nv Verplaatsingsinrichting met voorgespannen contactloze lagers.
US4654571A (en) * 1985-09-16 1987-03-31 Hinds Walter E Single plane orthogonally movable drive system
US4808892A (en) * 1985-12-13 1989-02-28 Kulick And Soffa Ind. Inc. Bi-directional drive motor system
NL8601095A (nl) * 1986-04-29 1987-11-16 Philips Nv Positioneerinrichting.
US4952858A (en) * 1988-05-18 1990-08-28 Galburt Daniel N Microlithographic apparatus
NL8902473A (nl) * 1989-10-05 1991-05-01 Philips Nv Lineaire motor, alsmede positioneerinrichting voorzien van ten minste een lineaire motor.
NL8902472A (nl) * 1989-10-05 1991-05-01 Philips Nv Positioneerinrichting.
US5153494A (en) * 1990-04-06 1992-10-06 International Business Machines Corp. Ultrafast electro-dynamic x, y and theta positioning stage
US5239361A (en) * 1991-10-25 1993-08-24 Nicolet Instrument Corporation Dynamic mirror alignment device for the interferometer of an infrared spectrometer
JPH06183561A (ja) * 1992-12-18 1994-07-05 Canon Inc 移動ステージ装置
US5874820A (en) 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
US6989647B1 (en) * 1994-04-01 2006-01-24 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
US5528118A (en) * 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
US7365513B1 (en) 1994-04-01 2008-04-29 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
US6246204B1 (en) 1994-06-27 2001-06-12 Nikon Corporation Electromagnetic alignment and scanning apparatus
US5623853A (en) * 1994-10-19 1997-04-29 Nikon Precision Inc. Precision motion stage with single guide beam and follower stage
US6008500A (en) * 1995-04-04 1999-12-28 Nikon Corporation Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame
TW318255B (ja) 1995-05-30 1997-10-21 Philips Electronics Nv
US5760564A (en) * 1995-06-27 1998-06-02 Nikon Precision Inc. Dual guide beam stage mechanism with yaw control
IT1281432B1 (it) * 1995-10-12 1998-02-18 Gisulfo Baccini Macchina punzonatrice
JPH10223519A (ja) * 1997-02-04 1998-08-21 Nikon Corp 投影露光装置
US6144118A (en) 1998-09-18 2000-11-07 General Scanning, Inc. High-speed precision positioning apparatus
US6355994B1 (en) * 1999-11-05 2002-03-12 Multibeam Systems, Inc. Precision stage
US6842226B2 (en) * 2001-09-21 2005-01-11 Nikon Corporation Flexure supported wafer table
NL2004847A (en) * 2009-06-30 2011-01-04 Asml Holding Nv Method for controlling the position of a movable object, a control system for controlling a positioning device, and a lithographic apparatus.
CN105045042B (zh) * 2015-04-23 2017-06-16 清华大学 一种硅片台曝光区域六自由度位移测量方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US27436A (en) * 1860-03-13 Kaitge
US27289A (en) * 1860-02-28 Island
AU411601B2 (en) 1966-05-31 1971-03-12 Alden Sawyer Magnetic positioning device
US3457482A (en) 1967-10-30 1969-07-22 Bruce A Sawyer Magnetic positioning device
JPS553679B2 (ja) * 1973-08-27 1980-01-26
JPS51123565A (en) * 1975-04-21 1976-10-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Three-dimention-position differential adjustment of processing article
DD146525B1 (de) * 1979-10-17 1982-07-28 Furchert Hans Juergen Zweikoordinatenschrittmotor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60223119A (ja) * 1984-04-20 1985-11-07 Hitachi Ltd 2軸方向非接触駆動形精密移動台
JPH0280624A (ja) * 1988-09-19 1990-03-20 Layard Enterprises Co Ltd オープンエンドロータ式精紡機及びそのカバーヤーン紡製方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0131155A3 (en) 1986-02-12
DE3481734D1 (de) 1990-04-26
EP0131155B1 (en) 1990-03-21
CA1219893A (en) 1987-03-31
US4506204A (en) 1985-03-19
JPH0586848B2 (ja) 1993-12-14
EP0131155A2 (en) 1985-01-16

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