JPH0592974A - ネプラノシンaの新規な製造法 - Google Patents

ネプラノシンaの新規な製造法

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JPH0592974A
JPH0592974A JP2414449A JP41444990A JPH0592974A JP H0592974 A JPH0592974 A JP H0592974A JP 2414449 A JP2414449 A JP 2414449A JP 41444990 A JP41444990 A JP 41444990A JP H0592974 A JPH0592974 A JP H0592974A
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JP
Japan
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compound
group
formula
amino
neplanocin
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JP2414449A
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English (en)
Inventor
Masaji Ono
雅二 大野
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0592974A publication Critical patent/JPH0592974A/ja
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 発酵法で得られている抗生物質ネプラノシン
Aを化学的に合成する。 【構成】 シクロペンテン化合物〔Ic〕と5−アミノ
−4,6−ジハロピリミシンとを反応させてピリジン化
合物〔II〕を得る。次いで化合物〔II〕をイミダゾール
閉環して、プリン化合物〔III〕を得、6位のハロゲノ
基をアミノ基に変換した後、2′位、3′位、6位の水
酵基の保護基を脱離してネプラノシンA〔IV〕を合成す
る。 [式中、Xはハロゲン原子、R′,R′,R′
それぞれ水酵基の保護基を示す] 【効果】 菌の培養によらずネプラノシンAの化学的合
成をすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ネプラノシンAの新規
な製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】ネプラノシンA(Neplanocin
A)(抗生物質A11079−B1bと呼称した)は、
シクロペンテン環をもつ核酸関連物質であって、式
【化4】 で示され〔カレント ケモセラピー アンド インフエ
クションズ ディシーズ(Current Chemo
therapy and InfectionsDis
ease,1558〜1559(1980)〕、1’
(R)、2’(S)、3’(R)の絶対配置をもつこと
が確認されており、ヌクレイック アシドリサーチ シ
ンポジュウム シリーズ〔Nucleic acids
Research Symposium Serie
s No.8、S65〜S67(1980)〕、植物病
原菌糸状菌生育阻害作用およびマウス白血病L1210
細胞生育阻害作用を有するだけでなく、エールリッヒ腹
水癌、ザルコーマ180、P388白血病、ラットの吉
田肉腫に対しても著しい延命効果を示し、制癌剤として
有用な抗生物質である。従来、ネプラノシンAは、アン
プラリエーラ・スピーシーズ(Ampullariel
la sp.)A11079(FERM−P4494)
の培養物から採取する醗酵法(特開昭54−15479
2号)により得られていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、ネプラノ
シンAがその糖部位にシクロペンテン環を有するアデニ
ン誘導体であり、その化学構造および生理活性に興味を
持たれている物質であることから、このネプラノシンA
を全合成するより、醗酵法による製造上の欠点を解消す
ることに着目した。
【0004】しかしながら、ネプラノシンAを化学的に
合成するためには、シクロペンテニル部位を天然型と同
一の光学活性な形で合成することが必要である。そこ
で、本発明者は、シクロペンタジエンとアセチレンジカ
ルボン酸ジメチルエステルからなる3段階で得られる式
【化5】 の対称ジエステルを出発原料とし、これを豚肝臓エステ
ラーゼにより不斉選択加水分解して(−)体のモノエス
テルを得、このモノエステルを用いて種々合成研究を続
けた結果、本発明を完成したものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、式
【化6】 (式中、R' 2 およびR’3 は各々水酸基の保護基、
R’4 は水酸基の保護基を示す)で表されるシクロペン
テン化合物を5−アミノ−4,6−ジハロピリミジンと
反応させて式
【化7】 (式中、Xはハロゲン原子を示し、R’2 、R’3 およ
びR’4 は前記と同じ基を意味する)で表されるピリミ
ジン化合物を得、該化合物をイミダゾール閉環して式
【化8】 (式中、R' 2 、R’3 、R’4 およびXは前記と同じ
基を意味する)で表されるプリン化合物を得、該化合物
の6位のハロゲノ基をアミノ基に変換し、次いで2’
位、3’位および6’位の水酸基の保護基を脱離してネ
プラノシンAを製造するものである。
【0006】上記の出発物質〔Ic〕を製造するには、
シクロペンタジエンとアセチレンジカルボン酸ジエステ
ル、例えばジメチルエステルからDiels−Alde
r反応により得たビシクロ〔2.2.1〕−ヘプタ−
2,5−ジエン−2,3−ジカルボン酸ジエステル、例
えばジメチルエステルをOsO4 酸化し、得られた5,
6−ジヒドロキシ−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプタ−
2−エン−2,3−ジカルボン酸ジエステルのジヒドロ
キシ基を適当な保護基、例えばイソプロピリデン基で保
護し、得られた5,6−O−保護−5,6−ジヒドロキ
シ−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプタ−2−エン−2,
3−ジカルボン酸ジエステル、例えば5,6−O−イソ
プロピリデン−5,6−ジヒドロキシ−ビシクロ〔2.
2.1〕−ヘプタ−2−エン−2,3−ジカルボン酸ジ
メチルエステル(1)をエステラーゼ、例えばブタ肝臓
エステラーゼで不斉加水分解してモノエステル、例えば
モノメチルエステル(2)を得、これをオゾン酸化して
2,3−O−保護−2,3−ジヒドロキシ−4−アルコ
キシオキサリル−シクロペンタン−1−カルボン酸、例
えば2,3−O−イソプロピリデン−2,3−ジヒドロ
キシ−4−メトキサリル−シクロペンタン−1−カルボ
ン酸(3)を得、これを2,3−O−保護−2,3−ジ
ヒドロキシ−4−ホルミル−シクロペンタン−1−カル
ボン酸、例えば2,3−O−イソプロピリデン−2,3
−ジヒドロキシ−4−ホルミル−シクロペンタン−1−
カルボン酸(4)に変換し、これを2−オキソ−6,7
−O−保護−3−オキサビシクロ〔3.2.1〕オクタ
ン−6,7−ジオール、例えば2−オキソ−6,7−O
−イソプロピリデン−3−オキサビシクロ〔3.2.
1〕オクターン−6,7−ジオール(5)に変換し、こ
れを2,3−O−保護−2,3−ジヒドロキシ−4−フ
エニルセレノメチル−シクロペンタン−1−カルボン
酸、例えば2,3−O−イソプロピリデン−2,3−ジ
ヒドロキシ−4−フエニルセレノメチル−シクロペンタ
ン−1−カルボン酸(6)に変換し、これをクルチウス
反応によりイソシアネート化した後、1−保護アミノ−
2,3−O−保護−4−フエニルセレノ−シクロペンタ
ン−2,3−ジオール、例えば1−メトキシカルボニル
アミノ−2,3−O−イソプロピリデン−4−フエニル
セレノ−シクロペンタン−2,3−ジオール(7)に変
換し、これをエキソメチレン化して1−保護アミノ−
2,3−O−保護−4−メチレンシクロペンタン−2,
3−ジオール、例えば1−メトキシカルボニルアミノ−
2,3−O−イソプロピリデン−4−メチレンシクロペ
ンタン−2,3−ジオール(8)を得、これをエポキシ
化して1−保護アミノ−2,3−O−保護−4−(オキ
シラン−2−イル)−シクロペンタン−2,3−ジオー
ル、例えば1−メトキシカルボニルアミノ−2,3−O
−イソプロピリデン−4−(オキシラン−2−イル)−
シクロペンタン−2,3−ジオール(9)を得、これを
【化9】 (式9中、R’1 はアミノ基の保護基、R’2 および
R’3 は前記と同じ基を意味する)で表される1−保護
アミノ−2,3−O−保護−4−ヒドロキシメチル−4
−シクロペンテン−2,3−ジオール、例えば1−メト
キシカルボニルアミノ−2,3−O−イソプロピリデン
−4−ヒドロキシメチル−4−シクロペンテン−2,3
−ジオール(10)に変換し、この6’位の水酸基を前
述の保護基で保護して式
【化10】 (式中、R’1 、R’2 、R3 およびR’4 は前記と同
じ基を意味する)で表される1−保護アミノ−2,3−
O−保護−4−保護−ヒドロキシメチル−4−シクロペ
ンテン−2,3−ジオール、例えば1−メトキシカルボ
ニルアミノ−2,3−O−イソプロピリデン−4−メト
キシメトキシメチル−4−シクロペンテン−2,3−ジ
オール(11)を得、このアミノ保護基を脱離すること
により式〔Ic〕で表されるシクロペンテン化合物、例
えば1−アミノ−2,3−O−イソプロピリデン−4−
メトキシメトキシメチル−4−シクロペンテン−2,3
−ジオール(12)が得られる。
【0007】上記の式〔Ia〕および〔Ib〕のアミノ
基の保護基としては、アミノ基を保護する公知の保護基
であって、例えばホルミル基、トリフルオロアセチル
基、クロロアセチル基、o−ニトロフエノキシアセチル
基、フタロイル基、p−トルエンスルホニル基、o−ニ
トロフエニルスルフエニル基などのアシル基、ベンジル
オキシカルボニル基、o(またはp)−ブロモベンジル
オキシカルボニル基、o(またはp)−クロロベンジル
オキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、p
−フエニルアゾベンジルオキシカルボニル基、p−
(p’−メトキシフエニルアゾ)ベンジルオキシカルボ
ニル基などのベンジルオキシカルボニル基、トリクロロ
エトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、t−ブ
トキシカルボニル基、t−アミルオキシカルボニル基、
ジイソプロピルメトキシカルボニル基などの脂肪族オキ
シカルボニル基、2−フエニル−イソプロキシカルボニ
ル基、2−トリル−イソプロポキシカルボニル基などの
アラルキルオキシカルボニル基、トリメチルシリルなど
のシリル基などが挙げられる。またこのアミノ基をベン
ゾイルアセトン、アセチルアセトンなどの1,3−ジケ
トンと反応させることによって得られるエナミンの形成
による保護基も挙げられる。
【0008】上記式〔Ia〕、〔Ib〕および〔Ic〕
の2’位、3’位および6’位の水酸基の保護基として
は、核酸化学または炭水化物化学において使用される公
知の保護基が挙げられる。6’位の水酸基の保護基とし
ては、例えばホルミル、アセチル、クロロアセチル、ト
リクロロアセチル、トリフルオロアセチル、メトキシア
セチル、ピバロイル、ベンゾイル、β−ベンゾイルプロ
ピオニル、フエノキシアセチル、トリチルオキシアセチ
ルなどのアシル基、トリチル、モノメトキシトリチル、
ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチルなどのトリ
チル基、メトキシメチル基などが挙げられる。2’位お
よび3’位の水酸基の保護基としては、ホルミル、アセ
チル、メトキシアセチル、ベンゾイル、p−クロロベン
ジルオキシアセチルなどのアシル基、t−ブチル、ベン
ジル、トリチル、α−エトキシエチル、α−メトキシイ
ソプロピル、テトラヒドロピラニル、メトキシテトラヒ
ドロピラニル、o−ニトロベンジル、t−ブチルジフエ
ニルシリル基などが挙げられる。また2’位および3’
位の水酸基は隣接する酸素原子と共に環状アセタールを
形成する形で保護される。このような保護基としては、
イソプロピリデン、メトキシメチレン、メトキシエチリ
デン、エトキシメチレン、エトキシエチリデン、ベンジ
リデン、シクロアルキリデン基などが挙げられる。
【0009】次に、中間体〔Ic〕の合成の一例とし
て、2’位および3’位の水酸基がイソプロピリデン基
で保護され、6’位の水酸基がメトキシメチル基で保護
され、1’位のアミノ基がメトキシカルボニル基で保護
される場合について、反応式で示せば、次の通りであ
る。
【化11】
【化12】
【化13】 前記の中間体〔Ia〕、中間体〔Ib〕、中間体〔I
c〕としては、上記の如く具体的に例挙した化合物以外
に、2’および3’位の水酸基、6’位の水酸基または
1’位のアミノ基を前記で述べた保護基を導入した誘導
体についても例示される。本発明においては、上記の中
間体は光学活性の形で得られ、特に(−)−異性体が有
用である。
【0010】シクロペンテン化合物〔Ic〕と5−アミ
ノ−4,6−ジハロピリミジンとの反応は、通常有機溶
媒中第3級有機アミンの存在下加熱下で行われる。反応
の経過はシリカゲルなどの薄層クロマトグラフイー(T
LC)、高速液体クロマトグラフイー(HPLC)など
により確認できるので、出発物質〔Ic〕の消失を待っ
て適宜反応を停止すればよい。反応液から得られたピリ
ミジン化合物〔II〕を採取するには、反応溶媒を留去
し、適当な有機溶媒で抽出すればよい。さらに精製を必
要とする場合には、シリカゲルなどの担体を用いるカラ
ムクロマトグラフイーなどにより精製することができ
る。
【0011】次に、ピリミジン化合物〔II〕をイミダ
ゾール閉環するのであるが、4,5−ジアミノピリミジ
ン類をプリン類に閉環する公知の方法、例えばギ酸、ギ
酸アルカリ、ホルムアミド、クロルギ酸エステル、トリ
エチルオルソホルメート、N−ホルミル−ホルモリンな
どと加熱閉環する方法、ジチオギ酸アリカリで処理し、
次いで脱硫化水素化する方法により行われる。
【0012】このようにして得られたプリン化合物〔I
II〕の6位のハロゲノ基をアミノ基に変換するのであ
るが、通常は有機溶媒中アンモニア処理することにより
行われる。反応液から生成された式
【化14】 (式中、R’2 、R’3 およびR’4 は前記と同じ基を
意味する)で表されるO−保護ネプラノシンAを採取す
るには、反応溶媒を留去し、適当な有機溶媒で抽出すれ
ばよい。さらに精製を必要とする場合には、シリカゲル
などの担体を用いてカラムクロマトグラフイーなどによ
り精製することができる。
【0013】次に、O−保護ネプラノシンA〔IV〕の
2’位、3’位および6’位の保護基を脱離することに
よりネプラノシンAが得られるが、この脱離化は、核酸
化学において用いられる公知の脱離方法により行われ
る。例えば、2’、3’−O−イソプロピリデン基およ
び6−O−メトキシメチル基はアルコール、例えばメタ
ノール中塩酸で処理することにより容易に脱離される。
【0014】このようにして得られたネプラノシンAは
公知の方法により分離精製される。例えば活性炭、活性
アルミナ、シリカゲル、吸着樹脂などの吸着剤に吸着さ
せ、適当な溶媒、例えば含水有機溶媒、弱アルカリ水溶
液で溶出するカラムクロマトグラフイー、アンバーライ
トIRC−50、IR−120、CG−120、ダウエ
ツクス50などのカチオン交換樹脂に吸着させ、弱アル
カリで溶出する方法、あるいはこれらの組合せによる方
法などにより行われる。
【0015】次に出発物質〔Ic〕からネプラノシンA
を製造する代表例を反応式で示せば次の通りである。
【化15】
【化16】
【0016】
【実施例】次に、参考例および実施例を挙げて本発明の
製造例を具体的に説明するが、これにより本発明を限定
するものでなない。なお、実施例において、( )内の
数字で表示した化合物は、前記反応式で示された数字を
意味する。 参考例 1 化合物(2)の製造 化合物(1)3g(10.6mM)をアセトン30mlと
0.1Mリン酸緩衝液(pH8.0)の混合溶液に溶か
し、これに豚肝臓エステラーゼ(シグマ社製)3mlを加
え、30〜32℃で5時間攪拌した。反応液を氷冷下希
リン酸でpH4とし、ジクロロメタンで数回抽出した。
ジクロロメタン層を水洗し、芒硝で乾燥後、減圧濃縮し
て化合物(2)2.84g(収率99.6%)を得た。 〔α〕23D−23.8°(C=1.17、クロロホル
ム) 融点:115〜11℃
【0017】参考例 2 化合物(3)の製造 化合物(2)2g(7.46mM)を酢酸エチル10ml
に溶かし、これに−78℃に冷却下オゾンを3時間吹き
込んだ。次いで過剰のオゾンを窒素ガスを通して追い出
した後、1時間還流した。反応後、減圧濃縮して化合物
(3)を定量的に得た。
【0018】参考例 3 化合物(4)の製造 化合物(3)1.8g(6.6mM)をメタノール30
mlに溶かし、40〜50℃に加温下NaBH4 2.3g
(66mM)を少しづつ加えた。全量を加えた後、15
分間還流した。反応液を氷水で冷却下希塩酸でpH4に
調節し、室温で攪拌下NaIO4 1.6g(1.2倍モ
ル)を徐々に加え、30分間攪拌した。反応液を希リン
酸で酸性とした後、水を加えジクロロメタンで3回抽出
した。ジクロロメタン層を芒硝で乾燥後、減圧濃縮して
化合物(4)1.25g(収率88%)を得た。
【0019】参考例 4 化合物(5)の製造 化合物(4)1.25g(5.83mM)をイソプロパ
ノール20mlに溶かし、室温で攪拌下NaBH4 431
mg(2倍モル)を少しづつ加えた後、1.5時間攪拌し
た。反応液に氷水で冷却下アセトンを加え、過剰のNa
BH4 を分解した後、酢酸でpH5に調節した。減圧下
溶媒留去し、残渣にエタノールを加え、減圧濃縮し、乾
燥した。残渣に無水酢酸5ml、ピリジン10mlを加え、
室温で12時間攪拌した。反応液を氷水中に注ぎ、ベン
ゼンで抽出した。ベンゼン層を重曹水、希塩酸、水の順
で洗浄し、芒硝で乾燥した後、減圧濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー(展開溶媒ジクロロ
メタン)により精製して化合物(5)700mg(収率6
0.5%)を得た。 〔α〕25D+35.9°(C=0.8、クロロホルム) ジクロロメタン−ジエチルエーテル(1:5)より再結
晶化した再結晶は〔α〕25D+44.4(C=1.0、
クロロホルム)
【0020】参考例 5 化合物(6)の製造 ジフエニルジセレナイド173mg(0.56mM)を無
水ジメチルホルムアミド3mlに溶かし、室温にて20分
間窒素ガスを吹き込んだ後、窒素ガス気流下NaBH4
45mg(1.21mM)を徐々に加え、100℃まで加
熱した。次いでこれに化合物(5)201mg(1.01
mM、〔α〕24D+37.3°)のジメチルホルムアミ
ド(2ml)溶液を徐々に滴下した後、110〜120℃
で2時間攪拌した。反応液を氷水で冷却し、希塩酸を含
む氷水中に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出した。酢酸エチ
ル層を水洗し、芒硝で乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー(展開溶媒ジクロロ
メタン、次いで、ジクロロメタン:酢酸エチル=2:
1)により精製して化合物(6)335mg(収率93
%)を得た。 〔α〕24D+9.5°(C=1.93、クロロホルム)
【0021】参考例 6 化合物(7)の製造 化合物(6)920mg(2.79mM)をアセトン16
mlに溶かし、これにトリエチルアミン0.43ml(1.
8倍モル)を加えた後、攪拌しながら−78〜−40℃
に冷却下クロロ炭酸エチル0.3ml(1.2倍モル)を
適下した。−40℃で30分間攪拌するとトリエチルア
ミン塩酸塩が析出してきた。次いで、これにNaN3
54mg(1.5倍モル)の水(0.5ml)溶液を徐々に
滴下し、−40〜−10℃で30分間攪拌した。IRで
アジドを確認した後、反応液を飽和食塩水を含む氷中に
注ぎ、ジクロロメタンで数回抽出した。ジクロロメタン
層を水洗し、芒硝で乾燥後、減圧濃縮し、乾燥した。次
いで乾燥ベンゼン10mlを加え、30分間還流した。I
Rでイソシアネートをチェックした後、無水メタノール
10mlを加え、1時間還流した。反応液を減圧下溶媒留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(展
開溶媒ジクロロメタン)により精製して化合物(7)9
06mg(収率91%)を得た。 〔α〕20D+18.8°(C=1.05、クロロホル
ム) 融点:81〜83℃
【0022】参考例 7 化合物(8)の製造 化合物(7)167mg(0.435mM)を乾燥ジクロ
ロメタン5mlに溶かし、−78℃に冷却下オゾンを15
分間吹き込んだ。次いで窒素ガスで過剰のオゾンを追い
出し、芒硝で乾燥後、少量のピリジンを加え、2時間還
流した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(展開溶媒ジクロロメタン)により精製して化合物
(8)94mg(収率95%)を得た。 〔α〕18D+138.8°(C=1.01、クロロホル
ム)
【0023】参考例 8 化合物(9)の製造 化合物(8)46mg(0.21mM)を乾燥ジクロロメ
タン5mlに溶かし、氷冷下m−クロロ過安息香酸57mg
(1.5倍モル)を加え、室温で16時間攪拌した。反
応液を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、重曹水の順で洗浄
し、芒硝で乾燥後、減圧下溶媒留去した。得られた油状
物をシリカゲルカラムクロマトグラフイー(展開溶媒ジ
クロロメタン)により精製して化合物(9)45mg(収
率91%)を得た。 〔α〕20D+111.3°(C=1.0、クロロホル
ム) 融点:102〜104℃
【0024】参考例 9 化合物(10)の製造 乾燥トルエン3mlをアルゴン気流下−78℃に冷却下ト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート0.4
5ml(5倍モル)および2,6−ルチジン0.2ml(5
倍モル)を加え、30分間攪拌した。これに化合物
(9)103mg(0.42mM)の乾燥トルエン溶液を
徐々に滴加し、−78℃で30分間、次いで徐々に昇温
して−20℃で3時間攪拌した。次いで、これに1,8
−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデンセークーエン
0.3mlを徐々に適加し、室温で16時間攪拌した。反
応混合物を重曹水に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出した。
酢酸エチル層を食塩水で洗浄後、減圧下溶媒留去した。
残渣にメタノール2ml、炭酸カリウム270mg(2倍モ
ル)を加え、室温で2時間攪拌して脱シリル化した後、
減圧下溶媒留去した。残渣をジクロロメタンで3〜4回
抽出し、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイー(展開溶媒酢酸エチル:ヘキサン=
1:1、次いで酢酸エチル)により精製して原料35mg
(回収率34%)、化合物(10)29mg(収率28
%)を得た。化合物(10)をジエチルエーテル−酢酸
エチルより再結晶化して再結晶品を得た。 〔α〕18D−67.2°(C=0.5、クロロホルム) 融点:139〜140℃
【0025】参考例 10 化合物(11)の製造 化合物(10)84mg(0.345mM)を乾燥ジクロ
ロメタン6mlに溶かし、これにアルゴン気流下エチルジ
イソプロピルアミン89mg(0.69mM)を加え、0
℃に冷却下メトキシメチルクロライド56mg(2倍モ
ル)を滴下し、室温で16時間攪拌した。反応混合物を
氷水中に注ぎ、ジクロロメタン層を重曹水、食塩水の順
で洗浄し、芒硝で乾燥後、減圧下溶媒留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイー(展開溶媒酢酸エ
チル:ヘキサン=1:1)により精製して定量的に油状
の化合物(11)99mgを得た。 〔α〕20D−36.2°(C=1.1、クロロホルム)
【0026】参考例 11 化合物(12)の製造 化合物(11)127mg(0.442mM)にメターノ
ル14ml、2.5N水酸化カリウム水溶液14mlを加
え、アルゴン気流下12時間攪拌還流した。反応液を減
圧下溶媒留去し、酢酸エチルで3回抽出した。酢酸エチ
ル層を食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、減圧濃縮して組
製の化合物101mgを得た。これは精製することなく次
の反応に使用する。
【0027】実施例 1 化合物(13)の製造 化合物(12)101mg(0.44mM)にブタノール
14ml、トリエチルアミン0.6ml(10倍モル)およ
び4,6−ジクロロ−5−アミノピリミジン181mg
(2.5倍モル)を加え、アルゴン気流下40時間攪拌
還流した。反応液を減圧下溶媒留去し、残渣をジクロロ
メタンで数回抽出した後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー(展開溶媒酢酸エチル:ヘキサン=1:1、次
いで4:1)により精製して化合物(13)116mg
(収率73%)を得た。 〔α〕19D−77.5°(C=1.06、クロロホル
ム) 原料(12)16mg回収した。
【0028】実施例 2 化合物(14)の製造 化合物(13)116ml(0.325mM)をトリエチ
ルホルソホルメートおよび無水酢酸の当モルの混合物2
mlに溶かし、室温で2時間攪拌した。反応液を減圧下冷
時濃縮し、残渣を重曹水を含む氷に注ぎ、しばらく攪拌
した。これを酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗し、芒
硝で乾燥した後、減圧下溶媒留去して定量的に化合物
(14)を得た。この残渣は、精製することなく次の反
応に使用する。
【0029】実施例 3 化合物(15)の製造 実施例2で得た残渣119mg(0.325mM)を乾燥
テトラヒドロフランに溶かし、これに−78℃に冷却下
乾燥アンモニアガスを1時間吹き込んだ。次いで反応物
を封管し、40〜50℃で16時間加温した。反応後、
開封して減圧下溶媒留去し、次いで残渣をジクロロメタ
ンで数回抽出した。抽出液を水洗し、芒硝で乾燥した
後、減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイー(展開溶媒酢酸エチル:ヘキサン=1:
1、4:1、次いでジクロロメタン・メタノール=9
5:5)により精製して化合物(15)22mg(収率2
0%)を得た。 〔α〕20D−69.8°(C=1.1、クロロホルム)
【0030】実施例 4 ネプラノシンA(16)の製
造 化合物(15)22mg(0.063mM)をメタノール
1mlおよび2N塩酸1mlの混合溶液に溶かし、室温で1
6時間攪拌した。反応液を減圧下メタノールを留去し、
残渣に水を加え、アンバーライトCG120(H+ )に
チャージして、0.5%アンモニア水で溶出した。溶出
液を減圧濃縮してネプラノシンA13.3mg(収率80
%)を得た。 〔α〕25D−148°(C=0.45、水) 融点:215〜217℃ 上記製品をメタノール:水=9:1により再結晶化して
再結品を得た。 〔α〕20D−152°(C=0.3、水) 融点:220〜222℃ このものの比旋光度および融点は醗酵法により得られる
ネプラノシンAの文献値と一致した。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式 【化1】 (式中、R’2 およびR’3 は各々水酸基の保護基、
    R’4 は水酸基の保護基を示す)で表されるシクロペン
    テン化合物を5−アミノ−4,6−ジハロピリミジンを
    反応させて式 【化2】 (式中、Xはハロゲン原子を示し、R’2 、R’3 およ
    びR’4 は前記と同じ基を意味する)で表されるピリミ
    ジン化合物を得、該化合物をイミダゾール閉環して式 【化3】 (式中、R’2 、R’3 、R’4 およびXは前記と同じ
    基を意味する)で表されるプリン化合物を得、該化合物
    の6位のハロゲノ基をアミノ基に変換し、次いで2’
    位、3’位および6位の水酸基の保護基を脱離すること
    を特徴とするネプラノシンAの製造法。
  2. 【請求項2】 シクロペンテン化合物が光学活性体であ
    ることを特徴とする請求項1記載の製造法。
  3. 【請求項3】 光学活性体が(−)−異性体であること
    を特徴とする請求項2記載の製造法。
  4. 【請求項4】 R’2 がR’3 と共にイソプロピリデン
    基であり、R’4 がメトキシメチレン基であることを特
    徴とする請求項1記載の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008266334A (ja) * 1998-05-25 2008-11-06 Chisso Corp ネプラノシンaの新規製造方法及び中間体

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