JPH0593089A - 主鎖中にヘテロ原子を持つ安定化ポリマー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】主鎖中にヘテロ原子を含有する熱可塑性ポリマ
ーへの安定剤としての次式Ｉ： 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
キル基、ハロゲン原子もしくは炭素原子数１ないし１２
のアルコキシ基で置換された炭素原子数２ないし６のア
ルキル基、またはベンジル基を表しならびにＲ’は水素
原子またはメチル基を表す。）で表されるヒドロキシフ
ェニルトリアジン化合物の使用方法、およびそれを安定
剤として含有する組成物。 【効果】上記式で表される化合物は該ポリマーの光、酸
素および熱による損傷に対する安定剤として優れてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、安定剤として特定の置
換基を持つ２−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンを
含有する、主鎖にヘテロ原子を持つ安定化ポリマーに関
する。

【０００２】

【従来の技術】米国特許ＵＳ−Ａ−３２４４７０８号お
よびスイス国特許ＣＨ−Ｂ−４８００９１号に見るよう
に、次式：

【化３】 （式中、Ｒは水素原子または有機基を表すことができ、
およびＡｒはヒドロキシ基を持たない芳香族基を表
す。）で表される２−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリア
ジンの添加により、光、酸素および熱による損傷に対し
てポリマーを安定化することが知られている。これらの
化合物は紫外線吸収剤でありおよび写真材料（米国特許
ＵＳ−Ａ−３８４３３７１号）または塗料（米国特許Ｕ
Ｓ−Ａ−４６１９９５６号）を安定化する目的のために
も提案されている。

【０００３】それらの場合においては、それらの化合物
が比較的容易に入手できるため、Ａｒが２，４−ジメチ
ルフェニル基を表す特定のトリアジン誘導体が使用され
る。近年、これもまた容易に入手できる他のアリール基
を持つこのトリアジンを製造する合成法が開発されてき
た（ヨーロッパ特許ＥＰ−Ａ−３９５９３８号）。

【０００４】

【課題を解決するための手段】驚いたことには、主鎖に
ヘテロ原子を含有する熱可塑性ポリマーにおいて、Ａｒ
がフェニル基またはｐ−トルイル基を表すこのようなト
リアジンは特によい安定化作用を示し、Ａｒが２，４−
ジメチルフェニル基であるトリアジンに比較して明らか
に優れていることが見出された。

【０００５】本発明はそれゆえ、 ａ）主鎖中にヘテロ原子を含有する少なくとも１種類の
熱可塑性ポリマー、および ｂ）安定剤として、少なくとも１種類の次式Ｉ：

【化４】 （式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
キル基、ハロゲン原子もしくは炭素原子数１ないし１２
のアルコキシ基で置換された炭素原子数２ないし６のア
ルキル基、またはベンジル基を表しならびにＲ’は水素
原子またはメチル基を表す。）で表されるヒドロキシフ
ェニルトリアジン化合物からなる、光、酸素および熱に
よる損傷に対して安定化されたポリマー組成物に関す
る。

【０００６】主鎖中にヘテロ原子を含有する熱可塑性ポ
リマーは特に酸素原子、硫黄原子および窒素原子を含有
するポリマーである。そのようなポリマーの例は以下に
示す熱可塑性ポリマーの種類である： １. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
び、例えば、エチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。 ２. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィドならびに
それらとポリスチレンまたはポリアミドとの混合物。 ３. ポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド
４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／
９、６／１２、４／６、ポリアミド１１、ポリアミド１
２；ｍ−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸から開始
する芳香族ポリアミドのようなジアミンおよびジカルボ
ン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラ
クタムから誘導されたもの；ヘキサメチレンジアミンお
よびイソフタル酸および／またはテレフタル酸および所
望により変性剤としてのエラストマーから製造されるポ
リアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサ
メチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレン
イソフタルアミド。前記ポリアミドとポリオレフィン、
オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結
合もしくはグラフトしたエラストマーとのブロックコポ
リマー；またはこれらとポリエーテル、例えばポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコールもしくはポ
リテトラメチレングリコールとのコポリマー。ＥＰＤＭ
またはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミ
ドならびに加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−
ポリアミド系）。 ４. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよび
ポリベンズイミダゾール。 ５. ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメ
チロール−シクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロ
キシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を持つポリエ
ーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル
のようなジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒ
ドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導さ
れたもの；またポリカーボネートまたはＭＢＳで変性さ
れたポリエステル。 ６. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネー
ト、特に芳香族ポリカーボネート、例えば２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパンまたは１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンを基材
としたこれらのもの。 ７. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン、特にこれらの種類の芳香族ポリマー。 ８. 前記したポリマーどうしあるいは他のポリマーとの
混合物（ポリブレンド）、例えばポリオレフィン、ポリ
アクリレート、ポリジエンまたは耐衝撃性改良剤の形態
の他のエラストマー。

【０００７】これらの化合物の中では、好ましいものは
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリア
セタール、ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレ
ンスルフィドで提供されるが、特にポリカーボネートが
好ましい。これらの化合物は特に次式：

【化５】 （式中、Ａは２価のフェノール類の基を表す。）に相当
するこれらのポリマーの構造反復単位と理解されるべき
である。Ａの例は特に米国特許ＵＳ−Ａ−４９６０８６
３号および独国特許ＤＥ−Ａ−３９２２４９６号に提供
されている。Ａを、例えば、用語の最も広い意味ではヒ
ドロキノン、レソルシノール、ジヒドロシビフェニレン
またはビフェノールから誘導することができ、それらは
例えばビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、シクロア
ルカン、硫化物、エーテル、ケトン、スルホン、硫黄酸
化物、α，α’−ビス（ヒドロキシフェニル）ジイソプ
ロピルベンゼンであり〔化合物例は２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，
２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘキサンである。〕、あるい
は次式群：

【化６】 で表される化合物から誘導することができる。

【０００８】成分ａ）のポリマーは直鎖または分枝して
いてよい。これらポリマーの成形は、例えばポリカーボ
ネートが２２０ないし３３０℃で注入成形されるように
比較的高温で行われる。このような温度では慣用の光安
定剤および抗酸化剤は不安定でありそして分解し始め
る。本発明による上述のトリアジン化合物は、しかし、
極めて高温耐性がありおよびそれゆえ該ポリマーの安定
化にとりわけ適当である。

【０００９】式Ｉ中のＲが炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基である場合、それは直鎖または分枝アルキル基
であってよく、そしてそれは例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ペンチル基、２−エチルブチル基、ヘプチル基、
オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル
基、ドデシル基、テトラデシル基またはオクタデシル基
であってよい。ハロゲン置換のまたは炭素原子数１ない
し１２のアルコキシ基置換の、炭素原子数２ないし６の
アルキル基としてのＲは、例えば２−クロロエチル基、
２−フルオロエチル基、２−メトキシエチル基、２−エ
トキシエチル基、２−イソプロポキシエチル基、２−メ
トシキプロピル基、３−ブトキシプロピル基、２−ブト
キシエチル基、２−ヘキシルオキシエチル基、２−オク
チルオキシエチル基または２−ドデシルオキシエチル基
であってよい。

【００１０】Ｒは炭素原子数１ないし１２のアルキル基
またはベンジル基、特に炭素原子数３ないし６のアルキ
ル基、非常に特別にはプロピル基が好ましい。

【００１１】式ＩにおけるＲ’は好ましいのは水素原子
である。

【００１２】式Ｉの化合物の例を以下に示す：２，４−
ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェ
ニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル
−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−
（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−
ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ
−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−
ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベン
ジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，
４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−（２−ブ
トキシエトキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒドロキシ
−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒドロキシ−４
−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒドロキシ−４
−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，
４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘ
キシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒドロキシ−４
−ペントキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒドロキシ
−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン、２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒドロキ
シ−４−（２−ヘキシルオキシエトキシ）フェニル）−
１，３，５−トリアジン。

【００１３】式Ｉの化合物は公知の化合物であり、また
は公知の化合物と類似に製造できる。それらは原則的に
は２，４−ジアリール−６−（２，４−ジヒドロキシフ
ェニル）−１，３，５−トリアジンに相当するものをエ
ーテル化することによって製造できる。エーテル化は、
２−位のＯＨ基が水素橋かけ結合により立体障害性であ
るため、選択的に４−位で行われる。２，４−ジヒドロ
キシ−フェニルトリアジンの製造およびエーテル化は例
えばＨｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ５５（１９７２），
１５６６−９５；ヨーロッパ特許ＥＰ−Ａ−３９５９３
８号；米国特許ＵＳ−Ａ−３１１８８８７号；米国特許
ＵＳ−Ａ−３２４２１７５号または米国特許ＵＳ−Ａ−
３２４４７０８号に記述されている。

【００１４】使用される安定剤の量は安定化するポリマ
ーの量および安定化されたポリマーの意図する用途に依
存している。通常、本発明によるポリマー組成物はポリ
マー（成分ａ）１００重量部に対して安定剤（成分ｂ）
０．１ないし１５、特に０．１ないし５重量部を含有し
ている。

【００１５】安定剤（成分ｂ）はまた２あるいはそれ以
上の式Ｉの化合物の混合物であってよい。式Ｉの安定剤
の他に、ポリマー組成物はまた例えば抗酸化剤、光安定
剤、金属不活性剤または加工安定剤のような他の公知の
安定剤を含有してもよい。以下に示す化合物はそれらの
例である。

【００１６】１．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４
−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデカ−１′−
イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそ
れらの混合物。

【００１７】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。

【００１８】１．３ ハイドロキノンとアルキル化ハイ
ドロキノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メト
キシフェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、２，５−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル、２，６−ジ−第三ブチル−ハイドロノン、２，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、ステアリ
ン酸３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル、アジピン酸ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）。

【００１９】１．４ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。

【００２０】１．５ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス[６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、テレフタル酸ビス［２−（３′−
第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジ
ル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。

【００２１】１．６． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルガプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イ
ソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−メルカプトアセテート。

【００２２】１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート
類、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。

【００２３】１．８． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。

【００２４】１．９． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。

【００２５】１．１０． べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのＣａ
塩。

【００２６】１．１１． アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。

【００２７】１．１２． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３
−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘンサンジオール、トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト
リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００２８】１．１３． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘンサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００２９】１．１４． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘンサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００３０】１．１５． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘンサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。

【００３１】１．１６． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００３２】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２′−ヒドロキシフェニル−２Ｈ
−ベンズトリアゾール（２）の５′−メチル−、３′，
５′−ジ−第三ブチル−、５′−第三ブチル−、５′−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −、５−クロ
ロ−３′，５′−ジ−第三ブチル−、５−クロロ−３′
−第三ブチル−５′−メチル−、３′−第二ブチル−
５′−第三ブチル、４′−オクトキシ−、３′，５′−
ジ−第三アミル−、３′，５′−ビス（α，α−ジメチ
ルベンジル）−誘導体、５−クロロ−３′−第三ブチル
−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−お
よび５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−［２−（２
−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−誘導
体の混合物、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−
（２−メトキシカルボニルエチル）−、３′−第三ブチ
ル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−、３′
−第三ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニル
エチル）−、３′−第三ブチル−５′−［２−（２−エ
チルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−、３′−
ドデシル−５′−メチル−および３′−第三ブチル−
５′−（２′−イソオクチルオキシカルボニルエチル）
−誘導体；２，２′−メチレン−ビス［４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンズトリアゾー
ル−２−イル−フェノール］；２−［３′−第三ブチル
−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒ
ドロキシ−フェニル］−２Ｈ−ベンズトリアゾールとポ
リエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
［Ｒ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯ（ＣＨ₂ ）₃ −］₂ −（式
中，Ｒ＝３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシ−５′−
２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニルであ
る。）。

【００３３】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。

【００３４】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、およびヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチ
ル−４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

【００３５】２．４． アクリレート、例えばα−シア
ノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸エチルエステル、
α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸イソオク
チルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエス
テル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸
メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキ
シ−桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−
メトキシ桂皮酸メチルエステル、およびＮ−（β−カル
ボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリ
ン。

【００３６】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の，ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩，ケトキシム例えば，２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体，１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。

【００３７】２．６． 立体障害性アミン、例えばセバ
シン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル），コハク酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジル），セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジル），ｎ−ブチル−３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）エステル、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物，Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−
第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−
ｓ−トリアジンとの縮合生成物，トリス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセ
テート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカル
ボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−
ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネー
ト、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，
４−ジオン、セバシン酸ビス（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジル），コハク酸
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル），Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジア
ミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５
−トリアジンとの縮合生成物，２−クロロ−４，６−ジ
（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビ
ス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物，
２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，
５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルア
ミノ）エタンとの縮合生成物，８−アセチル−３−ドデ
シル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−ト
リアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−
ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシ
ル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン。

【００３８】２．７． シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−
２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキ
シ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物，ｏ−とｐ−メトキシ−二置換オキサ
ニリドの混合物およびｏ−とｐ−エトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物。

【００３９】２．８． 他の２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−１，３，５−トリアジン、例ば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６
−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン。

【００４０】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ヒドラジド、オキサ
ニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビス
−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセタール−アジ
ピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−
シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−チオプロピオン酸ジヒドラジド。

【００４１】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス−イソデシル−ペンタエリトリト
ールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−
４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトー
ルジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６
−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィ
ット ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン。

【００４２】５． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミ
ダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、
ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテ
トラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。

【００４３】６． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。

【００４４】７． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。

【００４５】８． 核剤、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。

【００４６】９． 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

【００４７】10. その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。

【００４８】安定剤および、所望ならば他の添加剤のポ
リマーへの添加は、例えば、粉末組成物の混合によって
またはポリマーの溶融または溶液への安定剤の添加によ
って、成形前に行われるのが都合がよい。

【００４９】本発明はそれゆえ、該ポリマーに式Ｉの化
合物の少なくとも１種を安定剤として添加することから
なる、光、酸素および熱による損傷に対する主鎖中にヘ
テロ原子を含む熱可塑性ポリマーの安定化の方法、およ
び光、酸素および熱による損傷に対する主鎖中にヘテロ
原子を含む熱可塑性ポリマーの安定化のための式Ｉの化
合物の使用方法に関する。

【００５０】得られる安定化ポリマー組成物を熱圧縮成
形、紡糸、押出または射出成形のような慣用の方法で、
例えば、繊維、フィルム、スモールストリップ（small
strip)、シート、プロファイル板材、容器、パイプおよ
び他の形材のような成形品に変換することができる。

【００５１】本発明はそれゆえまた、本発明によるポリ
マー組成物の成形品製造のための使用方法にも関する。

【００５２】多層系における本発明によるポリマー組成
物の使用方法もまた重要である。その場合、式Ｉの安定
剤の比較的高い量、例えば５ないし１５重量％を持つ本
発明のポリマー組成物は式Ｉの極少量の安定剤を含有す
るポリマーから作られた成形品に薄層（１０ないし１０
０μｍ）で用いられる。例えばいわゆる同時押出によ
り、層を基材製品の成形と同時に行うことができる。層
は、しかし、例えばフィルムを用いた積層または溶液を
用いたコーティングによって既成形基礎製品 (ready-sh
aped basic article) にも適用できる。外層または完成
品の被膜は、製品の内部を紫外線に対して保護する紫外
線フィルターとして作用する。外層は好ましくは少なく
とも１種の式Ｉの安定剤、５ないし１５重量％、とくに
５ないし１０重量％を含有する。

【００５３】本発明はそれゆえさらに、内層は式Ｉの安
定剤をほとんどまたは全く含まないでよいポリマーから
なるが、外層は厚さ１０ないし１００μｍの本発明の組
成物である、多層系の製造のための本発明によるポリマ
ー組成物の使用方法に関する。

【００５４】特に重要であるのは多層系の製造のための
成分（ａ）がポリカーボネートである本発明によるポリ
マー組成物の使用方法である。

【００５５】その方法で安定化したポリマーは良い耐候
性および特に紫外線に対する高程度の抵抗性で特徴づけ
られる。それゆえこれらは屋外での使用においても、そ
の機械的性質ならびにその色彩および光沢を長期間にわ
たり保持する。

【００５６】

【実施例】以下に続く実施例は、それよって限定するこ
となく、本発明を詳細に説明するために提示する。実施
例中、部および％は重量に基づき、室温は２０ないし２
５℃の温度を指す。以下に続く紫外線吸収剤が使用され
る： Ｐｈ−１ ２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキ
シ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン； Ｐｈ−２ ２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキ
シ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリ
アジン； Ｐｈ−３ ２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキ
シ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン； Ｐｈ−４ ２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキ
シ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリ
アジン； Ｐｈ−５ ２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキ
シ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン； Ｔｏ−１ ２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒ
ドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； Ｔｏ−２ ２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒ
ドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５
−トリアジン； Ｔｏ−３ ２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒ
ドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリ
アジン； Ｔｏ−４ ２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒ
ドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５
−トリアジン； Ｔｏ−５ ２，４−ジ−ｐ−トルイル−６−（２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリ
アジン； Ｘｙ−１ ２，４−ジ（２，４−ジメチルフェニル）
−６−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン （対照）； Ｘｙ−２ ２，４−ジ（２，４−ジメチルフェニル）
−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン （対照）； Ｘｙ−３ ２，４−ジ（２，４−ジメチルフェニル）
−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン （対照）； Ｘｙ−４ ２，４−ジ（２，４−ジメチルフェニル）
−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン （対照）； Ｘｙ−５ ２，４−ジ（２，４−ジメチルフェニル）
−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン （対照）。

【００５７】実施例１： 室温において攪拌しながら、
ポリカーボネート粉末〔登録商標 ；レクサン(Lexan)
１１５〕１０ｇを塩化メチレン５０ｇに数時間かけて溶
解する。１，２および５％の添加剤濃度に相当する、紫
外線吸収剤０．１ｇ、０．２ｇまたは０．５ｇをそれに
加える。これらの溶液から２０μｍ厚さのフィルムを流
延する。フィルムをブラックパネル温度６３℃および相
対湿度６０％において、アトラス社製ウエザロメーター
ＣＩ ６５に曝露する。一定間隔における試料の変色を
黄色度指数（ＹＩ、ＡＳＴＭ Ｄ １９２５法）で測定
することによって試験する。黄色度指数７に到達するま
でに要する曝露時間を表１に示した。フィルムは次にさ
らにそれらが脆化するまで曝露する；これはフィルムに
おける亀裂形成によって示される。フィルムが脆化する
までに要する曝露時間も表１に示す。表１ ：黄色度指数（ＹＩ）＝７に到達するまでおよびフィルムが脆化するまでに 要する時間（ｈ）。 ＹＩ＝７までの フィルムが脆化する 紫外線吸収剤 曝露時間（ｈ） までの曝露時間（ｈ） ─────────────────────────────────── 添加せず ９９０ １１００ １％ Ｘｙ−１ １７００ ３９００ １％ Ｐｈ−１ ２２００ ４１００ １％ Ｔｏ−１ ２１００ ４０２０ ─────────────────────────────────── ２％ Ｘｙ−１ １８００ ４５００ ２％ Ｐｈ−１ ２３００ ７７４０ ２％ Ｔｏ−１ ２１００ ６６８０ ─────────────────────────────────── ５％ Ｘｙ−１ １９００ ６０００ ５％ Ｐｈ−１ ５７００ １０９９０ ５％ Ｔｏ−１ ４０００ １０９９０ ───────────────────────────────────

【００５８】実施例２：実施例１で提供された方法によ
って製造されたフィルムを１４０℃の空気循環炉でエー
ジングさせる。実施例１におけるのと同様、黄色度指数
７に到達するまでに要するエージング時間およびフィル
ムが脆化するまでに要する時間を測定する。表２に得ら
れた結果を示す。表２ ：黄色度指数（ＹＩ）＝７に到達するまでおよびフィルムが脆化するまでに 要するエージング時間（ｈ）。 １４０℃において １４０℃において ＹＩ＝７に到達する フィルムが脆く 紫外線吸収剤 までの時間（ｈ） なるまでの時間（ｈ） ─────────────────────────────────── １％ Ｘｙ−１ ５００ ２１００ １％ Ｐｈ−１ ３２５０ ３２５０ １％ Ｔｏ−１ ２４４０ ２９００ ─────────────────────────────────── ２％ Ｘｙ−１ ３００ １５００ ２％ Ｐｈ−１ ３３５０ ３５００ ２％ Ｔｏ−１ １３００ ２３５０ ─────────────────────────────────── ５％ Ｘｙ−１ １２０ ７００ ５％ Ｐｈ−１ ２９４０ ３０００ ５％ Ｔｏ−１ １１５０ １７００ ───────────────────────────────────

【００５９】実施例３：ポリカーボネート粉末を異なっ
た紫外線吸収剤０．３％と混合し、内部温度２７５℃お
よび２５ｒｐｍにおいて、２軸スクリュー押出機で粒剤
が形成するまで加工する。粒剤は射出成形機械（２４０
／３００℃／７５ｂａｒ）で６７×４３×２ｍｍに測定
されたシート形成するまで加工する。シートは実施例１
と同様にアトラス社製、ウエザロメーターＣＩ ６５に
曝露される。表３は黄色度指数２５（ＡＳＴＭ Ｄ−１
９２５に従って測定された黄色度指数）に到達するまで
に要する曝露時間を示す。表３ ：黄色度指数（ＹＩ）＝２５に到達するまでの曝露時間（ｈ）。 ＹＩ＝２５までの 紫外線吸収剤 曝露時間（ｈ） ─────────────────────────────────── 添加せず ９００ ０．３％ Ｘｙ−１ ２７００ ０．３％ Ｐｈ−１ ３５００ ０．３％ Ｔｏ−１ ３１００ ───────────────────────────────────

【００６０】実施例４：紫外線吸収剤２重量％を含むポ
リカーボネートフィルムを製造し、実施例１に示された
方法に従い、曝露する。表４は黄色度指数７に到達する
までに要する曝露時間を示す。フィルムはそこで更にそ
れらが脆化するまで曝す。これに要する曝露時間を同様
に表４で示す。表４ ：黄色度指数（ＹＩ）＝７に到達するまでおよびフィルムが脆化するまでに 要する曝露時間（ｈ）。 ＹＩ＝７までの フィルムが脆化する 紫外線吸収剤 曝露時間（ｈ） までの曝露時間（ｈ） ─────────────────────────────────── 添加せず ９９０ １１００ ２％ Ｐｈ−２ ２４８０ ８０４０ ２％ Ｐｈ−３ ２５６０ ５９００ ２％ Ｐｈ−４ ２５６０ ５５５０ ２％ Ｐｈ−５ ２６９０ ７５４０ ２％ Ｔｏ−２ ２２７０ ５９００ ２％ Ｔｏ−３ ２４００ ５５５０ ２％ Ｔｏ−４ ２３７５ ５０６０ ─────────────────────────────────── ２％ Ｘｙ−２ １８５０ ３９００ ２％ Ｘｙ−３ １８６０ ３９００ ２％ Ｘｙ−４ １９５０ ３９００ ───────────────────────────────────

【００６１】実施例５：実施例４で提供された方法によ
って製造されたフィルムを１３０℃の空気循環炉でエー
ジングさせる。上述した実施例と同様、黄色度指数７に
到達するまでに要するエージング時間およびフィルムが
脆化するまでに要する時間を測定する。表５に得られた
結果を示す。表５ ：黄色度指数（ＹＩ）＝７に到達するまでおよびフィルムが脆化するまでに 要するエージング時間（ｈ）。 ＹＩ＝７までの フィルムが脆化する 紫外線吸収剤 時間（ｈ） までの時間（ｈ） ─────────────────────────────────── ２％ Ｐｈ−２ １８４０ ７０００ ２％ Ｐｈ−３ ５０３０ ７０００ ２％ Ｐｈ−４ ４１７０ ７０００ ２％ Ｐｈ−５ ５５８０ ８０００ ２％ Ｔｏ−２ ２４６０ ４７２０ ２％ Ｔｏ−３ ２７９０ ４７２０ ２％ Ｔｏ−４ ２７５０ ４７２０ ─────────────────────────────────── ２％ Ｘｙ−２ ７５０ ３０３０ ２％ Ｘｙ−３ ７９０ ２５３０ ２％ Ｘｙ−４ ８２０ ３０３０ ───────────────────────────────────

【００６２】実施例６：紫外線吸収剤２重量％を含むポ
リカーボネートフィルムを製造し、実施例１に示された
方法と同様に曝露する。一定間隔におけるフィルムの引
張強さを室温にて測定する〔試験速度（cross-speed)：
２０ｍｍ／分、ＤＩＮ ５３４４８／１に従ったダンベ
ル形試験片、サンプル幅１０ｍｍ、サンプル厚み２０μ
ｍ〕。表６は元来の引張り強さのわずか５０％に到達し
た後の曝露時間を示す。表６ ： ５０％引張強さまでの 紫外線吸収剤 曝露時間（ｈ） ─────────────────────────────────── 添加せず ６９０ ２ ％ Ｘｙ−１ １４２０ ２ ％ Ｐｈ−１ １６７０ ２ ％ Ｔｏ−１ １８６０ ───────────────────────────────────

【００６３】実施例７： ポリブチレンテレフタレート
粉末〔登録商標クラスティン Ｓ６００（Crastin S60
0) 〕３ｋｇをペンタエリトリトールテトラキス（３−
[３’，５’−ジ−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェ
ニル］−プロピオネート）０．１重量％、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット０．４重量
％および表７に示した紫外線吸収剤０．５重量％とそれ
ぞれ乾燥状態で２分間、ヘンシェルミキサー（Henschel
mixer) で混合し、そして次にベルストルフ(Berstorf
f) 二軸スクリュー押出機で、１００／分の速度でおよ
び２３０℃／２４０℃／２５０℃／２５０℃の温度設定
で粒剤の形態に加工する。射出成形装置〔アルブルグ
Ｌ（Arburg L) 型、材料温度２６０℃、金型温度７０
℃〕を使用して、６７ｍｍ×４３ｍｍに測定されおよび
１ｍｍの厚さのシートを各々の混合物から作る。３０日
間室温に貯蔵した後、シートをブラックパネル温度６３
℃および相対湿度６０％、１０２分乾燥／１８分湿潤の
雨周期に調節した、アトラス社製ウエザロメーターＣＩ
６５に曝露する。一定間隔における試料の変色を黄色
度指数（ＹＩ、ＡＳＴＭ Ｄ １９２５法）を測定する
ことによって試験する。黄色度指数におけるΔＹＩ＝１
０に増加がおこる曝露時間を表７に示した。表７ ： ΔＹＩ＝１０までの 紫外線吸収剤 曝露時間（ｈ） ─────────────────────────────────── ０．５％ Ｘｙ−１ １５２０ ０．５％ Ｐｈ−１ ２８５０ ０．５％ Ｔｏ−１ ３１３０ ───────────────────────────────────

【００６４】実施例８：ポリアミド−６粉末〔登録商標
ウルトラミドＢ３Ｓ，(Ultramid B3S)ＢＡＳＦ社製〕を
表８に挙げた安定剤と乾燥状態で２分間ヘンシェルミキ
サーで混合し、そして次に速度９５／分、温度設定２３
０℃／２３５℃／２４０℃／２４０℃のベルストルフ二
軸スクリュー押出機で加工する。安定剤の量は使用され
たポリアミドの量を基準とした重量％で与えられる。２
ｍｍ厚シートを射出成形装置〔アルブルグ Ｌ型、材料
温度２４０℃、金型温度８０℃〕を使用しておのおのの
混合物から製造する。シートをブラックパネル温度６３
℃および相対湿度６０％、１０２分乾燥／１８分湿潤の
雨周期に調節した、アトラス社製ウエザロメーターＣＩ
６５に曝露する。シート上の亀裂が見えるのに要する
時間を測定する。測定結果を表８に示す。上述した本発
明による安定剤に加えて、以下の追加の安定剤が使用さ
れる： Ａ Ｎ，Ｎ’−ビス（３−［３’，５’−ジ−第三ブチ
ル−４’−ヒドロキシフェニル］−プロピオニル）ヘキ
サメチレンジアミン、 Ｂ トリス（２，４−ジ−ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 Ｃ 融点１２０ないし１５０℃を持つＮ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレン−ジアミンおよび４−第三−オクチルアミ
ノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンの
縮合生成物。表８： 亀裂が現れるまでに要する時間（ｈ） 安定剤 時間（ｈ） ─────────────────────────────────── 添加せず １０５０ ０．２％Ａ＋０．２％Ｂ ２６２０ ０．２％Ａ＋０．２％Ｂ＋０．３％Ｘｙ−１ ２９５０ ０．２％Ａ＋０．２％Ｂ＋０．３％Ｔｏ−１ ３３２０ ０．２％Ａ＋０．２％Ｂ＋０．３％Ｐｈ−１ ３９３０ ０．２％Ａ＋０．２％Ｂ＋０．３％Ｘｙ−１＋０．３％Ｃ ５９００ ０．２％Ａ＋０．２％Ｂ＋０．３％Ｔｏ−１＋０．３％Ｃ ６２００ ０．２％Ａ＋０．２％Ｂ＋０．３％Ｐｈ−１＋０．３％Ｃ ＞６２００ ───────────────────────────────────

【００６５】実施例９：ポリオキシメチレン〔登録商標
ホスタフォームＣ（Hostaform C)〕をおのおのステアリ
ン酸カルシウム０．３重量％、次式：

【化７】 の安定剤０．３重量％、および表９に示されている紫外
線吸収剤０．３重量％と共に７分間、１９０℃および３
０ｒｐｍでブラベンダープラスチコーダー（Brabender
Plasticoder)内で混練する。材料を次に１９０℃にで３
０００ｐｓｉの圧力下で１ｍｍ厚のシートを形成するた
め圧縮する；この工程の加工時間は３分間である。この
シートを６０℃および２３％湿度でＵＶ−Ａ光源から２
０ｃｍ離れたところで曝露する。ＵＶ−Ａ光源は５ Ｔ
Ｌ／０９蛍光ランプおよび５ ＴＬ／１２ランプ（波長
範囲２９５ないし４００ｎｍ）からなる。一定間隔にお
ける、ポリオキシメチレンの紫外線曝露の状況下で最大
値を示す黄色度指数（ＹＩ、ＡＳＴＭＤ １９２５法）
を測定する。その最大値は未だ目に見えない微小亀裂の
最初の発生によって起こる。さらに曝露して、後の時点
でシート中の亀裂は見えるようになる。表９は黄色度イ
ンデックスの最大値に到達するおよび目に見える亀裂が
現れるまでに要する週単位の曝露時間を示す。 表９：試験シートにおけるＹＩ最大値および目に見える傷の出現の週単位の曝露 時間 ＹＩ最大値までの 亀裂形成までの 紫外線吸収剤 曝露時間（週） 曝露時間（週） ─────────────────────────────────── ０．３重量％Ｘｙ−５ ８ １６ ０．３重量％Ｔｏ−５ １０ ２０ ０．３重量％Ｐｈ−５ １６ ２５ ───────────────────────────────────

【００６６】本発明による（１，３，５−トリアジンの
ジフェニル−およびジ−ｐ−トルイル誘導体）安定剤を
使用するとき、公知のジキシリル誘導体に比べ、実施例
１ないし９に示される試験結果は著しく改良された特性
を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 69:00 (72)発明者 クルト ブルデスカ スイス国，4058 バーゼル，ラオフエンブ ルジヤーシユトラーセ 30 (72)発明者 マリオ スロンゴ スイス国，1712 タフエルズ，ゼーゲトレ ーヴエク ６ (72)発明者 ジーン−ルーク ビルバウム スイス国，1700 フリボウルク ４，プラ ンシエ ズプ． ２

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ａ）主鎖中にヘテロ原子を含有する熱可
   塑性ポリマー、および ｂ）次式Ｉ： 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
   キル基、ハロゲン原子もしくは炭素原子数１ないし１２
   のアルコキシ基で置換された炭素原子数２ないし６のア
   ルキル基、またはベンジル基を表しならびにＲ’は水素
   原子またはメチル基を表す。）で表されるヒドロキシフ
   ェニルトリアジン化合物からなる、光、酸素および熱に
   よる損傷に対して安定化されたポリマー組成物。
2. 【請求項２】 成分ａ）がポリカーボネート、ポリエス
   テル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオ
   キシドまたはポリフェニレンスルフィドである請求項１
   に記載のポリマー組成物。
3. 【請求項３】 成分ａ）がポリカーボネートである請求
   項１に記載のポリマー組成物。
4. 【請求項４】 成分ｂ）が式Ｉの化合物であり、式中、
   Ｒが炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはベンジ
   ル基を表す、請求項１に記載のポリマー組成物。
5. 【請求項５】 成分ｂ）が式Ｉの化合物であり、式中、
   Ｒが炭素原子数３ないし６のアルキル基を表す、請求項
   １に記載のポリマー組成物。
6. 【請求項６】 成分ｂ）が式Ｉの化合物であり、式中、
   Ｒ’が水素原子を表す、請求項１に記載のポリマー組成
   物。
7. 【請求項７】 成分ａ）のポリマー１００重量部に対し
   て、成分ｂ）の安定剤０．１ないし１５重量部を含有す
   る請求項１に記載のポリマー組成物。
8. 【請求項８】 成分ａ）およびｂ）に加えて他の安定剤
   または他の添加剤を含有する請求項１に記載のポリマー
   組成物。
9. 【請求項９】 主鎖中にヘテロ原子を含有する熱可塑性
   ポリマーに次式Ｉ： 【化２】 （式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
   キル基、ハロゲン原子もしくは炭素原子数１ないし１２
   のアルコキシ基で置換された炭素原子数２ないし６のア
   ルキル基、またはベンジル基を表しならびにＲ’は水素
   原子またはメチル基を表す。）で表される化合物を添加
   することからなる、光、酸素および熱による損傷に対す
   る主鎖中にヘテロ原子を含有する熱可塑性ポリマーの安
   定化の方法。
10. 【請求項１０】 請求項１に記載のポリマー組成物から
    なる成形品。
11. 【請求項１１】 外層が１０ないし１００μｍの厚さの
    請求項１に記載のポリマー組成物からなる多層系。