JPH059425B2 - - Google Patents
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- JPH059425B2 JPH059425B2 JP58040179A JP4017983A JPH059425B2 JP H059425 B2 JPH059425 B2 JP H059425B2 JP 58040179 A JP58040179 A JP 58040179A JP 4017983 A JP4017983 A JP 4017983A JP H059425 B2 JPH059425 B2 JP H059425B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/09—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4
- C07D205/095—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4 and with a nitrogen atom directly attached in position 3
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
本発明は、塩素化アゼチジノン誘導体の製造方
法、更に詳しくは一般式 〔式中R1はアリール基、アリールメチル基又
はアリールオキシメチル基を示す。R2は水素原
子又はカルボン酸保護基を示す。R3はC1〜C10の
アルキル基又は置換基を有しもしくは有しないア
リール基を示す。〕で表わされる塩素化アゼチジ
ノン誘導体の新規製造法に関する。 本発明で製造される塩素化アゼチジノン誘導体
（）は、例えばTetrahedron Lett.，23，2187
（1982）に記載の方法で３−クロロメチルセフア
ロスポリンに変換でき、セフアロスポリン系抗生
剤合成の重要な中間体として有用である。 本発明の目的は、上記一般式（）で表わされ
る塩素化アゼチジノン誘導体を簡便な操作で高純
度且つ高収率で製造し得る方法を提供することに
ある。 即ち本発明は一般式 〔式中R1，R2及びR3は前記に同じ。〕で表わさ
れるアゼチジノン誘導体を溶媒中、分子状塩素、
ｔ−BuOCl，HOCl及びCl2Ｏからなる群から選
ばれた少なくとも１種の塩素化剤と反応させるこ
とを特徴とする一般式 〔式中R1，R2及びR3は前記に同じ。〕で表わさ
れる塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法に係
る。 本発明の方法によれば、副生物の生成は殆んど
ないので、簡便な操作で反応混合物から単離、精
製することができる。そのため純度がほぼ100％
の一般式（）で表わされる塩素化アゼチジノン
誘導体を80％以上の好収率で製造することができ
る。 本明細書において、R1の具体例としては、例
えばフエニル、トリル、ｐ−クロロフエニル、ｐ
−ブロモフエニル、ｐ−ニトロフエニル、ｐ−メ
トキシフエニル、ベンジル、トリルメチル、キシ
リルメチル、ナフチルメチル、ｐ−メトキシベン
ジル、ｐ−ニトロベンジル、フエノキシメチル、
トリルオキシメチル、キシリルオキシメチル、ｐ
−クロロフエノキシメチル、ｐ−ニトロフエノキ
シメチル、フエニルクロロメチル、、フエニルジ
クロロメチル等を挙げることができる。 R2のカルボン酸保護基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、
２，２，２−トリクロロエチル、２，２−ジクロ
ロエチル、２−クロロエチル、２−ブロモエチ
ル、２−プロペニル、３−フエニル−２−プロペ
ニル、ベンジル、ｐ−ブロモベンジル、ｐ−ニト
ロベンジル、ｏ−ニトロベンジル、ｏ，ｐ−ジニ
トロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、３，４，
５−トリメトキシベンジル、３，５−ジブロモ−
４−メトキシベンジル、ジフエニルメチル、フエ
ニル、ｐ−メチルチオフエニル、ｐ−メトキシフ
エニル等を挙げることができる。 R3の具体例としては、例えばC1〜C10の直鎖あ
るいは分枝のアルキル、フエニル、トリル、キシ
リル、ｐ−メトキシフエニル、ｐ−ニトロフエニ
ル、ｏ−ニトロフエニル、ｐ−ハロフエニル等を
挙げることができる。 本発明において出発原料として用いられる一般
式（）のアゼチジノン誘導体は、既報の方法、
例えば特開昭50−129590号公報に記載されている
方法に従い容易に合成される。 本発明の目的化合物（）は、上記一般式
（）のアゼチジノン誘導体を適当な溶媒中塩素
化剤と反応させることにより製造される。本発明
で使用される溶媒としては、例えば低級ハロゲン
化炭化水素、芳香族炭化水素、ジ低級アルキルエ
ーテル、環状エーテル、低級ジアルコキシエタ
ン、低級カルボン酸エステル等が挙げられ、これ
らの中から選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以
上の混合溶媒として用いられる。特に好ましい溶
媒としては、クロロホルム、ジクロルメタン、ジ
クロルエタン、四塩化炭素、ベンゼン、クロルベ
ンゼン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、
１，２−ジエトキシエタン、１，２−ジブトキシ
エタン、１，２−ジベンジルオキシエタン、１，
２−ジアセトキシエタン、ギ酸エチル、酢酸エチ
ル、エトキシエチルアセテートが挙げられ、これ
らの中から選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以
上の混合溶媒として用いられる。 本発明で用いられる塩素化剤は、分子状塩素、
ｔ−BuOCl，HOCl及びCl2Ｏからなる群から選
ばれた少なくとも１種である。上記以外の従来公
知の塩素化剤を使用した場合には、到底本発明の
所期の効果が発現され得ない（後記比較例参照）。
分子状塩素は塩素ガスとして反応させることもで
き、また不活性有機溶媒、例えば四塩化炭素、ジ
クロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等
の低級ハロゲン化炭化水素の溶液として反応させ
ることもできる。HOClは不活性有機溶媒、例え
ばChem.Ber.，88，883（1955）に記載されている
方法により製造されるジ低級アルキルエーテル溶
液として反応させるのがよい。Cl2Ｏはそのまま
反応させてもよいが、好ましくは不活性有機溶
媒、例えば四塩化炭素溶液として反応させる。こ
れら塩素化剤の使用量としては特に制限されず広
い範囲内から適宜選択することができるが、通常
化合物（）に対して１〜７当量、好ましくは１
〜３当量使用するのがよい。 本発明は塩化水素トラツプ剤の存在下反応を行
なうことができる。塩化水素トラツプ剤として
は、例えばプロピレンオキシド、ブチレンオキシ
ドなどのエポキシド類が挙げられる。また塩化水
素トラツプ剤としてカリウム、ナトリウム、リチ
ウムなどアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭
酸塩又は分子ふるい、ポリビニルピリジンなどが
挙げられ、これらは固体のままでも用いることが
できる。これらは化合物（）に対して一般に１
〜100当量用いられ、通常１〜30当量使用される。 塩素化剤として分子状塩素を用いる場合、疎水
性有機溶媒と水との混合物中反応を行なうことが
できる。用いる疎水性有機溶媒としては例えば低
級ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、低級カ
ルボン酸エステル等が用いられるが、通常クロロ
ホルム、ジクロルメタン、ジクロルエタン、ベン
ゼン、クロルベンゼン、酢酸エチルが用いられ
る。 本発明において化合物（）の使用有機溶媒に
対する濃度は、一般に0.1〜50wt％程度、通常１
〜30wt％とするのがよい。また本発明は、通常
反応温度−70〜70℃の範囲で行なわれ、好ましく
は−10〜40℃の反応温度で行なわれる。 反応終了後は抽出、水洗等の通常の後処理の
後、溶媒を留去することにより化合物（）を得
ることができる。このようにして得られる化合物
（）はほぼ純品で次の反応、例えばセフアロス
ポリンへの環化反応にそのまま用いても差支えな
いが、さらに精製するためには再結晶あるいはカ
ラムクロマトグラフイーを行なうのがよい。 次に実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。 実施例 １ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル2.0ｇを
ジクロルメタン10mlにとかし、水５mlを加える。
これを氷浴中冷却しながらかきまぜ6.9mmolの塩
素ガスの溶けた塩化メチレン約10mlを30分間で滴
下する。滴下終了後有機層を分離し、水層をジク
ロルメタンで抽出する。有機層は１つにまとめて
NaHCO3，Na2S2O3，NaClの水溶液で洗浄、無
水MgSO4で乾燥した後溶媒を減圧下留去する。
このようにして得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーを行ない分離精製すると２−
（３−フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル1.87ｇ
（88％）を得る。得られた化合物の分析値は第９
表にまとめて示す。 比較例 １ 特開昭51−105051号公報の実施例２の方法に従
い、２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベ
ンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−
イル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジルの塩
素化を試みた。 即ち、２−（３−フエノキシアセトアミド−４
−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル
352mgを塩化メチレン2.9mlに溶解し、−20℃に冷
却し、攪拌しながらメタンスルホニルクロリド
0.05ml及びトリエチルアミン0.20mlを順次加え、
アルゴン気流中10分間攪拌した。次にモルホリン
0.062mlを加えて15分間攪拌し、続いてＮ−クロ
ロコハク酸イミド97mgを加え、内温を−20℃に保
持したまま、更に２時間攪拌した。反応液を塩化
メチレンにより抽出を行ない、水で１回、飽和食
塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで有機
層を乾燥し、溶媒を留去した。その結果、上記原
料化合物の二重結合が異性化された下記式 で表わされる化合物の生成が認められたが、目的
とする２−（３−フエノキシアセトアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベン
ジルは全く得られなかつた。 また上記反応を室温下に行なつても、同様の効
果が得られたに過ぎなかつた。 更にＮ−クロロコハク酸イミドの代りに、特開
昭51−105051号公報に記載の塩素化剤である
CuCl2，SCl2，CCl4及び（CH3CO）NHClを用い
た場合でも、上記と同様に目的とする化合物は全
く得られなかつた。 比較例 ２ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル352mgを
塩化メチレン2.9mlに溶解し、これにＮ−クロロ
コハク酸イミド97mgを加え、室温で２時間攪拌し
た。HPLCによる分析の結果、目的とする２−
（３−フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジルは全く
生成していないことが確認された。 比較例 ３ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジルの代り
にブテン酸部分のオレフイン炭素を重水素化した
化合物を用い、実施例１と同様に処理したとこ
ろ、上記化学式で示したような塩素のついたメチ
レン部分が重水素化された化合物が得られた。 比較例 ４ 特開昭52−83732号公報の例３において、臭素
の代りに塩素を用いる以外は例３と同様に処理し
た。即ち、３−ベンジル−７−オキソ−α−（１
−ヒドロキシエチリデン）−２，６−ジアザ−４
−チアビシクロ［3.2，０］ヘプト−２−エン−
６−酢酸ｐ−ニトロベンジル2.265ｇを無水テト
ラヒドロフラン30mlに懸濁し、氷冷下（内温１〜
２℃）にトリエチルアミン1.11ｇ及び塩化メタン
スルホニル630mgのテトラヒドロフラン２ml溶液
を滴下した後25分間攪拌した。生成した３−ベン
ジル−７−オキソ−α−（１−メタンスルホニル
オキシエチリデン）−２，６−ジアザ−４−チア
ビシクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン−６−酢酸
ｐ−ニトロベンジルの溶液にモルホリン480mgの
テトラヒドロフラン溶液２mlを加えて15分攪拌し
た後、生成した３−ベンジル−７−オキソ−α−
（１−モルホリノエチリデン）−２，６−ジアザ−
４−チアビシクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン−
６−酢酸ｐ−ニトロベンジルの溶液を−20℃に冷
却し、ピリジン396mg及び塩素の四塩化炭素溶液
（１モル溶液：５ml）溶液を加えた。15分後、反
応液を希塩酸に注入し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を水洗、硫酸マグネシウム乾燥し、溶媒を
留去して得られる残留物を50ｇのシリカゲル上に
てクロマトグラフして、反応物を精製しようとし
たが、目的とする３−ベンジル−７−オキソ−α
−（２−クロロ−１−モルホリノエチリデン）−
２，６−ジアザ−４−チアビシクロ［3.2.0］ヘ
プト−２−エン−６−酢酸ｐ−ニトロベンジルを
単離することができなかつた。 また上記塩素（Cl2）の代りにｔ−BuOCl，
HOCl又はCl2Ｏを用い、上記と同様に処理した
が、上記と同様に目的とする３−ベンジル−７−
オキソ−α−（２−クロロ−１−モルホリノエチ
リデン）−２，６−ジアザ−４−チアビシクロ
［3.2.0］ヘプト−２−エン−６−酢酸ｐ−ニトロ
ベンジルは得られなかつた。 比較例 ５ （Phはフエニル基、Meはメチル基） 特公昭62−21072号公報の実施例６に対応する
非電解塩素化を行なつた。即ち、２−（３−フエ
ニルオキシメチル−７−オキソ−４−チア−２，
６−ジアザビシクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン
−６−イル）−３−メチル−３−ブテン酸メチル
エステル50mgを塩化メチレン５mlに溶解し、これ
に４当量の塩素を溶解した塩化メチレン溶液１ml
を加えて室温下、30分間反応を行なつた。反応液
を飽和食塩水、飽和重曹水にて洗浄し、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥後溶媒を留去した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
て分離精製すると、２−（３−フエニルオキシメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン−６−イル）−
３−クロロメチル−３−ブテン酸メチルエステル
が収率17％で得られた。得られた化合物のNMR
分析値は標品のものと一致した。また、副生成物
として、下記に示す化合物が得られたが、これら
各化合物を完全に分離、精製することは不可能で
あつた。
法、更に詳しくは一般式 〔式中R1はアリール基、アリールメチル基又
はアリールオキシメチル基を示す。R2は水素原
子又はカルボン酸保護基を示す。R3はC1〜C10の
アルキル基又は置換基を有しもしくは有しないア
リール基を示す。〕で表わされる塩素化アゼチジ
ノン誘導体の新規製造法に関する。 本発明で製造される塩素化アゼチジノン誘導体
（）は、例えばTetrahedron Lett.，23，2187
（1982）に記載の方法で３−クロロメチルセフア
ロスポリンに変換でき、セフアロスポリン系抗生
剤合成の重要な中間体として有用である。 本発明の目的は、上記一般式（）で表わされ
る塩素化アゼチジノン誘導体を簡便な操作で高純
度且つ高収率で製造し得る方法を提供することに
ある。 即ち本発明は一般式 〔式中R1，R2及びR3は前記に同じ。〕で表わさ
れるアゼチジノン誘導体を溶媒中、分子状塩素、
ｔ−BuOCl，HOCl及びCl2Ｏからなる群から選
ばれた少なくとも１種の塩素化剤と反応させるこ
とを特徴とする一般式 〔式中R1，R2及びR3は前記に同じ。〕で表わさ
れる塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法に係
る。 本発明の方法によれば、副生物の生成は殆んど
ないので、簡便な操作で反応混合物から単離、精
製することができる。そのため純度がほぼ100％
の一般式（）で表わされる塩素化アゼチジノン
誘導体を80％以上の好収率で製造することができ
る。 本明細書において、R1の具体例としては、例
えばフエニル、トリル、ｐ−クロロフエニル、ｐ
−ブロモフエニル、ｐ−ニトロフエニル、ｐ−メ
トキシフエニル、ベンジル、トリルメチル、キシ
リルメチル、ナフチルメチル、ｐ−メトキシベン
ジル、ｐ−ニトロベンジル、フエノキシメチル、
トリルオキシメチル、キシリルオキシメチル、ｐ
−クロロフエノキシメチル、ｐ−ニトロフエノキ
シメチル、フエニルクロロメチル、、フエニルジ
クロロメチル等を挙げることができる。 R2のカルボン酸保護基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、
２，２，２−トリクロロエチル、２，２−ジクロ
ロエチル、２−クロロエチル、２−ブロモエチ
ル、２−プロペニル、３−フエニル−２−プロペ
ニル、ベンジル、ｐ−ブロモベンジル、ｐ−ニト
ロベンジル、ｏ−ニトロベンジル、ｏ，ｐ−ジニ
トロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、３，４，
５−トリメトキシベンジル、３，５−ジブロモ−
４−メトキシベンジル、ジフエニルメチル、フエ
ニル、ｐ−メチルチオフエニル、ｐ−メトキシフ
エニル等を挙げることができる。 R3の具体例としては、例えばC1〜C10の直鎖あ
るいは分枝のアルキル、フエニル、トリル、キシ
リル、ｐ−メトキシフエニル、ｐ−ニトロフエニ
ル、ｏ−ニトロフエニル、ｐ−ハロフエニル等を
挙げることができる。 本発明において出発原料として用いられる一般
式（）のアゼチジノン誘導体は、既報の方法、
例えば特開昭50−129590号公報に記載されている
方法に従い容易に合成される。 本発明の目的化合物（）は、上記一般式
（）のアゼチジノン誘導体を適当な溶媒中塩素
化剤と反応させることにより製造される。本発明
で使用される溶媒としては、例えば低級ハロゲン
化炭化水素、芳香族炭化水素、ジ低級アルキルエ
ーテル、環状エーテル、低級ジアルコキシエタ
ン、低級カルボン酸エステル等が挙げられ、これ
らの中から選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以
上の混合溶媒として用いられる。特に好ましい溶
媒としては、クロロホルム、ジクロルメタン、ジ
クロルエタン、四塩化炭素、ベンゼン、クロルベ
ンゼン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、
１，２−ジエトキシエタン、１，２−ジブトキシ
エタン、１，２−ジベンジルオキシエタン、１，
２−ジアセトキシエタン、ギ酸エチル、酢酸エチ
ル、エトキシエチルアセテートが挙げられ、これ
らの中から選ばれる一種類の単独溶媒又は２種以
上の混合溶媒として用いられる。 本発明で用いられる塩素化剤は、分子状塩素、
ｔ−BuOCl，HOCl及びCl2Ｏからなる群から選
ばれた少なくとも１種である。上記以外の従来公
知の塩素化剤を使用した場合には、到底本発明の
所期の効果が発現され得ない（後記比較例参照）。
分子状塩素は塩素ガスとして反応させることもで
き、また不活性有機溶媒、例えば四塩化炭素、ジ
クロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等
の低級ハロゲン化炭化水素の溶液として反応させ
ることもできる。HOClは不活性有機溶媒、例え
ばChem.Ber.，88，883（1955）に記載されている
方法により製造されるジ低級アルキルエーテル溶
液として反応させるのがよい。Cl2Ｏはそのまま
反応させてもよいが、好ましくは不活性有機溶
媒、例えば四塩化炭素溶液として反応させる。こ
れら塩素化剤の使用量としては特に制限されず広
い範囲内から適宜選択することができるが、通常
化合物（）に対して１〜７当量、好ましくは１
〜３当量使用するのがよい。 本発明は塩化水素トラツプ剤の存在下反応を行
なうことができる。塩化水素トラツプ剤として
は、例えばプロピレンオキシド、ブチレンオキシ
ドなどのエポキシド類が挙げられる。また塩化水
素トラツプ剤としてカリウム、ナトリウム、リチ
ウムなどアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭
酸塩又は分子ふるい、ポリビニルピリジンなどが
挙げられ、これらは固体のままでも用いることが
できる。これらは化合物（）に対して一般に１
〜100当量用いられ、通常１〜30当量使用される。 塩素化剤として分子状塩素を用いる場合、疎水
性有機溶媒と水との混合物中反応を行なうことが
できる。用いる疎水性有機溶媒としては例えば低
級ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、低級カ
ルボン酸エステル等が用いられるが、通常クロロ
ホルム、ジクロルメタン、ジクロルエタン、ベン
ゼン、クロルベンゼン、酢酸エチルが用いられ
る。 本発明において化合物（）の使用有機溶媒に
対する濃度は、一般に0.1〜50wt％程度、通常１
〜30wt％とするのがよい。また本発明は、通常
反応温度−70〜70℃の範囲で行なわれ、好ましく
は−10〜40℃の反応温度で行なわれる。 反応終了後は抽出、水洗等の通常の後処理の
後、溶媒を留去することにより化合物（）を得
ることができる。このようにして得られる化合物
（）はほぼ純品で次の反応、例えばセフアロス
ポリンへの環化反応にそのまま用いても差支えな
いが、さらに精製するためには再結晶あるいはカ
ラムクロマトグラフイーを行なうのがよい。 次に実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。 実施例 １ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル2.0ｇを
ジクロルメタン10mlにとかし、水５mlを加える。
これを氷浴中冷却しながらかきまぜ6.9mmolの塩
素ガスの溶けた塩化メチレン約10mlを30分間で滴
下する。滴下終了後有機層を分離し、水層をジク
ロルメタンで抽出する。有機層は１つにまとめて
NaHCO3，Na2S2O3，NaClの水溶液で洗浄、無
水MgSO4で乾燥した後溶媒を減圧下留去する。
このようにして得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーを行ない分離精製すると２−
（３−フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル1.87ｇ
（88％）を得る。得られた化合物の分析値は第９
表にまとめて示す。 比較例 １ 特開昭51−105051号公報の実施例２の方法に従
い、２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベ
ンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−
イル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジルの塩
素化を試みた。 即ち、２−（３−フエノキシアセトアミド−４
−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル
352mgを塩化メチレン2.9mlに溶解し、−20℃に冷
却し、攪拌しながらメタンスルホニルクロリド
0.05ml及びトリエチルアミン0.20mlを順次加え、
アルゴン気流中10分間攪拌した。次にモルホリン
0.062mlを加えて15分間攪拌し、続いてＮ−クロ
ロコハク酸イミド97mgを加え、内温を−20℃に保
持したまま、更に２時間攪拌した。反応液を塩化
メチレンにより抽出を行ない、水で１回、飽和食
塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで有機
層を乾燥し、溶媒を留去した。その結果、上記原
料化合物の二重結合が異性化された下記式 で表わされる化合物の生成が認められたが、目的
とする２−（３−フエノキシアセトアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベン
ジルは全く得られなかつた。 また上記反応を室温下に行なつても、同様の効
果が得られたに過ぎなかつた。 更にＮ−クロロコハク酸イミドの代りに、特開
昭51−105051号公報に記載の塩素化剤である
CuCl2，SCl2，CCl4及び（CH3CO）NHClを用い
た場合でも、上記と同様に目的とする化合物は全
く得られなかつた。 比較例 ２ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル352mgを
塩化メチレン2.9mlに溶解し、これにＮ−クロロ
コハク酸イミド97mgを加え、室温で２時間攪拌し
た。HPLCによる分析の結果、目的とする２−
（３−フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジルは全く
生成していないことが確認された。 比較例 ３ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジルの代り
にブテン酸部分のオレフイン炭素を重水素化した
化合物を用い、実施例１と同様に処理したとこ
ろ、上記化学式で示したような塩素のついたメチ
レン部分が重水素化された化合物が得られた。 比較例 ４ 特開昭52−83732号公報の例３において、臭素
の代りに塩素を用いる以外は例３と同様に処理し
た。即ち、３−ベンジル−７−オキソ−α−（１
−ヒドロキシエチリデン）−２，６−ジアザ−４
−チアビシクロ［3.2，０］ヘプト−２−エン−
６−酢酸ｐ−ニトロベンジル2.265ｇを無水テト
ラヒドロフラン30mlに懸濁し、氷冷下（内温１〜
２℃）にトリエチルアミン1.11ｇ及び塩化メタン
スルホニル630mgのテトラヒドロフラン２ml溶液
を滴下した後25分間攪拌した。生成した３−ベン
ジル−７−オキソ−α−（１−メタンスルホニル
オキシエチリデン）−２，６−ジアザ−４−チア
ビシクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン−６−酢酸
ｐ−ニトロベンジルの溶液にモルホリン480mgの
テトラヒドロフラン溶液２mlを加えて15分攪拌し
た後、生成した３−ベンジル−７−オキソ−α−
（１−モルホリノエチリデン）−２，６−ジアザ−
４−チアビシクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン−
６−酢酸ｐ−ニトロベンジルの溶液を−20℃に冷
却し、ピリジン396mg及び塩素の四塩化炭素溶液
（１モル溶液：５ml）溶液を加えた。15分後、反
応液を希塩酸に注入し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を水洗、硫酸マグネシウム乾燥し、溶媒を
留去して得られる残留物を50ｇのシリカゲル上に
てクロマトグラフして、反応物を精製しようとし
たが、目的とする３−ベンジル−７−オキソ−α
−（２−クロロ−１−モルホリノエチリデン）−
２，６−ジアザ−４−チアビシクロ［3.2.0］ヘ
プト−２−エン−６−酢酸ｐ−ニトロベンジルを
単離することができなかつた。 また上記塩素（Cl2）の代りにｔ−BuOCl，
HOCl又はCl2Ｏを用い、上記と同様に処理した
が、上記と同様に目的とする３−ベンジル−７−
オキソ−α−（２−クロロ−１−モルホリノエチ
リデン）−２，６−ジアザ−４−チアビシクロ
［3.2.0］ヘプト−２−エン−６−酢酸ｐ−ニトロ
ベンジルは得られなかつた。 比較例 ５ （Phはフエニル基、Meはメチル基） 特公昭62−21072号公報の実施例６に対応する
非電解塩素化を行なつた。即ち、２−（３−フエ
ニルオキシメチル−７−オキソ−４−チア−２，
６−ジアザビシクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン
−６−イル）−３−メチル−３−ブテン酸メチル
エステル50mgを塩化メチレン５mlに溶解し、これ
に４当量の塩素を溶解した塩化メチレン溶液１ml
を加えて室温下、30分間反応を行なつた。反応液
を飽和食塩水、飽和重曹水にて洗浄し、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥後溶媒を留去した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
て分離精製すると、２−（３−フエニルオキシメ
チル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザビ
シクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン−６−イル）−
３−クロロメチル−３−ブテン酸メチルエステル
が収率17％で得られた。得られた化合物のNMR
分析値は標品のものと一致した。また、副生成物
として、下記に示す化合物が得られたが、これら
各化合物を完全に分離、精製することは不可能で
あつた。
【式】
【式】
【式】
【式】
比較例 ６
比較例５において、上記実施例１と同様に塩化
メチレン５mlと水2.5mlとの混合溶媒中、氷冷下
で行なうと、目的とする２−（３−フエニルオキ
シメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジア
ザビシクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸メチルエ
ステルが収率24％で得られた。また、上記比較例
５と同様に、同様の副生成物が混合物として得ら
れた。 実施例 ２ 実施例１と同様の操作を、ジクロルメタンのか
わりに以下の有機溶媒を用いて行ない下記第１表
に示す収率で２−（３−フエノキシアセトアミド
−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノ
ン−１−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジルを得た。
メチレン５mlと水2.5mlとの混合溶媒中、氷冷下
で行なうと、目的とする２−（３−フエニルオキ
シメチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジア
ザビシクロ［3.2.0］ヘプト−２−エン−６−イ
ル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸メチルエ
ステルが収率24％で得られた。また、上記比較例
５と同様に、同様の副生成物が混合物として得ら
れた。 実施例 ２ 実施例１と同様の操作を、ジクロルメタンのか
わりに以下の有機溶媒を用いて行ない下記第１表
に示す収率で２−（３−フエノキシアセトアミド
−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノ
ン−１−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジルを得た。
【表】
実施例 ３
実施例１と同様にして以下の化合物を得た。結
果を第２表にまとめて示す。
果を第２表にまとめて示す。
【表】
【表】
実施例 ４
２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル1.0ｇを
ベンゼン−ジオキサン（１：２）10mlにとかし、
NaHCO3３ｇを加えて室温でかきまぜる。これ
に塩素2.1mmolをとかした四塩化炭素1.5mlを３
分間で滴下し、２時間かきまぜる。これを酢酸エ
チルを用いて抽出し、実施例１と同様の後処理を
行ない２−（３−フエノキシアセトアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベン
ジル1.04ｇ（98％）を得る。 実施例 ５ 実施例４と同様の操作を以下の有機溶媒を用い
て行ない、第３表に示す収率で２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメ
チル−３−ブテン酸ベンジルを得た。
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル1.0ｇを
ベンゼン−ジオキサン（１：２）10mlにとかし、
NaHCO3３ｇを加えて室温でかきまぜる。これ
に塩素2.1mmolをとかした四塩化炭素1.5mlを３
分間で滴下し、２時間かきまぜる。これを酢酸エ
チルを用いて抽出し、実施例１と同様の後処理を
行ない２−（３−フエノキシアセトアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベン
ジル1.04ｇ（98％）を得る。 実施例 ５ 実施例４と同様の操作を以下の有機溶媒を用い
て行ない、第３表に示す収率で２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメ
チル−３−ブテン酸ベンジルを得た。
【表】
実施例 ６
実施例４と同様にして以下の化合物を得た。結
果を第４表に示す。
果を第４表に示す。
【表】
実施例 ７
２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−ブテン酸ベンジル1.0ｇをジオ
キサン10mlにとかし、NaHCO3３ｇを加えて室
温でかきまぜる。これに1.5当量の塩素ガスをふ
き込み、２時間かきまぜる。実施例４と同様の後
処理を行ない２−（３−フエノキシアセトアミド
−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノ
ン−１−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジル1.0ｇ（95％）を得る。 実施例 ８ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル200mgを
エトキシエチルアセテート５mlに溶解し、氷浴で
冷却しながらかきまぜる。これに濃度0.285Mの
Cl2Ｏの四塩化炭素溶液1.21mlを10分間で滴下す
る。続いて反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出
し、無水MgSO4で乾燥、減圧下溶媒を留去する。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーを行ない分離精製すると２−（３−フエノキ
シアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメチ
ル−３−ブテン酸ベンジル202mg（95％）を得る。 実施例 ９ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブデン酸ベンジル２ｇを
エトキシエチルアセテート12mlにとかし、
NaHCO3６ｇを加え、室温でかきまぜる。これ
に濃度0.285MのCl2Ｏの四塩化炭素溶液12.1mlを
１時間かけて滴下する。続いて反応溶液に水を加
え酢酸エチルで抽出し、無水MgSO4で乾燥、減
圧下溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーを行ない分離精製する
と２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル
2.0ｇ（94％）を得る。 実施例 10 実施例９と同様の操作を以下の有機溶媒を用い
て行ない、第５表に示す収率で２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメ
チル−３−ブテン酸ベンジルを得た。
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−ブテン酸ベンジル1.0ｇをジオ
キサン10mlにとかし、NaHCO3３ｇを加えて室
温でかきまぜる。これに1.5当量の塩素ガスをふ
き込み、２時間かきまぜる。実施例４と同様の後
処理を行ない２−（３−フエノキシアセトアミド
−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノ
ン−１−イル）−３−クロロメチル−３−ブテン
酸ベンジル1.0ｇ（95％）を得る。 実施例 ８ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル200mgを
エトキシエチルアセテート５mlに溶解し、氷浴で
冷却しながらかきまぜる。これに濃度0.285Mの
Cl2Ｏの四塩化炭素溶液1.21mlを10分間で滴下す
る。続いて反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出
し、無水MgSO4で乾燥、減圧下溶媒を留去する。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーを行ない分離精製すると２−（３−フエノキ
シアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメチ
ル−３−ブテン酸ベンジル202mg（95％）を得る。 実施例 ９ ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブデン酸ベンジル２ｇを
エトキシエチルアセテート12mlにとかし、
NaHCO3６ｇを加え、室温でかきまぜる。これ
に濃度0.285MのCl2Ｏの四塩化炭素溶液12.1mlを
１時間かけて滴下する。続いて反応溶液に水を加
え酢酸エチルで抽出し、無水MgSO4で乾燥、減
圧下溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーを行ない分離精製する
と２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−クロロメチル−３−ブテン酸ベンジル
2.0ｇ（94％）を得る。 実施例 10 実施例９と同様の操作を以下の有機溶媒を用い
て行ない、第５表に示す収率で２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメ
チル−３−ブテン酸ベンジルを得た。
【表】
【表】
実施例 11
実施例９と同様にして以下の化合物を得た。結
果を第６表に示す。
果を第６表に示す。
【表】
実施例 12
２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル200mgを
ジエトキシエタン4.3mlに溶かし、氷浴で冷却し
ながらかきまぜる。これに濃度0.3MのHOClのジ
エチルエーテル溶液1.73mlを３分間で滴下する。
続いて反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出し、
無水MgSO4で乾燥、減圧下溶媒を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーを行ない分離精製すると２−（３−フエノキシ
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメチル
−３−ブテン酸ベンジル191mg（90％）を得る。 実施例 13 実施例12と同様の操作を以下の有機溶媒を用い
て行ない、第７表に示す収率で２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメ
チル−３−ブテン酸ベンジルを得た。
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル200mgを
ジエトキシエタン4.3mlに溶かし、氷浴で冷却し
ながらかきまぜる。これに濃度0.3MのHOClのジ
エチルエーテル溶液1.73mlを３分間で滴下する。
続いて反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出し、
無水MgSO4で乾燥、減圧下溶媒を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーを行ない分離精製すると２−（３−フエノキシ
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメチル
−３−ブテン酸ベンジル191mg（90％）を得る。 実施例 13 実施例12と同様の操作を以下の有機溶媒を用い
て行ない、第７表に示す収率で２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメ
チル−３−ブテン酸ベンジルを得た。
【表】
実施例 14
２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニル−２−アゼチジノン−１−イル）
−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル200mgをベ
ンゼン６mlに溶かし、室温でかきまぜながらｔ−
BuOCl 51μを加え、１時間かきまぜながら反
応させる。反応溶液に水を加えて実施例12と同様
の後処理を行ない２−（３−フエノキシアセトア
ミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチ
ジノン−１−イル）−３−クロロメチル−３−ブ
テン酸ベンジル19.2mg（90％）を得る。 実施例 15 実施例14と同様の操作を以下の有機溶媒を用い
て行ない、第８表に示す収率で２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメ
チル−３−ブテン酸ベンジルを得た。
ゼンスルホニル−２−アゼチジノン−１−イル）
−３−メチル−３−ブテン酸ベンジル200mgをベ
ンゼン６mlに溶かし、室温でかきまぜながらｔ−
BuOCl 51μを加え、１時間かきまぜながら反
応させる。反応溶液に水を加えて実施例12と同様
の後処理を行ない２−（３−フエノキシアセトア
ミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチ
ジノン−１−イル）−３−クロロメチル−３−ブ
テン酸ベンジル19.2mg（90％）を得る。 実施例 15 実施例14と同様の操作を以下の有機溶媒を用い
て行ない、第８表に示す収率で２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−クロロメ
チル−３−ブテン酸ベンジルを得た。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R1はアリール基、アリールメチル基又
はアリールオキシメチル基を示す。R2は水素原
子又はカルボン酸保護基を示す。R3はC1〜C10の
アルキル基又は置換基を有しもしくは有しないア
リール基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体を溶媒中、分子
状塩基、ｔ−BuOCl，HOCl及びCl2Ｏからなる
群から選ばれた少なくとも１種の塩素化剤と反応
させることを特徴とする一般式 〔式中、R1，R2及びR3は前記に同じ。〕 で表わされる塩素化アゼチジノン誘導体の製造方
法。 ２ 溶媒が低級ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化
水素、ジ低級アルキルエーテル、環状エーテル、
低級ジアルコキシエタン及び低級カルボン酸エス
テルからなる群から選ばれる一種類の単独溶媒又
は２種以上の混合物である特許請求の範囲第１項
に記載の方法。 ３ 溶媒がクロロホルム、ジクロルメタン、ジク
ロルエタン、四塩化炭素、ベンゼン、クロルベン
ゼン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジメト
キシエタン、１，２−ジエトキシエタン、１，２
−ジブトキシエタン、１，２−ジベンジルオキシ
エタン、１，２−ジアセトキシエタン、ギ酸エチ
ル、酢酸エチル及びエトキシエチルアセテートか
らなる群から選ばれる一種類の単独溶媒又はこれ
ら２種以上の混合物である特許請求の範囲第１項
に記載の方法。 ４ 分子状塩素を不活性有機溶媒の溶液として使
用する特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ５ 不活性有機溶媒が低級ハロゲン化炭化水素で
ある特許請求の範囲第４項に記載の方法。 ６ HOClを不活性有機溶媒の溶液として使用す
る特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ７ 不活性有機溶媒がジ低級アルキルエーテルで
ある特許請求の範囲第６項に記載の方法。 ８ Cl2Ｏを不活性有機溶媒の溶液として使用す
る特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ９ 不活性有機溶媒が四塩化炭素である特許請求
の範囲第８項に記載の方法。 １０ 使用する塩素化剤が分子状塩素であり、使
用する溶媒が疎水性有機溶媒と水との混合物であ
り、二層系で反応を行なう特許請求の範囲第１項
に記載の方法。 １１ 疎水性有機溶媒がクロロホルム、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、ベンゼン、クロルベン
ゼン及び酢酸エチルからなる群から選ばれる少な
くとも１種である特許請求の範囲第１０項に記載
の方法。 １２ 塩化水素トラツプ剤の存在下に反応を行な
う特許請求の範囲第１項〜第１１項に記載の方
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58040179A JPS59164771A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法 |
| EP84301330A EP0122002B1 (en) | 1983-03-10 | 1984-03-01 | Process for preparing azetidinone derivatives |
| DE8484301330T DE3463140D1 (de) | 1983-03-10 | 1984-03-01 | Process for preparing azetidinone derivatives |
| US07/023,970 US4789740A (en) | 1983-03-10 | 1987-03-09 | Halogenation process for preparing 2-(oxoazetidinyl)-3-chloromethyl-3-butenoate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58040179A JPS59164771A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59164771A JPS59164771A (ja) | 1984-09-17 |
| JPH059425B2 true JPH059425B2 (ja) | 1993-02-04 |
Family
ID=12573548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58040179A Granted JPS59164771A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 塩素化アゼチジノン誘導体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4789740A (ja) |
| EP (1) | EP0122002B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59164771A (ja) |
| DE (1) | DE3463140D1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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