JPH0459310B2 - - Google Patents
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- JPH0459310B2 JPH0459310B2 JP58007630A JP763083A JPH0459310B2 JP H0459310 B2 JPH0459310 B2 JP H0459310B2 JP 58007630 A JP58007630 A JP 58007630A JP 763083 A JP763083 A JP 763083A JP H0459310 B2 JPH0459310 B2 JP H0459310B2
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- Japan
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- substituted
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- general formula
- acid
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/09—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4
- C07D205/095—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4 and with a nitrogen atom directly attached in position 3
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
本発明は、アゼチジノン誘導体の製造法、更に
詳しくは一般式 〔式中、R1は置換もしくは置換基を有しない
アリール基、置換もしくは置換基を有しないフエ
ニルメチル基又は置換もしくは置換基を有しない
フエノキシメチル基を示し、R2は水素原子もし
くはカルボン酸保護基を示し、Arは置換もしく
は置換基を有しないフエニル基を示す。〕で表わ
されるアゼチジノン誘導体の製造法に関する。 本発明で製造される一般式(3)のアゼチジノン誘
導体は、セフアロスポリン系抗生物質の重要な合
成中間体であり、例えば本発明者らの方法
〔Tetrahedron Letters1982，23，2187〕によれ
ば、次の反応式(A)に示す如く、セフアロスポリン
誘導体に変換できる。 従来、上記一般式(3)で表わされるチアゾリン誘
導体は、例えば下記反応式Ｂ〔J.Gosteli，
Chimia，30，13（1976）参照〕，反応式Ｃ〔R.D.
Allan，D.H.R.Barton，M.Girixavallabhan
and P.G.Sammes，J.Chem.Soc.，Perkin Ｉ，
1456（1974）参照〕で表わされる方法などで合成
されている。 しかしながら、上記従来法には、多量の高価な
銀化合物が必要である点、アゼチジノンＮ−置換
基のオレフインの異性化を伴い副生成物が多量に
生成する点などの欠点があるため、目的のアゼチ
ジノン誘導体(3)（反応式Ｂ及びＣ中、ｂで示す化
合物）を安価に且つより簡便に製造する方法の開
発が待たれているのが現状である。 本発明の目的は、上記欠点を有さない一般式(3)
で表わされるアゼチジノン誘導体の新規な製造法
を提供することにある。 即ち本発明は、酸の存在下含水有機溶媒中に
て、一般式 〔式中、R1は置換もしくは置換基を有しない
アリール基、置換もしくは置換基を有しないフエ
ニルメチル基又は置換もしくは置換基を有しない
フエノキシメチル基を示し、R2は水素原子又は
カルボン酸保護基を示す。〕 で表わされるチアゾリンアゼチジノン誘導体と一
般式 Ar−SO2−Br (2) 〔式中、Arは置換もしくは置換基を有しない
フエニル基を示す。〕 で表わされるスルホニルブロミドとを反応させて
一般式 〔式中、R1、R2及びArは前記に同じ。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特
徴とするアゼチジノン誘導体の製造法に係る。 本発明の方法によれば、銀化合物は必要なく、
しかも生成物はオレフインの位置異性体（反応式
中ｄで示す化合物）を全く含有しない単一生成物
として目的の化合物(3)が好純度で製造される。ま
た、本発明に供する出発物質(1)は、下式に示す如
くペニシリン−Ｓ−オキシド(4)から既報の方法
〔R.D.G.Cooper and F.L.Jase，J.Am.Chem.
Soc.，92，2575（1970）〕により容易に入手できる
化合物であり、従つて目的化合物(3)を安価に製造
できるという利点をも有する。 〔式中、R1は低級アルキル基を示す。R1は前
記に同じ。〕 本発明に用いられるチアゾリンアゼチジノン誘
導体(1)において、R1及びR2としては特に限定さ
れないが、通常のペニシリン−セフアロスポリン
変換で汎用されるアミノ基あるいはカルボン酸の
保護基が用いられる。R1の具体例としては、例
えばフエニル基、パラニトロフエニル基、パラク
ロルフエニル基等の置換もしくは置換基を有しな
いアリール基、フエニルメチル基、パラニトロフ
エニルメチル基、パラクロルフエニルメチル基、
ジフエニルメチル基、フエニルジクロルメチル
基、フエニルヒドロキシメチル基等の置換もしく
は置換基を有しないフエニルメチル基、フエノキ
シメチル基、パラクロルフエノキシメチル基、パ
ラメトキシフエノキシメチル基等の置換もしくは
置換基を有しないフエノキシメチル基などを挙げ
ることができる。R2で表わされるカルボン酸保
護基としては、Theodora W.Greeneによる
“Protective Groups in Organic Synthesis”第
５章記載の保護基が使用できる。斯かるカルボン
酸保護基の具体例としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、tert−ブチル、トリクロロエチ
ル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、
ｉ−プロポキシメチル、１−メトキシカルボニル
−２−オキソプロプル、ベンジル、ｏ−ニトロベ
ンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ，ｐ−ジニトロ
ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、トリメトキシ
ベンジル、トリメトキシジクロルベンジル、ピペ
ロニル、ジフエニルメチル、ビス（ｐ−メトキシ
フエニル）メチル、ジトリルメチル、フエニル−
ｐ−メトキシフエニルメチル、フエナシル、ｐ−
ブロモフエナシル、ベンジルオキシメチル、トリ
チル、α−ジフエニルエチル、α−ｐ−メトキシ
フエニルエチル、α−ｐ−メトキシフエニル−β
−トリクロロエチル、クミル、フローレニル基等
を挙げることができる。 本発明に用いられる一般式 Ar−SO2−Br (2) で表わされるスルホニルブロミドのAr基の具体
例としては、例えばフエニル基、パラメチルフエ
ニル基、パラクロロフエニル基、パラニトロフエ
ニル基、パラメトキシフエニル基、２，４−ジニ
トロフエニル基等置換もしくは置換基を有しない
フエニル基などが挙げられる。 本発明の方法は、チアゾリンアゼチジノン誘導
体(1)を有機溶媒中に溶かし１モル／〜0.01モ
ル／の溶液を調製し、これに酸の水溶液とスル
ホニルブロミド(2)を加えて反応させる。反応温度
および反応時間は用いるチアゾリンアゼチジノン
誘導体(1)およびスルホニルブロミド(2)の種類並び
に用いる酸や溶媒の種類により一定しないが、反
応温度−20〜50℃、好ましくは０〜20℃で行なわ
れ、通常10分〜２時間で反応は完結する。本反応
は、酸とスルホニルブロミド(2)を同時に加えて行
うこともできるが、まず酸を添加してから５分〜
５時間反応させ、つづいてスルホニルブロミド(2)
を加えて反応させることもできる。スルホニルブ
ロミド(2)は、チアゾリンアゼチジノン誘導体(1)に
対して通常1.0〜５倍モル好ましくは1.0〜1.2倍モ
ル用いられる。添加される酸としては、例えば塩
酸、硫酸、硝酸、過塩素酸などの鉱酸、酢酸、ギ
酸、トリフロロ酢酸などの有機酸が用いられる
が、好ましくは１〜20％塩酸水溶液あるいは１〜
20％過塩素酸水溶液が用いられる。酸の添加量と
しては、通常チアゾリンアゼチジノン誘導体(1)に
対して0.1〜10倍モル、好ましくは1.0〜1.5倍モル
である。 用いる有機溶媒は、親水性有機溶媒単独あるい
は親水性有機溶媒を少なくとも一種以上含む混合
溶媒が用いられる。具体例としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アル
コール類、アセトン、エチルメチルケトン等のケ
トン類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニ
トリル類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、ニトロメタン、ニトロエタン等の低級ニト
ロパラフイン類などが単独、もしくは混合溶媒の
主溶媒として用いられる。また、ジクロルメタ
ン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ベンゼン、クロルベンゼン、酢酸エチ
ル、ギ酸エチルなどの疎水性有機溶媒が上記親水
性溶媒との混合溶媒として用いられる。 斯くして製造される本発明の化合物は慣用の分
離手段により容易に単離精製される。 以下に実施例を挙げる。 実施例 １ ベンジル２−（３−フエノキシメチル−７−オ
キソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−メ
チル−３−ブテノアート（1a）403mg
（0.95mmol）を秤りとり、メタノール12mlを加え
て均一溶液とする。これに氷冷下1N−HCl1.1ml
を加え、つづいて10〜15℃で４時間かきまぜる。
つぎに、ベンゼンスルホニルブロミド232mg
（1.05mmol）を加え10〜15℃でさらに30分かきま
ぜる。反応混合物は飽和食塩水を加え、酢酸エチ
ル（30ml）で２回抽出する。抽出液は一つにまと
め、飽和食塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥した
のち、減圧下濃縮する。残留物はシリカゲルカラ
ム上ベンゼン−酢酸エチル（９：１）混合溶媒で
展開して精製すると、ベンジル２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−
３−ブチノアート（3a）514mg、収率93％を得
た。得られた化合物（3a）のスペクトルデータ
ーは表に示す。 実施例 ２〜７ 表に示した溶媒以外は実施例１と同様に行つ
た。
詳しくは一般式 〔式中、R1は置換もしくは置換基を有しない
アリール基、置換もしくは置換基を有しないフエ
ニルメチル基又は置換もしくは置換基を有しない
フエノキシメチル基を示し、R2は水素原子もし
くはカルボン酸保護基を示し、Arは置換もしく
は置換基を有しないフエニル基を示す。〕で表わ
されるアゼチジノン誘導体の製造法に関する。 本発明で製造される一般式(3)のアゼチジノン誘
導体は、セフアロスポリン系抗生物質の重要な合
成中間体であり、例えば本発明者らの方法
〔Tetrahedron Letters1982，23，2187〕によれ
ば、次の反応式(A)に示す如く、セフアロスポリン
誘導体に変換できる。 従来、上記一般式(3)で表わされるチアゾリン誘
導体は、例えば下記反応式Ｂ〔J.Gosteli，
Chimia，30，13（1976）参照〕，反応式Ｃ〔R.D.
Allan，D.H.R.Barton，M.Girixavallabhan
and P.G.Sammes，J.Chem.Soc.，Perkin Ｉ，
1456（1974）参照〕で表わされる方法などで合成
されている。 しかしながら、上記従来法には、多量の高価な
銀化合物が必要である点、アゼチジノンＮ−置換
基のオレフインの異性化を伴い副生成物が多量に
生成する点などの欠点があるため、目的のアゼチ
ジノン誘導体(3)（反応式Ｂ及びＣ中、ｂで示す化
合物）を安価に且つより簡便に製造する方法の開
発が待たれているのが現状である。 本発明の目的は、上記欠点を有さない一般式(3)
で表わされるアゼチジノン誘導体の新規な製造法
を提供することにある。 即ち本発明は、酸の存在下含水有機溶媒中に
て、一般式 〔式中、R1は置換もしくは置換基を有しない
アリール基、置換もしくは置換基を有しないフエ
ニルメチル基又は置換もしくは置換基を有しない
フエノキシメチル基を示し、R2は水素原子又は
カルボン酸保護基を示す。〕 で表わされるチアゾリンアゼチジノン誘導体と一
般式 Ar−SO2−Br (2) 〔式中、Arは置換もしくは置換基を有しない
フエニル基を示す。〕 で表わされるスルホニルブロミドとを反応させて
一般式 〔式中、R1、R2及びArは前記に同じ。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特
徴とするアゼチジノン誘導体の製造法に係る。 本発明の方法によれば、銀化合物は必要なく、
しかも生成物はオレフインの位置異性体（反応式
中ｄで示す化合物）を全く含有しない単一生成物
として目的の化合物(3)が好純度で製造される。ま
た、本発明に供する出発物質(1)は、下式に示す如
くペニシリン−Ｓ−オキシド(4)から既報の方法
〔R.D.G.Cooper and F.L.Jase，J.Am.Chem.
Soc.，92，2575（1970）〕により容易に入手できる
化合物であり、従つて目的化合物(3)を安価に製造
できるという利点をも有する。 〔式中、R1は低級アルキル基を示す。R1は前
記に同じ。〕 本発明に用いられるチアゾリンアゼチジノン誘
導体(1)において、R1及びR2としては特に限定さ
れないが、通常のペニシリン−セフアロスポリン
変換で汎用されるアミノ基あるいはカルボン酸の
保護基が用いられる。R1の具体例としては、例
えばフエニル基、パラニトロフエニル基、パラク
ロルフエニル基等の置換もしくは置換基を有しな
いアリール基、フエニルメチル基、パラニトロフ
エニルメチル基、パラクロルフエニルメチル基、
ジフエニルメチル基、フエニルジクロルメチル
基、フエニルヒドロキシメチル基等の置換もしく
は置換基を有しないフエニルメチル基、フエノキ
シメチル基、パラクロルフエノキシメチル基、パ
ラメトキシフエノキシメチル基等の置換もしくは
置換基を有しないフエノキシメチル基などを挙げ
ることができる。R2で表わされるカルボン酸保
護基としては、Theodora W.Greeneによる
“Protective Groups in Organic Synthesis”第
５章記載の保護基が使用できる。斯かるカルボン
酸保護基の具体例としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、tert−ブチル、トリクロロエチ
ル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、
ｉ−プロポキシメチル、１−メトキシカルボニル
−２−オキソプロプル、ベンジル、ｏ−ニトロベ
ンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ，ｐ−ジニトロ
ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、トリメトキシ
ベンジル、トリメトキシジクロルベンジル、ピペ
ロニル、ジフエニルメチル、ビス（ｐ−メトキシ
フエニル）メチル、ジトリルメチル、フエニル−
ｐ−メトキシフエニルメチル、フエナシル、ｐ−
ブロモフエナシル、ベンジルオキシメチル、トリ
チル、α−ジフエニルエチル、α−ｐ−メトキシ
フエニルエチル、α−ｐ−メトキシフエニル−β
−トリクロロエチル、クミル、フローレニル基等
を挙げることができる。 本発明に用いられる一般式 Ar−SO2−Br (2) で表わされるスルホニルブロミドのAr基の具体
例としては、例えばフエニル基、パラメチルフエ
ニル基、パラクロロフエニル基、パラニトロフエ
ニル基、パラメトキシフエニル基、２，４−ジニ
トロフエニル基等置換もしくは置換基を有しない
フエニル基などが挙げられる。 本発明の方法は、チアゾリンアゼチジノン誘導
体(1)を有機溶媒中に溶かし１モル／〜0.01モ
ル／の溶液を調製し、これに酸の水溶液とスル
ホニルブロミド(2)を加えて反応させる。反応温度
および反応時間は用いるチアゾリンアゼチジノン
誘導体(1)およびスルホニルブロミド(2)の種類並び
に用いる酸や溶媒の種類により一定しないが、反
応温度−20〜50℃、好ましくは０〜20℃で行なわ
れ、通常10分〜２時間で反応は完結する。本反応
は、酸とスルホニルブロミド(2)を同時に加えて行
うこともできるが、まず酸を添加してから５分〜
５時間反応させ、つづいてスルホニルブロミド(2)
を加えて反応させることもできる。スルホニルブ
ロミド(2)は、チアゾリンアゼチジノン誘導体(1)に
対して通常1.0〜５倍モル好ましくは1.0〜1.2倍モ
ル用いられる。添加される酸としては、例えば塩
酸、硫酸、硝酸、過塩素酸などの鉱酸、酢酸、ギ
酸、トリフロロ酢酸などの有機酸が用いられる
が、好ましくは１〜20％塩酸水溶液あるいは１〜
20％過塩素酸水溶液が用いられる。酸の添加量と
しては、通常チアゾリンアゼチジノン誘導体(1)に
対して0.1〜10倍モル、好ましくは1.0〜1.5倍モル
である。 用いる有機溶媒は、親水性有機溶媒単独あるい
は親水性有機溶媒を少なくとも一種以上含む混合
溶媒が用いられる。具体例としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アル
コール類、アセトン、エチルメチルケトン等のケ
トン類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニ
トリル類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、ニトロメタン、ニトロエタン等の低級ニト
ロパラフイン類などが単独、もしくは混合溶媒の
主溶媒として用いられる。また、ジクロルメタ
ン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ベンゼン、クロルベンゼン、酢酸エチ
ル、ギ酸エチルなどの疎水性有機溶媒が上記親水
性溶媒との混合溶媒として用いられる。 斯くして製造される本発明の化合物は慣用の分
離手段により容易に単離精製される。 以下に実施例を挙げる。 実施例 １ ベンジル２−（３−フエノキシメチル−７−オ
キソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−メ
チル−３−ブテノアート（1a）403mg
（0.95mmol）を秤りとり、メタノール12mlを加え
て均一溶液とする。これに氷冷下1N−HCl1.1ml
を加え、つづいて10〜15℃で４時間かきまぜる。
つぎに、ベンゼンスルホニルブロミド232mg
（1.05mmol）を加え10〜15℃でさらに30分かきま
ぜる。反応混合物は飽和食塩水を加え、酢酸エチ
ル（30ml）で２回抽出する。抽出液は一つにまと
め、飽和食塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥した
のち、減圧下濃縮する。残留物はシリカゲルカラ
ム上ベンゼン−酢酸エチル（９：１）混合溶媒で
展開して精製すると、ベンジル２−（３−フエノ
キシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−
３−ブチノアート（3a）514mg、収率93％を得
た。得られた化合物（3a）のスペクトルデータ
ーは表に示す。 実施例 ２〜７ 表に示した溶媒以外は実施例１と同様に行つ
た。
【表】
実施例 ８
ベンジル２−（３−フエノキシメチル−７−オ
キソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−メ
チル−３−ブテノアート（1a）347mg
（0.82mmol）をメタノール10mlに溶かし均一溶液
とする。これに氷冷下1N−HCl1mlとベンゼンス
ルホニルブロミド232mg（1.05mmol）とを同時に
加え、つづいて10〜15℃で4.5時間かきまぜる。
反応混合物は実施例１と同様に処理するとベンジ
ル２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテノアート（3a）373
mg、収率78％を得た。 生成物のスペクトルデーターは実施例１で得た
標品と完全に一致した。 実施例 ９〜21 表に示したチアゾリンアゼチジノン誘導体
(1)、アリールスルホニルブロミド(2)、溶媒及び酸
以外の条件は実施例１の方法と同様に行つた。生
成物３のスペクトルデーターは表にまとめて示
す。
キソ−４−チア−２，６−ジアザビシクロ〔３，
２，０〕ヘプト−２−エン−６−イル）−３−メ
チル−３−ブテノアート（1a）347mg
（0.82mmol）をメタノール10mlに溶かし均一溶液
とする。これに氷冷下1N−HCl1mlとベンゼンス
ルホニルブロミド232mg（1.05mmol）とを同時に
加え、つづいて10〜15℃で4.5時間かきまぜる。
反応混合物は実施例１と同様に処理するとベンジ
ル２−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテノアート（3a）373
mg、収率78％を得た。 生成物のスペクトルデーターは実施例１で得た
標品と完全に一致した。 実施例 ９〜21 表に示したチアゾリンアゼチジノン誘導体
(1)、アリールスルホニルブロミド(2)、溶媒及び酸
以外の条件は実施例１の方法と同様に行つた。生
成物３のスペクトルデーターは表にまとめて示
す。
【表】
【表】
【表】
【表】
実施例 22
ｐ−メトキシベンジル−２−（３−フエノキシ
メチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザ
ビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−メチルブテノアート400mgをメタノー
ル12mlに溶解し、均一溶液とする。これに氷冷下
1N−HCl1.1mlを加え、次いで10〜15℃で４時間
撹拌する。次に、ベンゼンスルホニルブロミド
210mgを加え10〜15℃でさらに30分撹拌する。 反応混合物に飽和食塩水を加え、酢酸エチル
（30ml）で２回抽出する。 抽出液は一つにまとめ、飽和食塩水で洗浄し、
MgSO4上で乾燥したのち、減圧下濃縮する。 残留物をシリカゲルカラム上ベンゼン−酢酸エ
チル（９：１）混合溶媒で展開して精製すると、
ｐ−メトキシベンジル−２−（３−フエノキシア
セトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−
アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブ
テノアート480mg、収率89％を得た。 得られた化合物のNMRデーターを以下に示
す。 NMR（δ，Ｊ＝Hz） 1.76（ｓ，3H）、3.77（ｓ，3H）、4.34and4.40
（ABq，2H，Ｊ＝12.0）、4.53（ｓ，1H）、4.76
（ｓ，1H）、4.79（bs，1H）5.07（ｓ，2H）5.27
（dd，1H，Ｊ＝4.0and6.5）、5.86（ｄ，1H，Ｊ＝
4.0）、6.65−7.90（ｍ，15H） 実施例 23〜27 対応する出発原料を用い、実施例22と同様の処
理を行なつて下記表に示す化合物を得た。
メチル−７−オキソ−４−チア−２，６−ジアザ
ビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−エン−６−
イル）−３−メチルブテノアート400mgをメタノー
ル12mlに溶解し、均一溶液とする。これに氷冷下
1N−HCl1.1mlを加え、次いで10〜15℃で４時間
撹拌する。次に、ベンゼンスルホニルブロミド
210mgを加え10〜15℃でさらに30分撹拌する。 反応混合物に飽和食塩水を加え、酢酸エチル
（30ml）で２回抽出する。 抽出液は一つにまとめ、飽和食塩水で洗浄し、
MgSO4上で乾燥したのち、減圧下濃縮する。 残留物をシリカゲルカラム上ベンゼン−酢酸エ
チル（９：１）混合溶媒で展開して精製すると、
ｐ−メトキシベンジル−２−（３−フエノキシア
セトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−
アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブ
テノアート480mg、収率89％を得た。 得られた化合物のNMRデーターを以下に示
す。 NMR（δ，Ｊ＝Hz） 1.76（ｓ，3H）、3.77（ｓ，3H）、4.34and4.40
（ABq，2H，Ｊ＝12.0）、4.53（ｓ，1H）、4.76
（ｓ，1H）、4.79（bs，1H）5.07（ｓ，2H）5.27
（dd，1H，Ｊ＝4.0and6.5）、5.86（ｄ，1H，Ｊ＝
4.0）、6.65−7.90（ｍ，15H） 実施例 23〜27 対応する出発原料を用い、実施例22と同様の処
理を行なつて下記表に示す化合物を得た。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 酸の存在下含水有機溶媒中にて、一般式 〔式中、R1は置換もしくは置換基を有しない
アリール基、置換もしくは置換基を有しないフエ
ニルメチル基又は置換もしくは置換基を有しない
フエノキシメチル基を示し、R2は水素原子又は
カルボン酸保護基を示す。〕 で表わされるチアゾリンアゼチジノン誘導体と一
般式 Ar−SO2−Br (2) 〔式中、Arは置換もしくは置換基を有しない
フエニル基を示す。〕 で表わされるスルホニルブロミドとを反応させて
一般式 〔式中、R1、R2及びArは前記に同じ。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特
徴とするアゼチジノン誘導体の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58007630A JPS59134779A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
| US06/567,736 US4566996A (en) | 1983-01-19 | 1984-01-03 | Process for preparing azetidinone derivatives |
| EP84300166A EP0114729B1 (en) | 1983-01-19 | 1984-01-11 | Process for preparing azetidinone derivatives |
| DE8484300166T DE3465987D1 (de) | 1983-01-19 | 1984-01-11 | Process for preparing azetidinone derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58007630A JPS59134779A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59134779A JPS59134779A (ja) | 1984-08-02 |
| JPH0459310B2 true JPH0459310B2 (ja) | 1992-09-21 |
Family
ID=11671148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58007630A Granted JPS59134779A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4566996A (ja) |
| EP (1) | EP0114729B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59134779A (ja) |
| DE (1) | DE3465987D1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5206361A (en) * | 1990-03-08 | 1993-04-27 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Thiazolinoazetidinone derivative |
| JP2993576B2 (ja) * | 1991-03-11 | 1999-12-20 | 大塚化学株式会社 | アレニルβ−ラクタム化合物及びその製造法 |
| US7507812B2 (en) | 2003-09-09 | 2009-03-24 | Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. | Process for producing 3-chloromethyl-3-cephem derivatives |
| CN102140103A (zh) * | 2011-01-24 | 2011-08-03 | 石家庄柏奇化工有限公司 | 以青霉素g/k为原料制备7-氨基-3-氢头孢烷酸的方法 |
| CN105777780B (zh) * | 2015-10-10 | 2018-04-03 | 浙江沙星科技有限公司 | 一种噻唑啉烯醇酯的制备方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE794659A (fr) * | 1972-01-28 | 1973-07-30 | Glaxo Lab Ltd | Procede de preparation de composes intermediaires pour l'obtention d'antibiotiques de type beta-lactame |
| AT350066B (de) * | 1974-02-26 | 1979-05-10 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur herstellung von neuen 3-hydroxycrotonsaeureazetidinderivaten und deren salzen |
| US4332722A (en) * | 1975-02-17 | 1982-06-01 | Shionogi & Co., Ltd. | Cyclization to form cephem ring and intermediates therefor |
| AT342197B (de) * | 1975-02-20 | 1978-03-28 | Ciba Geigy Ag | Neues verfahren zur herstellung von 3-cephemverbindungen |
| DE3265390D1 (en) * | 1981-05-19 | 1985-09-19 | Ciba Geigy Ag | Process for the preparation of 4-thio-azetidinone compounds |
-
1983
- 1983-01-19 JP JP58007630A patent/JPS59134779A/ja active Granted
-
1984
- 1984-01-03 US US06/567,736 patent/US4566996A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-01-11 EP EP84300166A patent/EP0114729B1/en not_active Expired
- 1984-01-11 DE DE8484300166T patent/DE3465987D1/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3465987D1 (de) | 1987-10-15 |
| JPS59134779A (ja) | 1984-08-02 |
| EP0114729A1 (en) | 1984-08-01 |
| EP0114729B1 (en) | 1987-09-09 |
| US4566996A (en) | 1986-01-28 |
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