JPH0594933U - 半導体圧力スイッチ - Google Patents

半導体圧力スイッチ

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JPH0594933U
JPH0594933U JP3640292U JP3640292U JPH0594933U JP H0594933 U JPH0594933 U JP H0594933U JP 3640292 U JP3640292 U JP 3640292U JP 3640292 U JP3640292 U JP 3640292U JP H0594933 U JPH0594933 U JP H0594933U
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JP
Japan
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switch
output circuit
signal output
diaphragm
pressure
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Pending
Application number
JP3640292U
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English (en)
Inventor
修 小関
朋之 吉野
Original Assignee
セイコー電子工業株式会社
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 加圧されスイッチがonしたときの抵抗値を
小さくする。 【構成】 受圧ダイヤフラムおよび凹部2を有するシリ
コン基板1とガラス基板9とを接合することにより前記
凹部2を大気から遮断して間隙を形成し、該間隙の内側
に形成したダイヤフラム上の接点電極6とガラス基板上
の基準電極10から構成されるスイッチ部を有し、大気
側からの圧力によって前記ダイヤフラムを歪ませてスイ
ッチ部を動作させる圧力スイッチにおいて、前記スイッ
チ部と、このスイッチ部からの信号を受けて通電制御を
行う信号出力回路部12とを前記シリコン基板上に形成
し、前記スイッチ部がONのとき信号出力回路12が通
電し、OFFのとき信号出力回路12が通電しない。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、低抵抗化を目的とした半導体圧力スイッチの構造に関するものであ る。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体圧力スイッチを図4(平面図)、図5(断面図)に沿って説明す る。1はN型のシリコン基板であり、2はプラズマエッチング装置によって前記 シリコン基板1を約3μmエッチングした凹部で、該凹部と逆側にエッチングに よって厚み約20μmの肉薄となったダイヤフラム11が形成されている。3は ボロンのイオン注入によって拡散されたボロン電極である。凹部2上の配線電極 の下地の絶縁膜として酸化膜4が成膜されており、この酸化膜4上にLPCVD によって成膜された多結晶シリコンの凸部5が形成されており、凸部5上にスパ ッタによって成膜された約20μmのAu,Crの接点電極6が形成され、ボロ ン電極3に接続されている。7、8はAlのボンディングパッドである。
【0003】 一方のガラス基板9にはスパッタによって形成されたAu、Crの基準電極1 0である。この基準電極10を形成したガラス基板9とシリコン基板1は接点電 極6と基準電極10が向かい合うようにセットされ、陽極接合によって凹部2内 と大気側を密閉封止され接着されている構造である。この従来の半導体圧力スイ ッチを加圧容器にいれ約2kg/cm2加圧し、ダイヤフラム11上の接点電極6と基 準電極10が接触し、ボンディングパッド7、8の抵抗値は約800Ωであった 。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
しかし、従来の半導体圧力スイッチでも一応圧力の検出はできるが、2つのボ ンディングの抵抗はボロン電極、接点電極、基準電極等の抵抗値の合計なので、 スイッチのon時の抵抗が高いという課題があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本考案は、上記のような課題を解決するため、圧力を検知するためのスイッチ 部に加え、スイッチ部の信号によって通電したりしなかったりするようなMOS トランジスタ等を含んでいるスイッチング機能をもつ信号出力回路部を同一シリ コン基板上に形成する。
【0006】
【作用】
抵抗値の非常に小さいスイッチング機能をもつ信号出力回路部の出力を検出で きるので、スイッチのon時の抵抗値の小さい半導体圧力スイッチが製作できる 。また、MOSトランジスタ等の必要な部品を同一シリコン基板に形成できるた め手間がなくなり、しかも小型化も可能である。
【0007】
【実施例】
本考案の半導体圧力スイッチについて図1(平面図)図2(断面図)に沿って 説明する。1は厚み525μm、外径サイズ2.5×2.0mmのN型のシリコ ン基板であり、2はプラズマエッチング装置によって約3μmエッチングされた 凹部であり、この凹部2と逆側に異方性エッチングによって形成された厚み約2 0μmの肉薄となったダイヤフラム11が形成され、ダイヤフラム11は圧力の 変化によって凹部2の大きさだけ歪むようになっている。3、13はボロンのイ オン注入によって拡散されたボロン電極である。凹部2上の配線電極の下地の絶 縁膜として酸化膜4が成膜されており、この酸化膜4上にLPCVDによって成 膜された多結晶シリコンの凸部5が形成されており、凸部5上にスパッタによっ て成膜された約20μmのAu,Crの接点電極6が形成され、7、8はAlの ボンディングパッドである。12はMOSトランジスタ14、抵抗15を形成し た信号出力回路であり、より抵抗値を小さくするためボンディングパッド7、8 と信号出力回路12は、本実施例では30μmの近距離の配置させてある。
【0008】 一方のガラス基板9にはスパッタによって形成されたAu、Crの基準電極1 0である。この基準電極10を形成したガラス基板9とシリコン基板1は接点電 極6と基準電極10が向かい合うようにセットされ、陽極接合によって凹部2内 と大気側を密閉封止され接着されている構造である。 次に、信号出力回路12および本考案の使用の一実施例を図3(回路図)に沿 って説明する。信号出力回路はMOSトランジスタと1MΩの抵抗15が集積化 されている回路で、MOSトランジスタ14のゲートはダイヤフラム11上の接 点電極6に接続されており、ソース、ドレインはそれぞれボンディング7、8に 接続されている。圧力が印加されダイヤフラム11が歪み接点電極6と基準電極 10が接触してスイッチ部がonになった場合、つまり、ゲートに電圧がかかっ た場合、ソースからドレインに電流が流れるようになっている。
【0009】 この半導体圧力スイッチを加圧容器に入れ、ボンディングパッド7、8間の抵 抗値を測定したところ、2.0kg/cm2になったところで約100MΩの抵抗が3 Ωになった。このように、従来800Ωであった抵抗が3Ωになり、この考案の 効果は顕著である。 尚、本考案ではN型シリコン基板を用いたが、P型のシリコン基板を用いても よい。また、信号出力回路はMOSトランジスタを用いたが、他のスイッチング 素子を用いてもよく、また1MΩの抵抗を用いたが、条件に応じて他の抵抗値で もよい。
【0010】
【考案の効果】
この考案は、抵抗値の非常に小さいスイッチング機能をもつ信号出力回路部の 出力を検出できるので、スイッチのon時の抵抗値の小さい半導体圧力スイッチ が製作できた。また、MOSトランジスタ等の必要な部品を同一シリコン基板に 形成しているため小型の半導体圧力スイッチの製作ができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の半導体圧力スイッチの平面図である。
【図2】本考案の半導体圧力スイッチの断面図である。
【図3】本考案の一実施例の回路図である。
【図4】従来の半導体圧力スイッチの平面図である。
【図5】従来の半導体圧力スイッチの断面図である。
【符号の説明】
1 シリコン基板 2 凹部 3 ボロン電極 7、8 ボンディングパッド 9 ガラス基板 10 基準電極 12 信号出力回路 14 MOSトランジスタ 15 抵抗

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 受圧ダイヤフラムおよび凹部を有するシ
    リコン基板とガラス基板とを接合することにより前記凹
    部を大気から遮断して間隙を形成し、該間隙の内側に形
    成したダイヤフラム上の接点電極とガラス基板上の基準
    電極から構成されるスイッチ部を有し、大気側からの圧
    力によって前記ダイヤフラムを歪ませてスイッチ部を動
    作させる圧力スイッチにおいて、前記スイッチ部と、こ
    のスイッチ部からの信号を受けて通電制御を行うMOS
    トランジスタ素子等を有する信号出力回路部とを前記シ
    リコン基板上に形成し、前記スイッチ部がONのとき信
    号出力回路が通電し、OFFのとき信号出力回路が通電
    しないことを特徴とする半導体圧力スイッチ。
JP3640292U 1992-05-29 1992-05-29 半導体圧力スイッチ Pending JPH0594933U (ja)

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