JPH0595145A - 固体レーザ装置 - Google Patents
固体レーザ装置Info
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- JPH0595145A JPH0595145A JP25347391A JP25347391A JPH0595145A JP H0595145 A JPH0595145 A JP H0595145A JP 25347391 A JP25347391 A JP 25347391A JP 25347391 A JP25347391 A JP 25347391A JP H0595145 A JPH0595145 A JP H0595145A
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- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 10
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims 1
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高効率で、部品点数が少なく、小型の和周波
発生レーザを提供することを目的としている。 【構成】 半導体レーザ20と、励起光によって励起す
るレーザロット40と、このレーザロット40および非
線形光学素子30を含む光共振器とを有する固体レーザ
装置であって、前記レーザロット40および非線形光学
素子30は、それぞれ、光軸に対して垂直に配置される
2つの端面40a,40b、30a、30bを備え、こ
れらの端面の少なくともレンズの湾曲面としての非平面
部の加工を行い、励起光を共振器内に集束させるように
構成した。
発生レーザを提供することを目的としている。 【構成】 半導体レーザ20と、励起光によって励起す
るレーザロット40と、このレーザロット40および非
線形光学素子30を含む光共振器とを有する固体レーザ
装置であって、前記レーザロット40および非線形光学
素子30は、それぞれ、光軸に対して垂直に配置される
2つの端面40a,40b、30a、30bを備え、こ
れらの端面の少なくともレンズの湾曲面としての非平面
部の加工を行い、励起光を共振器内に集束させるように
構成した。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザからの出
力光によりレーザ媒質を励起させ、当該レーザ媒質から
レーザ光を発振せしめる固体レーザの装置に関する。
力光によりレーザ媒質を励起させ、当該レーザ媒質から
レーザ光を発振せしめる固体レーザの装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の固体レーザ装置としての和周波発
生レーザ装置の一例が図2に示される。図2に示される
ように該装置は、光軸50上に配置されたレーザ媒質と
してのNd:YAG結晶54を含む光共振器52と、こ
の光共振器52の手前に位置し、コリメート光学系を含
む励起レーザ(以下、単に励起用LDと略す)56と、
偏光ビームスプリッタ(以下、単にPBSと略す)60
と、集光レンズ系62と、光軸50と垂直にPBS60
内で交差する光軸70上に配置されたコリメート光学系
を含む基本波供給用半導体レーザ(以下、基本波用LD
と略す)58を備えている。ここで前記光共振器は52
は、入力ミラー66と出力ミラー68と、Nd:YAG
結晶54によって形成されており、この結晶54と入力
ミラー66との間に、非線形光学素子としてKTP(K
TiOPO4 )結晶64が介在される。
生レーザ装置の一例が図2に示される。図2に示される
ように該装置は、光軸50上に配置されたレーザ媒質と
してのNd:YAG結晶54を含む光共振器52と、こ
の光共振器52の手前に位置し、コリメート光学系を含
む励起レーザ(以下、単に励起用LDと略す)56と、
偏光ビームスプリッタ(以下、単にPBSと略す)60
と、集光レンズ系62と、光軸50と垂直にPBS60
内で交差する光軸70上に配置されたコリメート光学系
を含む基本波供給用半導体レーザ(以下、基本波用LD
と略す)58を備えている。ここで前記光共振器は52
は、入力ミラー66と出力ミラー68と、Nd:YAG
結晶54によって形成されており、この結晶54と入力
ミラー66との間に、非線形光学素子としてKTP(K
TiOPO4 )結晶64が介在される。
【0003】この装置において、和周波は後述する過程
に従って発生する。すなわち、まず、励起用LD56か
らの出力光201は、PBS60を透過し、集光レンズ
系62で集光される。その後、このビームは入力ミラー
66、KTP64を透過し、Nd:YAG結晶54に入
射し、吸収される。この入射光によって励起されたN
d:YAG結晶54は、誘導放出により、共振器内に定
在波203を生ずる。ここで、誘導放出による定在波2
03は、ランダムな偏光を持ち、直線偏光とはなってい
ない。他方、基本波用LD58からの出力光202は、
出力光201と垂直の偏光方向(s偏光)を持ち、PB
S60で反射され、KTP64に入射する。誘導放出に
よる定在波203が第1基本波、基本波用LD56の出
力光202が第2基本波となり、この二つの基本波は、
KTP64内で混合され、和周波204が発生する。た
だし、誘導放出による定在波203のうち第1基本波と
して和周波混合に利用されるのは、基本波用LDの出力
光202に対して垂直な偏光成分(p偏光)のみであ
る。和周波混合される第1基本波203、第2基本波2
02および和周波204のKTPの結晶軸に対する偏光
方向は、図3に示される。KTP64内で発生した和周
波204は出力ミラー68を透過して出力される。この
和周波の波長は、誘導放出による定在波203の波長が
1064nmで、基本波用LDの波長が808nmの場
合、459nmであり、青色となる。
に従って発生する。すなわち、まず、励起用LD56か
らの出力光201は、PBS60を透過し、集光レンズ
系62で集光される。その後、このビームは入力ミラー
66、KTP64を透過し、Nd:YAG結晶54に入
射し、吸収される。この入射光によって励起されたN
d:YAG結晶54は、誘導放出により、共振器内に定
在波203を生ずる。ここで、誘導放出による定在波2
03は、ランダムな偏光を持ち、直線偏光とはなってい
ない。他方、基本波用LD58からの出力光202は、
出力光201と垂直の偏光方向(s偏光)を持ち、PB
S60で反射され、KTP64に入射する。誘導放出に
よる定在波203が第1基本波、基本波用LD56の出
力光202が第2基本波となり、この二つの基本波は、
KTP64内で混合され、和周波204が発生する。た
だし、誘導放出による定在波203のうち第1基本波と
して和周波混合に利用されるのは、基本波用LDの出力
光202に対して垂直な偏光成分(p偏光)のみであ
る。和周波混合される第1基本波203、第2基本波2
02および和周波204のKTPの結晶軸に対する偏光
方向は、図3に示される。KTP64内で発生した和周
波204は出力ミラー68を透過して出力される。この
和周波の波長は、誘導放出による定在波203の波長が
1064nmで、基本波用LDの波長が808nmの場
合、459nmであり、青色となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ごとく従来技術による装置構成においては、励起光がレ
ーザ媒質に入射する前にPBS、レンズ、ミラーを通過
するため、散乱、反射をおこして、効率よく励起光、基
本波光を利用することがむずかしく、また、部品点数も
多くなるという欠点があった。
ごとく従来技術による装置構成においては、励起光がレ
ーザ媒質に入射する前にPBS、レンズ、ミラーを通過
するため、散乱、反射をおこして、効率よく励起光、基
本波光を利用することがむずかしく、また、部品点数も
多くなるという欠点があった。
【0005】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、高効率で、部品点数が少なく、
小型の和周波発生レーザを提供することを目的としてい
る。
になされたものであり、高効率で、部品点数が少なく、
小型の和周波発生レーザを提供することを目的としてい
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、励起光源と、励起光によって励起するレ
ーザ媒質と、このレーザ媒質および非線形光学素子を含
む光共振器とを有する固体レーザ装置において、前記レ
ーザ媒質および非線形光学素子は、それぞれ、光軸に対
して垂直に配置される2つの端面を備え、これらの端面
の少なくとも一に非平面部の加工を行い、励起光を共振
器内に集束させるように構成した。
に、本発明は、励起光源と、励起光によって励起するレ
ーザ媒質と、このレーザ媒質および非線形光学素子を含
む光共振器とを有する固体レーザ装置において、前記レ
ーザ媒質および非線形光学素子は、それぞれ、光軸に対
して垂直に配置される2つの端面を備え、これらの端面
の少なくとも一に非平面部の加工を行い、励起光を共振
器内に集束させるように構成した。
【0007】
【作用】上記の構成を有する本発明の固体レーザ装置に
おいて、励起光の一部は非線形光学素子を透過してレー
ザ媒質に入射する。レーザ媒質に入射した励起光は誘導
放出によって光共振器内に定在波を生ずる。光共振器内
の定在波のビームウエストがレーザ媒質内になるよう
に、光共振器を構成する非線形光学素子とレーザ媒質は
非平面に加工してあるため、励起光の集束のビームプロ
ファイルが光共振器の定在波に含まれて、励起光は有効
に利用される。光共振器内の光の場と励起光の一部は、
非線形光学素子内で和周波を発生する。
おいて、励起光の一部は非線形光学素子を透過してレー
ザ媒質に入射する。レーザ媒質に入射した励起光は誘導
放出によって光共振器内に定在波を生ずる。光共振器内
の定在波のビームウエストがレーザ媒質内になるよう
に、光共振器を構成する非線形光学素子とレーザ媒質は
非平面に加工してあるため、励起光の集束のビームプロ
ファイルが光共振器の定在波に含まれて、励起光は有効
に利用される。光共振器内の光の場と励起光の一部は、
非線形光学素子内で和周波を発生する。
【0008】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。図1は、本発明の固体レーザ装置と
しての和周波発生レーザ装置の構成を示す図である。本
実施例の和周波発生レーザ装置1は、光軸10を中心に
する光の進行方向に沿って、励起光源としての半導体レ
ーザ(以下LDと略す)20と、和周波を発生させるべ
く非線形光学素子30と、レーザ媒質としてのレーザロ
ッド40とを順次、備えている。
参照して説明する。図1は、本発明の固体レーザ装置と
しての和周波発生レーザ装置の構成を示す図である。本
実施例の和周波発生レーザ装置1は、光軸10を中心に
する光の進行方向に沿って、励起光源としての半導体レ
ーザ(以下LDと略す)20と、和周波を発生させるべ
く非線形光学素子30と、レーザ媒質としてのレーザロ
ッド40とを順次、備えている。
【0009】非線形光学素子30は、例えば、屈折率
1.8のKTP(KTiOPO4 )結晶が用いられ、こ
のものは略筒状形状をなし、光軸10に対して垂直に配
置される2つの端面30a,30bを備え、これらの端
面30a,30bの少なくとも一は、レンズの湾曲面と
しての非平面部の加工が行なわれ、励起光を共振器内に
集束させるようになっている。
1.8のKTP(KTiOPO4 )結晶が用いられ、こ
のものは略筒状形状をなし、光軸10に対して垂直に配
置される2つの端面30a,30bを備え、これらの端
面30a,30bの少なくとも一は、レンズの湾曲面と
しての非平面部の加工が行なわれ、励起光を共振器内に
集束させるようになっている。
【0010】本実施例では、両端面30a,30b供
に、湾曲面としての非平面部の加工が行われ、一方の端
面30a(LD20側)の上にはコーティング層31が
端面30aの全域を覆うように形成される。このコーテ
ィング層31は本実施例の場合、1064nmの波長の
光には高反射、808nmの波長には高透過となるよう
な材質、例えば屈折率2.35、膜厚86nmのZnS
と屈折率1.38、膜厚146nmのMgF2 により構
成される多層膜等が用いられる。
に、湾曲面としての非平面部の加工が行われ、一方の端
面30a(LD20側)の上にはコーティング層31が
端面30aの全域を覆うように形成される。このコーテ
ィング層31は本実施例の場合、1064nmの波長の
光には高反射、808nmの波長には高透過となるよう
な材質、例えば屈折率2.35、膜厚86nmのZnS
と屈折率1.38、膜厚146nmのMgF2 により構
成される多層膜等が用いられる。
【0011】レーザ媒質としてのレーザロッド40とし
ては、例えば、屈折率2.0の、ネオジウムをドープし
たYVO4 (以下Nd:YVO4と略す)が好適に利用
される。そして、このレーザロッド40は略筒状形状を
なし、光軸10に対して垂直に配置される2つの端面4
0a,40bを備え、これらの端面40a,40bの少
なくとも一は、レンズの湾曲面としての非平面部の加工
が行なわれ、励起光を共振器内に集束させるようになっ
ている。すなわち、本実施例ではレーザロッド40の一
方の端面40b(非線形光学素子30と反対側の面)に
は、レンズの湾曲面としての非平面部の加工が行われて
いる。そして、この湾曲面の上には、コーティング層4
1が端面40bの全域を覆うように形成される。このコ
ーティング層41は本実施例の場合、1064nmの波
長の光には高反射、459nmの波長には高透過となる
ような材質、例えば屈折率2.35、膜厚49nmのZ
nSと屈折率1.38、膜厚83nmのMgF2 により
構成される多層膜等が用いられる。この一方で、レーザ
ロッド40の他方の端面40a(非線形光学素子30側
の面)は、平面とされ、この面の上には無反射コーティ
ング層42が形成される。無反射コーティング層42の
材質としては、例えば、屈折率2.35のZnSと屈折
率1.38のMgF2で所望の条件を満たすように構成
された多層膜等が挙げられる。
ては、例えば、屈折率2.0の、ネオジウムをドープし
たYVO4 (以下Nd:YVO4と略す)が好適に利用
される。そして、このレーザロッド40は略筒状形状を
なし、光軸10に対して垂直に配置される2つの端面4
0a,40bを備え、これらの端面40a,40bの少
なくとも一は、レンズの湾曲面としての非平面部の加工
が行なわれ、励起光を共振器内に集束させるようになっ
ている。すなわち、本実施例ではレーザロッド40の一
方の端面40b(非線形光学素子30と反対側の面)に
は、レンズの湾曲面としての非平面部の加工が行われて
いる。そして、この湾曲面の上には、コーティング層4
1が端面40bの全域を覆うように形成される。このコ
ーティング層41は本実施例の場合、1064nmの波
長の光には高反射、459nmの波長には高透過となる
ような材質、例えば屈折率2.35、膜厚49nmのZ
nSと屈折率1.38、膜厚83nmのMgF2 により
構成される多層膜等が用いられる。この一方で、レーザ
ロッド40の他方の端面40a(非線形光学素子30側
の面)は、平面とされ、この面の上には無反射コーティ
ング層42が形成される。無反射コーティング層42の
材質としては、例えば、屈折率2.35のZnSと屈折
率1.38のMgF2で所望の条件を満たすように構成
された多層膜等が挙げられる。
【0012】上述してきた本発明の固体レーザ装置とし
ての和周波発生レーザ装置の具体的設計例を、上記非線
形光学素子30およびレーザロッド40の光軸方向の長
さがそれぞれ、5mmおよび1mmの場合を例にとって
説明する。この場合、非線形光学素子30とレーザロッ
ド40との対向する対面距離は1mmとされる。また、
非線形光学素子30の端面30aは、半径8.4mmの
球面に加工され、レーザロッド40の端面40bは、半
径1.1mmの球面に加工される。さらに、LD20
は、発光部が非線形光学素子30のLD20側の端面か
ら3.1mm離隔して配置される。
ての和周波発生レーザ装置の具体的設計例を、上記非線
形光学素子30およびレーザロッド40の光軸方向の長
さがそれぞれ、5mmおよび1mmの場合を例にとって
説明する。この場合、非線形光学素子30とレーザロッ
ド40との対向する対面距離は1mmとされる。また、
非線形光学素子30の端面30aは、半径8.4mmの
球面に加工され、レーザロッド40の端面40bは、半
径1.1mmの球面に加工される。さらに、LD20
は、発光部が非線形光学素子30のLD20側の端面か
ら3.1mm離隔して配置される。
【0013】次に、この装置により、波長459nmの
和周波45が発生する過程を説明する。LD20から励
起された808nmの励起光25は、非線形光学素子3
0に入射する。非線形光学素子30の両端面は球面に加
工されているので、808nmの励起光25は凸レンズ
効果によってレーザロッド40に集光し、レーザロッド
40を励起する。非線形光学素子30のLD20側の面
と、レーザロッド40の非線形光学素子30と反対側の
面とによって、ビームウエストがレーザロッド40の非
線形光学素子30側の面から0.5mmの位置で、径が
0.01mmとなる光共振器を構成する。808nmの
励起光25によって、レーザロッド40から誘導放出が
行われ、1064nmの定在波を生ずる。
和周波45が発生する過程を説明する。LD20から励
起された808nmの励起光25は、非線形光学素子3
0に入射する。非線形光学素子30の両端面は球面に加
工されているので、808nmの励起光25は凸レンズ
効果によってレーザロッド40に集光し、レーザロッド
40を励起する。非線形光学素子30のLD20側の面
と、レーザロッド40の非線形光学素子30と反対側の
面とによって、ビームウエストがレーザロッド40の非
線形光学素子30側の面から0.5mmの位置で、径が
0.01mmとなる光共振器を構成する。808nmの
励起光25によって、レーザロッド40から誘導放出が
行われ、1064nmの定在波を生ずる。
【0014】この1064nmの定在波35の偏向方向
は、Nd:YVO4では励起光25の偏光方向と無関係
に一定であり、励起光25と定在波35の偏光方向が垂
直になるように配置する。この時、1064nmの定在
波35と808nmの励起光25の偏光方向は垂直とな
って、前記従来例に示したように、非線形光学素子30
内で和周波混合によって459nmの光を発生し、レー
ザロッド40の非線形光学素子30と反対側の面より光
共振器の外部に射出光45として出射する。
は、Nd:YVO4では励起光25の偏光方向と無関係
に一定であり、励起光25と定在波35の偏光方向が垂
直になるように配置する。この時、1064nmの定在
波35と808nmの励起光25の偏光方向は垂直とな
って、前記従来例に示したように、非線形光学素子30
内で和周波混合によって459nmの光を発生し、レー
ザロッド40の非線形光学素子30と反対側の面より光
共振器の外部に射出光45として出射する。
【0015】本発明はここで述べた実施例に限定される
ことなく、その主旨を逸脱しない範囲において種々の変
更を加えることができる。一例として、本実施例におい
ては非線形光学素子30の両端面を球面に加工したが、
レーザロッド40の両端面を球面に加工してもよい。ま
た、加工においても球面に限定することなく、非球面に
加工してもよい。なお、本発明において、加工とは機械
的な加工を意味するが、非線形光学素子、レーザロッド
の端面を機械的加工する代わりに樹脂等を非平面に付
着、硬化させてレンズ、ミラーの効果を持たせても良
い。さらに、光共振器は、両端面を平面で構成し、光共
振器内に凸レンズ効果をもつように非線形光学素子、レ
ーザ媒質を加工しても良い。
ことなく、その主旨を逸脱しない範囲において種々の変
更を加えることができる。一例として、本実施例におい
ては非線形光学素子30の両端面を球面に加工したが、
レーザロッド40の両端面を球面に加工してもよい。ま
た、加工においても球面に限定することなく、非球面に
加工してもよい。なお、本発明において、加工とは機械
的な加工を意味するが、非線形光学素子、レーザロッド
の端面を機械的加工する代わりに樹脂等を非平面に付
着、硬化させてレンズ、ミラーの効果を持たせても良
い。さらに、光共振器は、両端面を平面で構成し、光共
振器内に凸レンズ効果をもつように非線形光学素子、レ
ーザ媒質を加工しても良い。
【0016】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によって高効率で部品点数が少なく、小型の固体
レーザ装置を構成することができる。
本発明によって高効率で部品点数が少なく、小型の固体
レーザ装置を構成することができる。
【図1】本発明を具体化した一実施例の固体レーザ装置
の構成を説明する平面図である。
の構成を説明する平面図である。
【図2】従来の和周波発生レーザの構成図である。
【図3】和周波発生レーザにおける第1基本波および第
2基本波のKTPの結晶軸に対する偏光方向を示した図
である。
2基本波のKTPの結晶軸に対する偏光方向を示した図
である。
20…半導体レーザ 30…非線形光学素子 40…レーザロッド
Claims (2)
- 【請求項1】 励起光源と、励起光によって励起するレ
ーザ媒質と、このレーザ媒質および非線形光学素子を含
む光共振器とを有する固体レーザ装置において、 前記レーザ媒質および非線形光学素子は、それぞれ、光
軸に対して垂直に配置される2つの端面を備え、これら
の端面の少なくとも一に非平面部の加工を行い、励起光
を共振器内に集束させることを特徴とする固体レーザ装
置。 - 【請求項2】 前記装置は、レーザ媒質を励起する励起
光波長および前記レーザ媒質により励起された発振光波
長の和周波を発生することを特徴とする請求項1記載の
固体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25347391A JPH0595145A (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | 固体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25347391A JPH0595145A (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | 固体レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0595145A true JPH0595145A (ja) | 1993-04-16 |
Family
ID=17251874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25347391A Pending JPH0595145A (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | 固体レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0595145A (ja) |
-
1991
- 1991-10-01 JP JP25347391A patent/JPH0595145A/ja active Pending
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