JPH059591A - 連続焼鈍炉 - Google Patents
連続焼鈍炉Info
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- JPH059591A JPH059591A JP16834991A JP16834991A JPH059591A JP H059591 A JPH059591 A JP H059591A JP 16834991 A JP16834991 A JP 16834991A JP 16834991 A JP16834991 A JP 16834991A JP H059591 A JPH059591 A JP H059591A
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- chamber
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- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 直火加熱炉から無酸化均熱炉への燃焼廃ガス
の逆流を防止することができる連続焼鈍炉を提供する。 【構成】 直火加熱炉と、無酸化均熱炉とを有する連続
焼鈍炉において、直火加熱炉の上方に設けられ、鋼帯を
直火加熱炉へ送るロ−ルを備えた上部ロ−ル室と、直火
加熱炉の下方に設けられ、鋼帯を直火加熱炉から無酸化
均熱炉へ向かって送るロ−ルを備えた下部ロ−ル室と、
この下部ロ−ル室に設けられたシ−ル機構と、下部ロ−
ル室から上部ロ−ル室へ連通するバイパス通路と、を有
することを特徴とする。
の逆流を防止することができる連続焼鈍炉を提供する。 【構成】 直火加熱炉と、無酸化均熱炉とを有する連続
焼鈍炉において、直火加熱炉の上方に設けられ、鋼帯を
直火加熱炉へ送るロ−ルを備えた上部ロ−ル室と、直火
加熱炉の下方に設けられ、鋼帯を直火加熱炉から無酸化
均熱炉へ向かって送るロ−ルを備えた下部ロ−ル室と、
この下部ロ−ル室に設けられたシ−ル機構と、下部ロ−
ル室から上部ロ−ル室へ連通するバイパス通路と、を有
することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、溶融亜鉛めっきライ
ン等に用いられる連続焼鈍炉に関する。
ン等に用いられる連続焼鈍炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、溶融亜鉛めっきラインには連続焼
鈍炉が設けられ、鋼帯を所望温度に焼鈍し、その後にめ
っき浴に浸漬する。
鈍炉が設けられ、鋼帯を所望温度に焼鈍し、その後にめ
っき浴に浸漬する。
【０００３】めっきライン用の連続焼鈍炉は、特公昭６
２−５７６９２号公報、特公昭６２−５９１６８号公
報、特公平１−２１２０４号公報、特公平１−２１８５
２号公報、特開平１−２８３３５２号公報、並びに特開
平２−８３３１号公報にそれぞれ記載されている。
２−５７６９２号公報、特公昭６２−５９１６８号公
報、特公平１−２１２０４号公報、特公平１−２１８５
２号公報、特開平１−２８３３５２号公報、並びに特開
平２−８３３１号公報にそれぞれ記載されている。
【０００４】図２に示すように、このような連続焼鈍炉
には、直火加熱炉（以下、ＤＦＦという）３及びラジア
ントチュ−ブ炉（以下、ＲＴＦという）５が設けられて
いる。ＤＦＦ３は、多数のバ−ナ−を有する竪型の加熱
炉であり、鋼帯に還元性火炎を直接吹き付けて加熱する
役割を有する。ＲＴＦ５は、ＤＦＦ３の下流側に設けら
れ、還元性雰囲気、例えば、水素ガスおよび窒素ガスの
混合ガスに置換した雰囲気下で、鋼帯を上下に複数回往
復させつつ、ドライな状態で鋼帯を均熱する役割を有す
る。
には、直火加熱炉（以下、ＤＦＦという）３及びラジア
ントチュ−ブ炉（以下、ＲＴＦという）５が設けられて
いる。ＤＦＦ３は、多数のバ−ナ−を有する竪型の加熱
炉であり、鋼帯に還元性火炎を直接吹き付けて加熱する
役割を有する。ＲＴＦ５は、ＤＦＦ３の下流側に設けら
れ、還元性雰囲気、例えば、水素ガスおよび窒素ガスの
混合ガスに置換した雰囲気下で、鋼帯を上下に複数回往
復させつつ、ドライな状態で鋼帯を均熱する役割を有す
る。
【０００５】この場合に、ＤＦＦ３の燃焼廃ガスがＲＴ
Ｆ５内に侵入すると、廃ガス中の湿分によりＲＴＦ５の
還元性雰囲気が壊されるので、下部ロ−ル室４を炉下部
に設けると共に、ガス流が常にＲＴＦ５の側からＤＦＦ
３の側に向かって（鋼帯搬送路の下流側から上流側へ向
かって）流れるように、多量の還元性ガスをＲＴＦ５内
に供給し、ＲＴＦ５の内圧を下部ロ−ル室４のそれより
も高くしている。
Ｆ５内に侵入すると、廃ガス中の湿分によりＲＴＦ５の
還元性雰囲気が壊されるので、下部ロ−ル室４を炉下部
に設けると共に、ガス流が常にＲＴＦ５の側からＤＦＦ
３の側に向かって（鋼帯搬送路の下流側から上流側へ向
かって）流れるように、多量の還元性ガスをＲＴＦ５内
に供給し、ＲＴＦ５の内圧を下部ロ−ル室４のそれより
も高くしている。
【０００６】また、ＤＦＦ３の廃ガスの一部が上部ロ−
ル室２内に侵入し、ロ−ル表面が酸化されて肌荒れを生
じ、これにより鋼帯表面を傷付ける所謂ロ−ルのピック
アップ防止のために、エジェクタ７を有するバイパス通
路６を炉上部に設けている。このバイパス通路６を介し
てＲＴＦ５の還元性ガスを上部ロ−ル室２へ供給し、さ
らに、窒素ガス供給源８からも窒素ガスを吹き込み、上
部ロ−ル室２のロ−ルの酸化を防止する。
ル室２内に侵入し、ロ−ル表面が酸化されて肌荒れを生
じ、これにより鋼帯表面を傷付ける所謂ロ−ルのピック
アップ防止のために、エジェクタ７を有するバイパス通
路６を炉上部に設けている。このバイパス通路６を介し
てＲＴＦ５の還元性ガスを上部ロ−ル室２へ供給し、さ
らに、窒素ガス供給源８からも窒素ガスを吹き込み、上
部ロ−ル室２のロ−ルの酸化を防止する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上部バ
イパス通路６は廃ガスの逆流防止を目的とするものでは
ないため、下部ロ−ル室４を経由して廃ガスの逆流が生
じる。すなわち、下部ロ−ル室４の圧力制御の応答性を
上回る操業上の種々の条件および変動に起因して、ガス
流が一時的にＤＦＦ３からＲＴＦ５へ向かって逆流する
ことがある。
イパス通路６は廃ガスの逆流防止を目的とするものでは
ないため、下部ロ−ル室４を経由して廃ガスの逆流が生
じる。すなわち、下部ロ−ル室４の圧力制御の応答性を
上回る操業上の種々の条件および変動に起因して、ガス
流が一時的にＤＦＦ３からＲＴＦ５へ向かって逆流する
ことがある。
【０００８】このような逆流は、ＤＦＦ３のゾ−ン点火
時、またはＤＦＦ３の燃焼量が急激に増加したときに、
下部ロ−ル室４の圧力がＲＴＦ５のそれを一時的に上回
ることにより生じる。
時、またはＤＦＦ３の燃焼量が急激に増加したときに、
下部ロ−ル室４の圧力がＲＴＦ５のそれを一時的に上回
ることにより生じる。
【０００９】ＤＦＦ３の燃焼排ガスがＲＴＦ５へ向かっ
て逆流すると、ＲＴＦ５のドライな還元性雰囲気が壊さ
れ、鋼帯表面が酸化されてしまい、その後のめっき処理
に悪影響が及び、製品の品質低下を生じる。ＲＴＦ以降
の炉内容積は大きいので、通常、還元雰囲気の回復には
長時間を要する。この間の製品の品質低下は重大な損失
となる。
て逆流すると、ＲＴＦ５のドライな還元性雰囲気が壊さ
れ、鋼帯表面が酸化されてしまい、その後のめっき処理
に悪影響が及び、製品の品質低下を生じる。ＲＴＦ以降
の炉内容積は大きいので、通常、還元雰囲気の回復には
長時間を要する。この間の製品の品質低下は重大な損失
となる。
【００１０】逆に、ＤＦＦ３の一部ゾ−ンを消火または
燃焼量を急激に低下させる場合は、下部ロ−ル室４の内
圧が制御圧力より瞬時低下し、これがＲＴＦ５以降の雰
囲気炉へ直接的に炉圧変動を引き起こし、炉体各部シ−
ル部からの外気侵入の危険性を招く。
燃焼量を急激に低下させる場合は、下部ロ−ル室４の内
圧が制御圧力より瞬時低下し、これがＲＴＦ５以降の雰
囲気炉へ直接的に炉圧変動を引き起こし、炉体各部シ−
ル部からの外気侵入の危険性を招く。
【００１１】同時に、ＲＴＦ５の雰囲気ガスのＤＦＦ３
への流量が一時的に増大し、ＤＦＦ火炎の還元力を低下
させる。ＤＦＦ３での還元性低下は製品品質に直接影響
を及ぼす。
への流量が一時的に増大し、ＤＦＦ火炎の還元力を低下
させる。ＤＦＦ３での還元性低下は製品品質に直接影響
を及ぼす。
【００１２】また、下部ロ−ル室４の内圧の急変は炉圧
制御の外乱となり、安定制御までの回復時間を増大させ
ることになる。炉圧制御性に与える影響はＤＦＦゾ−ン
点火時と同様の問題がある。
制御の外乱となり、安定制御までの回復時間を増大させ
ることになる。炉圧制御性に与える影響はＤＦＦゾ−ン
点火時と同様の問題がある。
【００１３】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたものであり、ＤＦＦ側の変動の影響がＲＴＦ側へ
実質的に及ばず、安定に操業することができ、製品の品
質向上を図ることができる連続焼鈍炉を提供することを
目的とする。
されたものであり、ＤＦＦ側の変動の影響がＲＴＦ側へ
実質的に及ばず、安定に操業することができ、製品の品
質向上を図ることができる連続焼鈍炉を提供することを
目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】従来、ＲＴＦへの雰囲気
ガス量が多量であるために、一時的に逆流が発生して
も、多量の還元性ガスによりＤＦＦの燃焼ガスが緩和さ
れ、ＤＦＦ及びＲＴＦの間のロ−ル室においては特別な
シ−ル対策が取られていなかった。
ガス量が多量であるために、一時的に逆流が発生して
も、多量の還元性ガスによりＤＦＦの燃焼ガスが緩和さ
れ、ＤＦＦ及びＲＴＦの間のロ−ル室においては特別な
シ−ル対策が取られていなかった。
【００１５】しかしながら、近時の需要家による品質上
の要求は高く、このような要望に応えるために、発明者
らは、操業上の変動に応じてＤＦＦとＲＴＦとの間の雰
囲気をロ−ル室にて遮断することにつき鋭意研究した。
の要求は高く、このような要望に応えるために、発明者
らは、操業上の変動に応じてＤＦＦとＲＴＦとの間の雰
囲気をロ−ル室にて遮断することにつき鋭意研究した。
【００１６】この発明に係る連続焼鈍炉は、直火還元火
炎を用いて被処理体を加熱する直火加熱帯と、還元性雰
囲気下で被処理体を均熱する無酸化均熱帯とを有する連
続焼鈍炉において、前記直火加熱帯の上方に設けられ、
被処理体を前記直火加熱帯へ送るロ−ルを備えた上部ロ
−ル室と、前記直火加熱帯の下方に設けられ、被処理体
を前記直火加熱帯から前記無酸化均熱帯へ向かって送る
ロ−ルを備えた下部ロ−ル室と、この下部ロ−ル室に設
けられたシ−ル機構と、前記下部ロ−ル室から前記上部
ロ−ル室へ連通するバイパス通路と、を有することを特
徴とする。さらに、ガス供給手段をバイパス通路の途中
経路に設け、バイパス通路内に非酸化性のガスを供給す
ることが望ましい。
炎を用いて被処理体を加熱する直火加熱帯と、還元性雰
囲気下で被処理体を均熱する無酸化均熱帯とを有する連
続焼鈍炉において、前記直火加熱帯の上方に設けられ、
被処理体を前記直火加熱帯へ送るロ−ルを備えた上部ロ
−ル室と、前記直火加熱帯の下方に設けられ、被処理体
を前記直火加熱帯から前記無酸化均熱帯へ向かって送る
ロ−ルを備えた下部ロ−ル室と、この下部ロ−ル室に設
けられたシ−ル機構と、前記下部ロ−ル室から前記上部
ロ−ル室へ連通するバイパス通路と、を有することを特
徴とする。さらに、ガス供給手段をバイパス通路の途中
経路に設け、バイパス通路内に非酸化性のガスを供給す
ることが望ましい。
【００１７】
【作用】この発明に係る連続焼鈍炉においては、シ−ル
機構を下部ロ−ル室内に設けているので、湿分を含む廃
ガスが下部ロ−ル室を経由して直火加熱帯から無酸化均
熱帯へ侵入しなくなる。
機構を下部ロ−ル室内に設けているので、湿分を含む廃
ガスが下部ロ−ル室を経由して直火加熱帯から無酸化均
熱帯へ侵入しなくなる。
【００１８】また、バイパス通路を下部ロ−ル室および
上部ロ−ル室の間に設けているので、直火加熱帯の内圧
が上昇し、下部ロ−ル室に多量の廃ガスが流入した場合
に、無酸化均熱帯に流れ込むことなく、廃ガスはバイパ
ス通路を経由して上部ロ−ル室に逃がされる。このた
め、下部ロ−ル室にて直火加熱帯の側と無酸化均熱帯の
側との雰囲気が遮断され、無酸化均熱帯の還元性雰囲気
が壊されなくなる。
上部ロ−ル室の間に設けているので、直火加熱帯の内圧
が上昇し、下部ロ−ル室に多量の廃ガスが流入した場合
に、無酸化均熱帯に流れ込むことなく、廃ガスはバイパ
ス通路を経由して上部ロ−ル室に逃がされる。このた
め、下部ロ−ル室にて直火加熱帯の側と無酸化均熱帯の
側との雰囲気が遮断され、無酸化均熱帯の還元性雰囲気
が壊されなくなる。
【００１９】
【実施例】以下、添付の図面を参照してこの発明の実施
例について説明する。
例について説明する。
【００２０】図１に示すように、上部ロ−ル室１０がＤ
ＦＦ１２の上部に設けられ、上部ロ−ル室のロ−ル１０
ａにより鋼帯９の送給方向が水平から垂直に変換される
ようになっている。上部ロ−ル室１０の上流側は、図示
しない予熱炉に連通している。廃ガス通路１１が上部ロ
−ル室１０およびＤＦＦ１２の間に設けられ、ＤＦＦ１
２の燃焼廃ガスが排気されるようになっている。
ＦＦ１２の上部に設けられ、上部ロ−ル室のロ−ル１０
ａにより鋼帯９の送給方向が水平から垂直に変換される
ようになっている。上部ロ−ル室１０の上流側は、図示
しない予熱炉に連通している。廃ガス通路１１が上部ロ
−ル室１０およびＤＦＦ１２の間に設けられ、ＤＦＦ１
２の燃焼廃ガスが排気されるようになっている。
【００２１】下部ロ−ル室１４は、ＤＦＦ１２の最下部
にてＤＦＦ１２及びＲＴＦ２１の間に水平に設けられ、
二つの小部屋１５，１８を有する。因みに、上部ロ−ル
１０と下部ロ−ル室１４との高低差は約20ｍである。
にてＤＦＦ１２及びＲＴＦ２１の間に水平に設けられ、
二つの小部屋１５，１８を有する。因みに、上部ロ−ル
１０と下部ロ−ル室１４との高低差は約20ｍである。
【００２２】上流側の小部屋１５は搬送ロ−ル１５ａを
内臓しており、ＤＦＦ１２から垂直搬送された鋼帯９が
搬送ロ−ル１５ａにより搬送方向を水平に変更されるよ
うになっている。また、下流側の小部屋１８も搬送ロ−
ル１８ａを内臓しており、上流側から水平搬送された鋼
帯９が搬送ロ−ル１８ａにより搬送方向を垂直に変更さ
れ、さらに、ＲＴＦ２１に搬送されるようになってい
る。ＲＴＦ２１の内部には多数対の上下ロ−ル２１ａが
設けられている。鋼帯２は、ＲＴＦ２１内を上下往復し
つつ、水素ガスおよび窒素ガスの混合ガスからなる還元
性ガスにより均熱されるようになっている。
内臓しており、ＤＦＦ１２から垂直搬送された鋼帯９が
搬送ロ−ル１５ａにより搬送方向を水平に変更されるよ
うになっている。また、下流側の小部屋１８も搬送ロ−
ル１８ａを内臓しており、上流側から水平搬送された鋼
帯９が搬送ロ−ル１８ａにより搬送方向を垂直に変更さ
れ、さらに、ＲＴＦ２１に搬送されるようになってい
る。ＲＴＦ２１の内部には多数対の上下ロ−ル２１ａが
設けられている。鋼帯２は、ＲＴＦ２１内を上下往復し
つつ、水素ガスおよび窒素ガスの混合ガスからなる還元
性ガスにより均熱されるようになっている。
【００２３】シ−ル機構１７が下部ロ−ル室１４の内部
に設けられ、シ−ル機構１７により下流側小部屋１８が
上流側小部屋１５から有効にシ−ルされている。シ−ル
機構１７は、鋼帯９が通過するに必要十分なだけの矩形
ボックス（図示せず）を有している。このシ−ルボック
スおよびロ−ル室内壁の間隙に断熱部材（図示せず）が
詰め込まれ、上流側小部屋１５から下流側小部屋１８へ
通気しないようにされている。
に設けられ、シ−ル機構１７により下流側小部屋１８が
上流側小部屋１５から有効にシ−ルされている。シ−ル
機構１７は、鋼帯９が通過するに必要十分なだけの矩形
ボックス（図示せず）を有している。このシ−ルボック
スおよびロ−ル室内壁の間隙に断熱部材（図示せず）が
詰め込まれ、上流側小部屋１５から下流側小部屋１８へ
通気しないようにされている。
【００２４】バイパス通路２２，２４が、下部ロ−ル室
１４及び上部ロ−ル室１０のそれぞれに連通している。
バイパス通路２２は、下部ロ−ル室１４の上流側小部屋
１５のほうに連通している。この場合に、バイパス通路
２２を下流側小部屋１８に連通させてもよい。また、バ
イパス通路２４は上部ロ−ル室１０の適所に連通してい
る。
１４及び上部ロ−ル室１０のそれぞれに連通している。
バイパス通路２２は、下部ロ−ル室１４の上流側小部屋
１５のほうに連通している。この場合に、バイパス通路
２２を下流側小部屋１８に連通させてもよい。また、バ
イパス通路２４は上部ロ−ル室１０の適所に連通してい
る。
【００２５】バイパス通路２２及び通路２４の間にエジ
ェクタ２３が設けられている。このエジェクタ２３には
ダンパ２５を介してガス供給源２６の供給口が連通して
いる。ガス供給源２６には窒素ガスが貯えられている。
ダンパ２５は開閉および流量調節機能を有する。次に、
上記装置の動作について説明する。
ェクタ２３が設けられている。このエジェクタ２３には
ダンパ２５を介してガス供給源２６の供給口が連通して
いる。ガス供給源２６には窒素ガスが貯えられている。
ダンパ２５は開閉および流量調節機能を有する。次に、
上記装置の動作について説明する。
【００２６】ＤＦＦ１２を点火した時は、ＤＦＦ１２の
内圧上昇によりＲＴＦ２１の内圧を上回り、燃焼廃ガス
が下部ロ−ル室１４に侵入する。しかしながら、廃ガス
はシ−ル装置１７により遮られ、下流側のＲＴＦ２１へ
流れ込まない。また、ロ−ル室１４の上流側小部屋１５
の内圧が上昇すると、エジェクタ２３が作動し、小部屋
１５の内部ガスを吸引する。これにより、上流側小部屋
１５の内圧が降下し、下流側小部屋１８との差圧が維持
され、逆流が防止される。
内圧上昇によりＲＴＦ２１の内圧を上回り、燃焼廃ガス
が下部ロ−ル室１４に侵入する。しかしながら、廃ガス
はシ−ル装置１７により遮られ、下流側のＲＴＦ２１へ
流れ込まない。また、ロ−ル室１４の上流側小部屋１５
の内圧が上昇すると、エジェクタ２３が作動し、小部屋
１５の内部ガスを吸引する。これにより、上流側小部屋
１５の内圧が降下し、下流側小部屋１８との差圧が維持
され、逆流が防止される。
【００２７】また、このとき、ダンパ２５を開け、窒素
ガスを供給源２６からバイパス通路２４に供給する。窒
素ガスの流入によりバイパス通路２２，２４を介する吸
引力が増し、小部屋１５からの排気が円滑になる。な
お、ダンパ２５にはリミットスイッチが設けられ、ダン
パ２５は一定時間だけ開になる。
ガスを供給源２６からバイパス通路２４に供給する。窒
素ガスの流入によりバイパス通路２２，２４を介する吸
引力が増し、小部屋１５からの排気が円滑になる。な
お、ダンパ２５にはリミットスイッチが設けられ、ダン
パ２５は一定時間だけ開になる。
【００２８】さらに、ＤＦＦ１２を消火したときは、Ｒ
ＴＦ２１の側から多量の還元性ガスがＤＦＦ１２の側へ
流れ込もうとするが、この場合も消火条件をダンパ２５
の閉条件に組み込み、ダンパ２５が所定時間だけ開き、
バイパス通路２２，２４に窒素ガスが流入するように
し、ＲＴＦ２１からＤＦＦ１２への還元性ガスの流入を
阻止させる。
ＴＦ２１の側から多量の還元性ガスがＤＦＦ１２の側へ
流れ込もうとするが、この場合も消火条件をダンパ２５
の閉条件に組み込み、ダンパ２５が所定時間だけ開き、
バイパス通路２２，２４に窒素ガスが流入するように
し、ＲＴＦ２１からＤＦＦ１２への還元性ガスの流入を
阻止させる。
【００２９】上記実施例によれば、逆流防止によりＲＴ
Ｆ２１の炉内雰囲気を維持するのみならず、ＲＴＦ２１
側からＤＦＦ１２側への過剰なガス流入をも阻止するこ
とができるので、ＤＦＦ１２炉内の雰囲気が所望の雰囲
気に保たれ、非定常状態から定常状態へ円滑に運転する
ことができる。
Ｆ２１の炉内雰囲気を維持するのみならず、ＲＴＦ２１
側からＤＦＦ１２側への過剰なガス流入をも阻止するこ
とができるので、ＤＦＦ１２炉内の雰囲気が所望の雰囲
気に保たれ、非定常状態から定常状態へ円滑に運転する
ことができる。
【００３０】
【発明の効果】この発明によれば、直火加熱帯と無酸化
均熱帯との雰囲気を下部ロ−ル室のシ−ル装置により遮
断するので、無酸化均熱帯のドライな還元性雰囲気が壊
されず、鋼帯表面が清浄に保たれる。さらに、下部ロ−
ル室に侵入した廃ガスをバイパス通路を介して上部ロ−
ル室に逃がすので、無酸化均熱帯の雰囲気の保護効果が
高まる。このため、鋼帯表面の酸化を有効に防止するこ
とができ、めっき付着性が害なわれず、良好な品質のめ
っき鋼板を得ることができる。また、上部ロ−ル室にバ
イパス通路を介してガスを流入させるので、上部ロ−ル
室のロ−ルがガス冷却され、ロ−ルのピックアップが有
効に防止される。
均熱帯との雰囲気を下部ロ−ル室のシ−ル装置により遮
断するので、無酸化均熱帯のドライな還元性雰囲気が壊
されず、鋼帯表面が清浄に保たれる。さらに、下部ロ−
ル室に侵入した廃ガスをバイパス通路を介して上部ロ−
ル室に逃がすので、無酸化均熱帯の雰囲気の保護効果が
高まる。このため、鋼帯表面の酸化を有効に防止するこ
とができ、めっき付着性が害なわれず、良好な品質のめ
っき鋼板を得ることができる。また、上部ロ−ル室にバ
イパス通路を介してガスを流入させるので、上部ロ−ル
室のロ−ルがガス冷却され、ロ−ルのピックアップが有
効に防止される。
【図１】この発明の実施例に係る連続焼鈍炉を示す模式
図。
図。
【図２】従来の連続焼鈍炉を示す模式図。
９；鋼帯、１０；上部ロ−ル室、１２；直火加熱帯（Ｄ
ＦＦ）、１４；下部ロ−ル室、１７；シ−ル機構、２
１；無酸化均熱帯（ＲＴＦ）、２２，２４；バイパス通
路、２３；エジェクタ、２５；ダンパ、２６；ガス供給
源。
ＦＦ）、１４；下部ロ−ル室、１７；シ−ル機構、２
１；無酸化均熱帯（ＲＴＦ）、２２，２４；バイパス通
路、２３；エジェクタ、２５；ダンパ、２６；ガス供給
源。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 秋彦 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 田口 昇 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 堤 道明 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 岩崎 秀雄 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 直火還元火炎を用いて被処理体を加熱す
る直火加熱帯と、還元性雰囲気下で被処理体を均熱する
無酸化均熱帯とを有する連続焼鈍炉において、前記直火
加熱帯の上方に設けられ、被処理体を前記直火加熱帯へ
送るロ−ルを備えた上部ロ−ル室と、前記直火加熱帯の
下方に設けられ、被処理体を前記直火加熱帯から前記無
酸化均熱帯へ向かって送るロ−ルを備えた下部ロ−ル室
と、この下部ロ−ル室に設けられたシ−ル機構と、前記
下部ロ−ル室から前記上部ロ−ル室へ連通するバイパス
通路と、を有することを特徴とする連続焼鈍炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16834991A JPH07100826B2 (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 連続焼鈍炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16834991A JPH07100826B2 (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 連続焼鈍炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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