JPH059829B2 - - Google Patents
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- JPH059829B2 JPH059829B2 JP57204803A JP20480382A JPH059829B2 JP H059829 B2 JPH059829 B2 JP H059829B2 JP 57204803 A JP57204803 A JP 57204803A JP 20480382 A JP20480382 A JP 20480382A JP H059829 B2 JPH059829 B2 JP H059829B2
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- recognized
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
- G06V10/20—Image preprocessing
- G06V10/30—Noise filtering
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(1) 発明の技術分野
本発明は被認識パターンと基準パターンとの相
関度のとり方を改善したパターン認識方法及びそ
の装置に関する。
関度のとり方を改善したパターン認識方法及びそ
の装置に関する。
(2) 技術の背景
IC等の自動組立てにおいて自動ワイヤボンダ
が用いられているが、この装置によるワイヤボン
デイングに先立つて、ICチツプ上の電極（パツ
ド）パターンを認識してその位置決めをする必要
がある。従来のこの種パターン認識装置では、パ
ツドパターンを高精度、高認識率で認識し得ず、
そのためパツドパターン以外の、これに類似する
パターンをパツドパターンと誤認識してしまうと
いう不具合があり、これを可及的に排除しうる技
術的手段の開発が要望されている。
が用いられているが、この装置によるワイヤボン
デイングに先立つて、ICチツプ上の電極（パツ
ド）パターンを認識してその位置決めをする必要
がある。従来のこの種パターン認識装置では、パ
ツドパターンを高精度、高認識率で認識し得ず、
そのためパツドパターン以外の、これに類似する
パターンをパツドパターンと誤認識してしまうと
いう不具合があり、これを可及的に排除しうる技
術的手段の開発が要望されている。
(3) 従来技術と問題点
従来のパツド認識装置は撮像した画像を２値化
し、そのパツド信号の相関を求めてパツドパター
ンの位置検出を行うものである。この装置では、
被認識パターンに混在して来るノイズ等の不特定
パターンをパツドパターンと誤認識する欠点があ
つた。
し、そのパツド信号の相関を求めてパツドパター
ンの位置検出を行うものである。この装置では、
被認識パターンに混在して来るノイズ等の不特定
パターンをパツドパターンと誤認識する欠点があ
つた。
(4) 発明の目的
本発明は上述したような従来装置の有する欠点
に鑑みて創案されたもので、その目的は画素の濃
さに応じた相関度を与えることにより、被認識パ
ターンの位置検出の相関に従来より一層強弱を与
えて誤認識する素地を可及的に排除したパターン
認識方法及びその装置を提供することにある。
に鑑みて創案されたもので、その目的は画素の濃
さに応じた相関度を与えることにより、被認識パ
ターンの位置検出の相関に従来より一層強弱を与
えて誤認識する素地を可及的に排除したパターン
認識方法及びその装置を提供することにある。
(5) 発明の構成
そして、これらの目的を達成するために、第１
の発明は、基準パターンを用意し、該基準パター
ンを用いて被認識パターンを認識するに際して、
階調値に応じて各画素をデイジタル化して上記被
認識パターンを、階調値に応じて各画素をデイジ
タル化した上記基準パターンで走査し、上記被認
識パターンと上記基準パターンとの対応デイジタ
ル画素のデイジタル値が同一であつて、第１の値
を有するとき当該対応デイジタル画素間に対し大
きな重みを与え、対応デイジタル画素のデイジタ
ル値が同一であつて前記第１の値に対して所定の
値だけ異なる第２の値を有するとき当該対応デイ
ジタル画素間に対し小さな重みを与え、デイジタ
ル値が異なるとき当該対応デイジタル画素間に対
し前記小さな重みよりも小さい重みを与え、前記
重みの各々を当該デイジタル画素間の相関度とし
て上記両パターン間の総合相関度を求めて認識処
理をするようにして構成される。
の発明は、基準パターンを用意し、該基準パター
ンを用いて被認識パターンを認識するに際して、
階調値に応じて各画素をデイジタル化して上記被
認識パターンを、階調値に応じて各画素をデイジ
タル化した上記基準パターンで走査し、上記被認
識パターンと上記基準パターンとの対応デイジタ
ル画素のデイジタル値が同一であつて、第１の値
を有するとき当該対応デイジタル画素間に対し大
きな重みを与え、対応デイジタル画素のデイジタ
ル値が同一であつて前記第１の値に対して所定の
値だけ異なる第２の値を有するとき当該対応デイ
ジタル画素間に対し小さな重みを与え、デイジタ
ル値が異なるとき当該対応デイジタル画素間に対
し前記小さな重みよりも小さい重みを与え、前記
重みの各々を当該デイジタル画素間の相関度とし
て上記両パターン間の総合相関度を求めて認識処
理をするようにして構成される。
又、第２の発明は、被認識対象を撮像するため
の撮像光学系と、該撮像光学系の出力へ接続され
たアナログ／デイジタル変換器と、該アナログ／
デイジタル変換器の出力へ接続され、階調値に応
じて各画素をデイジタル化して記憶する画像メモ
リと、階調値に応じて各画素をデイジタル化して
記憶する基準パターンメモリと、上記画像メモリ
及び基準パターンメモリへ接続され、上記画像メ
モリの被認識パターンを上記基準パターンメモリ
の基準パターンで走査し、上記被認識パターンと
上記基準パターンとの対応デイジタル画素のデイ
ジタル値が同一であつて、第１の値を有するとき
当該対応デイジタル画素間に対し大きな重みを与
え、対応デイジタル画素のデイジタル値が同一で
あつて前記第１の値に対して所定の値だけ異なる
第２の値を有するとき当該対応デイジタル画素間
に対し小さな重みを与え、デイジタル値が異なる
とき当該対応デイジタル画素間に対し前記小さな
重みよりも小さい重みを与え、前記重みの各々を
当該デイジタル画素間の相関度として上記両パタ
ーン間の総合相関度を求める加重相関度演算回路
を設けて構成される。
の撮像光学系と、該撮像光学系の出力へ接続され
たアナログ／デイジタル変換器と、該アナログ／
デイジタル変換器の出力へ接続され、階調値に応
じて各画素をデイジタル化して記憶する画像メモ
リと、階調値に応じて各画素をデイジタル化して
記憶する基準パターンメモリと、上記画像メモリ
及び基準パターンメモリへ接続され、上記画像メ
モリの被認識パターンを上記基準パターンメモリ
の基準パターンで走査し、上記被認識パターンと
上記基準パターンとの対応デイジタル画素のデイ
ジタル値が同一であつて、第１の値を有するとき
当該対応デイジタル画素間に対し大きな重みを与
え、対応デイジタル画素のデイジタル値が同一で
あつて前記第１の値に対して所定の値だけ異なる
第２の値を有するとき当該対応デイジタル画素間
に対し小さな重みを与え、デイジタル値が異なる
とき当該対応デイジタル画素間に対し前記小さな
重みよりも小さい重みを与え、前記重みの各々を
当該デイジタル画素間の相関度として上記両パタ
ーン間の総合相関度を求める加重相関度演算回路
を設けて構成される。
(6) 発明の実施例
以下、添付図面を参照しながら、本発明の実施
例を説明する。
例を説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す。１は撮像光
学系で、これはXYステージ２上に置かれた被認
識対象であるICパツケージ３のパツドを含む領
域を撮像するもので、照明素子４とTVカメラ５
とから成る。TVカメラ５の出力はTVカメラド
ライバ６を経てアナログ−デイジタル変換回路７
へ接続されている。回路７の出力はTVカメラ５
の撮像と同期した書込み動作をする画像メモリ８
へ接続されている。
学系で、これはXYステージ２上に置かれた被認
識対象であるICパツケージ３のパツドを含む領
域を撮像するもので、照明素子４とTVカメラ５
とから成る。TVカメラ５の出力はTVカメラド
ライバ６を経てアナログ−デイジタル変換回路７
へ接続されている。回路７の出力はTVカメラ５
の撮像と同期した書込み動作をする画像メモリ８
へ接続されている。
画像メモリ８の出力は基準パターン格納回路９
及びパターン位置検出回路１０へ接続されてい
る。
及びパターン位置検出回路１０へ接続されてい
る。
基準パターン格納回路９の出力は基準パターン
メモリ１１へ接続され、メモリ１１の出力はパタ
ーン位置検出回路１０へ接続されている。
メモリ１１へ接続され、メモリ１１の出力はパタ
ーン位置検出回路１０へ接続されている。
パターン位置検出回路１０には、加重相関度演
算回路１２が設けられており、回路１２は基準パ
ターンメモリ１１からの基準パターンで画像メモ
リ８の被認識パターンを走査し、これらパターン
間の対応する画素の相関に重み付けし、その重み
付けを当該画素間の相関度として求めるように構
成されている。
算回路１２が設けられており、回路１２は基準パ
ターンメモリ１１からの基準パターンで画像メモ
リ８の被認識パターンを走査し、これらパターン
間の対応する画素の相関に重み付けし、その重み
付けを当該画素間の相関度として求めるように構
成されている。
パターン位置検出回路１０の出力は制御系１３
へ接続されている。XYステージ２の移動制御を
行うXYステージコントローラ１４の制御入力は
制御系１３の出力へ接続されている。
へ接続されている。XYステージ２の移動制御を
行うXYステージコントローラ１４の制御入力は
制御系１３の出力へ接続されている。
次に、上述した構成を有する本発明装置の動作
を説明する。
を説明する。
先ず、代表的なICパツケージ３がXYステージ
２上に載置され、その、基準パターンを撮るべき
領域、例えば、第２図のＡがTVカメラ５の視野
内に来るよう、制御系１３によつてXYステージ
コントローラ１４を制御してXYステージ２を移
動させる。
２上に載置され、その、基準パターンを撮るべき
領域、例えば、第２図のＡがTVカメラ５の視野
内に来るよう、制御系１３によつてXYステージ
コントローラ１４を制御してXYステージ２を移
動させる。
領域ＡをTVカメラ５で撮像して得られる画像
信号がTVドライバ６を経てアナログ−デイジタ
ル変換回路７へ送られ、そこでデイジタル化され
る。そのデイジタル信号は基準パターン取得用パ
ターンとして画像メモリ８に記憶される。そのパ
ターン内の予め決められた領域Ｂ（第２図参照）
が基準パターン格納回路９によつて基準パターン
メモリ１１へ格納される。その基準パターンの可
視表示を第３図に示してある。
信号がTVドライバ６を経てアナログ−デイジタ
ル変換回路７へ送られ、そこでデイジタル化され
る。そのデイジタル信号は基準パターン取得用パ
ターンとして画像メモリ８に記憶される。そのパ
ターン内の予め決められた領域Ｂ（第２図参照）
が基準パターン格納回路９によつて基準パターン
メモリ１１へ格納される。その基準パターンの可
視表示を第３図に示してある。
次いで、同様にして、被認識対象であるICパ
ツケージ３の被認識パターン、例えば、第４図の
Ｃが画像メモリ８に取り込まれる。そして、加重
相関度演算回路１２において、その被認識パター
ンに対し基準パターンメモリ１１の基準パターン
Ｄの１画素ずつのシフトを生じさせる如き態様
（第４図参照）で、被認識パターンを基準パター
ンで走査する。このシフト走査の各々において、
上記両パターン間の対応する画素の濃さに応じ
て、第５図の５−１に示す如き重みを当該画素間
に与える。但し、第５図の５−１は、基準パター
ンも、又被認識パターンも３階調に量子化されて
いる（３値化されている）例を示す。ここで□は
白画素、〓は黒画素、〓は中間調画素を示す。
ツケージ３の被認識パターン、例えば、第４図の
Ｃが画像メモリ８に取り込まれる。そして、加重
相関度演算回路１２において、その被認識パター
ンに対し基準パターンメモリ１１の基準パターン
Ｄの１画素ずつのシフトを生じさせる如き態様
（第４図参照）で、被認識パターンを基準パター
ンで走査する。このシフト走査の各々において、
上記両パターン間の対応する画素の濃さに応じ
て、第５図の５−１に示す如き重みを当該画素間
に与える。但し、第５図の５−１は、基準パター
ンも、又被認識パターンも３階調に量子化されて
いる（３値化されている）例を示す。ここで□は
白画素、〓は黒画素、〓は中間調画素を示す。
上述のように重み付けられて表される上述パタ
ーン内の各画素間の相関度の総和が上述パターン
間の総合相関度として求められる。その例を第５
図の５−２に示す。この図において、Ｅは基準パ
ターンで、Ｆは被認識パターン内の、基準パター
ンと相関度を求められる領域（被認識部分パター
ン）である。
ーン内の各画素間の相関度の総和が上述パターン
間の総合相関度として求められる。その例を第５
図の５−２に示す。この図において、Ｅは基準パ
ターンで、Ｆは被認識パターン内の、基準パター
ンと相関度を求められる領域（被認識部分パター
ン）である。
こうして求められたパターン間の相関度の領域
表示が更新記憶され、その相関度が最大となる領
域が認識されるべき領域とされる。その領域表示
がパターン位置検出回路１０の出力とされ、この
出力の発生で制御系１３によるXYステージコン
トローラ１４の制御は停止されると共に、図示し
ないワイヤボンダの位置付けが上記出力によつて
なされる。
表示が更新記憶され、その相関度が最大となる領
域が認識されるべき領域とされる。その領域表示
がパターン位置検出回路１０の出力とされ、この
出力の発生で制御系１３によるXYステージコン
トローラ１４の制御は停止されると共に、図示し
ないワイヤボンダの位置付けが上記出力によつて
なされる。
上記実施例においては、同一階調画素間の相関
を重み付けで表す場合について説明したが、第６
図に示すように、隣接階調間の相関を重み付けで
表すことも出来る。この図における□、〓、〓の
意味するところは第５図と同じである。
を重み付けで表す場合について説明したが、第６
図に示すように、隣接階調間の相関を重み付けで
表すことも出来る。この図における□、〓、〓の
意味するところは第５図と同じである。
(7) 発明の効果
以上述べたところより明らかなように、本発明
によれば基準パターンとこれによつて走査される
被認識パターンの各被認識部分パターンとの対応
画素の相関を重み付けで表してそれらパターン間
の総合相関度をとつているから、ノイズなどの不
特定パターンを認識すべきパターンと誤つて認識
することはなく、認識精度、認識率の向上に役立
つ。
によれば基準パターンとこれによつて走査される
被認識パターンの各被認識部分パターンとの対応
画素の相関を重み付けで表してそれらパターン間
の総合相関度をとつているから、ノイズなどの不
特定パターンを認識すべきパターンと誤つて認識
することはなく、認識精度、認識率の向上に役立
つ。
第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図は
TVカメラの視野内の画像パターンを示す図、第
３図は第２図の画像パターンから基準メモリに格
納された基準パターンを示す図、第４図は被認識
パターンを基準パターンで走査する態様を示す
図、第５は画素間の重み付け及び加重相関度演算
例を示す図、第６図は隣接階調間の相関にも重み
付けをする例示図である。 図中、１は撮像光学系、７はアナログ−デイジ
タル変換器、８は画像メモリ、１１は基準メモ
リ、１０はパターン位置検出回路、１２は加電相
関度演算回路である。
TVカメラの視野内の画像パターンを示す図、第
３図は第２図の画像パターンから基準メモリに格
納された基準パターンを示す図、第４図は被認識
パターンを基準パターンで走査する態様を示す
図、第５は画素間の重み付け及び加重相関度演算
例を示す図、第６図は隣接階調間の相関にも重み
付けをする例示図である。 図中、１は撮像光学系、７はアナログ−デイジ
タル変換器、８は画像メモリ、１１は基準メモ
リ、１０はパターン位置検出回路、１２は加電相
関度演算回路である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基準パターンを用意し、該基準パターンを用
いて被認識パターンを認識するに際して、 階調値に応じて各画素をデイジタル化した上記
被認識パターンを、階調値に応じて各画素をデイ
ジタル化した上記基準パターンで走査し、 上記被認識パターンと上記基準パターンとの対
応デイジタル画素のデイジタル値が同一であつ
て、第１の値を有するとき当該対応デイジタル画
素間に対し大きな重みを与え、対応デイジタル画
素のデイジタル値が同一であつて前記第１の値に
対して所定の値だけ異なる第２の値を有するとき
当該対応デイジタル画素間に対し小さな重みを与
え、デイジタル値が異なるとき当該対応デイジタ
ル画素間に対し前記小さな重みよりも小さい重み
を与え、 前記重みの各々を当該デイジタル画素間の相関
度として上記両パターン間の総合相関度を求めて
認識処理をすることを特徴とするパターン認識方
法。 ２ 被認識対象を撮像するための撮像光学系と、 該撮像光学系の出力へ接続されたアナログ／デ
イジタル変換器と、 該アナログ／デイジタル変換器の出力へ接続さ
れ、階調値に応じて各画素をデイジタル化して記
憶する画像メモリと、 階調値に応じて各画素をデイジタル化して記憶
する基準パターンメモリと、 上記画像メモリ及び基準パターンメモリへ接続
され、上記画像メモリの被認識パターンを上記基
準パターンメモリの基準パターンで走査し、上記
被認識パターンと上記基準パターンとの対応デイ
ジタル画素のデイジタル値が同一であつて、第１
の値を有するとき当該対応デイジタル画素間に対
し大きな重みを与え、対応デイジタル画素のデイ
ジタル値が同一であつて前記第１の値に対して所
定の値だけ異なる第２の値を有するとき当該対応
デイジタル画素間に対し小さな重みを与え、デイ
ジタル値が異なるとき当該対応デイジタル画素間
に対し前記小さな重みよりも小さい重みを与え、
前記重みの各々を当該デイジタル画素間の相関度
として上記両パターン間の総合相関度を求める加
重相関度演算回路を設けたことを特徴とするパタ
ーン認識装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204803A JPS5995674A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | パタ−ン認識方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204803A JPS5995674A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | パタ−ン認識方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5995674A JPS5995674A (ja) | 1984-06-01 |
| JPH059829B2 true JPH059829B2 (ja) | 1993-02-08 |
Family
ID=16496618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57204803A Granted JPS5995674A (ja) | 1982-11-22 | 1982-11-22 | パタ−ン認識方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5995674A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015071615A1 (fr) | 2013-11-18 | 2015-05-21 | Mermet | Textiles metallises et leur procede de fabrication |
| US11268236B2 (en) * | 2015-11-20 | 2022-03-08 | Mermet | Item including a laminated, metallized textile layer, in particular for sun protection, and method for grafting a metal layer in order to obtain said item |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5942907B2 (ja) * | 1977-07-08 | 1984-10-18 | 富士通株式会社 | 文字認識装置 |
| JPS6037955B2 (ja) * | 1979-07-18 | 1985-08-29 | 富士通株式会社 | 文字・記号認識方式 |
| DE7921251U1 (de) * | 1979-07-25 | 1979-11-15 | Passavant-Werke Michelbacher Huette, 6209 Aarbergen | Leiteinrichtung fuer belueftungsbecken |
-
1982
- 1982-11-22 JP JP57204803A patent/JPS5995674A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015071615A1 (fr) | 2013-11-18 | 2015-05-21 | Mermet | Textiles metallises et leur procede de fabrication |
| US11268236B2 (en) * | 2015-11-20 | 2022-03-08 | Mermet | Item including a laminated, metallized textile layer, in particular for sun protection, and method for grafting a metal layer in order to obtain said item |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5995674A (ja) | 1984-06-01 |
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