JPH0599863A - X線分光装置 - Google Patents
X線分光装置Info
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- JPH0599863A JPH0599863A JP3260787A JP26078791A JPH0599863A JP H0599863 A JPH0599863 A JP H0599863A JP 3260787 A JP3260787 A JP 3260787A JP 26078791 A JP26078791 A JP 26078791A JP H0599863 A JPH0599863 A JP H0599863A
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】真空紫外光による分光器からの長波長の散乱光
を遮断して、純度の高い短波長のX線の分光を可能にす
ることである。 【構成】レーザープラズマ光源とX線検出器23との間
の光路上に挿脱可能なフィルタ36を設ける。このフィ
ルタ36は原子番号17以下の物質又はその化合物、例
えばボロンフィルタから成り、20Å以下の短波長域の
X線を透過させ、長波長のX線及び真空紫外光による分
光器16からの散乱光を遮断する。長波長のX線を用い
る場合は、フィルタ36をマニピュレーター37によっ
て光路外へ移動させる。
を遮断して、純度の高い短波長のX線の分光を可能にす
ることである。 【構成】レーザープラズマ光源とX線検出器23との間
の光路上に挿脱可能なフィルタ36を設ける。このフィ
ルタ36は原子番号17以下の物質又はその化合物、例
えばボロンフィルタから成り、20Å以下の短波長域の
X線を透過させ、長波長のX線及び真空紫外光による分
光器16からの散乱光を遮断する。長波長のX線を用い
る場合は、フィルタ36をマニピュレーター37によっ
て光路外へ移動させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、試料に分光されたX線
を照射し、試料からの反射光や回折光を測定して試料の
性質を調べるためのX線分光装置に関するものである。
を照射し、試料からの反射光や回折光を測定して試料の
性質を調べるためのX線分光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体の材料の表面分析、特に炭
素を含む有機物の解析、CVDを始めとする半導体製造
プロセスの解析、有機エレクトロニクスデバイスの評
価、その他生体物質の分析等の分野において、数Å以上
の軟X線領域の光をプローブとする、蛍光X線分析、E
SCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysy
s:エスカ)、オージェ(auger )分光等の方法を用い
た評価が必要となっている。
素を含む有機物の解析、CVDを始めとする半導体製造
プロセスの解析、有機エレクトロニクスデバイスの評
価、その他生体物質の分析等の分野において、数Å以上
の軟X線領域の光をプローブとする、蛍光X線分析、E
SCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysy
s:エスカ)、オージェ(auger )分光等の方法を用い
た評価が必要となっている。
【0003】しかし、現在の市販の評価装置は光源にX
線管を利用しているために、波長が数Å以下の短波長の
特性X線のみしか利用できない。数Å以下の短波長の特
性X線領域では、炭素が中心となって構成されている有
機物質の吸収係数が小さく、二次電子やオージェ電子の
生成率が悪くなり、分析感度が悪い。これに加えて、特
定の波長のX線しか利用できないので、多角的な分析が
できない。
線管を利用しているために、波長が数Å以下の短波長の
特性X線のみしか利用できない。数Å以下の短波長の特
性X線領域では、炭素が中心となって構成されている有
機物質の吸収係数が小さく、二次電子やオージェ電子の
生成率が悪くなり、分析感度が悪い。これに加えて、特
定の波長のX線しか利用できないので、多角的な分析が
できない。
【0004】又、その他、数10Å程度の超伝導用の人
工格子等の研究も進行し、非破壊でこれらの人工格子の
内部構造を観察したいという要望も強くなっている。し
かし、従来のX線管では、最長でも数Å程度の波長しか
利用できないため、直入射領域でのX線回折法による分
析は不可能であった。そのために、白色で軟X線領域ま
で発光するSOR光源を利用して上述のような分析を行
っていた。しかしながら、SOR光源は大規模施設が必
要であるために、占有スペースが大きく、価格も高価で
あり、一般ユーザーが利用することは困難であった。
工格子等の研究も進行し、非破壊でこれらの人工格子の
内部構造を観察したいという要望も強くなっている。し
かし、従来のX線管では、最長でも数Å程度の波長しか
利用できないため、直入射領域でのX線回折法による分
析は不可能であった。そのために、白色で軟X線領域ま
で発光するSOR光源を利用して上述のような分析を行
っていた。しかしながら、SOR光源は大規模施設が必
要であるために、占有スペースが大きく、価格も高価で
あり、一般ユーザーが利用することは困難であった。
【0005】しかし、最近コンパクトな白色のX線光源
が開発されて状況が変化し、一般ユーザーが上述のよう
な分析法を身近に利用できるようになった。このような
X線光源について具体的に説明すれば、気圧が10-4To
rr以下の真空中において、金属等の物質から成るターゲ
ット上に、1012W/cm2 以上の強度のレーザー光が
照射されると、ターゲットの金属がプラズマ状態にな
り、5Å以上の波長の白色の軟X線が発光する、という
ものである。このような方式のX線光源は、レーザープ
ラズマ光源と呼ばれ、高輝度で白色のX線を発光させる
X線光源であるために、既に本光源を用いた軟X線回折
装置、光電子分光器、X線音響分光法等が提案されてい
る。
が開発されて状況が変化し、一般ユーザーが上述のよう
な分析法を身近に利用できるようになった。このような
X線光源について具体的に説明すれば、気圧が10-4To
rr以下の真空中において、金属等の物質から成るターゲ
ット上に、1012W/cm2 以上の強度のレーザー光が
照射されると、ターゲットの金属がプラズマ状態にな
り、5Å以上の波長の白色の軟X線が発光する、という
ものである。このような方式のX線光源は、レーザープ
ラズマ光源と呼ばれ、高輝度で白色のX線を発光させる
X線光源であるために、既に本光源を用いた軟X線回折
装置、光電子分光器、X線音響分光法等が提案されてい
る。
【0006】このレーザープラズマ光源を用いた代表的
な軟X線回折分析機として、本出願人が特願平2−25
0897号を以て出願したものがある。この装置におい
ては、Nd:YAGレーザー光を金属ターゲット上に照
射することによって発生したX線を、入射スリットを介
して斜入射分光器上に集光させる。次いで、斜入射分光
器により分光されたX線は、ローランド円上にある射出
スリットを通過して測定用の真空容器内に導かれ、回転
テーブル上のサンプル表面に照射される。そして、サン
プル表面上から散乱したX線は、MCP、チャンネルト
ロン等のX線検出器により計測されるようになってい
る。測定用の真空容器全体は、X線取り出し用の射出ス
リットがローランド円上の任意の位置に移動できるよう
になっているため、広い波長に亘って単色光を利用でき
る。
な軟X線回折分析機として、本出願人が特願平2−25
0897号を以て出願したものがある。この装置におい
ては、Nd:YAGレーザー光を金属ターゲット上に照
射することによって発生したX線を、入射スリットを介
して斜入射分光器上に集光させる。次いで、斜入射分光
器により分光されたX線は、ローランド円上にある射出
スリットを通過して測定用の真空容器内に導かれ、回転
テーブル上のサンプル表面に照射される。そして、サン
プル表面上から散乱したX線は、MCP、チャンネルト
ロン等のX線検出器により計測されるようになってい
る。測定用の真空容器全体は、X線取り出し用の射出ス
リットがローランド円上の任意の位置に移動できるよう
になっているため、広い波長に亘って単色光を利用でき
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このように
優れた計測システムにおいても、まだ解決されていない
問題が存在する。例えば波長20Åより短い短波長のX
線を分光して計測する場合、ローランド円上のスリット
をできるだけ分光器に近づけて、非常に浅い斜入射角で
分光できる位置にスリットを含む真空容器を移動させる
必要がある。その場合、数100Å以下の真空紫外領域
の長波長の光が分光器の表面で散乱を起こし、本来の必
要とされる短波長のX線が完全に分光されずに、長波長
の成分も混合して短波長成分と共に測定用の真空容器の
射出スリットを通過してしまう。この現象は、特に射出
スリットが分光器に接近し且つ散乱強度が強い斜入射領
域で顕著になるので、光源の強度が弱くなる短波長領域
では深刻な影響を受ける。例えば、X線回折装置の場合
には、回折効率の測定に際してその測定が不可能になっ
てしまう。
優れた計測システムにおいても、まだ解決されていない
問題が存在する。例えば波長20Åより短い短波長のX
線を分光して計測する場合、ローランド円上のスリット
をできるだけ分光器に近づけて、非常に浅い斜入射角で
分光できる位置にスリットを含む真空容器を移動させる
必要がある。その場合、数100Å以下の真空紫外領域
の長波長の光が分光器の表面で散乱を起こし、本来の必
要とされる短波長のX線が完全に分光されずに、長波長
の成分も混合して短波長成分と共に測定用の真空容器の
射出スリットを通過してしまう。この現象は、特に射出
スリットが分光器に接近し且つ散乱強度が強い斜入射領
域で顕著になるので、光源の強度が弱くなる短波長領域
では深刻な影響を受ける。例えば、X線回折装置の場合
には、回折効率の測定に際してその測定が不可能になっ
てしまう。
【0008】本発明は、このような課題に鑑みて、短波
長のX線を分光して計測する場合に長波長のX線や真空
紫外光による分光器からの散乱光を確実に遮断して、純
度の高い短波長のX線を分光できるようにしたX線分光
装置を提供することを目的とする。
長のX線を分光して計測する場合に長波長のX線や真空
紫外光による分光器からの散乱光を確実に遮断して、純
度の高い短波長のX線を分光できるようにしたX線分光
装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によるX線分光装
置は、レーザープラズマ光源から放射されたX線を凹面
回折格子で回折させ、この回折光を凹面回折格子のロー
ランド円の円周に沿って移動可能に設けられたスリット
を介して物体に照射し、該物体からの反射,透過又は回
折光をX線検出器で受光するようにしたX線分光装置に
おいて、レーザープラズマ光源からX線検出器に至る光
路中に、真空紫外波長域の光を遮断し且つ20Å以下の
X線を透過するフィルタを設けたことを特徴とするもの
である。
置は、レーザープラズマ光源から放射されたX線を凹面
回折格子で回折させ、この回折光を凹面回折格子のロー
ランド円の円周に沿って移動可能に設けられたスリット
を介して物体に照射し、該物体からの反射,透過又は回
折光をX線検出器で受光するようにしたX線分光装置に
おいて、レーザープラズマ光源からX線検出器に至る光
路中に、真空紫外波長域の光を遮断し且つ20Å以下の
X線を透過するフィルタを設けたことを特徴とするもの
である。
【0010】
【作用】従って、レーザープラズマ光源から放射される
X線のうち、真空紫外波長域の散乱光等長波長領域のX
線は、フィルタによって遮断されるため、20Å以下の
純度の高い短波長のX線のみをこのフィルタを透過して
物体に照射することができ、そして物体からの反射,透
過又は回折光がX線検出器で受光される。
X線のうち、真空紫外波長域の散乱光等長波長領域のX
線は、フィルタによって遮断されるため、20Å以下の
純度の高い短波長のX線のみをこのフィルタを透過して
物体に照射することができ、そして物体からの反射,透
過又は回折光がX線検出器で受光される。
【0011】
【実施例】以下、図示した実施例に基づき本発明を詳細
に説明する。図1はX線分光装置の概略構成図を示すも
のであり、図中、1は構成部材を振動を殺しながら支え
る除振台である。2は除振台1上に設置された真空容器
であって、ガラス製の透明窓3と開口4,5を有してい
ると共に、内部に金等の金属材料で成るターゲット6が
軸7のまわりに回転可能に設けられ、更に透明窓3の内
側には該窓3とほぼ同じ大きさのガラス製の透明な遮蔽
板8が設けられている。9は除振台1上に設置された主
にNd:YAG等の高出力パルスレーザ光源、10はレ
ーザ光集光用の集光レンズであって、パルスレーザー光
源9からのレーザ光を集光レンズ10により透明窓3及
び遮蔽板8を介してターゲット6に照射すると、ターゲ
ット6の一部が溶けて蒸発してプラズマ化し、この高温
・高密度のプラズマから軟X線が発生するようになって
いる。これらがレーザープラズマ光源として機能する。
に説明する。図1はX線分光装置の概略構成図を示すも
のであり、図中、1は構成部材を振動を殺しながら支え
る除振台である。2は除振台1上に設置された真空容器
であって、ガラス製の透明窓3と開口4,5を有してい
ると共に、内部に金等の金属材料で成るターゲット6が
軸7のまわりに回転可能に設けられ、更に透明窓3の内
側には該窓3とほぼ同じ大きさのガラス製の透明な遮蔽
板8が設けられている。9は除振台1上に設置された主
にNd:YAG等の高出力パルスレーザ光源、10はレ
ーザ光集光用の集光レンズであって、パルスレーザー光
源9からのレーザ光を集光レンズ10により透明窓3及
び遮蔽板8を介してターゲット6に照射すると、ターゲ
ット6の一部が溶けて蒸発してプラズマ化し、この高温
・高密度のプラズマから軟X線が発生するようになって
いる。これらがレーザープラズマ光源として機能する。
【0012】この時、遮蔽板8は飛散する汚染物質が透
明窓3に蒸着するのを防ぐ。尚、透明窓3及び遮蔽板8
は、それらによるレーザ光の反射光がレーザ光源9に戻
ってレーザ光の発振を不安定にしないようにレーザ光源
9及び集光レンズ10の光軸に対して約3゜傾けて設置
され、更にレーザ光を効率的にターゲット6に照射でき
るように反射防止膜が施されている。そして、以上の部
材が軟X線光源部11を構成している。
明窓3に蒸着するのを防ぐ。尚、透明窓3及び遮蔽板8
は、それらによるレーザ光の反射光がレーザ光源9に戻
ってレーザ光の発振を不安定にしないようにレーザ光源
9及び集光レンズ10の光軸に対して約3゜傾けて設置
され、更にレーザ光を効率的にターゲット6に照射でき
るように反射防止膜が施されている。そして、以上の部
材が軟X線光源部11を構成している。
【0013】12は除振台1上に設置され且つ開口4を
介して真空容器2と接続された他の真空容器であって、
開口13,14を有していると共に、内部に入射スリッ
ト15及び凹面回折格子(斜入射型回折格子)16が設
置されている。そして、以上の部材が分光器21を構成
している。
介して真空容器2と接続された他の真空容器であって、
開口13,14を有していると共に、内部に入射スリッ
ト15及び凹面回折格子(斜入射型回折格子)16が設
置されている。そして、以上の部材が分光器21を構成
している。
【0014】17は一端が開口13を介して真空容器1
2に接続された伸縮自在のベローズ、18はベローズ1
7の他端に接続された更に他の真空容器であって、真空
容器18は例えばベローズ17の長手方向と短手方向の
両方向に移動可能とすることにより回折格子16のロー
ランド円の円周に沿って移動可能とした台座19を介し
て除振台1上に設置されている。20は真空容器18内
であって台座19と一致する位置に設置されている即ち
台座19の移動に伴って回折格子16のローランド円上
を移動するようになっている射出スリットである。22
は真空容器18内において回転可能に設置された試料
台、23は真空容器18内において試料台22を中心と
して回動可能に設置されたチャンネルトロン等の第1の
X線検出器であって、回折格子16の中心と射出スリッ
ト20と試料台22の中心は常に一直線上に位置するよ
うになっている。そして、以上の部材が測定部27を構
成している。
2に接続された伸縮自在のベローズ、18はベローズ1
7の他端に接続された更に他の真空容器であって、真空
容器18は例えばベローズ17の長手方向と短手方向の
両方向に移動可能とすることにより回折格子16のロー
ランド円の円周に沿って移動可能とした台座19を介し
て除振台1上に設置されている。20は真空容器18内
であって台座19と一致する位置に設置されている即ち
台座19の移動に伴って回折格子16のローランド円上
を移動するようになっている射出スリットである。22
は真空容器18内において回転可能に設置された試料
台、23は真空容器18内において試料台22を中心と
して回動可能に設置されたチャンネルトロン等の第1の
X線検出器であって、回折格子16の中心と射出スリッ
ト20と試料台22の中心は常に一直線上に位置するよ
うになっている。そして、以上の部材が測定部27を構
成している。
【0015】24は真空容器2内に設置されていて軟X
線光源部11での軟X線の強度をモニターする第2のX
線検出器である。25は第1のX線検出器23及び第2
のX線検出器24からの出力信号に基づき所定の式に従
って演算処理を行なうコンピュータ、26はコンピュー
タ25による演算結果を表示する表示装置である。コン
ピュータ25は、パルスレーザ光源9の発振,ターゲッ
ト6の回転,台座19の移動,試料台22の回転,X線
検出器23の回転も制御するようになっている。
線光源部11での軟X線の強度をモニターする第2のX
線検出器である。25は第1のX線検出器23及び第2
のX線検出器24からの出力信号に基づき所定の式に従
って演算処理を行なうコンピュータ、26はコンピュー
タ25による演算結果を表示する表示装置である。コン
ピュータ25は、パルスレーザ光源9の発振,ターゲッ
ト6の回転,台座19の移動,試料台22の回転,X線
検出器23の回転も制御するようになっている。
【0016】28は一端が開口5を介して真空容器2と
接続され且つ除振台1上に設置された振動の少ない磁気
浮上型のターボ分子ポンプ、29は振動を伝えにくいゴ
ム製のチューブ30を介してターボ分子ポンプ28の他
端と接続され且つ除振台1外に設置された振動の大きい
荒引き用のロータリーポンプであって、これらが真空容
器2内の真空引きを行う真空ポンプ部31を構成してい
る。
接続され且つ除振台1上に設置された振動の少ない磁気
浮上型のターボ分子ポンプ、29は振動を伝えにくいゴ
ム製のチューブ30を介してターボ分子ポンプ28の他
端と接続され且つ除振台1外に設置された振動の大きい
荒引き用のロータリーポンプであって、これらが真空容
器2内の真空引きを行う真空ポンプ部31を構成してい
る。
【0017】32は一端が開口14を介して真空容器1
2と接続され且つ除振台1上に設置された磁気浮上型の
ターボ分子ポンプ、33はゴム製のチューブ34を介し
てターボ分子ポンプ32の他端と接続され且つ除振台1
外に設置された荒引き用のロータリーポンプであって、
これらが真空容器12内,ベローズ17内及び真空容器
18内の真空引きを行う真空ポンプ部35を構成してい
る。以上の構成は、上述した先行技術の構成と同一であ
る。
2と接続され且つ除振台1上に設置された磁気浮上型の
ターボ分子ポンプ、33はゴム製のチューブ34を介し
てターボ分子ポンプ32の他端と接続され且つ除振台1
外に設置された荒引き用のロータリーポンプであって、
これらが真空容器12内,ベローズ17内及び真空容器
18内の真空引きを行う真空ポンプ部35を構成してい
る。以上の構成は、上述した先行技術の構成と同一であ
る。
【0018】次に、36は分光器16と射出スリット2
0との間の光路上に配設されていて分光されたX線の短
波長成分を通過させるが分光器16からの散乱光である
長波長成分をカットするフィルタであり、本実施例では
ボロンフィルタ(厚み1200Å) が用いられている。尚、
フィルタ36の配設位置は図1で示された位置に限定さ
れることなく、レーザープラズマ光源とX線検出器23
との間の光路上の何れかの位置にあればよい。37は真
空容器外の大気側からこのフィルタ36を操作して光路
に対して挿脱させるためのマニピュレーターであり、測
定光として長波長成分を用いる場合には、フィルタ36
を光路外に移動させ得るようになっている。
0との間の光路上に配設されていて分光されたX線の短
波長成分を通過させるが分光器16からの散乱光である
長波長成分をカットするフィルタであり、本実施例では
ボロンフィルタ(厚み1200Å) が用いられている。尚、
フィルタ36の配設位置は図1で示された位置に限定さ
れることなく、レーザープラズマ光源とX線検出器23
との間の光路上の何れかの位置にあればよい。37は真
空容器外の大気側からこのフィルタ36を操作して光路
に対して挿脱させるためのマニピュレーターであり、測
定光として長波長成分を用いる場合には、フィルタ36
を光路外に移動させ得るようになっている。
【0019】ここで、フィルタ36について更に説明す
る。フィルタ36の材質としては、特に原子番号17以
下の物質及びこれらの物質を含む化合物が適している。
その一部の例を図2に示す。図2はAl,Al/C,A
l/Ti ,ボロン,インジウム,スズ,カーボンの各物
質から成る薄膜の、X線領域における透過率を夫々示す
ものであり、夫々横軸に波長(A)、縦軸に透過率がと
られている。尚、図の各グラフにおいて、例えば左上グ
ラフ中の「Al,1500Å」は厚さ1500ÅのAl
薄膜であることを示すものであり、その右隣のグラフの
「Al/C,1500Å Al,270Å C」は厚さ
1500ÅのAlと厚さ270ÅのCとが接合されて構
成された薄膜であることを示している。又、図3は図2
におけるAl薄膜の分光透過率を示すグラフの要部を拡
大したものである。
る。フィルタ36の材質としては、特に原子番号17以
下の物質及びこれらの物質を含む化合物が適している。
その一部の例を図2に示す。図2はAl,Al/C,A
l/Ti ,ボロン,インジウム,スズ,カーボンの各物
質から成る薄膜の、X線領域における透過率を夫々示す
ものであり、夫々横軸に波長(A)、縦軸に透過率がと
られている。尚、図の各グラフにおいて、例えば左上グ
ラフ中の「Al,1500Å」は厚さ1500ÅのAl
薄膜であることを示すものであり、その右隣のグラフの
「Al/C,1500Å Al,270Å C」は厚さ
1500ÅのAlと厚さ270ÅのCとが接合されて構
成された薄膜であることを示している。又、図3は図2
におけるAl薄膜の分光透過率を示すグラフの要部を拡
大したものである。
【0020】そして、図2及び図3に示すように、各物
質のフィルタは、40Å以下の短波長のX線を透過させ
るのに対して、大体の目安として500Å以下の長波長
領域では、X線の透過率が非常に低くなる。従って、数
10Å以下の短波長領域で分光実験をする場合、レーザ
ープラズマ光源とX線検出器23との間の光路上のいず
れかの位置にこのような物質から成るフィルタ36を配
設すれば、分光器16からの散乱による長波長の迷光を
遮断して、純粋に必要とする短波長のX線を取り出すこ
とができる。中でも、Be,B,Al,C及びこれらの
物質を含む化合物が好ましく、とりわけ、Be,B等原
子番号の小さい元素は短波長領域に吸収端がないので、
優れたフィルタ材料であるといえる。
質のフィルタは、40Å以下の短波長のX線を透過させ
るのに対して、大体の目安として500Å以下の長波長
領域では、X線の透過率が非常に低くなる。従って、数
10Å以下の短波長領域で分光実験をする場合、レーザ
ープラズマ光源とX線検出器23との間の光路上のいず
れかの位置にこのような物質から成るフィルタ36を配
設すれば、分光器16からの散乱による長波長の迷光を
遮断して、純粋に必要とする短波長のX線を取り出すこ
とができる。中でも、Be,B,Al,C及びこれらの
物質を含む化合物が好ましく、とりわけ、Be,B等原
子番号の小さい元素は短波長領域に吸収端がないので、
優れたフィルタ材料であるといえる。
【0021】本実施例は上述の如く構成されているか
ら、パルスレーザ光源9を発振させてレーザ光をターゲ
ット6に照射すると、ターゲット6の一部が溶けて蒸発
してプラズマ化し、このプラズマから軟X線a1が発生
する。発生した軟X線a1は、真空容器2の開口4を通
って入射スリット15に導かれ、入射スリット15を通
って凹面回折格子16に入射し分光される。
ら、パルスレーザ光源9を発振させてレーザ光をターゲ
ット6に照射すると、ターゲット6の一部が溶けて蒸発
してプラズマ化し、このプラズマから軟X線a1が発生
する。発生した軟X線a1は、真空容器2の開口4を通
って入射スリット15に導かれ、入射スリット15を通
って凹面回折格子16に入射し分光される。
【0022】回折格子16で分光された軟X線a2は、
ボロンフィルタ36を通過するが、その際、短波長成分
のみがこれを通過し、分光器16からの散乱光である長
波長成分はカットされる。このボロンフィルタ36は、
図2に示すように、20Å以下の短波長成分は80%の
透過率を有しているのに対して、500Å以上の長波長
成分の透過率は1%以下になっており、理想的なフィル
タであるといえる。
ボロンフィルタ36を通過するが、その際、短波長成分
のみがこれを通過し、分光器16からの散乱光である長
波長成分はカットされる。このボロンフィルタ36は、
図2に示すように、20Å以下の短波長成分は80%の
透過率を有しているのに対して、500Å以上の長波長
成分の透過率は1%以下になっており、理想的なフィル
タであるといえる。
【0023】そして、短波長成分の軟X線a2は射出ス
リット20を通って試料台22上の試料Sに入射し、該
試料Sで回折された軟X線a3がX線検出器23により
検出される。この場合、射出スリット20からは入射ス
リット15と回折格子16と射出スリット20との位置
関係に応じて定まる特定波長の軟X線a2のみが射出し
てくるので、台座19の移動により射出スリット20を
移動せしめると射出スリット20を通過する軟X線a2
の波長が変わる即ち波長走査が行われる。従って、試料
Sに入射する軟X線a2の波長が変わるので、試料Sの
分光反射率等を測定することができる。又、試料台22
を回動させることにより試料Sに対する軟X線a2の入
射角を任意に設定できる。更に、X線検出器23を試料
台22の周りに回動することにより任意の回折角で試料
Sからの軟X線a3を検出することができる。
リット20を通って試料台22上の試料Sに入射し、該
試料Sで回折された軟X線a3がX線検出器23により
検出される。この場合、射出スリット20からは入射ス
リット15と回折格子16と射出スリット20との位置
関係に応じて定まる特定波長の軟X線a2のみが射出し
てくるので、台座19の移動により射出スリット20を
移動せしめると射出スリット20を通過する軟X線a2
の波長が変わる即ち波長走査が行われる。従って、試料
Sに入射する軟X線a2の波長が変わるので、試料Sの
分光反射率等を測定することができる。又、試料台22
を回動させることにより試料Sに対する軟X線a2の入
射角を任意に設定できる。更に、X線検出器23を試料
台22の周りに回動することにより任意の回折角で試料
Sからの軟X線a3を検出することができる。
【0024】又、長波長のX線を利用する場合等には、
真空容器等の外部である大気側からマニピュレーター3
7を操作してフィルタ36を光路外へ移動させるように
する。フィルタ36を光路から除けば、長波長のX線を
利用する際にX線を減衰させることなく測定に利用する
ことができる。長波長のX線の場合には、フィルタ36
を通過させなくても、射出スリット20が分光器16か
ら十分離れており且つ回折角も大きいので、散乱光の影
響は少ない。
真空容器等の外部である大気側からマニピュレーター3
7を操作してフィルタ36を光路外へ移動させるように
する。フィルタ36を光路から除けば、長波長のX線を
利用する際にX線を減衰させることなく測定に利用する
ことができる。長波長のX線の場合には、フィルタ36
を通過させなくても、射出スリット20が分光器16か
ら十分離れており且つ回折角も大きいので、散乱光の影
響は少ない。
【0025】上述のように本実施例によれば、フィルタ
36によって真空紫外光による分光器16からの長波長
の散乱光を遮断して、純度の高い短波長のX線の分光が
可能になる。そのため、短波長領域でのX線の単色性が
良くなり、測定精度が向上する。しかも、このフィルタ
36はマニピュレーター37によって光路外へ移動でき
るから、長波長のX線を利用する時にはX線を減衰させ
ることがない。又、このフィルタ36によって、レーザ
ープラズマ光源から放出される飛散粒子が測定用の真空
容器27に入ることを防止することができ、汚染防止及
び測定時のノイズ信号の除去にも効果がある。
36によって真空紫外光による分光器16からの長波長
の散乱光を遮断して、純度の高い短波長のX線の分光が
可能になる。そのため、短波長領域でのX線の単色性が
良くなり、測定精度が向上する。しかも、このフィルタ
36はマニピュレーター37によって光路外へ移動でき
るから、長波長のX線を利用する時にはX線を減衰させ
ることがない。又、このフィルタ36によって、レーザ
ープラズマ光源から放出される飛散粒子が測定用の真空
容器27に入ることを防止することができ、汚染防止及
び測定時のノイズ信号の除去にも効果がある。
【0026】尚、フィルタ36とターゲット6とが同一
の物質である場合、レーザープラズマ光源から放出され
る飛散粒子がフィルタ36に付着しても、分光特性が変
化しないので、測定精度の向上につながるといえる。
の物質である場合、レーザープラズマ光源から放出され
る飛散粒子がフィルタ36に付着しても、分光特性が変
化しないので、測定精度の向上につながるといえる。
【0027】
【発明の効果】上述のように本発明に係るX線分光装置
は、光路上に真空紫外波長域の光を遮断し且つ20Å以
下の波長域のX線を透過させるフィルタを配設したか
ら、長波長のX線及び真空紫外光による分光器からの散
乱光を遮断して、純度の高い短波長のX線の分光が可能
になり、そのため短波長領域でのX線の単色性が良くな
り、測定精度を向上させることができる。又、このフィ
ルタによって、レーザープラズマ光源から放出される飛
散粒子が測定用の真空容器に入ることを防止でき、汚染
防止と測定時のノイズ信号の除去にも有効である。
は、光路上に真空紫外波長域の光を遮断し且つ20Å以
下の波長域のX線を透過させるフィルタを配設したか
ら、長波長のX線及び真空紫外光による分光器からの散
乱光を遮断して、純度の高い短波長のX線の分光が可能
になり、そのため短波長領域でのX線の単色性が良くな
り、測定精度を向上させることができる。又、このフィ
ルタによって、レーザープラズマ光源から放出される飛
散粒子が測定用の真空容器に入ることを防止でき、汚染
防止と測定時のノイズ信号の除去にも有効である。
【図1】本発明によるX線分光装置の一実施例の概略図
である。
である。
【図2】フィルタを構成する各物質の透過率を示すグラ
フである。
フである。
【図3】図2のグラフのうち、Alの透過率を示すグラ
フの要部拡大図である。
フの要部拡大図である。
6 ターゲット 16 凹面回折格子 20 射出スリット 23 X線検出器 36 フィルタ
【手続補正書】
【提出日】平成4年1月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】しかし、最近コンパクトな白色のX線光源
が開発されて状況が変化し、一般ユーザーが上述のよう
な分析法を身近に利用できるようになった。このような
X線光源について具体的に説明すれば、気圧が10-4To
rr以下の高真空中において、金属等の物質から成るター
ゲット上に、1012W/cm2 以上の強度のレーザー光
が照射されると、ターゲットの金属がプラズマ状態にな
り、5Å以上の波長の白色の軟X線が発光する、という
ものである。このような方式のX線光源は、レーザープ
ラズマ光源と呼ばれ、高輝度で白色のX線を発光させる
X線光源であるために、既に本光源を用いた軟X線回折
装置、光電子分光器、X線音響分光法等が提案されてい
る。
が開発されて状況が変化し、一般ユーザーが上述のよう
な分析法を身近に利用できるようになった。このような
X線光源について具体的に説明すれば、気圧が10-4To
rr以下の高真空中において、金属等の物質から成るター
ゲット上に、1012W/cm2 以上の強度のレーザー光
が照射されると、ターゲットの金属がプラズマ状態にな
り、5Å以上の波長の白色の軟X線が発光する、という
ものである。このような方式のX線光源は、レーザープ
ラズマ光源と呼ばれ、高輝度で白色のX線を発光させる
X線光源であるために、既に本光源を用いた軟X線回折
装置、光電子分光器、X線音響分光法等が提案されてい
る。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このように
優れた計測システムにおいても、まだ解決されていない
問題が存在する。例えば波長20Åより短い短波長のX
線を分光して計測する場合、ローランド円上のスリット
をできるだけ分光器に近づけて、非常に浅い斜入射角で
分光できる位置にスリットを含む真空容器を移動させる
必要がある。その場合、数100Å以上の真空紫外領域
の長波長の光が分光器の表面で散乱を起こし、本来の必
要とされる短波長のX線が完全に分光されずに、長波長
の成分も混合して短波長成分と共に測定用の真空容器の
射出スリットを通過してしまう。この現象は、特に射出
スリットが分光器に接近し且つ散乱強度が強い斜入射領
域で顕著になるので、光源の強度が弱くなる短波長領域
では深刻な影響を受ける。例えば、X線回折装置の場合
には、回折効率の測定に際してその測定が不可能になっ
てしまう。
優れた計測システムにおいても、まだ解決されていない
問題が存在する。例えば波長20Åより短い短波長のX
線を分光して計測する場合、ローランド円上のスリット
をできるだけ分光器に近づけて、非常に浅い斜入射角で
分光できる位置にスリットを含む真空容器を移動させる
必要がある。その場合、数100Å以上の真空紫外領域
の長波長の光が分光器の表面で散乱を起こし、本来の必
要とされる短波長のX線が完全に分光されずに、長波長
の成分も混合して短波長成分と共に測定用の真空容器の
射出スリットを通過してしまう。この現象は、特に射出
スリットが分光器に接近し且つ散乱強度が強い斜入射領
域で顕著になるので、光源の強度が弱くなる短波長領域
では深刻な影響を受ける。例えば、X線回折装置の場合
には、回折効率の測定に際してその測定が不可能になっ
てしまう。
Claims (1)
- 【請求項1】レーザープラズマ光源から放射されたX線
を凹面回折格子で回折させ、該回折光を前記凹面回折格
子のローランド円の円周に沿って移動可能に設けられた
スリットを介して物体に照射し、該物体からの反射,透
過又は回折光をX線検出器で受光するようにしたX線分
光装置において、 前記レーザープラズマ光源からX線検出器に至る光路中
に、真空紫外波長域の光を遮蔽し且つ20Å以下のX線
を透過するフィルタを設けたことを特徴とするX線分光
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26078791A JP3198127B2 (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | X線分光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26078791A JP3198127B2 (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | X線分光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0599863A true JPH0599863A (ja) | 1993-04-23 |
| JP3198127B2 JP3198127B2 (ja) | 2001-08-13 |
Family
ID=17352734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26078791A Expired - Fee Related JP3198127B2 (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | X線分光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3198127B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003036677A1 (en) * | 2001-10-24 | 2003-05-01 | Jeol Ltd. | Electron microscope having x-ray spectrometer |
| US7688445B2 (en) | 2006-06-15 | 2010-03-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Spectroscope and spectroscopic method |
| CN114324207A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-12 | 辽宁华一检测认证中心有限公司 | 一种用于快速检测食品的全谱检测系统 |
-
1991
- 1991-10-08 JP JP26078791A patent/JP3198127B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003036677A1 (en) * | 2001-10-24 | 2003-05-01 | Jeol Ltd. | Electron microscope having x-ray spectrometer |
| US7688445B2 (en) | 2006-06-15 | 2010-03-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Spectroscope and spectroscopic method |
| CN114324207A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-12 | 辽宁华一检测认证中心有限公司 | 一种用于快速检测食品的全谱检测系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3198127B2 (ja) | 2001-08-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010529 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |