JPH06100482B2 - ロ−タリ−エンコ−ダ - Google Patents
ロ−タリ−エンコ−ダInfo
- Publication number
- JPH06100482B2 JPH06100482B2 JP60144558A JP14455885A JPH06100482B2 JP H06100482 B2 JPH06100482 B2 JP H06100482B2 JP 60144558 A JP60144558 A JP 60144558A JP 14455885 A JP14455885 A JP 14455885A JP H06100482 B2 JPH06100482 B2 JP H06100482B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- slits
- light receiving
- rows
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Transform (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半径方向に延在する複数個のスリットを円周
に沿って配置して構成したディスクを有し、このディス
クをはさんで対向位置に発光素子と受光素子を配置し、
ディスクを回転させることによって、発光素子からの光
を複数個のスリットを介して時間的に断続させ、その断
続光を受光素子で受光することにより、ディスクの回転
数に応じたパルス信号を発生させるようにしたロータリ
ーエンコーダに関するものである。
に沿って配置して構成したディスクを有し、このディス
クをはさんで対向位置に発光素子と受光素子を配置し、
ディスクを回転させることによって、発光素子からの光
を複数個のスリットを介して時間的に断続させ、その断
続光を受光素子で受光することにより、ディスクの回転
数に応じたパルス信号を発生させるようにしたロータリ
ーエンコーダに関するものである。
[開示の概要] 本発明は、円周方向に等間隔に配列されたスリットから
成るスリット列を有する回転ディスクおよび回転ディス
クと対向して配置され、円周方向に等間隔に配列された
スリットから成るスリット列を有する固定スリット板を
有し、発光素子からの光を回転ディスクおよび固定スリ
ット板を介して受光素子に入射させ、受光素子から出力
を取り出すロータリーエンコーダにおいて、回転ディス
クおよび固定スリット板のいずれか一方には、スリット
列を同心円状に複数列配置し、その複数列のスリット列
を互いにずらしたことにより、スリットの間隔をせまく
することなしに、単にスリット列を同心円状に多重に配
列するのみで実質的なスリットのピッチを短くしたこと
に相当するパルス個数の増大したパルス出力を得ること
ができる技術を開示するものである。
成るスリット列を有する回転ディスクおよび回転ディス
クと対向して配置され、円周方向に等間隔に配列された
スリットから成るスリット列を有する固定スリット板を
有し、発光素子からの光を回転ディスクおよび固定スリ
ット板を介して受光素子に入射させ、受光素子から出力
を取り出すロータリーエンコーダにおいて、回転ディス
クおよび固定スリット板のいずれか一方には、スリット
列を同心円状に複数列配置し、その複数列のスリット列
を互いにずらしたことにより、スリットの間隔をせまく
することなしに、単にスリット列を同心円状に多重に配
列するのみで実質的なスリットのピッチを短くしたこと
に相当するパルス個数の増大したパルス出力を得ること
ができる技術を開示するものである。
なお、この概要はあくまもで本発明の技術内容に迅速に
アクセスするためにのみ供されるものであって、本発明
の技術的範囲および権利解釈に対しては何の影響も及ぼ
さないものである。
アクセスするためにのみ供されるものであって、本発明
の技術的範囲および権利解釈に対しては何の影響も及ぼ
さないものである。
[従来の技術] 従来この種のロータリーエンコーダにおいては、上述し
たように全周にわたってスリットを形成した回転ディス
クと対向して、そのスリットの角度間隔と同一角度間隔
で複数のスリットを配置した固定スリット板を配置し、
発光素子からの光のうち回転ディスクのスリットを通過
し、さらにその固定スリット板のスリットを通過した光
のみを受光素子に入射させるようにする。ここで、回転
ディスクのスリットの角度間隔をN個/360°とすると、
受光素子からは回転ディスクの1回転あたりN個のパル
スが取り出される。
たように全周にわたってスリットを形成した回転ディス
クと対向して、そのスリットの角度間隔と同一角度間隔
で複数のスリットを配置した固定スリット板を配置し、
発光素子からの光のうち回転ディスクのスリットを通過
し、さらにその固定スリット板のスリットを通過した光
のみを受光素子に入射させるようにする。ここで、回転
ディスクのスリットの角度間隔をN個/360°とすると、
受光素子からは回転ディスクの1回転あたりN個のパル
スが取り出される。
なお、受光素子は、一般には数本のスリットからの光を
受光できる受光面をもち、その受光対象としてのスリッ
ト本数に応じて受光素子からの出力波形の振幅が定めら
れる。
受光できる受光面をもち、その受光対象としてのスリッ
ト本数に応じて受光素子からの出力波形の振幅が定めら
れる。
このようなロータリーエンコーダにおいては、1回転あ
たりに発生するパルスの個数が多い程精度の高い回転数
検出を行うことができるので、回転ディスクのスリット
の本数を可及的多くすることが要望されている。このよ
うなディスクのうち、高パルス密度のものは、ガラスデ
ィスク上に蒸着した金属膜をエッチングすることにより
作製されているが、その製造工程は複雑となり、製品は
高価である。一方、それより安価な回転ディスクは、金
属板の打ち抜き、金属板のエッチングあるいはメッキに
より形成しているが、それぞれ、スリット密度には製造
上の限度があり、高密度スリット形成に適しているメッ
キ法を用いても、スリットのピッチは150μm以上とな
り、したがってそのスリット本数は高々7本/mmであっ
て、それ以上の高密度化、したがって高パルス化は望め
ないのが現状である。
たりに発生するパルスの個数が多い程精度の高い回転数
検出を行うことができるので、回転ディスクのスリット
の本数を可及的多くすることが要望されている。このよ
うなディスクのうち、高パルス密度のものは、ガラスデ
ィスク上に蒸着した金属膜をエッチングすることにより
作製されているが、その製造工程は複雑となり、製品は
高価である。一方、それより安価な回転ディスクは、金
属板の打ち抜き、金属板のエッチングあるいはメッキに
より形成しているが、それぞれ、スリット密度には製造
上の限度があり、高密度スリット形成に適しているメッ
キ法を用いても、スリットのピッチは150μm以上とな
り、したがってそのスリット本数は高々7本/mmであっ
て、それ以上の高密度化、したがって高パルス化は望め
ないのが現状である。
[解決しようとする問題点] そこで、本発明の目的は、スリットの本数を増加するこ
となしに高パルス化を実現することのできるロータリー
エンコーダを提供することにある。
となしに高パルス化を実現することのできるロータリー
エンコーダを提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 本発明では、このような目的を達成するために、回転デ
ィスクまたは固定スリット板あるいは受光素子に形成す
るスリットのパターンに工夫を加える。
ィスクまたは固定スリット板あるいは受光素子に形成す
るスリットのパターンに工夫を加える。
すなわち、本発明は、円周方向に等間隔に配列されたス
リットから成るスリット列を有する回転ディスクおよび
回転ディスクと対向して配置され、円周方向に等間隔に
配列されたスリットから成るスリット列を有する固定ス
リット板を有し、発光素子からの光を回転ディスクおよ
び固定スリット板を介して1個の受光素子に入射させ、
受光素子から出力を取り出すロータリーエンコーダにお
いて、回転ディスクおよび固定スリット板のいずれか一
方には、スリット列を同心円状に複数列配置し、その複
数列のスリット列を互いにずらせ、かつ回転ディスクが
メッキによって形成されていることを特徴とする。
リットから成るスリット列を有する回転ディスクおよび
回転ディスクと対向して配置され、円周方向に等間隔に
配列されたスリットから成るスリット列を有する固定ス
リット板を有し、発光素子からの光を回転ディスクおよ
び固定スリット板を介して1個の受光素子に入射させ、
受光素子から出力を取り出すロータリーエンコーダにお
いて、回転ディスクおよび固定スリット板のいずれか一
方には、スリット列を同心円状に複数列配置し、その複
数列のスリット列を互いにずらせ、かつ回転ディスクが
メッキによって形成されていることを特徴とする。
本発明の他の形態では、円周方向に等間隔に配列された
スリットから成るスリット列を有する回転ディスク、円
周方向に等間隔に配列されたスリットから成るスリット
列に対応する受光部分を有する1個の受光手段と、光源
とを有し、光源からの光を回転ディスクを介して受光部
分に入射させ、受光素子から出力を取り出すロータリー
エンコーダにおいて、回転ディスクおよび受光部分のい
ずれか一方には、スリット列を同心円状に複数列配置
し、その複数列のスリット列を互いにずらせたことを特
徴とする。
スリットから成るスリット列を有する回転ディスク、円
周方向に等間隔に配列されたスリットから成るスリット
列に対応する受光部分を有する1個の受光手段と、光源
とを有し、光源からの光を回転ディスクを介して受光部
分に入射させ、受光素子から出力を取り出すロータリー
エンコーダにおいて、回転ディスクおよび受光部分のい
ずれか一方には、スリット列を同心円状に複数列配置
し、その複数列のスリット列を互いにずらせたことを特
徴とする。
[作用] 本発明によれば、スリットの間隔をせまくすることなし
に、単にスリット列を同心円状に多重に配列するのみで
実質的なスリットのピッチを短くしたことに相当するパ
ルス個数の増大したパルス出力を得ることができる。
に、単にスリット列を同心円状に多重に配列するのみで
実質的なスリットのピッチを短くしたことに相当するパ
ルス個数の増大したパルス出力を得ることができる。
[実施例] 以下に図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第1図および第2図は、本発明エンコーダの一実施例に
おける、それぞれ、回転ディスク10の一部分および固定
スリット板20を示す。回転ディスク10には、その外縁部
近傍の円周に沿ってピッチPで外側スリット11を等間隔
に配列して形成する。この外側スリット11の内側には、
わずかな間隔だけずれて内側スリット12を円周に沿って
ピッチP′で等間隔に配列して形成する。ここで、スリ
ット11および12とも円板10の外縁近傍に形成され、しか
もスリットの長手方向の長さがこの円板10の半径に比べ
て短いので、P=P′とみなしてさしつかえない。
おける、それぞれ、回転ディスク10の一部分および固定
スリット板20を示す。回転ディスク10には、その外縁部
近傍の円周に沿ってピッチPで外側スリット11を等間隔
に配列して形成する。この外側スリット11の内側には、
わずかな間隔だけずれて内側スリット12を円周に沿って
ピッチP′で等間隔に配列して形成する。ここで、スリ
ット11および12とも円板10の外縁近傍に形成され、しか
もスリットの長手方向の長さがこの円板10の半径に比べ
て短いので、P=P′とみなしてさしつかえない。
第2図に示すように、固定スリット板20は回転ディスク
10とほぼ同一半径の円周状部分で形成され、この固定ス
リット板20には1本〜数本のスリット21をピッチPで等
間隔に円周に沿って配列して形成する。
10とほぼ同一半径の円周状部分で形成され、この固定ス
リット板20には1本〜数本のスリット21をピッチPで等
間隔に円周に沿って配列して形成する。
受光素子は、発光素子からの光を回転ディスク10および
固定スリット板20の各スリットを通過して入射する光に
応じた光電変換出力を発生する。ここで、受光素子の受
光面は、固定スリット板20のスリット21のうち、所定本
数のスリットを包含する面積をもつものとする。この所
定本数を多くするほど光電変換出力の大きさは大きくな
るが、得られる光電変換出力パルスのパルス個数/回転
はスリット11および12の本数によって後述するようにし
て定まるピッチに応じた値となる。
固定スリット板20の各スリットを通過して入射する光に
応じた光電変換出力を発生する。ここで、受光素子の受
光面は、固定スリット板20のスリット21のうち、所定本
数のスリットを包含する面積をもつものとする。この所
定本数を多くするほど光電変換出力の大きさは大きくな
るが、得られる光電変換出力パルスのパルス個数/回転
はスリット11および12の本数によって後述するようにし
て定まるピッチに応じた値となる。
ここで、スリット11および12の各ピッチPに対して、ス
リット11と11との間の距離をy、スリット11と12とのず
れ、すなわち、本発明におけるスリットの実質的配列ピ
ッチをxとする。これらの量P,x,yの間の関係を、パル
ス出力のデューティ比が1:1の場合について、第3図を
参照して説明する。
リット11と11との間の距離をy、スリット11と12とのず
れ、すなわち、本発明におけるスリットの実質的配列ピ
ッチをxとする。これらの量P,x,yの間の関係を、パル
ス出力のデューティ比が1:1の場合について、第3図を
参照して説明する。
第3図(A)はピッチPの単独列のスリット13を実線で
示す。本発明では第3図(B),(C)に示す2列のス
リット11と12を配置するが、その場合は、第3図(A)
に示すように、実線のスリット13の間に破線のスリット
14を挿入したピッチの1/2になった1列のスリット列に
実質的に相当する。このように、実線のスリット13の中
間に破線のスリット14を介挿したときのスリット列のピ
ッチはP/2となり、この値はxに等しい。
示す。本発明では第3図(B),(C)に示す2列のス
リット11と12を配置するが、その場合は、第3図(A)
に示すように、実線のスリット13の間に破線のスリット
14を挿入したピッチの1/2になった1列のスリット列に
実質的に相当する。このように、実線のスリット13の中
間に破線のスリット14を介挿したときのスリット列のピ
ッチはP/2となり、この値はxに等しい。
すなわち、 である。さらにまた、 より、 であるから、この式より となり、したがって、 となる。この場合には、第3図(D)に示すようなデュ
ーティ比1:1のパルス出力が波形整形後取り出される。
ここで、各列のスリットのピッチPを100μmとする
と、実質的なピッチxは50μmとなる。各スリット11,1
2のスリット幅は25μmとする。P=150μmとし、かつ
各スリット11,12のスリット幅を37.5μmとすると、x
=75μmとなる。
ーティ比1:1のパルス出力が波形整形後取り出される。
ここで、各列のスリットのピッチPを100μmとする
と、実質的なピッチxは50μmとなる。各スリット11,1
2のスリット幅は25μmとする。P=150μmとし、かつ
各スリット11,12のスリット幅を37.5μmとすると、x
=75μmとなる。
なお、第3図ではデューティ比が1:1の場合を例示した
が、デューティ比は1:1に限られず、スリット11,12のス
リット幅を適宜変更することにより、任意所望のデュー
ティ比のパルスを発生させることができる。
が、デューティ比は1:1に限られず、スリット11,12のス
リット幅を適宜変更することにより、任意所望のデュー
ティ比のパルスを発生させることができる。
第4図は本発明の他の実施例を示し、ここでは、回転デ
ィスク10に同心円状に3列のスリット11,12および15を
配列する。この場合には、第5図(A),(B),
(C)に実線で示すようにスリット11,12,15が配列され
るので、実質的には、第5図(A)に実線と破線で示す
ように、スリット11,16,17,11,16,17,…の配列された1
列のスリットと等価であり、実質的ピッチxは、 となる。ここで、P=150μm、スリット幅を25μmと
すると、x=50μmとなる。すなわち、ピッチ150μm
のスリットによって、実質的にピッチ50μmのスリット
が形成される。
ィスク10に同心円状に3列のスリット11,12および15を
配列する。この場合には、第5図(A),(B),
(C)に実線で示すようにスリット11,12,15が配列され
るので、実質的には、第5図(A)に実線と破線で示す
ように、スリット11,16,17,11,16,17,…の配列された1
列のスリットと等価であり、実質的ピッチxは、 となる。ここで、P=150μm、スリット幅を25μmと
すると、x=50μmとなる。すなわち、ピッチ150μm
のスリットによって、実質的にピッチ50μmのスリット
が形成される。
本発明においては、多重配列されるスリット列を上述の
2列または3列に限られるものではなく、n列(nは2
以上の正整数)とすることができ、その場合には、n列
に配列されたスリットは、ピッチxの1列のスリット列
に実質的に相当する。ここで、 x=P/n=2y/(2n−1) となる。すなわち、本発明によれば、1周あたりN個の
スリットを形成したスリット列をn列配列することによ
って、N×nパルス/回転のエンコーダ出力パルスが得
られる。換言すると、スリット列を増加するほど、スリ
ット間隔をせまくすることなしに、1回転あたりのパル
ス個数を増加させることができる。
2列または3列に限られるものではなく、n列(nは2
以上の正整数)とすることができ、その場合には、n列
に配列されたスリットは、ピッチxの1列のスリット列
に実質的に相当する。ここで、 x=P/n=2y/(2n−1) となる。すなわち、本発明によれば、1周あたりN個の
スリットを形成したスリット列をn列配列することによ
って、N×nパルス/回転のエンコーダ出力パルスが得
られる。換言すると、スリット列を増加するほど、スリ
ット間隔をせまくすることなしに、1回転あたりのパル
ス個数を増加させることができる。
ここでスリット幅はP−Yとなるので、 スリット幅=P−Y=P−(2n−1)×P/(2n) =P/(2n) となる。
第6図および第7図は本発明のさらに他の実施例を示
し、ここでは、回転ディスク10には1列のスリット18を
円周に沿って配列するが、固定スリット板20にはそれぞ
れ1本〜数本のスリット22および23から成るスリット列
を同心円状にして円周に沿って等間隔で配列する。スリ
ット22と23とは互いにわずかな間隔だけずらしておく。
本例においても、第3図に示したところと同様にして、
固定スリット板20のスリットピッチはxであり、したが
って実質的にP/2となる。その結果、本例においても、
第3図(D)に示すように、スリットピッチxに対応し
てデューティ比1:1の出力パルスが取り出される。
し、ここでは、回転ディスク10には1列のスリット18を
円周に沿って配列するが、固定スリット板20にはそれぞ
れ1本〜数本のスリット22および23から成るスリット列
を同心円状にして円周に沿って等間隔で配列する。スリ
ット22と23とは互いにわずかな間隔だけずらしておく。
本例においても、第3図に示したところと同様にして、
固定スリット板20のスリットピッチはxであり、したが
って実質的にP/2となる。その結果、本例においても、
第3図(D)に示すように、スリットピッチxに対応し
てデューティ比1:1の出力パルスが取り出される。
上例において、固定スリット板20を設ける代わりに、そ
の二重スリット配列のパターンに対応して微小受光素子
を一体集積化して配列したり、あるいは受光面上にかか
るスリットパターンに対応するようスリットパターンを
もつマスクを密着して配置することも勿論できる。この
場合には、固定スリット板を別体に設ける必要がない。
の二重スリット配列のパターンに対応して微小受光素子
を一体集積化して配列したり、あるいは受光面上にかか
るスリットパターンに対応するようスリットパターンを
もつマスクを密着して配置することも勿論できる。この
場合には、固定スリット板を別体に設ける必要がない。
[発明の効果] 以上から明らかなように、本発明によれば、スリットの
間隔をせまくすることなしに、単にスリット列を同心円
状に多重に配列するのみで実質的なスリットのピッチを
短くしたことに相当するパルス個数の増大したパルス出
力を得ることができる。
間隔をせまくすることなしに、単にスリット列を同心円
状に多重に配列するのみで実質的なスリットのピッチを
短くしたことに相当するパルス個数の増大したパルス出
力を得ることができる。
本発明では、スリット幅は遮光部の幅より小さくする
が、金属薄板にレジストパターンを形成し、そのパター
ンを介して金属薄板上にメッキによる金属層を形成し、
ついで金属薄板とレジストパターンを除去するメッキ法
を用いてスリットを形成する場合には、遮光部の最小値
が制限されるものの、メッキの成長により形成される遮
光部の間のスリットの幅はせまくすることが容易であ
る。したがって、かかるメッキ法を用いて初めて本発明
エンコーダを製造することができる。
が、金属薄板にレジストパターンを形成し、そのパター
ンを介して金属薄板上にメッキによる金属層を形成し、
ついで金属薄板とレジストパターンを除去するメッキ法
を用いてスリットを形成する場合には、遮光部の最小値
が制限されるものの、メッキの成長により形成される遮
光部の間のスリットの幅はせまくすることが容易であ
る。したがって、かかるメッキ法を用いて初めて本発明
エンコーダを製造することができる。
第1図は本発明の一実施例における回転ディスクを示す
平面図、 第2図は同じく固定スリット板を示す平面図、 第3図はその動作説明図、 第4図は本発明の他の実施例における回転ディスクを示
す平面図、 第5図はその動作説明図、 第6図は本発明のさらに他の実施例における回転ディス
クを示す平面図、 第7図は同じく固定スリット板を示す平面図である。 10……回転ディスク、 11〜18……スリット、 20……固定スリット板、 21〜23……スリット。
平面図、 第2図は同じく固定スリット板を示す平面図、 第3図はその動作説明図、 第4図は本発明の他の実施例における回転ディスクを示
す平面図、 第5図はその動作説明図、 第6図は本発明のさらに他の実施例における回転ディス
クを示す平面図、 第7図は同じく固定スリット板を示す平面図である。 10……回転ディスク、 11〜18……スリット、 20……固定スリット板、 21〜23……スリット。
Claims (2)
- 【請求項1】円周方向に等間隔に配列されたスリットか
らなるスリット列を有する回転ディスクおよび該回転デ
ィスクと対向して配置され、円周方向に等間隔に配列さ
れたスリットからなるスリット列を有する固定スリット
板を有し、発光素子からの光を前記回転ディスクおよび
固定スリット板を介して受光素子に入射させ、該受光素
子から出力を取り出すロータリーエンコーダにおいて、 前記受光素子は1個でかつ前記回転ディスクおよび前記
固定スリット板のいずれか一方には前記スリット列を同
心円状にn列(n≧2の整数)配置しそのn列のスリッ
ト列を互いにずらせ、かつ前記スリットの幅がスリット
ピッチをPとしたとき略P/(2n)であることを特徴とす
るロータリーエンコーダ。 - 【請求項2】円周方向に等間隔に配列されたスリットか
らなるスリット列を有する回転ディスク、円周方向に等
間隔に配列されたスリットからなるスリット列に対応す
る受光部分を有する受光手段と、光源とを有し、該光源
からの光を前記回転ディスクを介して前記受光部分に入
射させ、該受光素子から出力を取り出すロータリーエン
コーダにおいて、 前記受光部分は1個でかつ前記回転ディスクおよび前記
受光部分のいずれか一方には、前記スリット列を同心円
状にn列(n≧2の整数)配置し、そのn列のスリット
列を互いにずらせ、かつ前記スリットの幅がスリットピ
ッチをPとしたとき略P/(2n)であることを特徴とする
ロータリーエンコーダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60144558A JPH06100482B2 (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | ロ−タリ−エンコ−ダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60144558A JPH06100482B2 (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | ロ−タリ−エンコ−ダ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS626118A JPS626118A (ja) | 1987-01-13 |
| JPH06100482B2 true JPH06100482B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=15365057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60144558A Expired - Lifetime JPH06100482B2 (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | ロ−タリ−エンコ−ダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06100482B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11554500B2 (en) | 2018-06-08 | 2023-01-17 | Seiko Epson Corporation | Encoder, motor, and robot |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005337886A (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Nok Corp | エンコーダー |
| JP4425078B2 (ja) | 2004-07-12 | 2010-03-03 | 浜松ホトニクス株式会社 | エンコーダ |
| EP1816441B1 (en) * | 2004-10-04 | 2018-09-12 | Hamamatsu Photonics K.K. | Encoder |
| JP2006225123A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置の駆動系位置制御装置 |
| DE102011075286A1 (de) * | 2011-05-05 | 2012-11-08 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optische Positionsmesseinrichtung |
| JP5740319B2 (ja) * | 2012-01-30 | 2015-06-24 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 駆動制御装置、及び、動力発生装置の駆動制御方法 |
| US11808612B2 (en) * | 2019-03-15 | 2023-11-07 | Harmonic Drive Systems Inc. | Optical rotary encoder, servo motor, and actuator |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6021411A (ja) * | 1983-07-15 | 1985-02-02 | Matsushita Electric Works Ltd | 光学式ロ−タリ−エンコ−ダ |
-
1985
- 1985-07-03 JP JP60144558A patent/JPH06100482B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11554500B2 (en) | 2018-06-08 | 2023-01-17 | Seiko Epson Corporation | Encoder, motor, and robot |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS626118A (ja) | 1987-01-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06100482B2 (ja) | ロ−タリ−エンコ−ダ | |
| US6081339A (en) | Method and apparatus for measuring the direction and position of rotating bodies | |
| JPS62278408A (ja) | アナログ三角波出力エンコ−ダ | |
| DE102021201191A1 (de) | Magnetischer geber | |
| DE102019114799A1 (de) | Encoder | |
| DE102010000732A1 (de) | Optische Multi-turn Reflexionskodierer mit verschiedenen Lichtsensorsystemen | |
| EP0030056B1 (de) | Influenzsondenanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| JPH0830660B2 (ja) | ロータリーエンコーダ | |
| TWI845566B (zh) | 光學式旋轉編碼器,伺服馬達及致動器 | |
| JPH0612268B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JPH067013U (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JPH04507029A (ja) | 光学式走査装置 | |
| CN104422467B (zh) | 光学式编码器用遮光板、其制造方法及使用其的光学式编码器 | |
| JPS61108914A (ja) | エンコ−ダ | |
| JP2015040840A5 (ja) | ||
| WO2018226198A1 (en) | Substrate alignment detection using circumferentially extending timing pattern | |
| JP4298526B2 (ja) | 光電式エンコーダ | |
| JPS63168511A (ja) | 光エンコ−ダ | |
| JPS58104178A (ja) | 電極蒸着方法 | |
| JPH09189572A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| CA2443768C (en) | Rotary encoder | |
| JPH0347691B2 (ja) | ||
| JP3693095B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JPH0695080B2 (ja) | X線回折装置 | |
| JPS63136722A (ja) | 光学式位置検出装置 |