JPH06102015B2 - 高周波加熱滅菌装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、例えばウイルスおよび細菌等を取り扱う実験
室、研究所および病院等の施設において、汚染された実
験機材等の汚染物を滅菌する装置に関するものである。

（従来の技術） バイオテクノロジー産業における実験室に対する実験機
材等の搬入は、殺菌灯付のパスボックスを通じて行われ
ており、また使用済の実験機材等の汚染物を搬出する場
合は、すべてオートクレーブで高圧蒸気滅菌処理を施し
た後室外へ搬出している。そしてその実験機材を再利用
するには、殺菌洗浄後乾燥したものをパスボックスを介
してクリーンルーム内に持ち込んでいる。

（発明が解決しようとする問題点） 上述したオートクレーブ等の従来の滅菌設備は、高圧蒸
気を使用するものであるため設備が大がかりなものとな
る上に、滅菌時間および滅菌後の冷却時間も長くかかる
から、ランニングコストが高くなるという問題点があ
る。

また再利用する実験機材については、洗浄、乾燥といっ
た多くの作業を必要とするため、実験者自から洗浄滅菌
を行うことが不可能であるので、実験機材を密封容器に
入れパスボックスを通して実験室外に出し、実験室外で
洗浄滅菌を行つてから再びパスボックスを通して実験室
内で利用している。このため、実験機材の再利用に多く
の人手と時間をついやす上に、また必然的に機材の数も
増えるという問題点があつた。

（問題点を解決するための手段） 上述の問題点を解決するため本発明においては、開閉扉
を有する密閉容器の内面に反射板を設け、その天板部に
複数個の高周波照射設備の高周波照射ユニットを設け、
両側壁部にそれぞれ水噴射設備の水噴射ノズルを設け、
密閉容器内の底部に排水設備の排水槽を設けると共に、
その上面に水抜き孔を有する汚染物載置板を設け、この
容器内で高周波加熱滅菌、洗浄および乾燥をするように
した高周波加熱滅菌装置を構成する。

（作用） 上述のように構成した本発明の高周波加熱滅菌装置によ
れば、汚染物に高周波を照射することにより短時間に高
温滅菌ができる。この場合汚染物が乾燥状態にある場合
は水噴射によつて汚染物に水分を与え、それに高周波を
照射することによつて有効に加熱することができる。

また水噴射設備によつて装置内で洗浄することもできる
し、また、洗浄したものを高周波加熱によつて乾燥させ
ることもできる。

（実施例） 以下、図面について本発明装置の一実施例を説明する。
図中１は開閉扉２（第２図参照）を有する密閉容器で、
３は開閉扉２の開閉ハンドルである。

本実施例においては、第１図に示すように、密閉容器１
の内面に反射板４を設け、その天板部に複数個（本実施
例では３個）の高周波照射設備の高周波照射ユニット５
を設け、両側壁部にそれぞれ水噴射設備の水噴射ノズル
６を設け、密閉容器１内の底部に排水設備の排水槽７を
設けると共に、その上面に水抜き孔（図示せず）を有す
る汚染物載置板８を設ける。

なお、図中９は排水槽７に接続した排水管、10は載置板
８上に載置した汚染物、11は密閉容器１の天板部に設け
た圧力センサー、12は温度センサー、13は高周波照射ユ
ニット５、水噴射ノズル６、圧力センサー11、温度セン
サー12にそれぞれ電気的に接続したA/D変換器、14はこ
のA/D変換器13と接続したコンピュータ、15はこのコン
ピュータ14と接続した操作盤である。

すなわちこの操作盤15を操作することによつて、前記各
設備を電子制御できるようになっている。

また第３図は、第１図に示した装置の排水管９による排
水の滅菌処理装置の一例を示すもので、16は排水管９に
接続した貯水タンク、17は送水ポンプ、18は排水管、19
は高周波照射滅菌装置、20は温度圧力センサー、21は水
冷却装置である。

次に上述のように構成した本発明装置の作用を説明す
る。

汚染物10を滅菌処理するには、密閉容器１の開閉蓋２を
開けて汚染物10を載置板８上に載せ、開閉扉２を閉じて
から、操作盤15を操作して高周波照射設備を作動させ、
高周波照射ユニット５より高周波を照射する。この照射
された高周波は、第１図の点線で示すように直接または
反射板４により反射された間接的に汚染物10にあたるか
ら、汚染物10は短時間で高温に加熱されて滅菌される。

なおこの場合汚染物10が乾燥状態で加熱しにくい場合
は、あらかじめ水噴射ノズル６より水を噴射して汚染物
10に水分を付与しておけばよい。

つぎに汚染物10の洗浄を行うには、操作盤15を操作し
て、水噴射設備を作動させ、水噴射ノズル６から第１図
の実線で示すように水を噴射して汚染物10にあてればよ
い。この場合排水は汚染物載置板８の水抜き孔より下方
の排水槽７に溜り、排水管９を介して外部へ排出され
る。

洗浄が終つた汚染物10を乾燥するには、再び高周波照射
設備を作動させて加熱乾燥させればよい。

また排水管９より外部に排出された排水は、例えば第３
図に示す装置によれば、高周波照射による加熱滅菌によ
り容易に滅菌して一般排水として処理することができ
る。

（発明の効果） 上述のように構成した本発明の高周波加熱滅菌装置は、
従来の装置と比較してコンパクトである上に、これによ
れば、汚染物に高周波を照射することにより短時間に高
温滅菌ができるから、ランニングコストが低下すると共
に、非常に効率がよくなる。この場合汚染物が乾燥状態
にある場合は水噴射によつて汚染物に水分を与え、それ
に高周波を照射することによつて有効に加熱することが
できる。

また水噴射設備によつて装置内で洗浄することもできる
し、また洗浄したものを高周波加熱によつて乾燥させる
こともできるから、本発明装置を例えば実験室内に設置
すれば、実験室内で汚染物の滅菌、洗浄、および乾燥を
容易に行うことができるため、従来のように繁雑な手数
を要せず、しかも短時間で実験機材の再利用ができるよ
うになるから、本発明によれば、省力化を促進すると共
に、作業能率を向上できるというすぐれた効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明装置の縦断正面図、 第２図は本発明装置の外観を示す斜視図、 第３図は排水の滅菌装置の一例を示す説明図である。 １…密閉容器、２…開閉扉 ４…反射板 ５…高周波照射設備の高周波照射ユニット ６…水噴射設備の水噴射ノズル ７…排水設備の排水槽、８…汚染物載置板 ９…排水管、10…汚染物

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】開閉扉を有する密閉容器の内面に反射板を
   設け、その天板部に複数個の高周波照射設備の高周波照
   射ユニットを設け、両側壁部にそれぞれ水噴射設備の水
   噴射ノズルを設け、密閉容器内の底部に排水設備の排水
   槽を設けると共に、その上面に水抜き孔を有する汚染物
   載置板を設け、この容器内で高周波加熱滅菌、洗浄およ
   び乾燥をするようにしたことを特徴とする高周波加熱滅
   菌装置。