JPH06104077A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPH06104077A JPH06104077A JP4251046A JP25104692A JPH06104077A JP H06104077 A JPH06104077 A JP H06104077A JP 4251046 A JP4251046 A JP 4251046A JP 25104692 A JP25104692 A JP 25104692A JP H06104077 A JPH06104077 A JP H06104077A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- heating
- food
- grooves
- shelves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Electric Ovens (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 食品の載置高さを食品に応じて選択すること
により、加熱性能が良く、しかも一度に大量の加熱がで
きる高周波加熱装置を提供する。 【構成】 加熱室２１の上下両面から電波を照射する構
成にし、加熱室２１内の両側面に平行の溝３５を有する
一対の棚３４を設け、この溝３５に嵌合する被加熱物載
置台３６を着脱自在に設ける。あるいは棚４２には複数
個の溝４３を設け、複数枚の載置台４４および４５を着
脱自在に設ける。 【効果】 加熱室の上下から電波が照射され、加熱室内
での被加熱物の載置高さ位置が自在に選択使用できるの
で、被加熱物に最も適した状態で効率よく加熱できる。
また受け皿を多段使用すれば一度に大量調理ができる。
により、加熱性能が良く、しかも一度に大量の加熱がで
きる高周波加熱装置を提供する。 【構成】 加熱室２１の上下両面から電波を照射する構
成にし、加熱室２１内の両側面に平行の溝３５を有する
一対の棚３４を設け、この溝３５に嵌合する被加熱物載
置台３６を着脱自在に設ける。あるいは棚４２には複数
個の溝４３を設け、複数枚の載置台４４および４５を着
脱自在に設ける。 【効果】 加熱室の上下から電波が照射され、加熱室内
での被加熱物の載置高さ位置が自在に選択使用できるの
で、被加熱物に最も適した状態で効率よく加熱できる。
また受け皿を多段使用すれば一度に大量調理ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子レンジ等の高周波加
熱装置に関するものである。
熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６から図８は従来の高周波加熱装置の
技術を示す。以下各図とともに従来例について説明す
る。
技術を示す。以下各図とともに従来例について説明す
る。
【０００３】図６に示すように加熱室１には導波管２を
連結して設け、この導波管２にはマグネトロン３を設け
ている。マグネトロン３からの電波は導波管２を通って
開口４から加熱室１内に照射される。加熱室１の上部に
は電波攪拌羽根５を設け、電波を均一に攪拌する。６は
駆動用のモータである。加熱室１の底面には受け皿７を
設け、被加熱物である食品８を載置している。食品８は
マグネトロン３からの電波で高周波加熱を行うものであ
る。
連結して設け、この導波管２にはマグネトロン３を設け
ている。マグネトロン３からの電波は導波管２を通って
開口４から加熱室１内に照射される。加熱室１の上部に
は電波攪拌羽根５を設け、電波を均一に攪拌する。６は
駆動用のモータである。加熱室１の底面には受け皿７を
設け、被加熱物である食品８を載置している。食品８は
マグネトロン３からの電波で高周波加熱を行うものであ
る。
【０００４】図７においては、加熱室を構成する左右の
側壁面に一体に突起１０を設けている。
側壁面に一体に突起１０を設けている。
【０００５】この突起１０に受け皿１１を載せてその上
に食品１２を載置している。図８においては、加熱室の
底面に配置する載置台１３の上に、脚１４を有する受け
皿１５を設け、その上に食品を載置できるような構成に
している。
に食品１２を載置している。図８においては、加熱室の
底面に配置する載置台１３の上に、脚１４を有する受け
皿１５を設け、その上に食品を載置できるような構成に
している。
【０００６】このような構成により食品を加熱室の底面
あるいは少し持ち上げた位置に載置し高周波加熱してい
る。
あるいは少し持ち上げた位置に載置し高周波加熱してい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成においては、図６のように受け皿７を加熱室の
底面に載置する場合は、食品を加熱するときに加熱室内
での食品の高さ位置が選べず、常に加熱室の底面で加熱
することになる。
うな構成においては、図６のように受け皿７を加熱室の
底面に載置する場合は、食品を加熱するときに加熱室内
での食品の高さ位置が選べず、常に加熱室の底面で加熱
することになる。
【０００８】加熱室内における電波の照射具合、電波の
均一性、加熱効率面などから見たとき全ての食品が必ず
しも加熱室の底面で加熱することが最適とはいえず、む
しろ食品によっては加熱室内における載置位置を変えた
ほうがうまく加熱される場合が多いが、このような構成
では加熱室の底面でしか加熱することは出来ない。
均一性、加熱効率面などから見たとき全ての食品が必ず
しも加熱室の底面で加熱することが最適とはいえず、む
しろ食品によっては加熱室内における載置位置を変えた
ほうがうまく加熱される場合が多いが、このような構成
では加熱室の底面でしか加熱することは出来ない。
【０００９】また一段では載置しきれない大量の食品を
一度に加熱しようとしても、受け皿は一枚しか収納でき
ないので、大量の食品の加熱は出来ず、何回にも分けて
加熱するしか方法がなかった。
一度に加熱しようとしても、受け皿は一枚しか収納でき
ないので、大量の食品の加熱は出来ず、何回にも分けて
加熱するしか方法がなかった。
【００１０】また、従来でも図７のように加熱室の側面
に突起１０を複数個設け、載置台１１の位置を選択し、
食品によって高さを選び、最適の位置で加熱することも
行なわれてきた。また載置台１１を複数枚使用すれば食
品を多段に載置し大量調理ができる。しかしながら電波
は上面から照射されているので、上段の食品のほうが下
段の食品より加熱されやすく、加熱むらができる。
に突起１０を複数個設け、載置台１１の位置を選択し、
食品によって高さを選び、最適の位置で加熱することも
行なわれてきた。また載置台１１を複数枚使用すれば食
品を多段に載置し大量調理ができる。しかしながら電波
は上面から照射されているので、上段の食品のほうが下
段の食品より加熱されやすく、加熱むらができる。
【００１１】また加熱室内に突起を設けることによっ
て、壁面は凹凸が出来食品かすがたまったり、壁面が汚
れた場合など加熱室内の掃除がしにくく好ましくなかっ
た。さらに加熱室の底面で加熱する場合には、この突起
が邪魔になり使いにくかった。
て、壁面は凹凸が出来食品かすがたまったり、壁面が汚
れた場合など加熱室内の掃除がしにくく好ましくなかっ
た。さらに加熱室の底面で加熱する場合には、この突起
が邪魔になり使いにくかった。
【００１２】さらに図８のように脚を有する受け皿１５
を用いることにより、食品の位置を高くして加熱する方
法もあったが、この場合にはこの受け皿１５を使わない
ときに、脚１４が有るために受け皿１５がかさばり、収
納場所が多く必要になり、この面からも使いにくかっ
た。
を用いることにより、食品の位置を高くして加熱する方
法もあったが、この場合にはこの受け皿１５を使わない
ときに、脚１４が有るために受け皿１５がかさばり、収
納場所が多く必要になり、この面からも使いにくかっ
た。
【００１３】そこで、本発明は加熱室を電波をむらなく
均一に照射し、加熱室内における食品の載置高さ位置を
自在に選び最適の状態で加熱ができ、しかも棚や載置台
を着脱自在にして手入れや取扱いの容易な高周波加熱装
置を提供することを第１の目的としている。
均一に照射し、加熱室内における食品の載置高さ位置を
自在に選び最適の状態で加熱ができ、しかも棚や載置台
を着脱自在にして手入れや取扱いの容易な高周波加熱装
置を提供することを第１の目的としている。
【００１４】また大量の食品を多段に加熱室内に載置
し、一度に大量の調理を行える高周波加熱装置を提供す
ることを第２の目的としている。
し、一度に大量の調理を行える高周波加熱装置を提供す
ることを第２の目的としている。
【００１５】
【課題を解決するための手段】そこで前記第１の目的を
達成するために本発明は、加熱室の上面と下面の両面か
ら均一に電波を照射する構成とし、加熱室の左右両側面
を平坦な構成とし、この両側面に低誘電率の材料で構成
した一対の棚を着脱自在に設け、この棚に水平方向に溝
または突起を設け、この溝または突起に嵌合する低誘電
率材料によって構成した被加熱物載置台を着脱自在に設
けたものである。
達成するために本発明は、加熱室の上面と下面の両面か
ら均一に電波を照射する構成とし、加熱室の左右両側面
を平坦な構成とし、この両側面に低誘電率の材料で構成
した一対の棚を着脱自在に設け、この棚に水平方向に溝
または突起を設け、この溝または突起に嵌合する低誘電
率材料によって構成した被加熱物載置台を着脱自在に設
けたものである。
【００１６】また第２の目的を達成するために、本発明
は加熱室の側面に設けた一対の棚に水平方向に複数個の
溝または突起を設け、この溝または突起に嵌合する低誘
電率材料によって構成した複数枚の載置台を着脱自在に
設けたものである。
は加熱室の側面に設けた一対の棚に水平方向に複数個の
溝または突起を設け、この溝または突起に嵌合する低誘
電率材料によって構成した複数枚の載置台を着脱自在に
設けたものである。
【００１７】
【作用】本発明の高周波加熱装置は、加熱室の上下から
電波を照射し、加熱室内の両側面に一対の棚と、これに
嵌合する被加熱物載置台を着脱自在に設けることによ
り、加熱する食品を加熱室底面から一定の高さに持ち上
げた状態に保持することが出来る。載置台を加熱室から
着脱し、食品によって使い分けることにより、食品に応
じて高さを選択できることになる。これにより食品に対
して電波が均一に最も効率よく加熱される、最も良い状
態で加熱することが出来る。棚や受け皿を加熱室から取
り外せば、加熱室の両側面は平坦であるので手入れがし
やすい。
電波を照射し、加熱室内の両側面に一対の棚と、これに
嵌合する被加熱物載置台を着脱自在に設けることによ
り、加熱する食品を加熱室底面から一定の高さに持ち上
げた状態に保持することが出来る。載置台を加熱室から
着脱し、食品によって使い分けることにより、食品に応
じて高さを選択できることになる。これにより食品に対
して電波が均一に最も効率よく加熱される、最も良い状
態で加熱することが出来る。棚や受け皿を加熱室から取
り外せば、加熱室の両側面は平坦であるので手入れがし
やすい。
【００１８】また棚に複数個の溝または突起を設け、こ
れに嵌合する複数枚の載置台を設けることにより、加熱
室内に多段に食品を載置できるので、一度に大量の食品
を加熱むらがなく均一に加熱することが出来る。
れに嵌合する複数枚の載置台を設けることにより、加熱
室内に多段に食品を載置できるので、一度に大量の食品
を加熱むらがなく均一に加熱することが出来る。
【００１９】
【実施例】以下本発明の一実施例における高周波加熱装
置について図面とともに説明する。
置について図面とともに説明する。
【００２０】図１に示すように、加熱室２１の上面には
導波管２２を連結して設け、この導波管２２には電波の
発振管であるマグネトロン２３を設ける。マグネトロン
２３からの電波は、開口２４を通って加熱室２１内に上
面から照射される。加熱室２１の上部に設けた電波攪拌
羽根２５は、モータ２６により回転駆動され電波を均一
に攪拌する。２７は低誘電材料によって構成した仕切板
である。
導波管２２を連結して設け、この導波管２２には電波の
発振管であるマグネトロン２３を設ける。マグネトロン
２３からの電波は、開口２４を通って加熱室２１内に上
面から照射される。加熱室２１の上部に設けた電波攪拌
羽根２５は、モータ２６により回転駆動され電波を均一
に攪拌する。２７は低誘電材料によって構成した仕切板
である。
【００２１】加熱室２１の下面には導波管２８を連結し
て設け、この導波管２８にはマグネトロン２９を設け
る。マグネトロン２９の電波は開口３０を通って加熱室
２１内に下面から照射される。電波攪拌羽根３１はモー
タ３２によって回転し電波を均一に攪拌する。３３は結
晶化ガラスなどの低誘電率材料によって構成した底板で
ある。
て設け、この導波管２８にはマグネトロン２９を設け
る。マグネトロン２９の電波は開口３０を通って加熱室
２１内に下面から照射される。電波攪拌羽根３１はモー
タ３２によって回転し電波を均一に攪拌する。３３は結
晶化ガラスなどの低誘電率材料によって構成した底板で
ある。
【００２２】加熱室２１の両側壁は平坦に形成してい
る。この左右両側壁には低誘電材料によって構成した一
対の棚３４を加熱室２１に対して着脱自在に設ける。棚
３４には水平方向に溝３５を設け、低誘電率材料によっ
て構成した載置台３６を嵌合するように、着脱自在に設
けている。また、溝３５は棚３４から突出した突起より
構成しても載置台３６を着脱自在に支持できることには
変わりはない。
る。この左右両側壁には低誘電材料によって構成した一
対の棚３４を加熱室２１に対して着脱自在に設ける。棚
３４には水平方向に溝３５を設け、低誘電率材料によっ
て構成した載置台３６を嵌合するように、着脱自在に設
けている。また、溝３５は棚３４から突出した突起より
構成しても載置台３６を着脱自在に支持できることには
変わりはない。
【００２３】載置台３６の上には被加熱物である食品３
７を載置し、マグネトロン２３、２９からの電波により
食品を上下から均一に高周波加熱を行う。
７を載置し、マグネトロン２３、２９からの電波により
食品を上下から均一に高周波加熱を行う。
【００２４】図２は前記図１に示した本発明の一実施例
における棚および載置台を加熱室から取り外した状態を
斜視図により示している。棚３４には載置台３６を嵌合
する溝３５を有している。溝３５と載置台３６を嵌合し
加熱室内に収納することによって、棚３４を加熱室左右
壁面に位置され倒れることを防止されるとともに、載置
台３６も加熱室底面から所定の高さの位置に保持され
る。
における棚および載置台を加熱室から取り外した状態を
斜視図により示している。棚３４には載置台３６を嵌合
する溝３５を有している。溝３５と載置台３６を嵌合し
加熱室内に収納することによって、棚３４を加熱室左右
壁面に位置され倒れることを防止されるとともに、載置
台３６も加熱室底面から所定の高さの位置に保持され
る。
【００２５】図２に示すように棚３４および載置台３６
は加熱室から取り外した状態では全てばらばらの状態に
分解できる。
は加熱室から取り外した状態では全てばらばらの状態に
分解できる。
【００２６】図３は本発明の他の実施例を示すものであ
る。加熱室４１の左右壁面には低誘電率材料によって構
成した棚４２を着脱自在に設ける。棚４２には水平方向
に複数個の溝４３を設けている。この溝４３に着脱自在
に嵌合するように複数個の載置台４４、４５を設ける。
載置台４４は上段を、載置台４５は下段を構成してい
る。載置台４４の上には被加熱物である食品４６を、載
置台４５の上には食品４７を載置している。
る。加熱室４１の左右壁面には低誘電率材料によって構
成した棚４２を着脱自在に設ける。棚４２には水平方向
に複数個の溝４３を設けている。この溝４３に着脱自在
に嵌合するように複数個の載置台４４、４５を設ける。
載置台４４は上段を、載置台４５は下段を構成してい
る。載置台４４の上には被加熱物である食品４６を、載
置台４５の上には食品４７を載置している。
【００２７】図４は前記図３に示した本発明の他の実施
例における棚および載置台を加熱室から取り外した状態
を斜視図により示している。棚４２には載置台４４、４
５を嵌合する溝４３を有している。
例における棚および載置台を加熱室から取り外した状態
を斜視図により示している。棚４２には載置台４４、４
５を嵌合する溝４３を有している。
【００２８】図５は本発明による高周波加熱装置の棚の
別の実施例を示すものである。棚５０には上段用の複数
本の溝５１と、下段用の複数本の溝５２を設け、それぞ
れ多段階の載置台の設置ができるとともに、それぞれの
段においても高さを微妙に選べるように構成したもので
ある。
別の実施例を示すものである。棚５０には上段用の複数
本の溝５１と、下段用の複数本の溝５２を設け、それぞ
れ多段階の載置台の設置ができるとともに、それぞれの
段においても高さを微妙に選べるように構成したもので
ある。
【００２９】
【発明の効果】以上のように本発明の高周波加熱装置に
おいては、以下の効果が得られる。
おいては、以下の効果が得られる。
【００３０】（１）加熱室内に棚と載置台によって、食
品を加熱室の底面から距離を離し浮かせた状態に保持
し、加熱室の上面と下面の両面から食品に電波を照射す
るので食品は全体に均一に加熱することができる。
品を加熱室の底面から距離を離し浮かせた状態に保持
し、加熱室の上面と下面の両面から食品に電波を照射す
るので食品は全体に均一に加熱することができる。
【００３１】また食品の大きさ、形状によって加熱室内
の電波の共振状態が変化することになり、食品の高さ位
置によって電波の加熱状態が変わるが、本発明ではそれ
ぞれの食品に最も適した加熱状態が得られる高さを選べ
るので、より均一にしかも最も効率の良い状態で加熱を
行うことができる。
の電波の共振状態が変化することになり、食品の高さ位
置によって電波の加熱状態が変わるが、本発明ではそれ
ぞれの食品に最も適した加熱状態が得られる高さを選べ
るので、より均一にしかも最も効率の良い状態で加熱を
行うことができる。
【００３２】（２）棚および載置台は、溝や突起を嵌合
するだけで加熱室内に着脱自在に保持できるので、加熱
室の両側面には突起などの凹凸物が不要になり、壁面が
平坦な形状に出来るので、壁面に食品かすなども溜まり
にくく、また壁面が汚れた場合でも簡単に拭き掃除が出
来るので、手入れが容易になり扱い易い高周波加熱装置
を実現できる。
するだけで加熱室内に着脱自在に保持できるので、加熱
室の両側面には突起などの凹凸物が不要になり、壁面が
平坦な形状に出来るので、壁面に食品かすなども溜まり
にくく、また壁面が汚れた場合でも簡単に拭き掃除が出
来るので、手入れが容易になり扱い易い高周波加熱装置
を実現できる。
【００３３】さらに棚や載置台は加熱室から自在に着脱
できるので、加熱室から取り出して水洗いすることが出
来、この面からも掃除が容易で使いやすい。
できるので、加熱室から取り出して水洗いすることが出
来、この面からも掃除が容易で使いやすい。
【００３４】（３）食品によっては加熱室の底面でも十
分加熱できるものが有るが、この場合は棚や載置台を取
り外しておけば、加熱室内は平坦な形状となりすっきり
した状態で加熱をすることができ、扱いやすくなる。
分加熱できるものが有るが、この場合は棚や載置台を取
り外しておけば、加熱室内は平坦な形状となりすっきり
した状態で加熱をすることができ、扱いやすくなる。
【００３５】（４）棚や載置台はそれぞれが平らな形状
に構成できるので、取り外した状態ではかさばらず、狭
いスペースの中に収納できるので扱いやすく、また輸送
も容易である。
に構成できるので、取り外した状態ではかさばらず、狭
いスペースの中に収納できるので扱いやすく、また輸送
も容易である。
【００３６】（５）受け皿を２段などのように複数段設
置することにより、食品を多段に載置することができ
る。このような加熱を行っても電波が加熱室の上下から
照射されているので、各段に載置した食品を均一に加熱
することができる。これにより一度に大量の食品を加熱
できる。
置することにより、食品を多段に載置することができ
る。このような加熱を行っても電波が加熱室の上下から
照射されているので、各段に載置した食品を均一に加熱
することができる。これにより一度に大量の食品を加熱
できる。
【００３７】（６）図５に示すように棚に、載置台を多
段に設置するための溝だけではなくさらに各段において
も高さが選べるように複数本の溝を設けることにより、
各段において載置台の高さ位置を、微妙にしかも自由に
選ぶことができ、各段の食品が最も良く加熱される条件
に合わせることができ、さらに効率の良い加熱を行うこ
とができるようになる。
段に設置するための溝だけではなくさらに各段において
も高さが選べるように複数本の溝を設けることにより、
各段において載置台の高さ位置を、微妙にしかも自由に
選ぶことができ、各段の食品が最も良く加熱される条件
に合わせることができ、さらに効率の良い加熱を行うこ
とができるようになる。
【００３８】（７）棚の溝の寸法、載置台の板厚や板幅
を適切にすることによって、例えば加熱室の中に少し圧
入するように押し込むようにすれば、棚や載置台自体は
加熱室壁面との摩擦により、加熱室の中にしっかりと保
持されるので滑り出すこともなく確実に嵌合することが
できる。棚および載置台は低誘電率材料により絶縁物で
構成しているので、食品の容器を金属体で構成しても加
熱室壁面とは絶縁されスパークなどを起こし加熱室や容
器を損傷することも防止できる。
を適切にすることによって、例えば加熱室の中に少し圧
入するように押し込むようにすれば、棚や載置台自体は
加熱室壁面との摩擦により、加熱室の中にしっかりと保
持されるので滑り出すこともなく確実に嵌合することが
できる。棚および載置台は低誘電率材料により絶縁物で
構成しているので、食品の容器を金属体で構成しても加
熱室壁面とは絶縁されスパークなどを起こし加熱室や容
器を損傷することも防止できる。
【００３９】（８）載置台は食品を持ち運びするトレイ
としても利用できる。食品の大きさが小さく、たくさん
の数を一度に載置するような場合には、あらかじめ受け
皿のうえに並べておき、この状態で加熱室の中に出し入
れすれば一度にできるので便利である。
としても利用できる。食品の大きさが小さく、たくさん
の数を一度に載置するような場合には、あらかじめ受け
皿のうえに並べておき、この状態で加熱室の中に出し入
れすれば一度にできるので便利である。
【００４０】このように簡単な構成により加熱性能が高
く、しかも使い勝手が良い高周波加熱装置を提供するこ
とができる。
く、しかも使い勝手が良い高周波加熱装置を提供するこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例における高周波加熱装置の断
面図
面図
【図２】本発明の一実施例における棚および載置台の斜
視図
視図
【図３】本発明の他の実施例における高周波加熱装置の
断面図
断面図
【図４】本発明の他の実施例における棚および載置台の
斜視図
斜視図
【図５】本発明の他の実施例における棚の斜視図
【図６】従来の高周波加熱装置の断面図
【図７】従来の他の高周波加熱装置の断面図
【図８】従来の載置台の斜視図
２１、４１ 加熱室 ２３、２９ マグネトロン（高周波発生手段） ３４、４２ 棚 ３５、４３ 溝 ３６、４４、４５ 載置台
Claims (2)
- 【請求項１】 加熱室と、前記加熱室の上面および下面
に結合された高周波発生手段と、前記加熱室の上面およ
び下面に設けられた電波攪拌手段と、前記加熱室内の左
右両側面に着脱自在に設けられた低誘電率材料により構
成された一対の棚よりなり、前記棚には水平方向に溝ま
たは突起を設け、前記溝または突起に嵌合するように、
低誘電率材料により構成した被加熱物載置台を着脱自在
に設けた構成とした高周波加熱装置。 - 【請求項２】 加熱室と、前記加熱室の上面および下面
に結合された高周波発生手段と、前記加熱室の上面およ
び下面に設けられた電波攪拌手段と、加熱室内の左右両
側面に着脱自在に設けられた低誘電率材料により構成さ
れた一対の棚を設け、前記棚には水平方向に複数の溝ま
たは突起を設け前記複数の溝または突起に嵌合するよう
に、低誘電率材料により構成した複数枚の被加熱物載置
台を着脱自在に設けた構成とした高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4251046A JP2864893B2 (ja) | 1992-09-21 | 1992-09-21 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4251046A JP2864893B2 (ja) | 1992-09-21 | 1992-09-21 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06104077A true JPH06104077A (ja) | 1994-04-15 |
| JP2864893B2 JP2864893B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=17216814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4251046A Expired - Lifetime JP2864893B2 (ja) | 1992-09-21 | 1992-09-21 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2864893B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100525828B1 (ko) * | 2001-04-25 | 2005-11-03 | 에스케이씨 주식회사 | 버튼형 리튬전지 및 그의 제조방법 |
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