JPH06105790A - 食器洗浄乾燥機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 乾燥工程における温度上昇の立ち上がりが早
く、しかもオーバーシュートを生じることがない。 【構成】 加熱手段への通電を遮断することになる設定
温度以下の所定温度Ｔ１を境に加熱手段への通電のデュ
ーティ比を変更して、所定温度以下でオン時間を長く、
所定温度以上でオン時間を短くする。また、加熱手段へ
の通電を遮断することになる設定温度を複数個設けて、
加熱手段への通電の開始直後に検出温度と比較される設
定温度Ｔ２を、次回以降で比較対象となる設定温度Ｔ３
よりも低くする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は食器洗浄乾燥機、殊にそ
の乾燥工程における温度制御に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】食器洗浄乾燥機による洗浄乾燥は、ヒー
タで加熱されるとともにノズルから噴出させた水を洗浄
槽内に投入してある食器にあてて食器の汚れを落とす洗
浄及びすすぎ工程と、洗浄槽内の水を排出した後、洗浄
槽内をヒータで加熱する乾燥工程とからなるが、この乾
燥工程に際しての洗浄槽内の温度制御は、一般にサーミ
スタのような温度検出素子で検出される温度をあらかじ
め設定してある温度と比較することによって行ってお
り、設定温度以下の場合は所定のデューティ比でヒータ
に通電し、設定温度以上となれば、ヒータへの通電を遮
断していた。なお、デューティ比制御としているのは、
一般にヒータは洗浄水の加熱用も兼用しているが、水よ
りも空気の方が熱伝導が小さいために、乾燥のために常
時通電を行うと、ヒータ周辺が熱くなり過ぎるととも
に、洗浄槽内の温度分布に大きなばらつきが生じるから
である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ここにおいて、乾燥に
要する時間を短くするには、ヒータ通電におけるデュー
ティ比のオン時間を長くすることが好ましいわけである
が、この場合、ヒータ周辺部と、温度検出素子が設置さ
れた温度検出部とにおける温度差が大きくなるために設
定温度を越えてしまうオーバーシュートが生じてしまう
ものであり、周囲温度が高かったり、電源電圧が高かっ
たり、温度検出素子が洗浄槽外に設置されていた場合に
は、オーバーシュートが特に顕著に生ずることになっ
て、洗浄槽が合成樹脂製である場合、洗浄槽に変形や変
色が生じてしまう。これを避けるために、ヒータ通電の
デューティ比におけるオン時間を短くすると、設定温度
に達するまでの立ち上がり時間が長くなってしまい、周
囲温度が低かったり電源電圧が低かったりすると、乾燥
性能を大きく低下させてしまうことになる。

【０００４】また、温度検出素子が乾燥工程に先立って
行われる洗浄工程やすすぎ工程で濡れてしまうことで、
洗浄槽内の空気温度を正確に検出できなくなることを嫌
って洗浄槽外に温度検出素子を配置した場合、温度検出
素子を洗浄槽内に配した場合よりも温度検出素子付近の
温度上昇が遅れることになるが、この遅れは低い温度か
ら上昇させる場合の方が大きくなるために、最初の立ち
上がりの時に特にオーバーシュートが生じやすい。

【０００５】本発明はこのような点に鑑み為されたもの
であり、その目的とするところは乾燥工程における温度
上昇の立ち上がりが早く、しかもオーバーシュートを生
じることがない食器洗浄乾燥機を提供するにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】しかして本発明は、洗浄
槽内を加熱する加熱手段と、洗浄槽内の温度を検出する
温度検出手段とを備えて、温度検出手段にて加熱手段に
よる洗浄槽内の加熱の温度制御を行う食器洗浄乾燥機に
おいて、加熱手段への通電を遮断することになる設定温
度以下の所定温度を境に加熱手段への通電のデューティ
比を変更して、所定温度以下でオン時間を長く、所定温
度以上でオン時間を短くしていることに第１の特徴を有
しており、また加熱手段への通電を遮断することになる
設定温度を複数個設けて、加熱手段への通電の開始直後
に検出温度と比較される設定温度を、次回以降で比較対
象となる設定温度よりも低くしていることに第２の特徴
を有している。

【０００７】

【作用】本発明の第１の特徴とするところによれば、所
定温度に達するまではオン時間が長いデューティ比で加
熱手段に通電されるために、早い立ち上がりを得ること
ができ、しかも所定温度に達した後には、オン時間が短
いデューティ比に切り替えられるために、設定温度を越
えてしまうオーバーシュートが生じにくいものである。
また第２の特徴とするところによれば、オーバーシュー
トが最も生じやすい立ち上がり時には低めの温度で加熱
手段への通電が遮断されるために、立ち上がり時のオー
バーシュートが生じにくいものである。

【０００８】

【実施例】以下本発明を図示の実施例に基づいて詳述す
ると、この食器洗浄乾燥機は、図３に示すように、洗浄
槽１０と、洗浄ポンプ１１及び排水ポンプ１２、固定ノ
ズル１３、スプレーノズル１４，１５、ヒータ１６等を
備えたものであり、洗浄槽１０内に食器をセットすると
ともに、専用の洗剤と乾燥仕上げ剤とを夫々洗剤投入器
１７及び仕上げ剤投入器１８にセットした後、ドアを閉
めれば、ドアスイッチ２１がオンとなって運転準備が完
了し、この状態で操作パネルの制御回路用電源スイッチ
２２をオンとし、スタートスイッチ２３を押せば、標準
モードでの洗浄乾燥が開始される。

【０００９】すなわち、排水ポンプ１２がまず作動して
正常水位検出用圧力スイッチ１９がオフとなるまで排水
を行うと、次いで給水電磁弁３１がオンとなって洗浄槽
１０内への給水が開始され、正常水位検出用圧力スイッ
チ１９がオンとなれば、給水電磁弁３１が閉じて給水工
程が完了する。この後、洗浄ポンプ１１が作動するとと
もにヒータ１６に通電され、さらに洗剤投入器１７が洗
剤の投入を行うものであり、洗浄ポンプ１１で加圧され
た洗浄水は、固定ノズル１３及びスプレーノズル１４，
１５から噴射され、この時、スプレーノズル１４，１５
は噴射圧によって回転して食器の隅々に洗浄水を当て
る。ノズル１３，１４，１５から噴射された洗浄水は、
フィルタ３２によって濾過された後、洗浄ポンプ１１へ
と戻る。このように洗浄水が噴射される洗浄工程は、所
定時間継続されるものであり、この間、ヒータ１６は設
定温度（たとえば６０℃）を保つように温度制御され
る。

【００１０】洗浄工程が終了すれば、いったん排水を行
った後、再度給水が行われるとともに、ノズル１３，１
４，１５から水を噴射させるすすぎ工程が行われ、所定
時間後に排水が行われる。このすすぎ工程は、複数回繰
り返されるとともに、最終すすぎ工程ではヒータ１６で
加熱された温水によるすすぎがなされ、温水すすぎの終
了直前に乾燥仕上げ剤の投入がなされた後、排水がなさ
れる。

【００１１】ついで乾燥工程に入るわけであるが、この
食器洗浄乾燥機の動作制御をつかさどるマイクロコンピ
ュータからなる制御回路は、洗浄槽１０の外壁面に取り
付けたサーミスタのような温度検出素子２で洗浄槽１０
の壁を通して検出する洗浄槽１０内の温度Ｔｈ２と、あ
らかじめ設定してある温度Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３との温度比
較に基づき、ヒータ１６への通電を制御するものであ
り、所定温度Ｔ１に達するまではオン時間の長いデュー
ティ比の通電（ここではオンとオフとが夫々所定時間毎
に繰り返されるインターバル通電）を行い、所定温度Ｔ
１を越えればオン時間の短いデューティ比の通電を行
い、さらに設定温度Ｔ２もしくはＴ３に達すれば、ヒー
タ１６への通電を遮断する。

【００１２】すなわち、制御回路は、乾燥工程用のサブ
ルーティンとして、図１及び図２に示すフローチャート
に基づくヒータ１６の動作制御を行うものであって、こ
のフローチャートに基づき詳しく説明すると、乾燥工程
に入った時、乾燥タイマーをオン、初期フラッグを０、
ヒーターオンフラッグを１とする初期設定を行った後、
温度検出素子２で検出される洗浄槽１０内の温度Ｔｈ２
と所定温度Ｔ１（たとえば６５℃）とを比較し、所定温
度Ｔ１以下である時には、初期フラッグを１とするとと
もに、オンタイマーで設定されたオン時間ｔ１（たとえ
ば１８秒）と、オフタイマーで設定されたオフ時間（た
とえば２０秒）のインターバル通電でヒータ１６に通電
する。そして検出温度Ｔｈ２が所定温度Ｔ１を越えたな
らば、図２に示すように、初期フラッグが１である時に
は検出温度Ｔｈ２と設定温度Ｔ２（たとえば７８℃）と
を比較し、初期フラッグが０である時には検出温度Ｔｈ
２と設定温度Ｔ３（たとえば８０℃）とを比較し、設定
温度Ｔ２，Ｔ３以下であるならば、オンタイマーで設定
されたオン時間ｔ２（たとえば１２秒）と、オフタイマ
ーで設定されたオフ時間（たとえば２０秒）のインター
バル通電でヒータ１６に通電し、検出温度Ｔｈ２が設定
温度Ｔ２，Ｔ３に達したならば、ヒータ１６への通電を
遮断するとともに、初期フラッグを０とする。

【００１３】洗浄槽１０内の温度が所定温度Ｔ１に達す
るまでは、オン時間の長いデューティ比の通電をヒータ
１６に対して行うことで、温度の立ち上がりの早い加熱
を行い、所定温度Ｔ１に達すれば、オン時間の短いデュ
ーティ比の通電を行うことで、オーバーシュートが生じ
にくくなるようにしているものであり、また、検出温度
Ｔｈ２が所定温度Ｔ１以下の状態から加熱を開始した時
には、ヒータ１６への通電を遮断することになる設定温
度を、以降の通電遮断のための設定温度Ｔ３より低い温
度Ｔ２とすることによって、オーバーシュートが最も生
じやすい加熱開始時のオーバーシュート防止をより確実
にしているものである。

【００１４】なお、インターバル通電状態から遮断状態
への移行時には所要のオフ保持時間だけオフ状態を保持
してからインターバル通電状態への移行を許すものと
し、遮断状態からインターバル通電状態への移行時に
は、所要のオン保持時間だけオン状態を保持するように
することで、チャタリング動作を防止している。乾燥工
程に際して洗浄槽１０の外壁面に取り付けた温度検出素
子２を用いているのは、洗浄槽１０内に温度検出素子を
配置した場合、乾燥工程に先立って行われる洗浄工程や
すすぎ工程で使用される水で温度検出素子が濡れている
と、洗浄槽１０内の温度を正確に検出することができな
いからである。なお、洗浄工程やすすぎ工程の際の水の
温度の制御のための水温検出は、洗浄槽１０内に配した
温度検出素子３で行っている。

【００１５】

【発明の効果】以上のように本発明の第１の特徴とする
ところによれば、所定温度に達するまではオン時間が長
いデューティ比で加熱手段に通電するために、早い立ち
上がりを得ることができ、しかも所定温度に達した後に
は、オン時間が短いデューティ比に切り替えるために、
設定温度を越えてしまうオーバーシュートが生じにく
く、洗浄槽が合成樹脂製のものであったり温度検出素子
が洗浄槽外に設置されている場合にも、オーバーシュー
トによる洗浄槽の変色変形が生じないものである。

【００１６】また第２の特徴とするところによれば、オ
ーバーシュートが最も生じやすい立ち上がり時には低め
の温度で加熱手段への通電が遮断されるために、立ち上
がり時のオーバーシュートが生じにくく、安定した動作
を得られるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施例における動作を示すフローチャートで
ある。

【図２】同上の動作を示すフローチャートである。

【図３】概略断面図である。

【符号の説明】

２ 温度検出素子 １０ 洗浄槽 １６ ヒータ Ｔ１ 所定温度 Ｔ２，Ｔ３ 設定温度 Ｔｈ２ 検出温度

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 寺本 光徳 大阪市港区南市岡１丁目１番52号株式会社 ハーマン内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄槽内を加熱する加熱手段と、洗浄槽
   内の温度を検出する温度検出手段とを備えて、温度検出
   手段にて加熱手段による洗浄槽内の加熱の温度制御を行
   う食器洗浄乾燥機において、加熱手段への通電を遮断す
   ることになる設定温度以下の所定温度を境に加熱手段へ
   の通電のデューティ比を変更して、所定温度以下でオン
   時間を長く、所定温度以上でオン時間を短くしているこ
   とを特徴とする食器洗浄乾燥機。
2. 【請求項２】 洗浄槽内を加熱する加熱手段と、洗浄槽
   内の温度を検出する温度検出手段とを備えて、温度検出
   手段にて加熱手段による洗浄槽内の加熱の温度制御を行
   う食器洗浄乾燥機において、加熱手段への通電を遮断す
   ることになる設定温度を複数個設けて、加熱手段への通
   電の開始直後に検出温度と比較される設定温度を、次回
   以降で比較対象となる設定温度よりも低くしていること
   を特徴とする食器洗浄乾燥機。