JPH0610611Y2 - 電子顕微鏡等の試料装置 - Google Patents
電子顕微鏡等の試料装置Info
- Publication number
- JPH0610611Y2 JPH0610611Y2 JP1987003332U JP333287U JPH0610611Y2 JP H0610611 Y2 JPH0610611 Y2 JP H0610611Y2 JP 1987003332 U JP1987003332 U JP 1987003332U JP 333287 U JP333287 U JP 333287U JP H0610611 Y2 JPH0610611 Y2 JP H0610611Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- holder
- base
- sample
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は電子顕微鏡等の試料装置に関し、更に詳しくは
試料ステージの移動を大気中から効率よく行えるように
した電子顕微鏡等の試料装置に関する。
試料ステージの移動を大気中から効率よく行えるように
した電子顕微鏡等の試料装置に関する。
(従来の技術) 電子顕微鏡或いは集束イオンビーム装置(以下単に電子
顕微鏡等という)においては、鏡筒内試料室に配置され
た試料ステージ上の試料に電子ビーム或いはイオンビー
ム他の荷電粒子を照射して種々の機能、例えば電子顕微
鏡の場合には拡大画像を得ること、集束イオンビーム装
置の場合にはビーム描画を行うこと等を実現している。
顕微鏡等という)においては、鏡筒内試料室に配置され
た試料ステージ上の試料に電子ビーム或いはイオンビー
ム他の荷電粒子を照射して種々の機能、例えば電子顕微
鏡の場合には拡大画像を得ること、集束イオンビーム装
置の場合にはビーム描画を行うこと等を実現している。
第2図は試料装置の従来装置の構成断面を示す図であ
る。図において、1は鏡筒で該鏡筒内に真空チャンバ2
が形成されている。3は試料ホルダでベース4に取付け
られており、一端はノブ3aとなって大気中にあり、他
端3bは試料5を載置させるようになっており、真空チ
ャンバ2内に配されている。そして、該試料5には荷電
粒子ビームBiが照射される。6は試料ホルダ3を矢印
A方向に駆動する駆動ネジ、7は該駆動ネジ6に矢印
A′方向の付勢力を与えるスプリングである。
る。図において、1は鏡筒で該鏡筒内に真空チャンバ2
が形成されている。3は試料ホルダでベース4に取付け
られており、一端はノブ3aとなって大気中にあり、他
端3bは試料5を載置させるようになっており、真空チ
ャンバ2内に配されている。そして、該試料5には荷電
粒子ビームBiが照射される。6は試料ホルダ3を矢印
A方向に駆動する駆動ネジ、7は該駆動ネジ6に矢印
A′方向の付勢力を与えるスプリングである。
8は試料ホルダ3を矢印X方向(X1方向,X2方向)
に駆動する駆動ネジ、9は該駆動ネジ8に矢印X1方向
の付勢力を与えるスプリングである。駆動ネジ8の一端
はノブ8aになっており、他端には部材10が当接して
おり、該部材10はその先端で試料ホルダ3の先端3b
と当接している。11は真空チャンバ2の周囲に配され
た磁界発生用のポールピース(磁極片)、O1〜O3は
試料ホルダ3の周囲に巻回された真空シール用のOリン
グ、O4は部材10の周囲に巻回された真空シール用の
Oリングである。
に駆動する駆動ネジ、9は該駆動ネジ8に矢印X1方向
の付勢力を与えるスプリングである。駆動ネジ8の一端
はノブ8aになっており、他端には部材10が当接して
おり、該部材10はその先端で試料ホルダ3の先端3b
と当接している。11は真空チャンバ2の周囲に配され
た磁界発生用のポールピース(磁極片)、O1〜O3は
試料ホルダ3の周囲に巻回された真空シール用のOリン
グ、O4は部材10の周囲に巻回された真空シール用の
Oリングである。
このように構成された装置において、試料ホルダ3は、
大気圧により矢印X1方向の付勢力を受けている。従っ
て、その先端3bは常に部材10と当接しているのでX
方向については駆動ネジ8を調節することにより、試料
ホルダ3を移動することができる。
大気圧により矢印X1方向の付勢力を受けている。従っ
て、その先端3bは常に部材10と当接しているのでX
方向については駆動ネジ8を調節することにより、試料
ホルダ3を移動することができる。
(考案が解決しようとする問題点) 従来の試料装置は、可動部に全てOリングを使用して大
気と真空室との絶縁を維持している。真空チャンバ2内
は通常10-8Torr程度の超高真空に保つ必要がある
が、Oリングによる絶縁シールでは、どうしてもOリン
グパッキンからガス放出がおき、超高真空で試料装置を
使用することが困難になる。
気と真空室との絶縁を維持している。真空チャンバ2内
は通常10-8Torr程度の超高真空に保つ必要がある
が、Oリングによる絶縁シールでは、どうしてもOリン
グパッキンからガス放出がおき、超高真空で試料装置を
使用することが困難になる。
又、真空チャンバ部分の真空度を上げるためには真空チ
ャンバ内壁を加熱してガスを放出させる所謂焼出しを行
う必要があるが、OリングパッキンではOリングとして
ゴム等の材質を用いているため焼出し温度を100〜1
50℃程度の低温で行わねばならず真空度を十分に上げ
ることができないという問題があった。
ャンバ内壁を加熱してガスを放出させる所謂焼出しを行
う必要があるが、OリングパッキンではOリングとして
ゴム等の材質を用いているため焼出し温度を100〜1
50℃程度の低温で行わねばならず真空度を十分に上げ
ることができないという問題があった。
又、第2図の従来装置では、試料5のY方向(第2図に
おける上下方向)の移動は、駆動ネジ6を回すことによ
り、試料ホルダ3を保持するホルダ受けの球面軸受部を
中心にして、試料ホルダ3を傾動させることにより実現
しているが、このような構成では、Y方向の移動調整時
に、試料5は円弧を描いて移動するため、試料5がX方
向にも移動してしまい、Y方向の移動調整後、X方向の
移動調整を強いることになるという問題もあった。
おける上下方向)の移動は、駆動ネジ6を回すことによ
り、試料ホルダ3を保持するホルダ受けの球面軸受部を
中心にして、試料ホルダ3を傾動させることにより実現
しているが、このような構成では、Y方向の移動調整時
に、試料5は円弧を描いて移動するため、試料5がX方
向にも移動してしまい、Y方向の移動調整後、X方向の
移動調整を強いることになるという問題もあった。
本考案は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、
その目的は、真空チャンバ内を十分な高真空に維持でき
ると共に、試料をX方向及びY方向に互いに干渉なく独
立して移動できる電子顕微鏡等の試料装置を実現するこ
とにある。
その目的は、真空チャンバ内を十分な高真空に維持でき
ると共に、試料をX方向及びY方向に互いに干渉なく独
立して移動できる電子顕微鏡等の試料装置を実現するこ
とにある。
(問題点を解決するための手段) 前記した問題点を解決する本考案は、鏡筒と直交するよ
うに該鏡筒の側部に設けられ、内部が鏡筒内に連通する
筒状のベースと、該ベース内に該ベースと同軸的に配置
され、且つ該ベースによって、該ベースの軸方向である
X方向に移動可能に案内された筒状のフレームと、該フ
レーム内に該フレームと同軸的に配置され、且つ該フレ
ームによって、前記X方向と直交するY方向に移動可能
に案内された筒状のホルダ受けと、ホルダ受けの内筒面
により保持される試料ホルダと、前記フレームのX方向
に両側にX方向に向けてそれぞれ配置され、双方共、一
端が前記フレーム側に接続され他端が前記ベース側に接
続され、前記フレームと前記ベースとの隙間をシールす
るX方向に伸縮可能な一対のベローと、前記ベースに設
けられ、前記フレームをX方向に移動させるX方向駆動
機構と、前記ホルダ受けのY方向の両側にY方向に向け
てそれぞれ配置され、双方共、一端が前記ホルダ受け側
に接続され他端が前記フレーム側に接続され、前記フレ
ーム内の空間を外部からシールするY方向に伸縮可能な
一対のベローと、前記フレームに設けられ、前記ホルダ
受けをY方向に移動させるY方向駆動機構と、前記ベー
スの端部に一端側が接続された真空バルブと、該真空バ
ルブの他端側に接続された真空排気可能な交換室と、を
備えたことを特徴とするものである。
うに該鏡筒の側部に設けられ、内部が鏡筒内に連通する
筒状のベースと、該ベース内に該ベースと同軸的に配置
され、且つ該ベースによって、該ベースの軸方向である
X方向に移動可能に案内された筒状のフレームと、該フ
レーム内に該フレームと同軸的に配置され、且つ該フレ
ームによって、前記X方向と直交するY方向に移動可能
に案内された筒状のホルダ受けと、ホルダ受けの内筒面
により保持される試料ホルダと、前記フレームのX方向
に両側にX方向に向けてそれぞれ配置され、双方共、一
端が前記フレーム側に接続され他端が前記ベース側に接
続され、前記フレームと前記ベースとの隙間をシールす
るX方向に伸縮可能な一対のベローと、前記ベースに設
けられ、前記フレームをX方向に移動させるX方向駆動
機構と、前記ホルダ受けのY方向の両側にY方向に向け
てそれぞれ配置され、双方共、一端が前記ホルダ受け側
に接続され他端が前記フレーム側に接続され、前記フレ
ーム内の空間を外部からシールするY方向に伸縮可能な
一対のベローと、前記フレームに設けられ、前記ホルダ
受けをY方向に移動させるY方向駆動機構と、前記ベー
スの端部に一端側が接続された真空バルブと、該真空バ
ルブの他端側に接続された真空排気可能な交換室と、を
備えたことを特徴とするものである。
(作用) フレームはベースにX方向に移動可能に案内され、ホル
ダ受けはフレームにY方向に移動可能に案内され、試料
ホルダはホルダ受けの内筒面により保持され、又、可動
部の真空シールはベローによってなされている。これに
より、真空チャンバ内を十分な高真空に維持できると共
に、試料をX方向及びY方向に互いに干渉なく独立して
移動させることができる。
ダ受けはフレームにY方向に移動可能に案内され、試料
ホルダはホルダ受けの内筒面により保持され、又、可動
部の真空シールはベローによってなされている。これに
より、真空チャンバ内を十分な高真空に維持できると共
に、試料をX方向及びY方向に互いに干渉なく独立して
移動させることができる。
(実施例) 以下、図面を参照して本考案の実施例を詳細に説明す
る。
る。
第1図(イ)は本考案の一実施例を示す構成断面図で、
(ロ)はそのQ−Q方向断面図である。図において、1
は前述の鏡筒、11は試料12を載置する試料ホルダ、
13はホルダ11を保持するホルダ受けである。試料ホ
ルダ11とホルダ受け13とは、試料ホルダ11に形成
された窪みにピン14aを打ち込み、このピン14aの
頭をホルダ受け13に取付けたバネ15で押圧すること
により緊着されている。更に試料ホルダ11とホルダ受
け13はホルダ受け13に固着された位置決めピン14
bが試料ホルダ11に嵌入することにより位置決めされ
ている。従って、試料ホルダ11とホルダ受け13ちは
一体として移動するようになっている。
(ロ)はそのQ−Q方向断面図である。図において、1
は前述の鏡筒、11は試料12を載置する試料ホルダ、
13はホルダ11を保持するホルダ受けである。試料ホ
ルダ11とホルダ受け13とは、試料ホルダ11に形成
された窪みにピン14aを打ち込み、このピン14aの
頭をホルダ受け13に取付けたバネ15で押圧すること
により緊着されている。更に試料ホルダ11とホルダ受
け13はホルダ受け13に固着された位置決めピン14
bが試料ホルダ11に嵌入することにより位置決めされ
ている。従って、試料ホルダ11とホルダ受け13ちは
一体として移動するようになっている。
16はY方向移動機構が取付けられたフレーム、17は
Y方向の駆動ノブで、フレーム16にネジ込むことによ
り該駆動ノブ17の先端が、ホルダ受け13に当接され
たシャフト18aの一端を押すようになっている。この
結果、シャフト18aの他端はホルダ受け13を押す。
19aはシャフト18a(シャフト18aはホルダ受け
13と共に移動するので、ホルダ受け13側の部材と言
える)の中間大径部とフレーム16間に取付けられたベ
ローでY方向(Y1方向,Y2方向)に一定距離だけ伸
縮自在である。18bはホルダ受け13(シャフト18
aとは反対側の面)に当接されたシャフトで、該シャフ
ト18bはバネ20により常時Y1方向に付勢されてい
る。19bはシャフト18bとフレーム16間に取付け
られたベローで同じく図のY方向(Y1方向,Y2方
向)に一定距離だけ伸縮自在である。
Y方向の駆動ノブで、フレーム16にネジ込むことによ
り該駆動ノブ17の先端が、ホルダ受け13に当接され
たシャフト18aの一端を押すようになっている。この
結果、シャフト18aの他端はホルダ受け13を押す。
19aはシャフト18a(シャフト18aはホルダ受け
13と共に移動するので、ホルダ受け13側の部材と言
える)の中間大径部とフレーム16間に取付けられたベ
ローでY方向(Y1方向,Y2方向)に一定距離だけ伸
縮自在である。18bはホルダ受け13(シャフト18
aとは反対側の面)に当接されたシャフトで、該シャフ
ト18bはバネ20により常時Y1方向に付勢されてい
る。19bはシャフト18bとフレーム16間に取付け
られたベローで同じく図のY方向(Y1方向,Y2方
向)に一定距離だけ伸縮自在である。
21は鏡筒1とフレーム16間に取付けられたベロー
で、図のX方向(X1方向,X2方向)に一定距離だけ
伸縮自在である。22はX方向の駆動ノブで、ベース2
3に穿孔されたネジ穴にネジ込むようになっている。駆
動ノブ22の先端はシャフト24を支点にして回動する
テコ25の先端に当接しており、該テコ25の先端は二
股に分かれそれぞれL字形をしており、その先端部分
(ボッチ)でホルダ受け13をX方向に付勢するように
なっている。26はフレーム16がベース23に対して
X方向に一定範囲内でのみ移動できるようにフレーム1
6に設けられた位置決め用のガイドピンである。
で、図のX方向(X1方向,X2方向)に一定距離だけ
伸縮自在である。22はX方向の駆動ノブで、ベース2
3に穿孔されたネジ穴にネジ込むようになっている。駆
動ノブ22の先端はシャフト24を支点にして回動する
テコ25の先端に当接しており、該テコ25の先端は二
股に分かれそれぞれL字形をしており、その先端部分
(ボッチ)でホルダ受け13をX方向に付勢するように
なっている。26はフレーム16がベース23に対して
X方向に一定範囲内でのみ移動できるようにフレーム1
6に設けられた位置決め用のガイドピンである。
27はフレーム16とベース23間に取付けられたベロ
ーで、X方向に所定距離だけ伸縮自在となっている。2
8は同じくフレーム16とベース23間に取付けられた
バネで、フレーム16にX1方向の付勢力を与えてい
る。29は真空シール30を介してベース23と接着さ
れた真空バルブ、31は同じく真空シール32を介して
真空バルブ29と接着されたケースである。該ケース3
1には中間引き真空ポンプと、真空ポンプへの排気孔が
設けられている。33は試料ホルダ11を真空チャンバ
2内に押し込むための駆動ノブで、その先端部33aは
シャフト状になっている。そして、駆動ノブ33とケー
ス31とはシール34a,34bで真空シールされてい
る。真空バルブ29,ケース31及び排気系とで交換室
を構成する。
ーで、X方向に所定距離だけ伸縮自在となっている。2
8は同じくフレーム16とベース23間に取付けられた
バネで、フレーム16にX1方向の付勢力を与えてい
る。29は真空シール30を介してベース23と接着さ
れた真空バルブ、31は同じく真空シール32を介して
真空バルブ29と接着されたケースである。該ケース3
1には中間引き真空ポンプと、真空ポンプへの排気孔が
設けられている。33は試料ホルダ11を真空チャンバ
2内に押し込むための駆動ノブで、その先端部33aは
シャフト状になっている。そして、駆動ノブ33とケー
ス31とはシール34a,34bで真空シールされてい
る。真空バルブ29,ケース31及び排気系とで交換室
を構成する。
上述のベロー19a,19b,21,27としては、例
えばステンレス製薄膜が用いられる。このように構成さ
れた装置の動作を説明すれば、以下の通りである。
えばステンレス製薄膜が用いられる。このように構成さ
れた装置の動作を説明すれば、以下の通りである。
試料ホルダ11をケース31内で真空引き完了後、真空
バルブ29内のゲート弁(図示せず)を開く。そして、
駆動ノブ33を押し込んで、シャフト33aにより試料
ホルダ11をホルダ受け13に装着した後、シャフト3
3aを真空バルブ29の外に引出して再びゲート弁を閉
める。この時、シール34a,34bによりシャフト3
3aの移動時における真空の低下を防止する。この時、
ホルダ受け13にセットされた試料ホルダ11には試料
12が載置されている。
バルブ29内のゲート弁(図示せず)を開く。そして、
駆動ノブ33を押し込んで、シャフト33aにより試料
ホルダ11をホルダ受け13に装着した後、シャフト3
3aを真空バルブ29の外に引出して再びゲート弁を閉
める。この時、シール34a,34bによりシャフト3
3aの移動時における真空の低下を防止する。この時、
ホルダ受け13にセットされた試料ホルダ11には試料
12が載置されている。
試料ホルダ11をY2方向に移動させたい時には、Y方
向駆動機構である駆動ノブ17を回す。これにより駆動
ノブ17はシャフト18aを押し、シャフト18aはホ
ルダ受け13をY2方向に押し、結果として試料ホルダ
11をY2方向に移動させる。試料ホルダ11をY1方
向に移動させたい時には、駆動ノブ17を前と逆向きに
回す。この結果、バネ20によりY1方向に付勢された
シャフト18bはホルダ受け13を押し、該ホルダ受け
13をY1方向に移動させる。結果として、試料ホルダ
11もY1方向に移動する。この移動中における内部の
真空、即ちシャフト18a,18bの移動時における真
空は、ベロー19a,19bにより保たれる。
向駆動機構である駆動ノブ17を回す。これにより駆動
ノブ17はシャフト18aを押し、シャフト18aはホ
ルダ受け13をY2方向に押し、結果として試料ホルダ
11をY2方向に移動させる。試料ホルダ11をY1方
向に移動させたい時には、駆動ノブ17を前と逆向きに
回す。この結果、バネ20によりY1方向に付勢された
シャフト18bはホルダ受け13を押し、該ホルダ受け
13をY1方向に移動させる。結果として、試料ホルダ
11もY1方向に移動する。この移動中における内部の
真空、即ちシャフト18a,18bの移動時における真
空は、ベロー19a,19bにより保たれる。
次に、試料ホルダ11をX方向に移動させる場合につい
て説明する。フレーム16はその一端がベロー27と接
着されていて、バネ28によりX1方向に付勢されてい
る。ベース23にはX方向駆動機構である駆動ノブ22
が装着されており、このノブ22を回すことによりその
先端がテコ25の一端を押し、該テコ25はシャフト2
4を支点として反時計方向に回動し、テコ25の他端が
ホルダ受け13をX1方向に押す力が弱まり、バネ28
の付勢力によりフレーム16ごとX2方向に移動する。
この結果、試料ホルダ11もX2方向に移動する。
て説明する。フレーム16はその一端がベロー27と接
着されていて、バネ28によりX1方向に付勢されてい
る。ベース23にはX方向駆動機構である駆動ノブ22
が装着されており、このノブ22を回すことによりその
先端がテコ25の一端を押し、該テコ25はシャフト2
4を支点として反時計方向に回動し、テコ25の他端が
ホルダ受け13をX1方向に押す力が弱まり、バネ28
の付勢力によりフレーム16ごとX2方向に移動する。
この結果、試料ホルダ11もX2方向に移動する。
試料ホルダ11をX1方向に移動させる場合には、ノブ
22を前と逆方向に回す。これによりテコ25も前と逆
方向(時計方向)に回転しようとして、ホルダ受け13
をX1方向に付勢し、フレーム16ごとX1方向に移動
させる。この結果、試料ホルダ11もX1方向に移動す
る。フレーム16がX1方向に移動する時には、ベロー
27より内部の真空が保持される。
22を前と逆方向に回す。これによりテコ25も前と逆
方向(時計方向)に回転しようとして、ホルダ受け13
をX1方向に付勢し、フレーム16ごとX1方向に移動
させる。この結果、試料ホルダ11もX1方向に移動す
る。フレーム16がX1方向に移動する時には、ベロー
27より内部の真空が保持される。
試料ホルダ11を上記構成によりX方向やY方向に移動
させる場合、X方向の移動調整とY方向の移動調整が干
渉すること(具体的には、駆動ノブ22により試料ホル
ダ11をX方向にも移動したり、あるいは、駆動ノブ1
7により試料ホルダ11をY方向に移動させた際に、試
料ホルダ11がX方向にも移動すること)はない。
させる場合、X方向の移動調整とY方向の移動調整が干
渉すること(具体的には、駆動ノブ22により試料ホル
ダ11をX方向にも移動したり、あるいは、駆動ノブ1
7により試料ホルダ11をY方向に移動させた際に、試
料ホルダ11がX方向にも移動すること)はない。
上述の説明においては、試料ホルダ11をX,Y方向に
移動させる場合を例にとったが、Z方向(紙面に垂直な
方向)に移動させる機構を設けることにより3次元の移
動も可能となる。この場合のZ方向移動機構はY方向移
動機構と類似のものを用いることができる。
移動させる場合を例にとったが、Z方向(紙面に垂直な
方向)に移動させる機構を設けることにより3次元の移
動も可能となる。この場合のZ方向移動機構はY方向移
動機構と類似のものを用いることができる。
(考案の効果) 以上詳細に説明したように、本考案によれば可動部の真
空シールにベローを用いることにより、焼出し温度を2
50℃以上に上げることができるので真空チャンバ内を
超高真空に維持することのできる電子顕微鏡等の試料装
置を実現することができる。又、本考案によれば真空バ
ルブ29を設けたことにより本体側の真空低下を生じさ
せないで試料交換が可能であり、又、ケース31内でい
ろいろな試料の処理が可能となる。例えば、イオンガン
により試料のエッチッグ、蒸着装置により試料12への
蒸着等が可能となる。
空シールにベローを用いることにより、焼出し温度を2
50℃以上に上げることができるので真空チャンバ内を
超高真空に維持することのできる電子顕微鏡等の試料装
置を実現することができる。又、本考案によれば真空バ
ルブ29を設けたことにより本体側の真空低下を生じさ
せないで試料交換が可能であり、又、ケース31内でい
ろいろな試料の処理が可能となる。例えば、イオンガン
により試料のエッチッグ、蒸着装置により試料12への
蒸着等が可能となる。
ケース31は予備処理室として用いることができるので
従来の装置では装置内部でいろいろと処理をしていたの
で内部の汚れが問題となっていたが本考案では内部を汚
すことはない。更に、鏡筒と直交するように鏡筒の側部
に筒状のベースを設け、このベース内にベースと同軸的
に且つベースの軸方向であるX方向に移動可能に筒状の
フレームを設け、このフレーム内にフレームと同軸的に
且つY方向に移動可能に筒状のホルダ受けを設けること
により、X,Y両方向への移動機構を構成しているの
で、試料をX方向及びY方向に互いに干渉なく独立して
移動できる。この移動機構の内部と外部とのシールの
内、フレームとベースとの隙間のシールについては、フ
レームのX方向の両側にX方向に向けてそれぞれ配置さ
れ、双方共、一端がフレーム側に接続され他端がベース
側に接続されたX方向に伸縮可能な一対のベローを用い
て行い、フレーム内の空間と内部との間のシールについ
ては、ホルダ受けのY方向の両側にY方向に向けてそれ
ぞれ配置され、双方共、一端がホルダ受け側に接続され
他端がフレーム側に接続されたY方向に伸縮可能な一対
のベローを用いて行っているので、フレーム及びホルダ
受けはそれぞれベローによって両端が支持されることに
なり、良好なシール状態が得られる上に試料のX方向及
びY方向の移動が円滑に行われ、又、ゴム類のパッキン
を用いていないので焼出し温度を従来よりも高くでき、
従って超高真空を得ることができる。
従来の装置では装置内部でいろいろと処理をしていたの
で内部の汚れが問題となっていたが本考案では内部を汚
すことはない。更に、鏡筒と直交するように鏡筒の側部
に筒状のベースを設け、このベース内にベースと同軸的
に且つベースの軸方向であるX方向に移動可能に筒状の
フレームを設け、このフレーム内にフレームと同軸的に
且つY方向に移動可能に筒状のホルダ受けを設けること
により、X,Y両方向への移動機構を構成しているの
で、試料をX方向及びY方向に互いに干渉なく独立して
移動できる。この移動機構の内部と外部とのシールの
内、フレームとベースとの隙間のシールについては、フ
レームのX方向の両側にX方向に向けてそれぞれ配置さ
れ、双方共、一端がフレーム側に接続され他端がベース
側に接続されたX方向に伸縮可能な一対のベローを用い
て行い、フレーム内の空間と内部との間のシールについ
ては、ホルダ受けのY方向の両側にY方向に向けてそれ
ぞれ配置され、双方共、一端がホルダ受け側に接続され
他端がフレーム側に接続されたY方向に伸縮可能な一対
のベローを用いて行っているので、フレーム及びホルダ
受けはそれぞれベローによって両端が支持されることに
なり、良好なシール状態が得られる上に試料のX方向及
びY方向の移動が円滑に行われ、又、ゴム類のパッキン
を用いていないので焼出し温度を従来よりも高くでき、
従って超高真空を得ることができる。
第1図は本考案の一実施例を示す構成断面図、第2図は
従来装置の構成断面図である。 1……鏡筒、2……真空チャンバ 11……試料ホルダ、12……試料 13……ホルダ受け、16……フレーム 17,22,33……駆動ノブ 19a,19b,21,27……ベロー 20,28……バネ、31……ケース
従来装置の構成断面図である。 1……鏡筒、2……真空チャンバ 11……試料ホルダ、12……試料 13……ホルダ受け、16……フレーム 17,22,33……駆動ノブ 19a,19b,21,27……ベロー 20,28……バネ、31……ケース
Claims (1)
- 【請求項1】鏡筒(1)と直交するように該鏡筒(1)の側部
に設けられ、内部が鏡筒(1)内に連通する筒状のベース
(23)と、 該ベース(23)内に該ベース(23)と同軸的に配置され、且
つ該ベース(23)によって、該ベース(23)の軸方向である
X方向に移動可能に案内された筒状のフレーム(16)と、 該フレーム(16)内に該フレーム(16)と同軸的に配置さ
れ、且つ該フレーム(16)によって、前記X方向と直交す
るY方向に移動可能に案内された筒状のホルダ受け(13)
と、 ホルダ受け(13)の内筒面により保持される試料ホルダ(1
1)と、 前記フレーム(16)のX方向の両側にX方向に向けてそれ
ぞれ配置され、双方共、一端が前記フレーム(16)側に接
続され他端が前記ベース(23)側に接続され、前記フレー
ム(16)と前記ベース(23)との隙間をシールするX方向に
伸縮可能な一対のベロー(21,27)と、 前記ベース(23)に設けられ、前記フレーム(16)をX方向
に移動させるX方向駆動機構と、 前記ホルダ受け(13)のY方向の両側にY方向に向けてそ
れぞれ配置され、双方共、一端が前記ホルダ受け(13)側
に接続され他端が前記フレーム(16)側に接続され、前記
フレーム(16)内の空間を外部からシールするY方向に伸
縮可能な一対のベロー(19a,19b)と、 前記フレーム(16)に設けられ、前記ホルダ受け(13)をY
方向に移動させるY方向駆動機構と、 前記ベース(23)の端部に一端側が接続された真空バルブ
(29)と、 該真空バルブ(29)の他端側に接続された真空排気可能な
交換室と、 を備えた電子顕微鏡等の試料装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987003332U JPH0610611Y2 (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 電子顕微鏡等の試料装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987003332U JPH0610611Y2 (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 電子顕微鏡等の試料装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63111747U JPS63111747U (ja) | 1988-07-18 |
| JPH0610611Y2 true JPH0610611Y2 (ja) | 1994-03-16 |
Family
ID=30782996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987003332U Expired - Lifetime JPH0610611Y2 (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 電子顕微鏡等の試料装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0610611Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5240647B2 (ja) * | 2007-07-30 | 2013-07-17 | 株式会社リコー | シール機構、ステージ装置、及び電子線描画装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5141314B2 (ja) * | 1972-10-06 | 1976-11-09 | ||
| JPS5962662U (ja) * | 1982-10-20 | 1984-04-24 | 日本電子株式会社 | 電子線装置 |
-
1987
- 1987-01-13 JP JP1987003332U patent/JPH0610611Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63111747U (ja) | 1988-07-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2851213B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| US7851769B2 (en) | Motorized manipulator for positioning a TEM specimen | |
| CN106783493B (zh) | 一种真空气氛处理装置、样品观测系统及方法 | |
| US20120132802A1 (en) | Gas field ionization ion source apparatus and scanning charged particle microscope equipped with same | |
| JP3886777B2 (ja) | 電子線照射装置および方法 | |
| JP3205663B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JP3766763B2 (ja) | 電界放射電子銃 | |
| TW201741483A (zh) | 真空裝置 | |
| JP2895673B2 (ja) | 電子顕微鏡等の試料装置 | |
| US2845540A (en) | Apparatus for use with corpuscular rays | |
| JPH0740477B2 (ja) | 電子顕微鏡等用試料装置 | |
| JP7670771B2 (ja) | 真空封止弁 | |
| JPS63291347A (ja) | 電子顕微鏡等における試料装置 | |
| US20260088245A1 (en) | Positioner for analytic instruments within vacuum chamber | |
| JPH0546202Y2 (ja) | ||
| JP2002358920A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP2578780Y2 (ja) | 高真空チャンバ用マニュピレータ | |
| JPH0451439A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JPH02144843A (ja) | 試料冷却型イオンビーム薄膜作製装置 | |
| CN118053723A (zh) | 等离子体处理装置 | |
| JPS5848769Y2 (ja) | 電子顕微鏡及び類似装置 | |
| JPH0395845A (ja) | 試料保持装置 | |
| US3055725A (en) | Apparatus for the manufacture of cascade image amplifiers | |
| JPH0352177B2 (ja) | ||
| JPS598946B2 (ja) | 電界放出型電子銃におけるクリ−ニング装置 |