JPH06107718A - 感光性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 32
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 23
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 87
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 13
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 abstract 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 27
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- -1 cinnamylidene group Chemical group 0.000 description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 20
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 20
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 17
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 12
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 11
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 6
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 6
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 5
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 4
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MONMFXREYOKQTI-UHFFFAOYSA-N 2-bromopropanoic acid Chemical compound CC(Br)C(O)=O MONMFXREYOKQTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SGONPVYGYALKRZ-UHFFFAOYSA-N 6-(3,4-dimethyl-2,5-dioxopyrrol-1-yl)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCN1C(=O)C(C)=C(C)C1=O SGONPVYGYALKRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 3
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M sodium;(2r)-2-[6-(4-chlorophenoxy)hexyl]oxirane-2-carboxylate Chemical compound [Na+].C=1C=C(Cl)C=CC=1OCCCCCC[C@]1(C(=O)[O-])CO1 RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical class C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RJYPNLGYSWEFQS-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 RJYPNLGYSWEFQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNFBSDIDVPDZHB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibutyl-2-sulfanylidene-1,3-diazinane-4,6-dione Chemical compound CCCCN1C(=O)CC(=O)N(CCCC)C1=S JNFBSDIDVPDZHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVZCOQQFPCMIPO-UHFFFAOYSA-N 2-Methoxyxanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(OC)=CC=C3OC2=C1 DVZCOQQFPCMIPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZRVTBRNFOROAU-UHFFFAOYSA-N 4-[(4z)-4-diazo-3,6-diethoxycyclohexa-1,5-dien-1-yl]morpholine Chemical compound CCOC1=CC(=[N+]=[N-])C(OCC)C=C1N1CCOCC1 CZRVTBRNFOROAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N Isopropylaldehyde Chemical compound CC(C)C=O AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical class C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 2
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYEDESPZQLZMCL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=CC=C3SC2=C1 UYEDESPZQLZMCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKASFBLJDCHBNZ-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=NN=CO1 FKASFBLJDCHBNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOGVCTZWMHHXEX-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-selenadiazole Chemical compound C1=NN=C[se]1 DOGVCTZWMHHXEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJWMRXJKWQEXBJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=C1N=C[se]2 CJWMRXJKWQEXBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZUCXVOORCXDGW-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole-6-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2N=C[se]C2=C1 MZUCXVOORCXDGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BREUOIWLJRZAFF-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2SC=NC2=C1 BREUOIWLJRZAFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORIIXCOYEOIFSN-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazol-6-ol Chemical compound OC1=CC=C2N=CSC2=C1 ORIIXCOYEOIFSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDLWXLGNBWQWHF-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-5,6-diol Chemical compound C1=C(O)C(O)=CC2=C1SC=N2 CDLWXLGNBWQWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBIZQDIIVYJNRS-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2SC=NC2=C1 RBIZQDIIVYJNRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMPZJACLHDWUFS-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-6-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2N=CSC2=C1 DMPZJACLHDWUFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRCCCWVXRVDONW-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=C1N=CO2 KRCCCWVXRVDONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJBOXEGAWJHKIM-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2OC=NC2=C1 WJBOXEGAWJHKIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRNTUFQKHQMLSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole-6-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2N=COC2=C1 FRNTUFQKHQMLSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHTQTAYWCUAENJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole-7-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=C1OC=N2 JHTQTAYWCUAENJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000183 1,3-benzoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYFDQJRXFWGIBS-UHFFFAOYSA-N 1,4-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 FYFDQJRXFWGIBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHDQFPCQZMLBFE-UHFFFAOYSA-N 1-[(4e)-4-diazo-2-methylcyclohexa-1,5-dien-1-yl]pyrrolidine Chemical compound C1=CC(=[N+]=[N-])CC(C)=C1N1CCCC1 FHDQFPCQZMLBFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKWCGTOZTHZDHB-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazol-1-ium-4-carboxylate Chemical compound OC(=O)C1=CNC=N1 NKWCGTOZTHZDHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJGPMAHVCDFRBN-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloroanthracene-9,10-dione Chemical compound ClC1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 KJGPMAHVCDFRBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHVUXRBSZBSCGB-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzoselenazol-4-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC2=C1N=C[se]2 QHVUXRBSZBSCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KANGONJPDWMLOP-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzoselenazol-5-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C2[se]C=NC2=C1 KANGONJPDWMLOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAICGSMXESLVLV-UHFFFAOYSA-N 2-(5-hydroxy-1,3-benzothiazol-6-yl)acetic acid Chemical compound C1=C(O)C(CC(=O)O)=CC2=C1N=CS2 AAICGSMXESLVLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKDQRFQURHWPQB-UHFFFAOYSA-N 2-(5-methoxy-1,3-benzothiazol-4-yl)acetic acid Chemical compound COC1=CC=C2SC=NC2=C1CC(O)=O RKDQRFQURHWPQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXPOQOMYMIBRLA-UHFFFAOYSA-N 2-(5-methyl-1,3-benzoselenazol-6-yl)acetic acid Chemical compound C1=C(CC(O)=O)C(C)=CC2=C1[se]C=N2 UXPOQOMYMIBRLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AANCNLIOSUZAJQ-UHFFFAOYSA-N 2-(5-methyl-1,3-benzothiazol-6-yl)acetic acid Chemical compound C1=C(CC(O)=O)C(C)=CC2=C1SC=N2 AANCNLIOSUZAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSLBQYZYEXKTAP-UHFFFAOYSA-N 2-(6-methoxy-1,3-benzoxazol-5-yl)acetic acid Chemical compound C1=C(CC(O)=O)C(OC)=CC2=C1N=CO2 SSLBQYZYEXKTAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUZNAUWZSCZRJO-UHFFFAOYSA-N 2-(6-methyl-1,3-benzoxazol-4-yl)acetic acid Chemical compound CC1=CC(CC(O)=O)=C2N=COC2=C1 YUZNAUWZSCZRJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTVAPTQIJMLNKJ-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-10h-anthracen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Br)=CC=C3CC2=C1 PTVAPTQIJMLNKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RBPGISZOPGTNMV-UHFFFAOYSA-N 2-chlorofluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C2=C1 RBPGISZOPGTNMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHTIRPSWNPNDDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-10h-anthracen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3CC2=C1 JHTIRPSWNPNDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UTBVIMLZIRIFFR-UHFFFAOYSA-N 2-methylthio-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(SC)=NC2=C1 UTBVIMLZIRIFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHSVIYYROIHDN-UHFFFAOYSA-N 2-methylxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3OC2=C1 UWHSVIYYROIHDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJEAHBZZHSLIQP-UHFFFAOYSA-N 2-nitrofluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC([N+](=O)[O-])=CC=C3C2=C1 AJEAHBZZHSLIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Polymers OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXSBAOMLHPFLMW-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)propanoic acid Chemical compound C1=CC=C2SC(SCCC(=O)O)=NC2=C1 DXSBAOMLHPFLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIUHYGFGVUJBCB-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-5-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=C2SC=NC2=C1 AIUHYGFGVUJBCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCAMRHBKDLWXBW-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methyl-1,3-benzothiazol-5-yl)propanoic acid Chemical compound CC1=C(CCC(O)=O)C=CC2=C1N=CS2 BCAMRHBKDLWXBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDHADRQHZLMFKL-UHFFFAOYSA-N 3-(5-chloro-1,3-benzothiazol-4-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=C(Cl)C=CC2=C1N=CS2 MDHADRQHZLMFKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYYRIUJHPOETMW-UHFFFAOYSA-N 3-(5-ethoxy-1,3-benzothiazol-4-yl)propanoic acid Chemical compound CCOC1=CC=C2SC=NC2=C1CCC(O)=O RYYRIUJHPOETMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VREYHDFKCNIEPC-UHFFFAOYSA-N 3-(5-ethyl-1,3-benzothiazol-6-yl)propanoic acid Chemical compound C1=C(CCC(O)=O)C(CC)=CC2=C1SC=N2 VREYHDFKCNIEPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLJJSNMHGDANMY-UHFFFAOYSA-N 3-(5-methoxy-1,3-benzoselenazol-6-yl)propanoic acid Chemical compound C1=C(CCC(O)=O)C(OC)=CC2=C1[se]C=N2 ZLJJSNMHGDANMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICRFKMXGPDEJGO-UHFFFAOYSA-N 3-(5-methyl-1,3-benzoselenazol-6-yl)propanoic acid Chemical compound C1=C(CCC(O)=O)C(C)=CC2=C1[se]C=N2 ICRFKMXGPDEJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKAAAVOLNGVRRV-UHFFFAOYSA-N 3-(6-chloro-1,3-benzoselenazol-5-yl)propanoic acid Chemical compound C1=C(Cl)C(CCC(=O)O)=CC2=C1[se]C=N2 JKAAAVOLNGVRRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEXBAYFIBPFVLH-UHFFFAOYSA-N 3-(6-ethyl-1,3-benzoxazol-5-yl)propanoic acid Chemical compound C1=C(CCC(O)=O)C(CC)=CC2=C1N=CO2 FEXBAYFIBPFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNIXATBGHQPEMV-UHFFFAOYSA-N 3-(6-hydroxy-1,3-benzothiazol-5-yl)propanoic acid Chemical compound C1=C(O)C(CCC(=O)O)=CC2=C1SC=N2 ZNIXATBGHQPEMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNVOZGIRPRWNFZ-UHFFFAOYSA-N 3-(6-phenyl-1,3-benzothiazol-5-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=2N=CSC=2C=C1C1=CC=CC=C1 KNVOZGIRPRWNFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 3-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Br)=C1 QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COYPLDIXZODDDL-UHFFFAOYSA-N 3h-benzimidazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2N=CNC2=C1 COYPLDIXZODDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYRWOCFYSFYTSD-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-5-yl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(SC=N2)C2=C1 QYRWOCFYSFYTSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKWKITUHFNQSMB-UHFFFAOYSA-N 4-(5-ethyl-1,3-benzothiazol-6-yl)butanoic acid Chemical compound C1=C(CCCC(O)=O)C(CC)=CC2=C1SC=N2 SKWKITUHFNQSMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWTGGGMETNQFDB-UHFFFAOYSA-N 4-(5-phenyl-1,3-benzoxazol-6-yl)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCC1=CC=2OC=NC=2C=C1C1=CC=CC=C1 WWTGGGMETNQFDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDCRBCTMGSAMZ-UHFFFAOYSA-N 4-(6-chloro-1,3-benzoselenazol-5-yl)butanoic acid Chemical compound C1=C(Cl)C(CCCC(=O)O)=CC2=C1[se]C=N2 IWDCRBCTMGSAMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYBCRBLNILPOU-UHFFFAOYSA-N 4-(6-chloro-1,3-benzothiazol-5-yl)butanoic acid Chemical compound C1=C(Cl)C(CCCC(=O)O)=CC2=C1SC=N2 IKYBCRBLNILPOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSVFVMDSCVBJHC-UHFFFAOYSA-N 4-(6-hydroxy-1,3-benzothiazol-5-yl)butanoic acid Chemical compound C1=C(O)C(CCCC(=O)O)=CC2=C1SC=N2 JSVFVMDSCVBJHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLANPOLRKNGWIE-UHFFFAOYSA-N 4-(6-methoxy-1,3-benzoselenazol-7-yl)butanoic acid Chemical compound COC1=CC=C2N=C[se]C2=C1CCCC(O)=O LLANPOLRKNGWIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMROYSSOGGHTHO-UHFFFAOYSA-N 4-(6-methoxy-1,3-benzoxazol-7-yl)butanoic acid Chemical compound COC1=CC=C2N=COC2=C1CCCC(O)=O LMROYSSOGGHTHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCETWWDGKCBPMK-UHFFFAOYSA-N 4-[(4e)-4-diazocyclohexa-1,5-dien-1-yl]morpholine Chemical compound C1=CC(=[N+]=[N-])CC=C1N1CCOCC1 SCETWWDGKCBPMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKXBVXXBNGSEPS-UHFFFAOYSA-N 4-[(4z)-3,6-dibutoxy-4-diazocyclohexa-1,5-dien-1-yl]morpholine Chemical compound CCCCOC1=CC(=[N+]=[N-])C(OCCCC)C=C1N1CCOCC1 WKXBVXXBNGSEPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MURZLGAHXMSTCA-UHFFFAOYSA-N 4-[(4z)-4-diazo-3,6-dimethoxycyclohexa-1,5-dien-1-yl]morpholine Chemical compound COC1=CC(=[N+]=[N-])C(OC)C=C1N1CCOCC1 MURZLGAHXMSTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAXPFHMCFLHGKK-UHFFFAOYSA-N 4-diazo-n,n-dimethylcyclohexa-1,5-dien-1-amine Chemical compound CN(C)C1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 LAXPFHMCFLHGKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIUXNZAIHQAHBY-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=CC2=C1N=CS2 PIUXNZAIHQAHBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRXKZJHMRNYCNY-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-benzothiazole-5-carboxylic acid Chemical compound CC1=C(C(O)=O)C=CC2=C1N=CS2 MRXKZJHMRNYCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 4-nitrotoluene-2-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1S(O)(=O)=O ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYXKRZZFKJHDRT-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethoxy-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC2=C1SC=N2 HYXKRZZFKJHDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNBQAOGFHSYTSE-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethoxy-1,3-benzothiazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(OC)C(OC)=CC2=C1N=CS2 SNBQAOGFHSYTSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMUXKZBRYRPIPQ-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=C1SC=N2 QMUXKZBRYRPIPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOALZUJKDWOWHB-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-1,3-benzothiazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C)C(C)=CC2=C1N=CS2 FOALZUJKDWOWHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUMYZVKQCMCQHJ-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzoselenazole Chemical compound ClC1=CC=C2[se]C=NC2=C1 DUMYZVKQCMCQHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTXSEKRSBCGTTL-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzoselenazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C=CC2=C1N=C[se]2 VTXSEKRSBCGTTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTSFYTDPSSFCLU-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=C2SC=NC2=C1 YTSFYTDPSSFCLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSVXAWIYGRZYLX-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzothiazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C=CC2=C1N=CS2 MSVXAWIYGRZYLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHAZXHCELNPADL-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-1,3-benzothiazole-6-carboxylic acid Chemical compound C1=C(O)C(C(=O)O)=CC2=C1N=CS2 CHAZXHCELNPADL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOSLISLHYDNKDX-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-1,3-benzothiazole-4-carboxylic acid Chemical compound COC1=CC=C2SC=NC2=C1C(O)=O KOSLISLHYDNKDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYSXBRYHVKIVID-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzoselenazole-4-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC=C2[se]C=NC2=C1C(O)=O TYSXBRYHVKIVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEBIXVUYSFOUEL-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=C2SC=NC2=C1 SEBIXVUYSFOUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNNIHDQKIPLOIT-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzothiazole-6-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C)=CC2=C1SC=N2 PNNIHDQKIPLOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMHFKYKUKDTZEB-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzoxazole-4-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC=C2OC=NC2=C1C(O)=O YMHFKYKUKDTZEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAKPXIJKSNGOCO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-benzothiazole Chemical compound C=1C=C2SC=NC2=CC=1C1=CC=CC=C1 AAKPXIJKSNGOCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULHIBEJYZUHNFY-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-benzothiazole-4-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=2SC=NC=2C(C(=O)O)=C1C1=CC=CC=C1 ULHIBEJYZUHNFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C=1C=C2OC=NC2=CC=1C1=CC=CC=C1 NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PELSRFHXBGROFA-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-1,3-benzothiazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(Cl)=CC2=C1N=CS2 PELSRFHXBGROFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQZMIFYTHLNEKZ-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-2,5-diethoxy-3-(4-methylphenyl)sulfanylcyclohexa-1,3-diene Chemical compound CCOC1=CC(=[N+]=[N-])C(OCC)C=C1SC1=CC=C(C)C=C1 RQZMIFYTHLNEKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEGJJEQPYVHPRG-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-2,5-dimethoxy-3-(4-methylphenyl)sulfanylcyclohexa-1,3-diene Chemical compound COC1=CC(=[N+]=[N-])C(OC)C=C1SC1=CC=C(C)C=C1 GEGJJEQPYVHPRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUNFIJNORLACKR-UHFFFAOYSA-N 6-ethoxy-1,3-benzothiazole Chemical compound CCOC1=CC=C2N=CSC2=C1 TUNFIJNORLACKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQVPWGJTQYLWES-UHFFFAOYSA-N 6-ethoxy-1,3-benzothiazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(OCC)=CC2=C1N=CS2 FQVPWGJTQYLWES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYLDFHFXBPRKRE-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzoselenazole Chemical compound COC1=CC=C2N=C[se]C2=C1 DYLDFHFXBPRKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJYVMRSNCXHCCY-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzoselenazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(OC)=CC2=C1N=C[se]2 AJYVMRSNCXHCCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHOIGFLSEXUWNV-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzothiazole Chemical compound COC1=CC=C2N=CSC2=C1 AHOIGFLSEXUWNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CULNZZXRLSGVAB-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzothiazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(OC)=CC2=C1N=CS2 CULNZZXRLSGVAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKYKJYSYSGEDCG-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzoxazole Chemical compound COC1=CC=C2N=COC2=C1 FKYKJYSYSGEDCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFMADGASQBCBSD-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzoxazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(OC)=CC2=C1N=CO2 PFMADGASQBCBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXRFMBDPXGIKL-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1,3-benzoselenazole Chemical compound CC1=CC=C2N=C[se]C2=C1 QOXRFMBDPXGIKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPSPUDCBLRFLD-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1,3-benzoxazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C)=CC2=C1N=CO2 OJPSPUDCBLRFLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 7-benzo[a]phenalenone Chemical compound C1=CC(C(=O)C=2C3=CC=CC=2)=C2C3=CC=CC2=C1 HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHNHXOKMVWMXQG-UHFFFAOYSA-N C(=O)(O)C1=C(C=CC2=C1N=CO2)C2=CC=CC=C2.C(=O)(O)C2=CC=C(C=C2)C=2C=CC1=C(N=CO1)C2 Chemical compound C(=O)(O)C1=C(C=CC2=C1N=CO2)C2=CC=CC=C2.C(=O)(O)C2=CC=C(C=C2)C=2C=CC1=C(N=CO1)C2 PHNHXOKMVWMXQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHDCLXASIPBFNB-SEYXRHQNSA-N C(C(=C)C)(=O)OCCCCCCNC(\C(=C(/C(=O)N)\C)\C)=O Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCCCCCNC(\C(=C(/C(=O)N)\C)\C)=O KHDCLXASIPBFNB-SEYXRHQNSA-N 0.000 description 1
- GDWYVWPRJCQHTA-UHFFFAOYSA-N CC1=NC2=C([Se]1)C=C(C(=C2)Cl)C(=O)O Chemical compound CC1=NC2=C([Se]1)C=C(C(=C2)Cl)C(=O)O GDWYVWPRJCQHTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical class C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N [4-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIFFLMNDXWOKQJ-UHFFFAOYSA-N [K].O[Si](O)(O)O Chemical compound [K].O[Si](O)(O)O DIFFLMNDXWOKQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940111121 antirheumatic drug quinolines Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 235000014633 carbohydrates Nutrition 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002518 isoindoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- ZBOFNBUHQGGQPT-UHFFFAOYSA-N n-[(4z)-4-diazo-3,6-diethoxycyclohexa-1,5-dien-1-yl]benzamide Chemical compound CCOC1=CC(=[N+]=[N-])C(OCC)C=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 ZBOFNBUHQGGQPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004968 peroxymonosulfuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- DJXNJVFEFSWHLY-UHFFFAOYSA-N quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CN=C21 DJXNJVFEFSWHLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910000404 tripotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019798 tripotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
ても、不溶物が堆積することのない感光性組成物を提供
する。 【構成】 感光性組成物に使用する増感剤として一般
式: 【化1】 で示される、現像液に対する高い溶解性を有する化合物
を使用する。ここで、Z、Y又はR1は、−COOH、−NHSO
2R4 、−CONHCOR4又は−CONHSO2R4 を含む。
Description
架橋する光架橋性重合体と、新規な増感剤とからなる感
光性組成物に関し、特に、感光性印刷版の感光層、フォ
トレジスト等に有用な感光性組成物に関する。
よって架橋する光架橋性材料は、よく知られており、こ
れらは、感光性平版印刷版、フォトレジスト等の製造に
用いる感光性組成物の主要成分として用いられている。
これらのうち、光架橋性高分子化合物としてマレイミド
基を側鎖に有する高分子化合物、芳香核に隣接した光二
量化可能な不飽和二重結合を有するシンナミル基、シン
ナミリデン基やカルコン基等を側鎖又は主鎖に有する高
分子化合物は有用であり、特に感度が高いという点でマ
レイミド基を有する高分子化合物は有用である。
光性がなく、感光性を高めるために、増感剤として、チ
オキサントン類、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ア
ントラキノン類、アントラセン、クリセン、p−ジニト
ロベンゼン、2−ニトロフルオレノン等が用いられてき
た。これらの増感剤を用いた場合、感度は高くなるが、
それでも充分とはいえず、画像形成における像露光に長
時間を要するため、作業性が悪く、細密な画像の場合に
は操作にわずかな振動があると良好な画質の画像が再現
されない等の問題点があった。そこで、特開昭62−2
94238号公報には、上記欠点を解消するために、一
般式:
するのに必要な非金属原子群を示し、Rは(置換)アリ
ール又は(置換)ヘテロ環を示す。)で表わされる化合
物を増感剤として使用することが提案された。しかしな
がら、上記増感剤を使用しても感度を更に十分高めるこ
とはできなかった。一方、特開平2−236552号公
報には上記欠点を解消するため、一般式:
するのに必要な非金属原子群を示し、Yは環を形成する
のに必要な非金属原子群を示し、R1 はアルキル基又は
置換アルキル基を示し、R2 及びR3 は、それぞれ水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、又はハロゲン原子を示し、nは0から4ま
での整数を示す。)で表わされる化合物を増感剤として
使用することが提案された。
ろ、比較的良好な感度が得られ、これらを用いた感光性
平版印刷版は実用上十分な性能を有していた。しかしな
がら、これらの増感剤を用いた平版印刷版を実質上有機
溶剤を含まない現像液で現像すると、現像浴中に不溶物
が堆積するという新たな問題が発生した。現像浴中に不
溶物が堆積すると、自動現像機の誤作動が引き起こさ
れ、また、印刷版上に付着するなど弊害を生じる。一
方、これらの弊害を避けるためには、現像液を頻繁に交
換しなければならないなど経済上及び資源利用上大きな
問題となる。
は、実質上有機溶剤を含まない現像液に対して高い溶解
性を有する感光性組成物を提供することにある。
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、ある種の増感剤は実
質的に有機溶剤を含まない現像液に対する溶解性が高
く、このような増感剤を使用することによって上記目的
が達成できることを見い出し、本発明に到達したもので
ある。即ち、本発明は、光二量化可能な不飽和結合を有
する光架橋性重合体と、下記一般式(I)で表わされる
増感剤とを含有することを特徴とする感光性組成物に関
する。
するのに必要な非金属原子群を示し;Yは環を形成する
のに必要な非金属原子群を示し;R1 はアルキル基又は
置換アルキル基を示し;R2 及びR3 は、それぞれ水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、又はハロゲン原子を示し;Z、Y及びR1
のいずれか1つ以上は、1つ以上の COOH 基、 NHSO2R4
基、 CONHCOR4 基又は CONHSO2R4基を含み;R4 はアル
キル基、芳香族基又は芳香族アルキル基を示し;nは、
0から4までの整数を示す。)以下、本発明について詳
述する。本発明の感光性組成物に使用される、光二量化
可能な不飽和結合を有する光架橋性重合体としては、マ
レイミド基、シンナミル基、シンナモイル基、シンナミ
リデン基、シンナミリデンアセチル基、カルコン基等の
官能基を側鎖又は主鎖に有する感光性重合体が挙げられ
る。特に、マレイミド基を側鎖に有する重合体は比較的
高い感度を有しているので、好ましい。マレイミド基を
側鎖に有する光架橋性重合体としては、以下の一般式
(A)で示されるマレイミド基:
子、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、R11とR12と
が一緒になって5員環又は6員環を形成していてもよ
い。尚、R 11及びR12のアルキル基としては、炭素数1
〜4のものが好ましく、特に好ましいのはメチル基であ
る。また、R11とR12が一緒となって6員環を形成して
いるのも好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子、
臭素原子又は沃素原子が好ましい。)を側鎖に有する重
合体が例示される。このような重合体は、例えば、特開
昭52−988号(対応米国特許第4,079,041
号)公報、西独特許第2,626,769号明細書、ヨ
ーロッパ特許第21,019号明細書、ヨーロッパ特許
第3,552号明細書やジ・アンゲバンテ・マクロモレ
クラエ・ケミ(Die Angewandte Mackromolekulare Chem
i)115(1983)の163〜181ページ、特開昭
49−128991号〜同49−128993号、同5
0−5376号〜同50−5380号、同53−529
8号〜同53−5300号、同50−50107号、同
51−47940号、同52−13907号、同50−
45076号、同52−121700号、同50−10
884号、同50−45087号、同58−43951
号の各公報、西独特許第2,349,948号、同2,
616,276号各号明細書に記載されている。本発明
では、これらのうち、成分(a) の重合体として、1分子
当り平均2個以上のマレイミド基を側鎖に有し、かつ平
均分子量が1000以上のものを用いるのが好ましい。この
ような重合体は、例えば、一般式(B)〜(E):
と同じ意味を有し、n1 、n2 及びn 3 は整数を示し、
好ましくは1から6である。)で表わされるモノマー
と、分子中にアルカリ可溶性基を有するモノマーとを、
例えば95/5〜30/70、好ましくは90/10〜
50/50(モル比)の割合で共重合させることによっ
て容易に調製される。つまり、アルカリ可溶性基を有す
る重合体は、現像時にアルカリ水を用いることが出来る
ので好ましく、又低公害上有利であるからである。アル
カリ可溶性基を有するマレイミド重合体の酸価は9〜2
65の範囲が好ましく、更に好ましくは20〜150の
範囲である。尚、分子中にアルカリ可溶性基を有するモ
ノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボ
キシル基を有するビニルモノマー、以下の(F)式で示
されるような -CONHSO2-基を含むビニルモノマー、以下
の(G)式で示されるような-SO2NH2 基を含むビニルモ
ノマー、以下の式(H)式で示されるようなフェノール
性水酸基を含むビニルモノマー、以下の(J)式で示さ
れるようなリン酸あるいはホスホン酸基を含むビニルモ
ノマー、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物等が例示
される。
でも、ジ・アンゲバンテ・マクロモレクラエ・ケミ(Di
e Angewandte Makromolekulare Chemie)128(198
4)の71〜91ページに記載されている様なN−〔2
−(メタクリロイルオキシ〕エチル〕−2,3−ジメチ
ルマレイミドと、メタクリル酸あるいはアクリル酸の共
重合体、つまりアルカリ可溶性基をもつビニルモノマー
との共重合体が好ましい。さらに上記ビニルモノマーと
は異なるビニルモノマーを共存させて重合させた多元共
重合体も好ましい。
しては、分子量1000以上、好ましくは1万〜50万、特
に好ましくは2万〜30万のものを用いるのが望まし
い。上記成分(a) の重合体の全組成物に対する添加量は
10〜99重量%(以下、%と略称する)、好ましくは
50〜99%である。次に、本発明の光架橋性組成物に
使用される増感剤(b) について説明する。本発明で用い
られる一般式(I)で表わされる化合物において、Zは
通常シアニン色素で用いられる窒素を含むヘテロ環核を
形成するのに必要な非金属原子群である。また、Z、Y
及びR1 のいずれか1つ以上が1つ以上の COOH 基、 N
HSO2R4基、 CONHCOR4 基、又は CONHSO2R4基(R4 :ア
ルキル基、芳香族基又はアルキル芳香族基)を含むが、
このうち COOH 基が溶解性の面から好ましい。Zと窒素
とを含むヘテロ環核とは、例えばベンゾチアゾール類
(ベンゾチアゾール、5−カルボキシ−ベンゾチアゾー
ル、6−カルボキシ−ベンゾチアゾール、5−カルボキ
シエチルベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾー
ル、6−クロロベンゾチアゾール、4−カルボキシ−5
−クロロベンゾチアゾール、4−カルボキシ−6−クロ
ロベンゾチアゾール、4−カルボキシエチル−5−クロ
ロ−ベンゾチアゾール、5−カルボキシプロピル−6−
クロロ−ベンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾー
ル、5−メチルベンゾチアゾール、5−カルボキシ−4
−メチルベンゾチアゾール、6−カルボキシ−5−メチ
ルベンゾチアゾール、5−カルボキシエチル−4−メチ
ルベンゾチアゾール、6−カルボキシメチル−5−メチ
ルベンゾチアゾール、6−カルボキシエチル−5−エチ
ルベンゾチアゾール、6−カルボキシプロピル−5−エ
チル−ベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾー
ル、5−(4−カルボキシフェニル)−ベンゾチアゾー
ル、4−カルボキシ−5−フェニルベンゾチアゾール、
5−カルボキシエチル−6−フェニルベンゾチアゾー
ル、6−エトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベン
ゾチアゾール、5−カルボキシ−6−メトキシベンゾチ
アゾール、4−カルボキシ−5−メトキシベンゾチアゾ
ール、4−カルボキシメチル−5−メトキシベンゾチア
ゾール、5−カルボキシ−6−エトキシベンゾチアゾー
ル、4−カルボキシエチル−5−エトキシベンゾチアゾ
ール、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、6−ヒドロキ
シ−ベンゾチアゾール、6−カルボキシ−5−ヒドロキ
シベンゾチアゾール、6−カルボキシメチル−5−ヒド
ロキシベンゾチアゾール、5−カルボキシエチル−6−
ヒドロキシベンゾチアゾール、5−カルボキシプロピル
−6−ヒドロキシベンゾチアゾール、5,6−ジヒドロ
キシベンゾチアゾール。
−カルボキシ−5,6−ジメトキシベンゾチアゾール、
5,6−ジメチルベンゾチアゾール、4−カルボキシ−
5,6−ジメチルベンゾチアゾールなど);ナフトチア
ゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾー
ル、4−カルボキシ−α−ナフトチアゾール、4−カル
ボキシ−β−ナフトチアゾール、5−カルボキシ−α−
ナフトチアゾール、5−カルボキシメチル−β−ナフト
チアゾール、6−カルボキシエチル−α−ナフトチアゾ
ール、6−カルボキシプロピル−β−ナフトチアゾール
など);ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール、
4−カルボキシメチルベンゾセレナゾール、5−クロロ
ベンゾセレナゾール、4−カルボキシベンゾセレナゾー
ル、5−カルボキシベンゾセレナゾール、6−カルボキ
シベンゾセレナゾール、4−カルボキシ−5−クロロベ
ンゾセレナゾール、6−カルボキシメチル−5−クロロ
ベンゾセレナゾール、5−カルボキシエチル−6−クロ
ロベンゾセレナゾール、5−カルボキシプロピル−6−
クロロベンゾセレナゾール、6−メチルベンゾセレナゾ
ール、5−カルボキシ−ベンゾセレナゾール、4−カル
ボキシ−5−メチル−ベンゾセレナゾール、6−カルボ
キシメチル−5−メチルベンゾセレナゾール、6−カル
ボキシエチル−5−メチルベンゾセレナゾール、6−メ
トキシベンゾセレナゾール、5−カルボキシ−6−メト
キシベンゾセレナゾール、5−カルボキシメチルベンゾ
セレナゾール、6−カルボキシエチル−5−メトキシベ
ンゾセレナゾール、7−カルボキシプロピル−6−メト
キシベンゾセレナゾール、など);ナフトセレナゾール
類(α−ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナゾー
ル、5−カルボキシ−α−ナフトセレナゾール、6−カ
ルボキシ−αナフトセレナゾール、7−カルボキシ−α
−ナフトセレナゾール、8−カルボキシ−α−ナフトセ
レナゾール、5−カルボキシメチル−α−ナフトセレナ
ゾール、6−カルボキシエチル−α−ナフトセレナゾー
ル、7−カルボキシプロピル−α−ナフトセレナゾー
ル、8−カルボキシプロピル−α−ナフトセレナゾー
ル、5−カルボキシ−β−ナフトセレナゾール、6−カ
ルボキシ−β−ナフトセレナゾール、7−カルボキシ−
β−ナフトセレナゾール、8−カルボキシ−β−ナフト
セレナゾール、
ゾール、6−カルボキシエチル−α−ナフトセレナゾー
ル、7−カルボキシプロピル−β−ナフトセレナゾー
ル、8−カルボキシプロピル−β−ナフトセレナゾー
ル、など);ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾー
ル、4−カルボキシベンゾオキサゾール、5−カルボキ
シベンゾオキサゾール、6−カルボキシベンゾオキサゾ
ール、7−カルボキシベンゾオキサゾール、4−カルボ
キシ−5−メチルベンゾオキサゾール、5−カルボキシ
−6−メチル−ベンゾオキサゾール、4−カルボキシメ
チル−6−メチルベンゾオキサゾール、5−カルボキシ
エチル−6−エチル−ベンゾオキサゾール、5−フェニ
ルベンゾオキサゾール、5−(p−カルボキシフェニ
ル)−ベンゾオキサゾール、4−カルボキシ−5−フェ
ニルベンゾオキサゾール、6−カルボキシプロピル−5
−フェニルベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオ
キサゾール、5−カルボキシ−6−メトキシベンゾオキ
サゾール、5−カルボキシメチル−6−メトキシベンゾ
オキサゾール、7−カルボキシプロピル−6−メトキシ
ベンゾオキサゾール、など);ナフトオキサゾール類
(α−ナフトオキサゾール、4−カルボキシ−α−ナフ
トオキサゾール、5−カルボキシ−α−ナフトオキサゾ
ール、6−カルボキシ−α−ナフトオキサゾール、4−
カルボキシメチル−α−ナフトオキサゾール、5−カル
ボキシエチル−α−ナフトオキサゾール、6−カルボキ
シプロピル−α−ナフトオキサゾール、β−ナフトオキ
サゾール、4−カルボキシ−β−ナフトオキサゾール、
5−カルボキシ−β−ナフトオキサゾール、6−カルボ
キシ−β−ナフトオキサゾール、7−カルボキシ−β−
ナフトオキサゾール、8−カルボキシメチル−β−ナフ
トオキサゾール、9−カルボキシプロピル−β−ナフト
オキサゾール、6−カルボキシエチル−β−ナフトオキ
サゾールなど);イミダゾール類(イミダゾール、4−
カルボキシイミダゾール、ベンゾイミダゾール、5−カ
ルボキシ−ベンゾイミダゾール、など);
ドレニンなど);キノリン類(キノリン、イソキノリ
ン、3−カルボキシキノリンなど);ジアゾール類
(1,3,4−オキサジアゾール、1,3,4−チアジ
アゾール、1,3,4−セレナジアゾール、など);ト
リアゾール類、ピラジン、キノキサリン、S−トリアジ
ン、フェナントリジン等を挙げることができる。Yは、
環を形成するのに必要な非金属原子群を表わし、例え
ば、次のような構造の環を形成する。
アルキル基、置換アルキル基(例えば、カルボキシメチ
ル基、カルボキシエチル基、 CONHSO2CH3 基、 CONHCOC
H3基、CH2NHSO2CH3 基など)、アリール基、置換アリー
ル基、アリル基又は置換アリル基を表わし、Xは酸素原
子又は硫黄原子を表わす。
素原子、アルキル基、置換アルキル基(例えば、カルボ
キシ基、カルボキシメチル基、カルボキシブチル基、カ
ルボキシプロピル基など)、アリール基、置換アリール
基、アリル基、置換アリル基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基又はハロゲン
原子を表わす。
アルキル基、置換アルキル基(例えば、カルボキシメチ
ル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基な
ど)、アリール基、置換アリール基、アリル基又は置換
アリル基を表わす。
素原子、アルキル基、置換アルキル基(例えば、カルボ
キシ基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カ
ルボキシプロピル基など)、アリール基、置換アリール
基、アリル基、置換アリル基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基又はハロゲン
原子を表わす。
子、アルキル基、置換アルキル基(例えば、カルボキシ
メチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基
など)、アリール基又は置換アリール基を表わす。
ルキル基で、炭素数1以上の飽和又は不飽和の直鎖又は
分岐したアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基など)又は置換アルキル基(例えば、2−ヒド
ロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カルボキシメ
チル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロ
ピル基、2−スルホエチル基、3−スルホプロピル基、
2−カルボメトキシエチル基、ベンジル基、フェネチル
基、p−スルホフェネチル基、p−カルボキシフェネチ
ル基、ビニルメチル基、 CH2CONHSO2CH3基、 CH2NH-SO2
CH3 基、 CH2-CONHCO-CH3 基など)である。
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基又はハロゲン原子を表わす。そして、nは、0から
4の整数を表わす。本発明で用いられる前記一般式
(I)で表わされる増感剤は公知の方法を用いて合成す
ることができる。代表的な合成法は例えばティー・エッ
チ・ジェームズ著「ザ・セオリー・オブ・フォトグラフ
ィック・プロセス」〔T. H. James 編“The Theory of
Photographic Process”第4版、 Macmillan Co., New
York(1977)〕及びエフ・エム・ハマー著「ザ・ジ
アニン・ダイズ・アンド・リレイテイド・コムパウンズ
〔F. M. Hamer 著“The Cyanine Dyes and Related Com
pounds”John Wiley & Sons Co., New York (196
4)〕に記載されている。本発明に用いられる一般式
(I)で表わされる増感剤の具体例を下記に示す。但
し、以下の式中、R41は -CH2COOH基、 -CH2CH2-COOH
基、 -CH2CH2-CH2COOH基又は -CH2CH2CH2-CH2COOH 基を
示し、R42は -COOH 基、 -CH2COOH 基、 -CH2CH2COO
H、 -CH2CH2CH2COOH 基又は CH2CH2CH2CH2COOH 基を示
す。
しやすく、又、感度にすぐれているため好ましい。本発
明に用いられる増感剤の添加量は、全組成の1〜30重
量%、より好ましくは、2〜20重量%である。本発明
の光架橋型感光性組成物には、一般式(I)で表わされ
る増感剤に加えて、他の増感剤を更に含有させてもよ
い。この場合には、一般式(I)で表わされる増感剤と
の併用により光架橋速度をさらに増大させる増感剤が選
択される。このような増感剤の具体例としては、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン、9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノ
ン、2−メチル−9−フルオレノン、9−アントロン、
2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アント
ロン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9,1
0−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−アン
トラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキ
ノン、キサントン、2−メチルキサントン、2−メトキ
シキサントン、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルア
ミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメチルアミ
ノ)フェニルp−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノ
ン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラー
ケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベ
ンズアントロンなどを挙げることができる。
クロルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサント
ン、ジメチルチオキサントン等や、ドイツ特許第301
8891号及び同3117568号、並びにヨーロッパ
特許第33720号、英国特許第2075506号公報
に記載されているような置換されたチオキサントン類を
用いるのがよい。一般式(I)の増感剤と併用できる増
感剤の添加量は全組成物の0.5〜20%が好ましく、よ
り好ましくは3〜10%である。以上の他に、必要に応
じてネガ作用を有するジアゾ樹脂を加えることも出来
る。このようなジアゾ樹脂としては4−ジアゾ−ジフェ
ニルアミン、1−ジアゾ−4−N,N−ジメチルアミノ
ベンゼン、1−ジアゾ−4−N,N−ジエチルアミノベ
ンゼン、1−ジアゾ−4−N−エチル−N−ヒドロキシ
エチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−メチル−
N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジエトキシ−4−ベンゾイルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジ
アゾ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジア
ゾ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−
ジメトキシ−4−p−トリルメルカプトベンゼン、1−
ジアゾ−2−エトキシ−4−N,N−ジメチルアミノベ
ンゼン、p−ジアゾ−ジメチルアニリン、
ルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ
−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジ
メトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジエトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−
ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4−p−トリルメルカプ
トベンゼン、1−ジアゾ−3−エトキシ−4−N−メチ
ル−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−ク
ロロ−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジア
ゾ−3−メチル−4−ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ
−2−クロロ−4−N,N−ジメチルアミノ−5−メト
キシベンゼン、1−ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリ
ジノベンゼン、3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルア
ミン、3−エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3
−(n−プロポキシ)−4−ジアゾフェニルアミン、3
−イソプロポキシ−4−ジアゾジフェニルアミンのよう
なジアゾモノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソ
ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒドのような縮合剤を
モル比で各々1:1〜1:0.5、好ましくは1:0.8〜
1:0.6とし、これを通常の方法で縮合して得られた縮
合物と陰イオンとの反応生成物が挙げられる。
ッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5
−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチ
ル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,
6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼ
ンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブ
ロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタ
レンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナ
フトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロ
キシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラ
トルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの
中でも特に六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のご
ときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
ン酸及び/又はフェノールを有するアルデヒド又はその
アセタール(更に必要に応じて前述の縮合剤)より得ら
れる縮合物と前述の陰イオンとの反応生成物や、特開平
1−102456号及び特開平1−102457号の各
公報に記載されているジアゾ樹脂も本発明において好適
に使用される。これらジアゾ樹脂の全組成物に対する添
加量は一般に0.1〜15重量%であり、好ましくは0.3
〜5重量%である。また、これらのジアゾ樹脂は、感光
層と支持体との中間層として使用することもできる。
子化合物の他に、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール変性キシレ
ン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒド
ロキシスチレン、カルボキシル基含有(メタ)アクリレ
ート樹脂、カルボキシル基含有ポリウレタン等、公知の
アルカリ可溶性の高分子化合物を含有させることができ
る。かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の
70重量%以下の添加量で用いられる。以上の他に感光
性組成物には更に熱重合防止剤を加えておくことが好ま
しく、例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノー
ル、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、
t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオ
ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,
2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾ−ル等が有用
であり、また場合によっては感光層の着色を目的にして
染料もしくは顔料や焼出剤としてpH指示薬等を添加する
こともできる。
する、感光性化合物と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。更にジアゾ樹脂の安
定化剤として、リン酸、亜リン酸、酒石酸、クエン酸、
リンゴ酸、ジピコリン酸、多核芳香族スルホン酸及びそ
の塩、スルホサリチル酸、フェニルホスホン酸等を必要
に応じて添加することができる。また、本発明の感光性
組成物は可塑剤などを含んでいてもよい。可塑剤として
は、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレートなどフ
タル酸ジアルキルエステル、オリゴエチレングリコール
アルキルエステル、リン酸エステル系の可塑剤などを使
用することができる。上述のごとき感光性組成物を、例
えば、2−メトキシエタノール、2−メトキシエチルア
セテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
3−メトキシプロパノール、3−メトキシプロピルアセ
テート、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
オキシド、エチレンジクロライド、乳酸メチル、乳酸エ
チル、メタノール、水などの適当な溶剤の単独又はこれ
らを適当に組合せた混合溶媒に溶解して支持体上に塗設
する。その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約1
0g/m2の範囲が適当であり、好ましくは0.5〜5g/
m2である。
を製造する場合、その支持体としては、アルミニウム板
が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム及びア
ルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金として
は種々のものが使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、
マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル
などの金属とアルミニウムの合金が用いられる。その組
成は、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他無視し得
る程度の量の不純物を含んでもよい。アルミニウム板
は、必要に応じて表面処理される。例えば、砂目立て処
理、珪酸ソーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン
酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽極酸化処理など
の表面処理がなされていることが好ましい。また、米国
特許第2,714,066号明細書に記載されているよう
に、砂目立てした後、珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理
したアルミニウム板、米国特許第3,181,461号明細
書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処
理を行った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理
したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例
えば、リン酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若し
くはシュウ酸、スルファミン酸等の有機酸又はこれらの
塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わ
せた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流す
ことにより実施される。
に記載されているようなシリケート電着も有効である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる感光性組成物
との有害な反応を防ぐためや、感光層との密着性を向上
させるために施されるものである。アルミニウム板を砂
目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除
去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるため
にその表面の前処理を施しても良い。前者のためには、
トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。
一方、後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行わ
れている。砂目立て方法としては、機械的、化学的及び
電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械的
方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石の
ような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦り
つけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法としては、
特開昭54−31187号公報に記載されているような
鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適
しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれ
らの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が
好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開昭55
−137993号公報に記載されているような機械的粗
面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂
性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。
ニウム板の表面の中心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.0μ
となるような範囲で施されることが好ましい。このよう
にして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水
洗及び化学的にエッチングされる。エッチング処理液
は、通常アルミニウムを溶解する塩基あるいは酸の水溶
液より選ばれる。この場合、エッチングされた表面に、
エッチング液成分から誘導されるアルミニウムと異なる
被膜が形成されないものでなければならない。好ましい
エッチング剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リ
ン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウ
ム等;酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及
びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化傾向の
低い金属、例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケル、
銅等の塩はエッチング表面に不必要な被膜を形成するか
ら好ましくない。
の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の
溶解速度が浸漬時間1分あたり0.3〜40g/m2になる
ように行われるのが最も好ましいが、これを上回るある
いは下回るものであっても差支えない。エッチングは上
記エッチング液にアルミニウム板を浸漬したり、該アル
ミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行わ
れ、エッチング量が0.5〜10g/m2の範囲となるよう
に処理されることが好ましい。上記エッチング剤として
は、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水
溶液を使用することが望ましい。この場合、スマットが
生成するので、通常デスマット処理される。デスマット
処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム
酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。
必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この
分野で従来より行なわれている方法で行なうことができ
る。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、
スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれら
の二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアル
ミニウムに直流又は交流の電流を流すと、アルミニウム
支持体表面に陽極酸化被膜を形成することができる。陽
極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変化
するので一概には決定され得ないが、一般的には電解液
の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度0.
5 〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間30秒
〜50分の範囲が適当である。これらの陽極酸化処理の
内でも、特に英国特許第1,412,768号明細書に記載
されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び
米国特許第3,511,661号明細書に記載されているリ
ン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
れたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理しても
良く、その好ましい例としては米国特許第2,714,06
6号及び同第3,181,461号公報に開示されているよ
うなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水
溶液又は特公昭36−22063号公報に開示されてい
るフッ化ジルコニウム酸カリウム及び米国特許第4,15
3,461号明細書に開示されているようなポリビニルス
ルホン酸で処理する方法がある。更に、これらの処理の
後に水溶液の樹脂、例えばポリアクリル酸やスルホン酸
基を側鎖に有する重合体及び共重合体、その他、アルカ
リ性水溶液可溶性の低分子化合物、トリエタノールアミ
ンの塩や、アラニン化合物を下塗りしたものも好適であ
る。支持体上に塗布された本発明の感光性組成物は線画
像、網点画像等を有する透明原画を通して露光する。
リ現像液としては、例えば特開昭51−77401号公
報に示されている、ベンジルアルコール、アニオン性界
面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像液、特開昭5
3−44202号公報に記載されている、ベンジルアル
コール、アニオン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む
水性溶液からなる現像液、特開昭55−155355号
公報に記載されている、水に対する溶解度が常温におい
て10重量%以下である有機溶剤とアルカリ剤と水とを
含有する現像液等が挙げられる。これらは、いずれも有
機溶剤を現像液中に含有している。しかし、有機溶剤は
一般に毒性及び臭気があり、また火災に対する危険性を
持っており、さらに廃液においてもBOD規制を受ける
等の多くの欠点を有し、コストも高くなる。従って、有
機溶剤を実質上含まない現像液を使用することが望まし
い。尚、本発明において、「実質上有機溶剤を含まな
い」とは、前述した安全性の点から該物質の組成物中に
占める割合が3重量%以下であることを意味し、好まし
くは1重量%以下であるが、さらに好ましくは0.5重量
%以下であり、全く含まないことが望ましい。
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン等の有機アミン類、及びKOH 、NaOH、ケイ酸カ
リウム、ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、有機カ
ルボン酸のNa塩又はK塩、リン酸のNa塩又はK塩(第
一、第二、第三)、ホウ酸のNa塩又はK塩(第一、第
二、第三)等が挙げられる。これらのアルカリ剤は現像
液中10重量%以下で使用される。また、現像液中に特
開昭50−51324号公報に記載されているようなア
ニオン性界面活性剤、及び両性界面活性剤、特開昭59
−75255号公報、特開昭60−111246号公報
に記載されているような非イオン性界面活性剤等の界面
活性剤を含有していてもよい。これらの界面活性剤は現
像液中10重量%以下、好ましくは6重量%以下で使用
される。さらに、現像液中に亜硫酸ナトリウム等の水溶
性亜硫酸塩を添加してもよい。これらの亜硫酸塩は現像
液中5重量%以下で使用される。
式(I)で示される増感剤は実質上有機溶剤を含まない
現像液に対し、高い溶解性を示すので、これを含有する
感光性組成物も実質上有機溶剤を含まない現像液に対し
て高い溶解性を示す。従って、本発明の感光性組成物を
用いた感光性平版印刷版を実質上有機溶剤を含まない現
像液で現像しても現像浴中には不溶物が堆積しないの
で、自動現像機の誤作動が防止でき、現像液を頻繁に変
える必要はない
いて更に詳しく説明するが、本発明はこれらにより何ら
限定されるものではない。
と、ブロモプロピオン酸150gとをエタノール300
mlに加え、KOHを少しづつ加えた。KOHを120g
加えた後、2週間撹拌した。水500mlを加え、更にH
Clを加えて、中和した。析出した結晶をロ取し、水で洗
浄した。120gの結晶が得られた。 融点 154〜156℃ 元素分析値(%)(Mw =239.3) 実験値:C 50.0 H 4.0 N 6.1 計算値:C 50.1 H 3.8 N 5.9
ル24gと、ブロモプロピオン酸31gとを120℃に
て6時間加熱した。反応混合物を冷却した後、THF2
00mlと1,3−ジブチルチオバルビツール酸30gと
を加え、更にトリエチルアミン80ml加え撹拌した。反
応終了後水300mlに注ぎ、HCl100mlで中和した。
析出した結晶をろ取し、エタノールで洗浄した。17g
の結晶(化合物A)が得られた。 融点 190〜192℃ 元素分析値(%)(Mw =461.6) 実験値:C 57.4 H 6.0 N 8.8 計算値:C 57.2 H 5.8 N 9.1 合成例2 合成例1と同様にして、
と、ジメチル硫酸30gとを120℃にて6時間加熱し
た。反応液を冷却した後、THF200mlと1,3−ジ
ブチル−チオバルビツール酸60gとを加え、更にトリ
エチルアミン150mlを加えて、撹拌した。反応終了後
水300mlに注ぎ、析出した結晶をろ取し、エタノール
で洗浄した。29gの結晶(化合物F)が得られた。 融点 148〜150℃ 元素分析値(%)(Mw =403.6) 実験値:C 59.8 H 6.3 N 10.2 計算値:C 59.5 H 6.2 N 10.4 合成例4〜8 合成例3と同様にして、以下の化合物C〜E、G及びH
を合成した。
A、B、C、D及びEを用い、下記組成の実質上有機溶
剤を含まない現像液(I)及び(II) の2種に対する溶
解性を調べた。実験方法は増感剤0.05gを現像液50
ccに加えることにより行った。この結果を以下の表1に
示す。また、比較化合物として、化合物F、G及びHに
ついても同様の実験を行った。 現像液(I) SiO2/K2O のモル比約1.2のケイ酸カリウム 32.3g 水 967.7g 現像液(II) SiO2/K2O のモル比約0.78のケイ酸カリウム 57.0g 水 943.0g
比較例1〜3に比較して高い溶解性を示した。
00メッシュのパミストンの水懸濁液を用いて、その表
面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化
ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%HNO3で中和洗浄、水洗した。こ
れをVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を
用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2 の電気
量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定した
ところ、0.6μ(Ra表示)であった。引き続いて30
%のH2SO4 水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマッ
トした後、20%H3PO4 水溶液中、電流密度2A/dm2
において陽極酸化皮膜量が1.2g/m2になるように5分
間陽極酸化処理した。その後70℃のケイ酸ソーダ2.5
%水溶液に1分間浸漬し、水洗し、乾燥させた。表1に
示す増感剤を含む下記感光液Iを回転塗布機を用いて、
得られたアルミニウム板に塗布して100℃、2分間乾
燥し、面積当りの重量1g/m2の感光層を形成させ、感
光性平版印刷版を作成した。感光液Iの組成: メチルメタクリレート/N−〔6−(メタクリロイルオキシ)ヘキシル〕−2 ,3−ジメチルマレイミド/メタクリル酸=10/60/30(モル比)共重合 体(MW =8.0×104) 5g 増感剤(化合物A〜H) 0.5g 4−ジアゾジフェニルアミン PF6 塩(ジアゾ単量体) 0.03g FC−430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) 0.05g 1−メトキシ−2−プロパノール 100g 得られた感光性平版印刷版の2m2に対して前記2種類の
現像液(I)及び(II)100ccで現像した。この現像四
日後の様子を表2に示す。
4〜6と同様の操作を行った。このときの結果を以下の
表3に示す。感光液IIの組成: メチルメタクリレート/N−〔6−(メタクリロイルオキシ)ヘキシル〕−2 ,3−ジメチルマレイミド/メタクリル酸=10/60/30(モル比)共重合 体(MW =1.0×105) 5g 増感剤(化合物A〜H) 0.5g 4−ジアゾジフェニルアミン PF6 塩(ジアゾ単量体) 0.03g FC−430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) 0.05g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学製) 0.10g 亜リン酸(50%) 0.05g p−ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物のPF6 塩 0.1g メチルエチルケトン 50g メタノール 60g
〜6と同様の操作を行った。このときの結果を表4に示
す。感光液III の組成: N−〔6−(メタクリロイルオキシ)ヘキシル〕−2,3−ジメチルマレイミ ド/メタクリル酸=70/30(モル比)共重合体(MW =8.0×104) 6g 増感剤(化合物A〜H) 0.5g 4−ジアゾジフェニルアミン PF6 塩(ジアゾ単量体) 0.03g メガファックF−177(大日本インキ(株)製、フッ素系ノニオン系界面活 性剤) 0.03g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学製) 0.10g 亜リン酸(50%) 0.05g 4−ジアゾジフェニルアミンとフェノキシ酢酸のホルムアルデヒド共縮合物の ドデシルベンゼンスルホン酸塩 0.20g プロピレングリコールモノメチルエーテル 60g メチルエチルケトン 50g
される増感剤を用いて感光性平版印刷版を作成して現像
した場合、現像液中に不溶物は見られなかった。
するのに必要な非金属原子群を示し、Yは環を形成する
のに必要な非金属原子群を示し、R1はアルキル基又は
置換アルキル基を示し、R2及びR 3 は、それぞれ水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、又はハロゲン原子を示し、nは0から4ま
での整数を示す。)で表わされる化合物を増感剤として
使用することが提案された。
するのに必要な非金属原子群を示し;Yは環を形成する
のに必要な非金属原子群を示し;R1はアルキル基又は
置換アルキル基を示し;R2及びR 3 は、それぞれ水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、又はハロゲン原子を示し;Z、Y及びR1
のいずれか1つ以上は、1つ以上のCOOH基、NHS
O2R4基、CONHCOR4基又はCONHSO2R
4基を含み;R4はアルキル基、芳香族基又は芳香族ア
ルキル基を示し;nは、0から4までの整数を示す。)
以下、本発明について詳述する。本発明の感光性組成物
に使用される、光二量化可能な不飽和結合を有する光架
橋性重合体としては、マレイミド基、シンナミル基、シ
ンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリデンアセ
チル基、カルコン基等の官能基を側鎖又は主鎖に有する
感光性重合体が挙げられる。特に、マレイミド基を側鎖
に有する重合体は比較的高い感度を有しているので、好
ましい。マレイミド基を側鎖に有する光架橋性重合体と
しては、以下の一般式(A)で示されるマレイミド基:
びR12と同じ意味を有し、n1、n2及びn3は整数
を示し、好ましくは1から6である。)で表わされるモ
ノマーと、分子中にアルカリ可溶性基を有するモノマー
とを、例えば95/5〜30/70、好ましくは90/
10〜50/50(モル比)の割合で共重合させること
によって容易に調製される。つまり、アルカリ可溶性基
を有する重合体は、現像時にアルカリ水を用いることが
出来るので好ましく、又低公害上有利であるからであ
る。アルカリ可溶性基を有するマレイミド重合体の酸価
は9〜265の範囲が好ましく、更に好ましくは20〜
150の範囲である。尚、分子中にアルカリ可溶性基を
有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸等
のカルボキシル基を有するビニルモノマー、以下の
(F)式で示されるような−CONHSO2−基を含む
ビニルモノマー、以下の(G)式で示されるような−S
O2NH2基を含むビニルモノマー、以下の(H)式で
示されるようなフェノール性水酸基を含むビニルモノマ
ー、以下の(J)式で示されるようなリン酸あるいはホ
スホン酸基を含むビニルモノマー、マレイン酸無水物、
イタコン酸無水物等が例示される。但し、酸無水物を用
いる場合は、加水分解が必要である。
と、ブロモプロピオン酸150gとをエタノール300
mlに加え、KOHを少しづつ加えた。KOHを120
g加えた後、2時間撹拌した。水500mlを加え、更
にHClを加えて、中和した。析出した結晶をロ取し、
水で洗浄した。120gの結晶が得られた。 融点 154〜156℃ 元素分析値(%)(Mw=239.3) 実験値:C 50.0 H 4.0 N 6.1 計算値:C 51.1 H 3.8 N 5.9
と400メッシュのパミストンの水懸濁液を用いて、そ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水
酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチング
した後、流水で水洗後20%HNO3で中和洗浄、水洗
した。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/
dm2の電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗
さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)であった。
引き続いて30%のH2SO4水溶液中に浸漬下し、5
5℃で2分間デスマットした後、20%H3PO4水溶
液中、電流密度2A/dm2において陽極酸化皮膜量が
1.2g/m2になるように5分間陽極酸化処理した。
その後70℃のケイ酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸
漬し、水洗し、乾燥させた。表1に示す増感剤を含む下
記感光液Iを回転塗布機を用いて、得られたアルミニウ
ム板に塗布して100℃、2分間乾燥し、面積当りの重
量1g/m2の感光層を形成させ、感光性平版印刷版を
作成した。感光液Iの組成: メチルメタクリレート/N−〔6−(メタクリロイルオキシ)ヘキシル〕−2 ,3−ジメチルマレイミド/メタクリル酸=10/60/30(モル比)共重合 体(Mw=8.0×104) 5g 増感剤(化合物A〜H) 0.5g 4−ジアゾジフェニルアミン PF6塩(ジアゾ単量体) 0.03g FC−430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) 0.05g 1−メトキシ−2−プロパノール 100g 得られた感光性平版印刷版の2m2に対して前記2種類
の現像液(I)及び(II)100ccで現像した。こ
れら現像液の四日後の様子を表2に示す。
Claims (1)
- 【請求項1】 (a) 光二量化可能な不飽和結合を有する
光架橋性重合体と、 (b) 下記一般式(I)で表わされる増感剤と、を含有す
ることを特徴とする感光性組成物。 【化1】 (式中、Zは窒素を含むヘテロ環核を形成するのに必要
な非金属原子群を示し;Yは環を形成するのに必要な非
金属原子群を示し;R1 はアルキル基又は置換アルキル
基を示し;R2 及びR3 は、それぞれ水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
又はハロゲン原子を示し;Z、Y及びR1 のいずれか1
つ以上が、1つ以上の COOH 基、 NHSO2R4基、 CONHCOR
4 基又は CONHSO2R4基を含み;R4 はアルキル基、芳香
族基又は芳香族アルキル基を示し;nは、0から4まで
の整数を示す。)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25991592A JP2860737B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 感光性組成物 |
| EP19930115453 EP0591786B1 (en) | 1992-09-29 | 1993-09-24 | Photosensitive composition |
| DE1993602650 DE69302650T2 (de) | 1992-09-29 | 1993-09-24 | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25991592A JP2860737B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06107718A true JPH06107718A (ja) | 1994-04-19 |
| JP2860737B2 JP2860737B2 (ja) | 1999-02-24 |
Family
ID=17340700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25991592A Expired - Fee Related JP2860737B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 感光性組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0591786B1 (ja) |
| JP (1) | JP2860737B2 (ja) |
| DE (1) | DE69302650T2 (ja) |
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| WO2022071452A1 (ja) | 2020-09-29 | 2022-04-07 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
| WO2022070556A1 (ja) | 2020-09-29 | 2022-04-07 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク及びインクジェット記録方法 |
| WO2023053925A1 (ja) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法 |
| WO2024048251A1 (ja) | 2022-08-31 | 2024-03-07 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク及びインクジェット記録方法 |
| WO2024095661A1 (ja) | 2022-10-31 | 2024-05-10 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録装置及びインクジェット記録方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP3470253B2 (ja) * | 1996-07-24 | 2003-11-25 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法 |
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1992
- 1992-09-29 JP JP25991592A patent/JP2860737B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-09-24 EP EP19930115453 patent/EP0591786B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-09-24 DE DE1993602650 patent/DE69302650T2/de not_active Expired - Fee Related
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| WO2013114929A1 (ja) | 2012-02-01 | 2013-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 水性インク組成物及び画像形成方法 |
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| WO2017135088A1 (ja) | 2016-02-05 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2017135085A1 (ja) | 2016-02-05 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2017138434A1 (ja) | 2016-02-10 | 2017-08-17 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
| WO2018155515A1 (ja) | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法 |
| WO2018155174A1 (ja) | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
| WO2018179947A1 (ja) | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
| WO2018186225A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2018186224A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2018198993A1 (ja) | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
| WO2018235534A1 (ja) | 2017-06-20 | 2018-12-27 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
| WO2019021639A1 (ja) | 2017-07-26 | 2019-01-31 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2019044511A1 (ja) | 2017-08-29 | 2019-03-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2019188481A1 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
| WO2020090465A1 (ja) | 2018-11-02 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | インクセット及び画像形成方法 |
| WO2020179155A1 (ja) | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物 |
| WO2020202628A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像記録方法 |
| WO2021059933A1 (ja) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 富士フイルム株式会社 | 粒子、水分散物、インクジェットインク、膜形成方法、及び画像形成方法 |
| WO2022014292A1 (ja) | 2020-07-15 | 2022-01-20 | 富士フイルム株式会社 | セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物 |
| WO2022054387A1 (ja) | 2020-09-11 | 2022-03-17 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法 |
| WO2022070535A1 (ja) | 2020-09-29 | 2022-04-07 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及び画像記録方法 |
| WO2022071452A1 (ja) | 2020-09-29 | 2022-04-07 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
| WO2022070556A1 (ja) | 2020-09-29 | 2022-04-07 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク及びインクジェット記録方法 |
| WO2023053925A1 (ja) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法 |
| WO2024048251A1 (ja) | 2022-08-31 | 2024-03-07 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク及びインクジェット記録方法 |
| WO2024095661A1 (ja) | 2022-10-31 | 2024-05-10 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録装置及びインクジェット記録方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69302650D1 (de) | 1996-06-20 |
| JP2860737B2 (ja) | 1999-02-24 |
| DE69302650T2 (de) | 1996-10-17 |
| EP0591786A3 (en) | 1994-06-01 |
| EP0591786B1 (en) | 1996-05-15 |
| EP0591786A2 (en) | 1994-04-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071211 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071211 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081211 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081211 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091211 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101211 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101211 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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