JPH06108285A - 半導体ウェハめっき用治具 - Google Patents
半導体ウェハめっき用治具Info
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- JPH06108285A JPH06108285A JP11659091A JP11659091A JPH06108285A JP H06108285 A JPH06108285 A JP H06108285A JP 11659091 A JP11659091 A JP 11659091A JP 11659091 A JP11659091 A JP 11659091A JP H06108285 A JPH06108285 A JP H06108285A
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- semiconductor wafer
- jig
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Abstract
めっき液にさらされないようにする。 【構成】 めっき液中で半導体ウェハ1を電気めっきす
るためのめっき用治具において、半導体ウェハをめっき
液中に保持する部材3,4に半導体ウェハのめっき面以
外にめっき液が流入しないように半導体ウェハをシール
するシール部材5を設け、該シールされた半導体ウェハ
のめっき液と接触しない面に陰極接点7を設けている。
Description
に係り、特に半導体ウェハをめっきするためのめっき用
治具に関する。
歴史的にみると、先ず図6に示されるように、ウェハ2
裏面にワックス又はレジストを被覆してめっき液に漬け
て行う浸漬式に始まり、最近では図7に示されるような
カップ式が主流になっている。いずれの方法でも、図8
に示すように、電気陰極接点部3はレジスト2を破り、
レジスト下のメタル部分1に突き刺す方法をとってい
る。このため、接点部もめっき液にさらされてしまい、
接点先端にもめっきが析出し、接点性能を維持するため
頻度良く接点先端をみがくこと(析出物を除去)や接点
交換が要求されていた。
欠点を解消し、陰極接点の先端部にめっきが析出しない
半導体ウェハめっき用治具を提供することを目的とす
る。
に、本発明では、めっき液中で半導体ウェハを電気めっ
きするためのめっき用治具において、半導体ウェハをめ
っき液中に保持する部材に半導体ウェハのめっき面以外
にめっき液が流入しないように半導体ウェハをシールす
るシール部材を設け、該シールされた半導体ウェハのめ
っき液と接触しない面に陰極接点を設けたことを特徴と
する半導体ウェハめっき用治具としたものである。本発
明で用いる半導体ウェハをシールするシール部材として
は、半導体ウェハのめっき面以外にめっき液が流入しな
いものならすべて用いることができるが、本発明者らが
開発したシリコンやウレタン等の軟質ゴムを用いたW−
リップシールとかC型シールが好適に用いることができ
る。
表面をシールしてめっき液が流入しないようにし、その
流入しない面に陰極接点を設けているので、陰極接点自
体はめっき液と接触せず、陰極接点がめっきされること
がない。また、ウェハ表面の陰極接点を設ける部分が、
レジストが剥離されているので、ウェハ表面と陰極接点
との接触が容易であり、より安定した接点性能が得られ
る。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 図1に、本発明のめっき用治具の部分拡大図を示す。図
1において、ウェハ1はウェハを保持する部材であるめ
っき用治具3及び4によってはさみ込まれ、シール5
(ここではWリップシールを示す)により、ウェハの裏
面と端面がシールされておりめっき液が流入しないよう
になっている。そして、シール5されたウェハ表面の端
面付近は、レジスト2がカットされたレジスト剥離部6
が設けられメタルがむき出しになっている。陰極接点7
は、このレジスト剥離部6にシール5のリップ間に装着
されたバネ状やクッションの接点7で接続され、治具3
を通って外部に導かれている。また、図2で示されるよ
うに陰極配線は治具4で接続され、シール5内のレジス
ト剥離部6とコンタクトピン15及びコンタクト受16
を通して、箔・導電性ゴム等で接続する陰極接点7とす
ることもできる。
拡大図を示す。図3において、ウェハ1は端部がC型を
したシールで封止されており、この封止されたウェハが
ウェハを保持する部材である治具3と4ではさみ込ま
れ、押付けレバー8を押付けることによってウェハの裏
面と端面にはめっき液が流入しないようにシールされ
る。そして、C型シール5内のウェハ1端面のレジスト
剥離部6にはバネ状の陰極接点7が設けられて、ウェハ
と接触しており、治具3を通って外部に導かれている。
具の斜視図を示し、図5にウェハをセットとした治具の
断面図を示す。図4及び図5に示すように、治具4にめ
っきをすべき面を上にして、ウェハ1をセットする。め
っきをすべき面だけ穴のあいた治具3を用意し、該穴の
端部に沿ってシールパッキン(前記のWリップシール又
はC型シール)を配備する。該治具3を治具4と合わせ
て、クランパ13で軽くはさみこむことにより、図5の
状態となる。これをめっき液に浸漬することにより、ウ
ェハ表面をめっきする。このとき、シールパッキン内は
実施例1及び2で示したように、陰極接点が設けられて
おり、陰極接点にはめっき液が接触しないようになって
いる。このような治具を用いてめっきを行うことによ
り、良好な結果が得られた。
り、陰極接点はめっき液と接触せず、陰極接点が変質す
ることがなく、長期間にわたって安定しためっきができ
る。
である。
図である。
分拡大図である。
図である。
る。
ル、6:レジスト剥離部、7:陰極接点、8:押付けレ
バー、10:めっき槽、11:陰極配線、12:陽極配
線、13:クランパ、14:ヒンジ、15:コンタクト
ピン、16:コンタクト受。
Claims (1)
- 【請求項1】 めっき液中で半導体ウェハを電気めっき
するためのめっき用治具において、半導体ウェハをめっ
き液中に保持する部材に、半導体ウェハのめっき面以外
にめっき液が流入しないように半導体ウェハをシールす
るシール部材を設け、該シールされた半導体ウェハのめ
っき液と接触しない面に陰極接点を設けたことを特徴と
する半導体ウェハめっき用治具
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11659091A JP2704796B2 (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 半導体ウェハめっき用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11659091A JP2704796B2 (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 半導体ウェハめっき用治具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06108285A true JPH06108285A (ja) | 1994-04-19 |
| JP2704796B2 JP2704796B2 (ja) | 1998-01-26 |
Family
ID=14690908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11659091A Expired - Lifetime JP2704796B2 (ja) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | 半導体ウェハめっき用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2704796B2 (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000059008A3 (en) * | 1999-03-30 | 2001-02-15 | Nutool Inc | Method and apparatus for forming an electrical contact with a semiconductor substrate |
| US7022211B2 (en) | 2000-01-31 | 2006-04-04 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
| JP2007119923A (ja) * | 1998-11-28 | 2007-05-17 | Acm Research Inc | 半導体ワークの電気めっきおよび/または電解研磨中に半導体ワークを保持して位置決めする方法および装置 |
| US7427337B2 (en) | 1998-12-01 | 2008-09-23 | Novellus Systems, Inc. | System for electropolishing and electrochemical mechanical polishing |
| WO2013057802A1 (ja) * | 2011-10-19 | 2013-04-25 | 株式会社Jcu | 基板めっき治具 |
| KR20200034964A (ko) | 2017-07-25 | 2020-04-01 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그(jig) 및 전기 도금 장치 |
| JP2020132946A (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダおよび当該基板ホルダを備えるめっき装置 |
| KR20210114957A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-24 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
| KR20210114956A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-24 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
| KR20210118084A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-29 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
| JP2023122172A (ja) * | 2022-02-22 | 2023-09-01 | 有限会社クズハラゴム | 部分メッキ治具 |
| KR20240172057A (ko) | 2023-05-31 | 2024-12-09 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 |
| KR20240172058A (ko) | 2023-05-31 | 2024-12-09 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6092497A (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-24 | Nec Corp | メツキ装置 |
| JPS62133100A (ja) * | 1985-12-03 | 1987-06-16 | Nec Corp | 金属メツキ装置 |
-
1991
- 1991-04-22 JP JP11659091A patent/JP2704796B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6092497A (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-24 | Nec Corp | メツキ装置 |
| JPS62133100A (ja) * | 1985-12-03 | 1987-06-16 | Nec Corp | 金属メツキ装置 |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007119923A (ja) * | 1998-11-28 | 2007-05-17 | Acm Research Inc | 半導体ワークの電気めっきおよび/または電解研磨中に半導体ワークを保持して位置決めする方法および装置 |
| US7427337B2 (en) | 1998-12-01 | 2008-09-23 | Novellus Systems, Inc. | System for electropolishing and electrochemical mechanical polishing |
| US6251235B1 (en) | 1999-03-30 | 2001-06-26 | Nutool, Inc. | Apparatus for forming an electrical contact with a semiconductor substrate |
| US6958114B2 (en) | 1999-03-30 | 2005-10-25 | Asm Nutool, Inc. | Method and apparatus for forming an electrical contact with a semiconductor substrate |
| US7309407B2 (en) | 1999-03-30 | 2007-12-18 | Novellus Systems, Inc. | Method and apparatus for forming an electrical contact with a semiconductor substrate |
| WO2000059008A3 (en) * | 1999-03-30 | 2001-02-15 | Nutool Inc | Method and apparatus for forming an electrical contact with a semiconductor substrate |
| US9714476B2 (en) | 1999-05-18 | 2017-07-25 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
| US7833393B2 (en) | 1999-05-18 | 2010-11-16 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
| US8075756B2 (en) | 1999-05-18 | 2011-12-13 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
| US20120048727A1 (en) * | 1999-05-18 | 2012-03-01 | Junichiro Yoshioka | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
| US8961755B2 (en) | 1999-05-18 | 2015-02-24 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
| US7022211B2 (en) | 2000-01-31 | 2006-04-04 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
| WO2013057802A1 (ja) * | 2011-10-19 | 2013-04-25 | 株式会社Jcu | 基板めっき治具 |
| JPWO2013057802A1 (ja) * | 2011-10-19 | 2015-04-02 | 株式会社Jcu | 基板めっき治具 |
| KR20200034964A (ko) | 2017-07-25 | 2020-04-01 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그(jig) 및 전기 도금 장치 |
| KR20210114957A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-24 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
| KR20210114956A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-24 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
| KR20210118084A (ko) | 2019-01-23 | 2021-09-29 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치 |
| JP2020132946A (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダおよび当該基板ホルダを備えるめっき装置 |
| JP2023122172A (ja) * | 2022-02-22 | 2023-09-01 | 有限会社クズハラゴム | 部分メッキ治具 |
| KR20240172057A (ko) | 2023-05-31 | 2024-12-09 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 |
| KR20240172058A (ko) | 2023-05-31 | 2024-12-09 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그 |
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