JPH06110028A - 液晶素子 - Google Patents
液晶素子Info
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- JPH06110028A JPH06110028A JP5205766A JP20576693A JPH06110028A JP H06110028 A JPH06110028 A JP H06110028A JP 5205766 A JP5205766 A JP 5205766A JP 20576693 A JP20576693 A JP 20576693A JP H06110028 A JPH06110028 A JP H06110028A
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- compound
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は従来にない新しいタイプの相
系列、いわば第4のタイプの相系列をもつ液晶組成物を
封入した液晶素子の提供と、もう一つの目的は、低いし
きい値電圧で三安定状態を発現する反強誘電性液晶組成
物を封入した液晶素子、それを用いた液晶装置及びその
駆動方法を提供する点にある。 【構成】 一対の電極基板間に液晶組成物を封入した液
晶素子において、該液晶組成物が2つの温度領域におい
て反強誘電相を有するものであることを特徴とする液晶
素子。
系列、いわば第4のタイプの相系列をもつ液晶組成物を
封入した液晶素子の提供と、もう一つの目的は、低いし
きい値電圧で三安定状態を発現する反強誘電性液晶組成
物を封入した液晶素子、それを用いた液晶装置及びその
駆動方法を提供する点にある。 【構成】 一対の電極基板間に液晶組成物を封入した液
晶素子において、該液晶組成物が2つの温度領域におい
て反強誘電相を有するものであることを特徴とする液晶
素子。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、3つの光学的安定状態
(三安定状態)を有する反強誘電相を2種類持つ液晶を
用いた新規な反強誘電性液晶素子、それを用いた液晶装
置およびその駆動方法に関する。
(三安定状態)を有する反強誘電相を2種類持つ液晶を
用いた新規な反強誘電性液晶素子、それを用いた液晶装
置およびその駆動方法に関する。
【0002】
【従来技術】従来の液晶素子としては、TN(ツイステ
ッドネマチック)型と呼ばれる方式が多用されている
(M.Schadt and W.Herfrich 著,Applied Physics Le
tters.第18巻 第4号 127頁〜128頁)。TN
型液晶素子は、一対の透明電極基板間にネマチック液晶
を封入して、液晶分子が上下の基板間で90°ねじれる
ように配列したもので、電界の印加によりねじれ構造を
消失させて光を透過あるいは遮断し、明暗を表示する。
しかしながら、TN型液晶素子を、帯状の走査電極群と
信号電極群を直交させて配したマトリクス電極構造の液
晶表示装置に適用しようとした場合、応答速度が遅い、
電圧−光透過率特性が十分な非線形性を有していない、
などからマトリクスの画素密度を高くできないという問
題があり、応用分野が大幅に制限されているのが現状で
ある。このような状況のなかで、Meyer 等によって合成
された強誘電性を示す液晶が注目を集めている(Le Jou
rnal de Physique,第36巻,1975年3月,L−6
9頁〜L−71頁)。現在最も広く研究されているの
は、双安定性を有する強誘電性液晶素子である(例え
ば、特公昭63−22287号公報、米国特許第436
7924号明細書)。双安定性液晶としては、光学活性
なカイラルスメクチックC相(SmC*)またはH相(S
mH*)を有する液晶が知られ、この液晶はバルク状態
で固有の螺旋構造を形成する。これを、螺旋構造を抑制
するに十分短い距離をおいた基板間に挟持すると、液晶
は電界に対して2つの安定状態を示す。つまり、一方向
の電界に対して第1の光学的安定状態に、逆方向の電界
に対しては第2の光学的安定状態に液晶が配向し、従っ
て、印加される電界の向きにより前記2つの光学的安定
状態間をスイッチングできる。しかも、このスイッチン
グ速度は前記TN型液晶素子に比し極めて速く、さらに
電界を取除いても各安定状態を維持する性質を有すると
いう利点がある。図1(b)には、この液晶を用いた表示
装置に図1(a)に示す3角波電界を印加した時の光学透
過率の変化を示す。一方、近年、3つの光学的安定状態
を有する反強誘電性液晶が提示され、より優れた電気光
学効果を示すものとして着目されている(A.D.L.Cha
ndani,E.Gorecka,Y.Ouchi,H.Takezoe and A.Fuku
da,Jpn.J.Appl.Phys.,28(1989)L1265)。この液晶
は、無電界時には第1の光学的安定状態に、一方向の電
界に対しては第2の光学的安定状態に、さらに逆方向の
電界に対しては第3の光学的安定状態に配向し、印加さ
れる電界の向きと強さにより前記3つの安定状態間を高
速でスイッチングできる。さらに印加電圧に対する前記
3つの安定状態間の光学透過率変化が電圧軸上でシフト
したヒステリシスを示す(例えば、印加電界を増加して
第1の安定状態から第2の安定状態へ変化させた時と、
逆に印加電界を減少して第2の安定状態から第1の安定
状態へ変化させた時とで、光学透過率が変化する電圧が
異なる)ことから、高精細で高コントラストなマトリク
ス型液晶表示装置の実現が期待される。図1(c)には、
この液晶を用いた表示装置に図1(a)に示す3角波電界
を印加した時の光学透過率の変化を示す。三安定状態を
示す液晶相S*(3)を相系列に有する液晶化合物は、出
願人の出願した特開平1−316367号、特開平1−
316372号、特開平1−316339号、特開平2
−28128号及び市橋等の特開平1−213390号
公報があり、また三安定状態を利用した液晶電気光学装
置としては本出願人は特開平2−40625号、特開平
2−153322号、特開平2−173724号におい
て新しい提案を行っている。ところで、この3つの光学
的安定状態(三安定状態)を有する反強誘電性液晶を用
いる素子が、所望の電気光学応答を行うには、しきい電
圧以上の電圧をかける必要がある。現在用いられている
セルの厚さは2μm以上であり、これ以下のものはセル
厚を均一にするのが難しく、コストも高くなる。現在知
られている反強誘電性液晶の反強誘電相におけるしきい
電圧は2μmセル厚のセルに封入した場合20〜30V
以上である(つまり、10〜15v/μmの電界が必要
である)。また、駆動するときは、正と負の電圧を交互
に印加するので駆動回路は±30Vつまり耐電圧として
は60V以上が必要となる。このような電圧に耐えられ
るICは特殊なものとなり、安価な回路が組めなくな
る。そこで、しきい電圧が低い反強誘電性液晶が望まれ
ているが、しきい電圧が低い反強誘電性液晶に関する技
術の公開はまだない。一方、従来の反強誘電性液晶は、
その相系列が、
ッドネマチック)型と呼ばれる方式が多用されている
(M.Schadt and W.Herfrich 著,Applied Physics Le
tters.第18巻 第4号 127頁〜128頁)。TN
型液晶素子は、一対の透明電極基板間にネマチック液晶
を封入して、液晶分子が上下の基板間で90°ねじれる
ように配列したもので、電界の印加によりねじれ構造を
消失させて光を透過あるいは遮断し、明暗を表示する。
しかしながら、TN型液晶素子を、帯状の走査電極群と
信号電極群を直交させて配したマトリクス電極構造の液
晶表示装置に適用しようとした場合、応答速度が遅い、
電圧−光透過率特性が十分な非線形性を有していない、
などからマトリクスの画素密度を高くできないという問
題があり、応用分野が大幅に制限されているのが現状で
ある。このような状況のなかで、Meyer 等によって合成
された強誘電性を示す液晶が注目を集めている(Le Jou
rnal de Physique,第36巻,1975年3月,L−6
9頁〜L−71頁)。現在最も広く研究されているの
は、双安定性を有する強誘電性液晶素子である(例え
ば、特公昭63−22287号公報、米国特許第436
7924号明細書)。双安定性液晶としては、光学活性
なカイラルスメクチックC相(SmC*)またはH相(S
mH*)を有する液晶が知られ、この液晶はバルク状態
で固有の螺旋構造を形成する。これを、螺旋構造を抑制
するに十分短い距離をおいた基板間に挟持すると、液晶
は電界に対して2つの安定状態を示す。つまり、一方向
の電界に対して第1の光学的安定状態に、逆方向の電界
に対しては第2の光学的安定状態に液晶が配向し、従っ
て、印加される電界の向きにより前記2つの光学的安定
状態間をスイッチングできる。しかも、このスイッチン
グ速度は前記TN型液晶素子に比し極めて速く、さらに
電界を取除いても各安定状態を維持する性質を有すると
いう利点がある。図1(b)には、この液晶を用いた表示
装置に図1(a)に示す3角波電界を印加した時の光学透
過率の変化を示す。一方、近年、3つの光学的安定状態
を有する反強誘電性液晶が提示され、より優れた電気光
学効果を示すものとして着目されている(A.D.L.Cha
ndani,E.Gorecka,Y.Ouchi,H.Takezoe and A.Fuku
da,Jpn.J.Appl.Phys.,28(1989)L1265)。この液晶
は、無電界時には第1の光学的安定状態に、一方向の電
界に対しては第2の光学的安定状態に、さらに逆方向の
電界に対しては第3の光学的安定状態に配向し、印加さ
れる電界の向きと強さにより前記3つの安定状態間を高
速でスイッチングできる。さらに印加電圧に対する前記
3つの安定状態間の光学透過率変化が電圧軸上でシフト
したヒステリシスを示す(例えば、印加電界を増加して
第1の安定状態から第2の安定状態へ変化させた時と、
逆に印加電界を減少して第2の安定状態から第1の安定
状態へ変化させた時とで、光学透過率が変化する電圧が
異なる)ことから、高精細で高コントラストなマトリク
ス型液晶表示装置の実現が期待される。図1(c)には、
この液晶を用いた表示装置に図1(a)に示す3角波電界
を印加した時の光学透過率の変化を示す。三安定状態を
示す液晶相S*(3)を相系列に有する液晶化合物は、出
願人の出願した特開平1−316367号、特開平1−
316372号、特開平1−316339号、特開平2
−28128号及び市橋等の特開平1−213390号
公報があり、また三安定状態を利用した液晶電気光学装
置としては本出願人は特開平2−40625号、特開平
2−153322号、特開平2−173724号におい
て新しい提案を行っている。ところで、この3つの光学
的安定状態(三安定状態)を有する反強誘電性液晶を用
いる素子が、所望の電気光学応答を行うには、しきい電
圧以上の電圧をかける必要がある。現在用いられている
セルの厚さは2μm以上であり、これ以下のものはセル
厚を均一にするのが難しく、コストも高くなる。現在知
られている反強誘電性液晶の反強誘電相におけるしきい
電圧は2μmセル厚のセルに封入した場合20〜30V
以上である(つまり、10〜15v/μmの電界が必要
である)。また、駆動するときは、正と負の電圧を交互
に印加するので駆動回路は±30Vつまり耐電圧として
は60V以上が必要となる。このような電圧に耐えられ
るICは特殊なものとなり、安価な回路が組めなくな
る。そこで、しきい電圧が低い反強誘電性液晶が望まれ
ているが、しきい電圧が低い反強誘電性液晶に関する技
術の公開はまだない。一方、従来の反強誘電性液晶は、
その相系列が、
【表1】 Iso :等方相 Sm A :スメクチック A相 SmC*α:スメクチックCα相 SmC* :スメクチックC相(強誘電相) SmC*γ:スメクチックCγ相 SmC* A:反強誘電相 上記の3種だけであり、これ以外の相系列をもつ反強誘
電性液晶は知られていない。
電性液晶は知られていない。
【0003】
【目的】本発明の目的は従来にない新しいタイプの相系
列、いわば第4のタイプの相系列をもつ液晶組成物を封
入した液晶素子を提供する点にある。本発明のもう一つ
の目的は、低いしきい値電圧で三安定状態を発現する反
強誘電性液晶組成物を封入した液晶素子、それを用いた
液晶装置およびその駆動方法を提供する点にある。
列、いわば第4のタイプの相系列をもつ液晶組成物を封
入した液晶素子を提供する点にある。本発明のもう一つ
の目的は、低いしきい値電圧で三安定状態を発現する反
強誘電性液晶組成物を封入した液晶素子、それを用いた
液晶装置およびその駆動方法を提供する点にある。
【0004】
【構成】本発明の第一は、一対の電極基板間に液晶組成
物を封入した液晶素子において、該液晶組成物が2つの
温度領域において反強誘電相を有するものであることを
特徴とする液晶素子に関する。この「2つの温度領域に
おいて反強誘電相を有する」とは、液晶の相系列が
物を封入した液晶素子において、該液晶組成物が2つの
温度領域において反強誘電相を有するものであることを
特徴とする液晶素子に関する。この「2つの温度領域に
おいて反強誘電相を有する」とは、液晶の相系列が
【表2】 を示す新しいタイプの相系列を示すことを意味する。い
いかえれば、反強誘電性相が高温側の温度領域と従来の
反強誘電性液晶にみられる温度領域(低温側)に2つ表
われる新しいタイプの相系列を意味する。
いかえれば、反強誘電性相が高温側の温度領域と従来の
反強誘電性液晶にみられる温度領域(低温側)に2つ表
われる新しいタイプの相系列を意味する。
【0005】前記「2つの温度領域において反強誘電相
を有する液晶組成物」は、以下に示す3つのタイプのも
のを例示することができる。(1)下記式(I)
を有する液晶組成物」は、以下に示す3つのタイプのも
のを例示することができる。(1)下記式(I)
【化15】 (式中、R1とR2は炭素数4〜18のn−アルキル基よ
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物よりなり、その光学純度
が80%ee以上であるもの。なお、%eeは、%en
antiomeric excessの略であり、光学
純度(optical purity)を示す。1対の
対掌体のみからなる組成物中に存在する一方の対掌体の
過剰量を百分率で表わした値である。ちなみにラセミ体
は0%eeである。
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物よりなり、その光学純度
が80%ee以上であるもの。なお、%eeは、%en
antiomeric excessの略であり、光学
純度(optical purity)を示す。1対の
対掌体のみからなる組成物中に存在する一方の対掌体の
過剰量を百分率で表わした値である。ちなみにラセミ体
は0%eeである。
【0006】(2)前記液晶組成物が、(a)一般式
(I)
(I)
【化16】 (式中、R1は炭素数4〜18のn−アルキル基または
n−アルコキシ基、R2は炭素数4〜18のn−アルキ
ル基であり、*は不斉炭素を示す。)で示される化合物
80重量部以上と、(b)一般式(III)
n−アルコキシ基、R2は炭素数4〜18のn−アルキ
ル基であり、*は不斉炭素を示す。)で示される化合物
80重量部以上と、(b)一般式(III)
【化17】 (式中、R3とR4は炭素数4〜18のn−アルキル基よ
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物20重量部以下からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、一般式(I)の化合物がR体のときは、一
般式(III)の化合物もR体であり、一般式(I)の化
合物がS体のときは、一般式(III)の化合物もS体で
あるもの。
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物20重量部以下からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、一般式(I)の化合物がR体のときは、一
般式(III)の化合物もR体であり、一般式(I)の化
合物がS体のときは、一般式(III)の化合物もS体で
あるもの。
【0007】(3)(c)一般式(VI)
【化18】 (式中、R5とR6は炭素数4〜18のn−アルキル基よ
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物80〜40重量部と、
(b)一般式(III)
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物80〜40重量部と、
(b)一般式(III)
【化19】 (式中、R3とR4は炭素数4〜18のn−アルキル基よ
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物20〜60重量部とから
なる液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%
ee以上であり、一般式(VI)の化合物がR体のとき
は、一般式(III)の化合物もR体であり、一般式(V
I)の化合物がS体のときは、一般式(III)の化合物も
S体であるものである。
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物20〜60重量部とから
なる液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%
ee以上であり、一般式(VI)の化合物がR体のとき
は、一般式(III)の化合物もR体であり、一般式(V
I)の化合物がS体のときは、一般式(III)の化合物も
S体であるものである。
【0008】本発明の第二は、前記液晶素子に該液晶組
成物の高温側の反強誘電相を発現する温度領域を安定的
に保持するための温度補償回路を付設したことを特徴と
する液晶装置に関する。温度補償回路は、液晶組成物が
高温側の反強誘電相を発現できる温度領域に保持できる
能力を有するものであれば特に制限はなく、ダイオー
ド、サーミスタ、バリスタ等を用いた通常の温度補償回
路を用いることができる。前記温度補償回路としては、
例えば、昭和52年11月30日株式会社オーム社発行
「半導体ハンドブック(第2版)507〜509、66
3〜664、696、861〜862頁に記載されてい
るような回路を使用することができる。通常、市販の温
度補償回路のうち、目的の液晶状態を保ちうる温度範囲
を補償できる精度のものを選択すればよい。
成物の高温側の反強誘電相を発現する温度領域を安定的
に保持するための温度補償回路を付設したことを特徴と
する液晶装置に関する。温度補償回路は、液晶組成物が
高温側の反強誘電相を発現できる温度領域に保持できる
能力を有するものであれば特に制限はなく、ダイオー
ド、サーミスタ、バリスタ等を用いた通常の温度補償回
路を用いることができる。前記温度補償回路としては、
例えば、昭和52年11月30日株式会社オーム社発行
「半導体ハンドブック(第2版)507〜509、66
3〜664、696、861〜862頁に記載されてい
るような回路を使用することができる。通常、市販の温
度補償回路のうち、目的の液晶状態を保ちうる温度範囲
を補償できる精度のものを選択すればよい。
【0009】本発明の第三は、前記液晶装置を該液晶組
成物の高温側の反強誘電相が発現する温度領域において
駆動させることを特徴とする前記液晶装置の駆動方法に
関する。低温側のSmC*A相ではしきい電圧が25V
(セル厚10μm)に対して高温側の反強誘電相ではし
きい電圧が8V(セル厚10μm)であり、高温側の反
強誘電相と低温側の反強誘電相を比較すると、低温側の
SmC*A相の比誘電率は5〜8なのに対して高温側の
反強誘電相の比誘電率は10〜20である。したがっ
て、三安定状態において液晶を駆動させるために、低温
側では高電圧で作動させなければならないのに対して、
高温側では低電圧で作動させることができる。このよう
に本発明によれば、低いしきい値電圧であるためネマチ
ック液晶などに用いられている汎用の駆動回路を使用で
きるため工業的に極めて有利である。また、通常の使用
方法では、どうしても液晶がバックライト等の発熱のた
め高温にさらされる場合があるから、このような場合に
おいては一層有利である。
成物の高温側の反強誘電相が発現する温度領域において
駆動させることを特徴とする前記液晶装置の駆動方法に
関する。低温側のSmC*A相ではしきい電圧が25V
(セル厚10μm)に対して高温側の反強誘電相ではし
きい電圧が8V(セル厚10μm)であり、高温側の反
強誘電相と低温側の反強誘電相を比較すると、低温側の
SmC*A相の比誘電率は5〜8なのに対して高温側の
反強誘電相の比誘電率は10〜20である。したがっ
て、三安定状態において液晶を駆動させるために、低温
側では高電圧で作動させなければならないのに対して、
高温側では低電圧で作動させることができる。このよう
に本発明によれば、低いしきい値電圧であるためネマチ
ック液晶などに用いられている汎用の駆動回路を使用で
きるため工業的に極めて有利である。また、通常の使用
方法では、どうしても液晶がバックライト等の発熱のた
め高温にさらされる場合があるから、このような場合に
おいては一層有利である。
【0010】本発明に用いる前記一般式(I)の化合物
の合成例を次に示す。 (a) 4′−n−アルキルビフェニル−4−カルボン
酸(1)を過剰の塩化チオニル中にて還流し、塩化物
(2)を得る。 (b) 4−ベンジルオキシ安息香酸を過剰の塩化チオ
ニル中で還流し、その塩化物(3)を得る。これに光学
活性な〔光学純度98%ee以上の〕2−アルカノール
を加え、塩化メチレン中トリエチルアミンの存在下で対
応する4−ベンジルオキシ安息香酸エステル(4)を得
る。次に接触還元して4−ヒドロキシ安息香酸エステル
(5)を得る。 (c) 上記(2)と(5)の化合物を塩化メチレン
中、トリエチルアミンの存在下にて反応させ、本発明の
目的化合物である4′−アルキルビフェニル−4−カル
ボン酸 4−(2−アルキルオキシカルボニル)フェニ
ルエステル(6)を得ることができる。 (以下余白)
の合成例を次に示す。 (a) 4′−n−アルキルビフェニル−4−カルボン
酸(1)を過剰の塩化チオニル中にて還流し、塩化物
(2)を得る。 (b) 4−ベンジルオキシ安息香酸を過剰の塩化チオ
ニル中で還流し、その塩化物(3)を得る。これに光学
活性な〔光学純度98%ee以上の〕2−アルカノール
を加え、塩化メチレン中トリエチルアミンの存在下で対
応する4−ベンジルオキシ安息香酸エステル(4)を得
る。次に接触還元して4−ヒドロキシ安息香酸エステル
(5)を得る。 (c) 上記(2)と(5)の化合物を塩化メチレン
中、トリエチルアミンの存在下にて反応させ、本発明の
目的化合物である4′−アルキルビフェニル−4−カル
ボン酸 4−(2−アルキルオキシカルボニル)フェニ
ルエステル(6)を得ることができる。 (以下余白)
【0011】
【化20】
【0012】
【化21】
【0013】次に実施例を挙げて本発明を説明するが、
これに限定されるものではない。 実施例1 4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フェニル
4′−オクチルビフェニル−4−カルボキシレートの合
成
これに限定されるものではない。 実施例1 4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フェニル
4′−オクチルビフェニル−4−カルボキシレートの合
成
【化22】 100mlの丸底フラスコに4′−オクチルビフェニル
−4−カルボン酸1.5gを入れ、3gの塩化チオニル
を加え、少量のN,N−ジメチルホルムアミドを加え4
時間還流する。過剰の塩化チオニルを留去して4′−オ
クチルビフェニル−4−カルボン酸クロライド1.6g
を得た。これに光学純度98%ee以上の光学活性な4
ヒドロキシ安息香酸 2 オクチルエステルを0.6
g、トリエチルアミン0.4g、ジメチルアミノピリジ
ン0.15gを塩化メチレン50mlに溶かし加え、一
昼夜撹拌する。反応終了後、白色不溶物を濾去した。塩
化メチレン層は、希塩酸、水でよく洗浄し、乾燥した
後、減圧下有機溶剤を除去した。得られた粗生成物は、
カラムクロマトグラフィ及び再結晶により精製し、目的
物(光学純度98%ee)を0.8g得た。赤外線吸収
スペクトル(KBr法)を図3に示す。
−4−カルボン酸1.5gを入れ、3gの塩化チオニル
を加え、少量のN,N−ジメチルホルムアミドを加え4
時間還流する。過剰の塩化チオニルを留去して4′−オ
クチルビフェニル−4−カルボン酸クロライド1.6g
を得た。これに光学純度98%ee以上の光学活性な4
ヒドロキシ安息香酸 2 オクチルエステルを0.6
g、トリエチルアミン0.4g、ジメチルアミノピリジ
ン0.15gを塩化メチレン50mlに溶かし加え、一
昼夜撹拌する。反応終了後、白色不溶物を濾去した。塩
化メチレン層は、希塩酸、水でよく洗浄し、乾燥した
後、減圧下有機溶剤を除去した。得られた粗生成物は、
カラムクロマトグラフィ及び再結晶により精製し、目的
物(光学純度98%ee)を0.8g得た。赤外線吸収
スペクトル(KBr法)を図3に示す。
【0014】実施例2 ラビング処理したポリイミド配向膜をITO電極(透明
電極)基板上に有するセル厚10μmの液晶セルに実施
例1で得られた液晶化合物4−(1−メチルヘプチルオ
キシカルボニル)フェニル 4′−オクチルビフェニル
−4−カルボキシレート(光学純度98%ee)をIs
otropic相において充填し、液晶薄膜セルを作成
した。この液晶セルを低温側のSmC* A相まで冷却後
0.1℃/1分間の温度勾配にて昇温させながら、イン
ピーダンスアナライザーにて比誘電率を測定した。図4
に比誘電率の温度分散を示す。SmC* A(1)からS
mC*γ(2)を経た後、反強誘電相(AF)(3)に
なり、比誘電率が落ち込んでいるのがわかる。また、示
差熱分析(DSC)による熱的測定(120℃→20
℃、冷却速度−3℃/min)も行った。図5に80℃
から60℃までにみられる発熱ピークを示す(これらは
相転移温度を示す)。比誘電率測定とDSCによる結果
から実施例1の化合物の相転移温度は、次の通りである
電極)基板上に有するセル厚10μmの液晶セルに実施
例1で得られた液晶化合物4−(1−メチルヘプチルオ
キシカルボニル)フェニル 4′−オクチルビフェニル
−4−カルボキシレート(光学純度98%ee)をIs
otropic相において充填し、液晶薄膜セルを作成
した。この液晶セルを低温側のSmC* A相まで冷却後
0.1℃/1分間の温度勾配にて昇温させながら、イン
ピーダンスアナライザーにて比誘電率を測定した。図4
に比誘電率の温度分散を示す。SmC* A(1)からS
mC*γ(2)を経た後、反強誘電相(AF)(3)に
なり、比誘電率が落ち込んでいるのがわかる。また、示
差熱分析(DSC)による熱的測定(120℃→20
℃、冷却速度−3℃/min)も行った。図5に80℃
から60℃までにみられる発熱ピークを示す(これらは
相転移温度を示す)。比誘電率測定とDSCによる結果
から実施例1の化合物の相転移温度は、次の通りである
【表3】
【0015】比誘電率測定の時に作成した液晶セルを5
9℃の低温側のSmC* A相において2枚の偏光板を直
交させたフォトマルチプライヤー付き偏光顕微鏡に、電
圧−25Vの状態で暗視野となるように配置する。この
液晶セルを0.1〜1.0℃/1分間の温度勾配にて、
SA 相まで徐冷する。さらに冷却してゆき、64.9℃
〜50.8℃の温度範囲において、図6(a)に示す±
25V、2.5Hzの三角波電圧を印加する。印加電圧
と透過率との関係から、図6(b)のような光学応答が
得られた。−25V→V1までは暗状態を保ち+V1で急
峻な立上りの後、中間状態になる。V1→+V2までは中
間状態を保ち、+V2で急激に明状態になる。印加電圧
が−25V→25Vに変化するときスイッチングを伴っ
た暗→中間→明の、三つの状態に変化していることが観
察され、三つの安定な液晶分子の配向状態があることを
確認した。このとき、中間状態から明状態へスイッチン
グするしきい電圧は約25Vである(電界強度としては
2.5V/μmである)。次に、このまま液晶セルを7
2.0℃の高温側の反強誘電相において、同様に三角波
電圧を印加し、測定して得られた図が図7である。印加
電圧は、±10V、2.5Hzである。印加電圧が−1
0Vから+10Vに変化するとき、スイッチングを伴っ
た“暗”、“中間”、“明”の三つの状態に変化してい
ることが観察され、三つの安定な液晶分子の配向状態が
あることを確認した。このとき、中間状態から明状態へ
スイッチングするしきい電圧は、約8Vである(電界強
度は0.8V/μm)。このことから、高温側の反強誘
電相は、低温側のSmC* A相よりも1/3も低いしき
い電圧をもつことがわかる。
9℃の低温側のSmC* A相において2枚の偏光板を直
交させたフォトマルチプライヤー付き偏光顕微鏡に、電
圧−25Vの状態で暗視野となるように配置する。この
液晶セルを0.1〜1.0℃/1分間の温度勾配にて、
SA 相まで徐冷する。さらに冷却してゆき、64.9℃
〜50.8℃の温度範囲において、図6(a)に示す±
25V、2.5Hzの三角波電圧を印加する。印加電圧
と透過率との関係から、図6(b)のような光学応答が
得られた。−25V→V1までは暗状態を保ち+V1で急
峻な立上りの後、中間状態になる。V1→+V2までは中
間状態を保ち、+V2で急激に明状態になる。印加電圧
が−25V→25Vに変化するときスイッチングを伴っ
た暗→中間→明の、三つの状態に変化していることが観
察され、三つの安定な液晶分子の配向状態があることを
確認した。このとき、中間状態から明状態へスイッチン
グするしきい電圧は約25Vである(電界強度としては
2.5V/μmである)。次に、このまま液晶セルを7
2.0℃の高温側の反強誘電相において、同様に三角波
電圧を印加し、測定して得られた図が図7である。印加
電圧は、±10V、2.5Hzである。印加電圧が−1
0Vから+10Vに変化するとき、スイッチングを伴っ
た“暗”、“中間”、“明”の三つの状態に変化してい
ることが観察され、三つの安定な液晶分子の配向状態が
あることを確認した。このとき、中間状態から明状態へ
スイッチングするしきい電圧は、約8Vである(電界強
度は0.8V/μm)。このことから、高温側の反強誘
電相は、低温側のSmC* A相よりも1/3も低いしき
い電圧をもつことがわかる。
【0016】実施例3 (イ)式(II)で示される2つの反強誘電相をもつR−
(−)−4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フ
エニル 4′−オクチルビフェニル−4−カルボキシレ
ートと式(IV)で示される1つの反強誘電相をもつR−
(−)−4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フ
エニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェニル−
4−カルボキシレート〔以下R−(−)−MHPOCB
Cと略記する〕とを、重量比で80:20で混合し、液
晶組成物を作った。ラビング処理したポリイミド配向膜
をITO電極(透明電極)基板上に有するセル厚10μ
mの液晶セルに、前記、液晶組成物をIsotropi
c相において充填し、液晶薄膜セルを作成した。この液
晶セルを低温側のSmC* A相まで冷却後0.1℃/1
分間の温度勾配にて昇温させながら、インピーダンスア
ナライザーにて比誘電率を測定した。図8に比誘電率の
温度分散を示す。SmC* A(1)からSmC*γ
(2)を経た後、高温側反強誘電相(SmC* A2)
(3)になり、比誘電率が落ち込んでいるのがわかる。
また、示差熱分析(DSC)による熱的測定(150.
0℃→0.0℃、冷却速度−3℃/min)も行った。
図9に80℃から60℃までにみられる発熱ピークを示
す(これらは相転移温度を示す)。
(−)−4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フ
エニル 4′−オクチルビフェニル−4−カルボキシレ
ートと式(IV)で示される1つの反強誘電相をもつR−
(−)−4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フ
エニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェニル−
4−カルボキシレート〔以下R−(−)−MHPOCB
Cと略記する〕とを、重量比で80:20で混合し、液
晶組成物を作った。ラビング処理したポリイミド配向膜
をITO電極(透明電極)基板上に有するセル厚10μ
mの液晶セルに、前記、液晶組成物をIsotropi
c相において充填し、液晶薄膜セルを作成した。この液
晶セルを低温側のSmC* A相まで冷却後0.1℃/1
分間の温度勾配にて昇温させながら、インピーダンスア
ナライザーにて比誘電率を測定した。図8に比誘電率の
温度分散を示す。SmC* A(1)からSmC*γ
(2)を経た後、高温側反強誘電相(SmC* A2)
(3)になり、比誘電率が落ち込んでいるのがわかる。
また、示差熱分析(DSC)による熱的測定(150.
0℃→0.0℃、冷却速度−3℃/min)も行った。
図9に80℃から60℃までにみられる発熱ピークを示
す(これらは相転移温度を示す)。
【0017】比誘電率測定とDSCによる結果から実施
例3の化合物の相転移温度は、次の通りである。なお、
比誘電率は、横河ヒューレットパッカード社製のインピ
ーダンスアナライザー(YHP4194A型)を用いて
測定した。この液晶組成物の相系列は、つぎのとおりで
ある。
例3の化合物の相転移温度は、次の通りである。なお、
比誘電率は、横河ヒューレットパッカード社製のインピ
ーダンスアナライザー(YHP4194A型)を用いて
測定した。この液晶組成物の相系列は、つぎのとおりで
ある。
【表4】 この相系列から、本実施例では、69.3℃〜66.4
℃において高温側に反強誘電相が発現していることがわ
かる。
℃において高温側に反強誘電相が発現していることがわ
かる。
【0018】実施例4 (イ)式(V)で示される1つの反強誘電相をもつR−
(−)−4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フ
エニル 4′−オクチルオキシビフェニル−4−カルボ
キシレート〔以下R−(−)−MHPOBCと略記す
る〕と式(IV)で示される1つの反強誘電相をもつR−
(−)−4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フ
エニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェニル−
4−カルボキシレート〔以下R−(−)−MHPOCB
Cと略記する〕とを、重量比で95:5で混合し、液晶
組成物を作った。この液晶組成物の相系列は、つぎのと
おりである。
(−)−4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フ
エニル 4′−オクチルオキシビフェニル−4−カルボ
キシレート〔以下R−(−)−MHPOBCと略記す
る〕と式(IV)で示される1つの反強誘電相をもつR−
(−)−4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)フ
エニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェニル−
4−カルボキシレート〔以下R−(−)−MHPOCB
Cと略記する〕とを、重量比で95:5で混合し、液晶
組成物を作った。この液晶組成物の相系列は、つぎのと
おりである。
【表5】 この相系列から、本実施例では119.7℃〜119.
2℃において高温側に反強誘電相が発現していることが
わかる。
2℃において高温側に反強誘電相が発現していることが
わかる。
【0019】(ロ)前記 R−(−)−MHPOBC 90重量部 R−(−)−MHPOCBC 10重量部 とを混合し、液晶組成物を作った。この液晶組成物の相
系列は、つぎのとおりである。
系列は、つぎのとおりである。
【表6】 この相系列から、本実施例では118.8℃〜117.
8℃において高温側に反強誘電相が発現していることが
わかる。
8℃において高温側に反強誘電相が発現していることが
わかる。
【0020】(ハ)前記 R−(−)−MHPOBC 80重量部 R−(−)−MHPOCBC 20重量部 とを混合し、液晶組成物を作った。この液晶組成物の相
系列は、つぎのとおりである。
系列は、つぎのとおりである。
【表7】 この相系列から、本実施例では116.3℃〜115.
2℃において高温側に反強誘電相が発現していることが
わかる。
2℃において高温側に反強誘電相が発現していることが
わかる。
【0021】実施例5 (イ)反強誘電相を示さない(強誘電相及びフェリ誘電
相は示す)式(VII)で示されるR−(−)−4(1−
メチルヘプチルオキシカルボニル)フエニル 4′−オ
クチルオキシカルボキシビフェニル−4−カルボキシレ
ート〔以下R−(−)−MHPOOCBCと略記する〕
80重量部と、式(IV)で示される反強誘電相を示すR
−(−)−MHPOCBC20重量部とを混合し、液晶
組成物を作った。この液晶組成物の相系列は、つぎのと
おりである。
相は示す)式(VII)で示されるR−(−)−4(1−
メチルヘプチルオキシカルボニル)フエニル 4′−オ
クチルオキシカルボキシビフェニル−4−カルボキシレ
ート〔以下R−(−)−MHPOOCBCと略記する〕
80重量部と、式(IV)で示される反強誘電相を示すR
−(−)−MHPOCBC20重量部とを混合し、液晶
組成物を作った。この液晶組成物の相系列は、つぎのと
おりである。
【表8】 この相系列から、本実施例では74.8℃〜74.6℃
において、新たな反強誘電相(SmC* A2)が出現し
た。
において、新たな反強誘電相(SmC* A2)が出現し
た。
【0022】(ロ)前記 R−(−)−MHPOOCBC 70重量部 R−(−)−MHPOCBC 30重量部 とを混合し、液晶組成物を作った。この液晶組成物の相
系列は、つぎのとおりである。
系列は、つぎのとおりである。
【表9】 この相系列から、本実施例では82.6℃〜78.8℃
において高温側に反強誘電相が発現していることがわか
る。
において高温側に反強誘電相が発現していることがわか
る。
【0023】(ハ)前記 R−(−)−MHPOOCBC 60重量部 R−(−)−MHPOCBC 40重量部 とを混合し、液晶組成物を作った。この液晶組成物の相
系列は、つぎのとおりである。
系列は、つぎのとおりである。
【表10】 この相系列から、本実施例では86.9℃〜82.2℃
において高温側に反強誘電相が発現していることがわか
る。
において高温側に反強誘電相が発現していることがわか
る。
【0024】(ニ)前記 R−(−)−MHPOOCBC 50重量部 R−(−)−MHPOCBC 50重量部 とを混合し、液晶組成物を作った。この液晶組成物の相
系列は、つぎのとおりである。
系列は、つぎのとおりである。
【表11】 この相系列から、本実施例では89.2℃〜85.0℃
において高温側に反強誘電相が発現していることがわか
る。
において高温側に反強誘電相が発現していることがわか
る。
【0025】(ホ)前記 R−(−)−MHPOOCBC 40重量部 R−(−)−MHPOCBC 60重量部 とを混合し、液晶組成物を作った。この液晶組成物の相
系列は、つぎのとおりである。
系列は、つぎのとおりである。
【表12】 この相系列から、本実施例では88.2℃〜85.3℃
において高温側に反強誘電相が発現していることがわか
る。
において高温側に反強誘電相が発現していることがわか
る。
【0026】実施例6 反強誘電相を示さない(強誘電相は示す)式(VIII)で
示されるR−(−)−4(1−メチルペンチルオキシカ
ルボニル)フエニル 4′−デシルオキシカルボキシビ
フェニル−4−カルボキシレート60重量部と式(IV)
で示される反強誘電相を示すR−(−)−MHPOCB
C40重量部とを混合し、液晶組成物を作った。この液
晶組成物の相系列は、つぎのとおりである。
示されるR−(−)−4(1−メチルペンチルオキシカ
ルボニル)フエニル 4′−デシルオキシカルボキシビ
フェニル−4−カルボキシレート60重量部と式(IV)
で示される反強誘電相を示すR−(−)−MHPOCB
C40重量部とを混合し、液晶組成物を作った。この液
晶組成物の相系列は、つぎのとおりである。
【表13】 この相系列から、本実施例では86.4℃〜83.4℃
において、新たな反強誘電相(SmC* A2)が出現し
た。
において、新たな反強誘電相(SmC* A2)が出現し
た。
【0027】実施例7 図2には本発明を適用した液晶素子の全体構成図を示
す。液晶素子は、例えば10μmの間隔をおいて平行配
設された一対の電極基板1、2を有し、該一対の電極基
板1、2間に反強誘電性液晶6を密封してなる。電極基
板1、2は、透明のガラスあるいは樹脂よりなる透明基
板1c、2cの内側表面に、酸化インジウムまたは酸化
スズ等の透明導電膜よりなる透明電極1a、2aを形成
してなり、さらに、透明電極1a、2aの内側の、液晶
6と接触する表面には配向制御膜1b、2bが形成して
ある。反強誘電性液晶6としては、本発明の実施例1の
液晶化合物の高温側の反強誘電相を用いる。4、5に互
いに直交した偏光板を配設する。このようにして作った
液晶素子を、71.5℃において±10V、2.5Hz
の三角波電圧〔図10(a)〕を印加したところ図10
(b)のように明確なスイッチングを伴った光学応答が
得られた。
す。液晶素子は、例えば10μmの間隔をおいて平行配
設された一対の電極基板1、2を有し、該一対の電極基
板1、2間に反強誘電性液晶6を密封してなる。電極基
板1、2は、透明のガラスあるいは樹脂よりなる透明基
板1c、2cの内側表面に、酸化インジウムまたは酸化
スズ等の透明導電膜よりなる透明電極1a、2aを形成
してなり、さらに、透明電極1a、2aの内側の、液晶
6と接触する表面には配向制御膜1b、2bが形成して
ある。反強誘電性液晶6としては、本発明の実施例1の
液晶化合物の高温側の反強誘電相を用いる。4、5に互
いに直交した偏光板を配設する。このようにして作った
液晶素子を、71.5℃において±10V、2.5Hz
の三角波電圧〔図10(a)〕を印加したところ図10
(b)のように明確なスイッチングを伴った光学応答が
得られた。
【0028】
【効果】本発明により、新しいタイプの相系列をもつ液
晶組成物を用いた新規液晶素子を提供することができ
た。本発明は、高温側の反強誘電相を使用して駆動電位
差が今までの反強誘電性液晶組成物に較べて極めて低い
値により液晶素子を駆動させることができる。従って、
反強誘電性液晶の有する優れた電気光学効果を低電圧駆
動で充分に発揮することができるので、例えば大画面高
精細表示素子、TV画像表示素子、あるいは液晶光シャ
ッタ等に適用されて、著しい効果を発揮する。
晶組成物を用いた新規液晶素子を提供することができ
た。本発明は、高温側の反強誘電相を使用して駆動電位
差が今までの反強誘電性液晶組成物に較べて極めて低い
値により液晶素子を駆動させることができる。従って、
反強誘電性液晶の有する優れた電気光学効果を低電圧駆
動で充分に発揮することができるので、例えば大画面高
精細表示素子、TV画像表示素子、あるいは液晶光シャ
ッタ等に適用されて、著しい効果を発揮する。
【図1】(a)は、印加される三角波を(b)は二つの
安定状態を示す液晶の、(c)は、三安定状態を示す液
晶の各光学応答特性を示す。
安定状態を示す液晶の、(c)は、三安定状態を示す液
晶の各光学応答特性を示す。
【図2】本発明の実施例に用いた液晶素子の全体構成図
である。
である。
【図3】本発明実施例1の液晶化合物の赤外線吸収スペ
クトルを示す。
クトルを示す。
【図4】実施例2における実施例1の液晶化合物の比誘
電率(ε′)の温度に対するプロット図である。
電率(ε′)の温度に対するプロット図である。
【図5】実施例2における実施例1の液晶化合物の示差
熱分析における発熱ピークの温度分散を示す。
熱分析における発熱ピークの温度分散を示す。
【図6】実施例2における実施例1の液晶化合物の5
9.0℃において印加した三角波電圧(a)に対する光
透過率変化(b)を示す。
9.0℃において印加した三角波電圧(a)に対する光
透過率変化(b)を示す。
【図7】実施例2における本発明実施例1の液晶化合物
の72.0℃において印加した三角波電圧(a)に対す
る光透過率変化(b)を示したものである。
の72.0℃において印加した三角波電圧(a)に対す
る光透過率変化(b)を示したものである。
【図8】実施例3の液晶化合物の比誘電率(ε′)の温
度に対するプロット図である。
度に対するプロット図である。
【図9】実施例3の液晶化合物の示差熱分析における発
熱ピークの温度分散を示す。
熱ピークの温度分散を示す。
【図10】実施例7における実施例1の液晶化合物の7
1.5℃において印加した三角波電圧(a)に対する光
透過率変化(b)を示したものである。
1.5℃において印加した三角波電圧(a)に対する光
透過率変化(b)を示したものである。
1 電極基板 1a 透明電極 1b 配向制御膜 1c 透明基板 2 電極基板 2a 透明電極 2b 配向制御膜 2c 透明基板 3 電源 4 偏光板 5 偏光板 6 反強誘電性液晶
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年11月5日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項9
【補正方法】変更
【補正内容】
【化11】 で示される4−(1−メチルヘプチルオキシカルボニ
ル)フェニル 4′−オクチルオキシカルボキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート80〜40重量部と式
ル)フェニル 4′−オクチルオキシカルボキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート80〜40重量部と式
【化12】 で示される4−(1−メチルヘプチルオキシカルボニ
ル)フエニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート20〜60重量部からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、式(VII)の化合物がR体のときは、式(I
V)の化合物もR体であり、式(VII)の化合物がS体の
ときは、式(IV)の化合物もS体である請求項1記載の液
晶素子。
ル)フエニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート20〜60重量部からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、式(VII)の化合物がR体のときは、式(I
V)の化合物もR体であり、式(VII)の化合物がS体の
ときは、式(IV)の化合物もS体である請求項1記載の液
晶素子。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項10
【補正方法】変更
【補正内容】
【化13】 で示される4−(1−メチルペンチルオキシカルボニ
ル)フェニル 4′−デシルオキシカルボキシビフェニ
ル−4−カルボキシレート80〜40重量部と式
ル)フェニル 4′−デシルオキシカルボキシビフェニ
ル−4−カルボキシレート80〜40重量部と式
【化14】 で示される4−(1−メチルヘプチルオキシカルボニ
ル)フエニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート20〜60重量部からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、式(VIII)の化合物がR体のときは、式
(IV)の化合物もR体であり、式(VIII)の化合物がS
体のときは、式(IV)の化合物もS体である請求項1記載
の液晶素子。
ル)フエニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート20〜60重量部からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、式(VIII)の化合物がR体のときは、式
(IV)の化合物もR体であり、式(VIII)の化合物がS
体のときは、式(IV)の化合物もS体である請求項1記載
の液晶素子。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】実施例5 (イ)反強誘電相を示さない(強誘電相及びフェリ誘電
相は示す)式(VII)で示されるR−(−)−4(1−
メチルヘプチルオキシカルボニル)フエニル 4′−オ
クチルオキシカルボキシビフェニル−4−カルボキシレ
ート〔以下R−(−)−MHPOOCBCと略記する〕
80重量部と、式(IV)で示される反強誘電相を示すR
−(−)−MHPOCBC20重量部とを混合し、液晶
組成物を作った。この液晶組成物の相系列は、つぎのと
おりである。
相は示す)式(VII)で示されるR−(−)−4(1−
メチルヘプチルオキシカルボニル)フエニル 4′−オ
クチルオキシカルボキシビフェニル−4−カルボキシレ
ート〔以下R−(−)−MHPOOCBCと略記する〕
80重量部と、式(IV)で示される反強誘電相を示すR
−(−)−MHPOCBC20重量部とを混合し、液晶
組成物を作った。この液晶組成物の相系列は、つぎのと
おりである。
【表8】 この相系列から、本実施例では74.8℃〜74.6℃
において、新たな反強誘電相(SmC* A2)が出現し
た。
において、新たな反強誘電相(SmC* A2)が出現し
た。
Claims (12)
- 【請求項1】 一対の電極基板間に液晶組成物を封入し
た液晶素子において、該液晶組成物が2つの温度領域に
おいて反強誘電相を有するものであることを特徴とする
液晶素子。 - 【請求項2】 前記液晶組成物が一般式(I) 【化1】 (式中、R1とR2は炭素数4〜18のn−アルキル基よ
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物を含有するものである請
求項1記載の液晶素子。 - 【請求項3】 前記液晶組成物が、前記一般式(I)の
化合物の光学純度が80%ee以上である請求項2記載
の液晶素子。 - 【請求項4】 前記一般式(I)の化合物が、 【化2】 で示される4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)
フェニル 4′−オクチルビフェニル−4−カルボキシ
レートである請求項2または3記載の液晶素子。 - 【請求項5】 前記液晶組成物が、(a)一般式(I) 【化3】 (式中、R1は炭素数4〜18のn−アルキル基または
n−アルコキシ基、R2は炭素数4〜18のn−アルキ
ル基であり、*は不斉炭素を示す。)で示される化合物
80重量部以上と、(b)一般式(III) 【化4】 (式中、R3とR4は炭素数4〜18のn−アルキル基よ
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物20重量部以下からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、一般式(I)の化合物がR体のときは、一
般式(III)の化合物もR体であり、一般式(I)の化
合物がS体のときは、一般式(III)の化合物もS体で
ある請求項1記載の液晶素子。 - 【請求項6】 前記液晶組成物が、式 【化5】 で示される4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)
フェニル4′−オクチルビフェニル−4−カルボキシレ
ート80重量部以上と、式 【化6】 で示される4(1−メチルヘプチルオキシカルボニル)
フェニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェニル
−4−カルボキシレート20重量部以下からなる液晶組
成物であって、それぞれの光学純度が80%ee以上で
あり、式(II)の化合物がR体のときは、式(IV)の化
合物もR体であり、式(II)の化合物がS体のときは式
(IV)の化合物もS体である請求項1記載の液晶素子。 - 【請求項7】 前記液晶組成物が、式 【化7】 で示される4−(1−メチルヘプチルオキシカルボニ
ル)フェニル 4′−オクチルオキシビフェニル−4−
カルボキシレート80重量部以上と式 【化8】 で示される4−(1−メチルヘプチルオキシカルボニ
ル)フエニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート20重量部以下からなる液
晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee以
上であり、式(V)の化合物がR体のときは、式(IV)
の化合物もR体であり、式(V)の化合物がS体のとき
は、式(IV)の化合物もS体である請求項1記載の液晶素
子。 - 【請求項8】 前記液晶組成物が、(c)一般式(VI) 【化9】 (式中、R5とR6は炭素数4〜18のn−アルキル基よ
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物80〜40重量部と、
(b)一般式(III) 【化10】 (式中、R3とR4は炭素数4〜18のn−アルキル基よ
りなる群から独立して選択された基であり、*は不斉炭
素を示す。)で示される化合物20〜60重量部とから
なる液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%
ee以上であり、一般式(VI)の化合物がR体のとき
は、一般式(III)の化合物もR体であり、一般式(V
I)の化合物がS体のときは、一般式(III)の化合物も
S体である請求項1記載の液晶素子。 - 【請求項9】 前記液晶組成物が、式 【化11】 で示される4−(1−メチルヘプチルオキシカルボニ
ル)フェニル 4′−オクチルオキシカルボキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート80〜40重量部と式 【化12】 で示される4−(1−メチルヘプチルオキシカルボニ
ル)フエニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート40〜60重量部からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、式(VII)の化合物がR体のときは、式(I
V)の化合物もR体であり、式(VII)の化合物がS体の
ときは、式(IV)の化合物もS体である請求項1記載の液
晶素子。 - 【請求項10】 前記液晶組成物が、式 【化13】 で示される4−(1−メチルペンチルオキシカルボニ
ル)フェニル 4′−デシルオキシカルボキシビフェニ
ル−4−カルボキシレート80〜40重量部と式 【化14】 で示される4−(1−メチルヘプチルオキシカルボニ
ル)フエニル 4′−オクチルカルボニルオキシビフェ
ニル−4−カルボキシレート40〜60重量部からなる
液晶組成物であって、それぞれの光学純度が80%ee
以上であり、式(VIII)の化合物がR体のときは、式
(IV)の化合物もR体であり、式(VIII)の化合物がS
体のときは、式(IV)の化合物もS体である請求項1記載
の液晶素子。 - 【請求項11】 請求項1、2、3、4、5,6,7,
8,9または10記載の液晶素子に、該液晶組成物の高
温側の反強誘電相を発現する温度領域を安定的に保持す
るための温度補償回路を付設したことを特徴とする液晶
装置。 - 【請求項12】 請求項11記載の液晶装置を該液晶組
成物の高温側の反強誘電相が発現する温度領域において
駆動させることを特徴とする請求項11記載の液晶装置
を駆動する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5205766A JPH06110028A (ja) | 1992-08-06 | 1993-07-28 | 液晶素子 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-231430 | 1992-08-06 | ||
| JP23143092 | 1992-08-06 | ||
| JP5205766A JPH06110028A (ja) | 1992-08-06 | 1993-07-28 | 液晶素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06110028A true JPH06110028A (ja) | 1994-04-22 |
Family
ID=26515241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5205766A Pending JPH06110028A (ja) | 1992-08-06 | 1993-07-28 | 液晶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06110028A (ja) |
-
1993
- 1993-07-28 JP JP5205766A patent/JPH06110028A/ja active Pending
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