JPH06110048A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- JPH06110048A JPH06110048A JP28221892A JP28221892A JPH06110048A JP H06110048 A JPH06110048 A JP H06110048A JP 28221892 A JP28221892 A JP 28221892A JP 28221892 A JP28221892 A JP 28221892A JP H06110048 A JPH06110048 A JP H06110048A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、液晶表示装置の構造に関するもの
であり、静電気による問題点を解決する事を目的とす
る。 【構成】 複数の電極間を、絶縁性を適当に下げた材料
を用いて定常的に短絡する。 【効果】 電極間の静電気分布が均一化され、放電等が
防げる。
であり、静電気による問題点を解決する事を目的とす
る。 【構成】 複数の電極間を、絶縁性を適当に下げた材料
を用いて定常的に短絡する。 【効果】 電極間の静電気分布が均一化され、放電等が
防げる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置の構造に関
するものである。
するものである。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は、基本的構造としては図
8に示した如く、複数の透明電極2の上に配向膜3を設
けた2枚のガラス基板1をシール材4を及びスペーサ
(図示せず)を介して対向させ、前記シール材4で囲ま
れた領域に液晶を注入した液晶セル体と、該液晶セル体
の外部に配置された偏光板等(図示せず)とを組み合わ
せて作成される。
8に示した如く、複数の透明電極2の上に配向膜3を設
けた2枚のガラス基板1をシール材4を及びスペーサ
(図示せず)を介して対向させ、前記シール材4で囲ま
れた領域に液晶を注入した液晶セル体と、該液晶セル体
の外部に配置された偏光板等(図示せず)とを組み合わ
せて作成される。
【0003】前記透明電極2及び前記配向膜3が形成さ
れた前記ガラス基板1は、より詳細には他の層を併せて
有する場合がある。即ち図9(a)は、前記透明電極2
と前記配向膜3の間に、絶縁層5が設けた例を示す構造
図で有る。また図9(b)は前記ガラス基板1上にカラ
ーフィルター8と遮光層7を設けるとともに、該カラー
フィルタ8及び遮光層7と、前記透明電極2の間に絶縁
層6を設けた例を示す構造図で有る。勿論図9(b)に
於いて、更に前記透明電極2と前記配向膜3の間に、前
記絶縁層5を有する構造も有り得るし、図9(a)、
(b)に示す以外の絶縁層が存在する場合も有り得る。
れた前記ガラス基板1は、より詳細には他の層を併せて
有する場合がある。即ち図9(a)は、前記透明電極2
と前記配向膜3の間に、絶縁層5が設けた例を示す構造
図で有る。また図9(b)は前記ガラス基板1上にカラ
ーフィルター8と遮光層7を設けるとともに、該カラー
フィルタ8及び遮光層7と、前記透明電極2の間に絶縁
層6を設けた例を示す構造図で有る。勿論図9(b)に
於いて、更に前記透明電極2と前記配向膜3の間に、前
記絶縁層5を有する構造も有り得るし、図9(a)、
(b)に示す以外の絶縁層が存在する場合も有り得る。
【0004】これらの絶縁層5、6は、通常前記配向膜
3の平坦性を向上させる目的、又は各層間の絶縁を目的
として用いられる。
3の平坦性を向上させる目的、又は各層間の絶縁を目的
として用いられる。
【0005】前記配向膜3の形成後、該配向膜3はラビ
ング処理されるが、この際問題となるのが複数の前記透
明電極2の間の静電気放電に起因する表示の劣化であ
る。
ング処理されるが、この際問題となるのが複数の前記透
明電極2の間の静電気放電に起因する表示の劣化であ
る。
【0006】従来は、ラビング時の静電気対策として、
ラビング時に加湿する等、主にラビング環境の条件を整
える方法が用いられてきた。しかし静電気の問題はラビ
ング時のみでなく、その後の工程においても常に起こり
得る。例えばスペーサー散布時に静電気の不均一分布す
ると、スペーサーが異常分布してしまう。また偏光板接
着時等にやはり静電気が発生し、液晶のスレッショルド
電圧が変化してしまう。
ラビング時に加湿する等、主にラビング環境の条件を整
える方法が用いられてきた。しかし静電気の問題はラビ
ング時のみでなく、その後の工程においても常に起こり
得る。例えばスペーサー散布時に静電気の不均一分布す
ると、スペーサーが異常分布してしまう。また偏光板接
着時等にやはり静電気が発生し、液晶のスレッショルド
電圧が変化してしまう。
【0007】ごく最近では特開平4−204687号公
報(以下引例とする。)にあるように、同一基板上の複
数の前記透明電極1を非表示領域部分で、光等の外部エ
ネルギーにより電気抵抗が変化する材料と接触させる方
法、あるいは前記シール材4に外部エネルギーにより電
気抵抗が変化する材料を含ませる方法が提案されてい
る。
報(以下引例とする。)にあるように、同一基板上の複
数の前記透明電極1を非表示領域部分で、光等の外部エ
ネルギーにより電気抵抗が変化する材料と接触させる方
法、あるいは前記シール材4に外部エネルギーにより電
気抵抗が変化する材料を含ませる方法が提案されてい
る。
【0008】しかしながら引例が提案する方法は、外部
エネルギーによって絶縁性が変化する材料を用いるた
め、その外部条件が整っていない状態で帯電した場合、
やはり静電気放電が生ずる恐れがあり、基板の取扱いに
特別な考慮を払う必要があり完全とは言えなかった。ま
た光により絶縁性が変化するような材料を用いた場合に
は、液晶点灯時にはその材料部分は遮光されていなけれ
ばならず、パネルの点灯検査時等に於いて極めて問題が
あった。
エネルギーによって絶縁性が変化する材料を用いるた
め、その外部条件が整っていない状態で帯電した場合、
やはり静電気放電が生ずる恐れがあり、基板の取扱いに
特別な考慮を払う必要があり完全とは言えなかった。ま
た光により絶縁性が変化するような材料を用いた場合に
は、液晶点灯時にはその材料部分は遮光されていなけれ
ばならず、パネルの点灯検査時等に於いて極めて問題が
あった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的は
外部条件によらず、静電気の問題が起きにくい液晶表示
装置を提供する事にある。
外部条件によらず、静電気の問題が起きにくい液晶表示
装置を提供する事にある。
【0010】
【課題を解決するための手段】課題を解決するために本
発明が用いる第1の手段は、同一基板上の複数の前記透
明電極2を高抵抗の短絡部材9により常時短絡する事で
あり、第2の手段は対向して組み合わせる2枚の基板1
上のそれぞれの透明電極2間を前記シール材4又は短絡
部材10を介し、高抵抗をもって常時短絡するする如く
構成する事である。
発明が用いる第1の手段は、同一基板上の複数の前記透
明電極2を高抵抗の短絡部材9により常時短絡する事で
あり、第2の手段は対向して組み合わせる2枚の基板1
上のそれぞれの透明電極2間を前記シール材4又は短絡
部材10を介し、高抵抗をもって常時短絡するする如く
構成する事である。
【0011】
【作用】本発明の第1の手段によれば、該配向膜3をラ
ビング処理しても、同一基板上の複数の透明電極2の間
は、前記短絡部材9によって短絡されるているため、近
接する透明電極間の電荷分布が均一となり、静電気放電
が起きなし、また本発明の第2の手段によれば、対向し
て組み合わせた2枚の基板1上のそれぞれの透明電極2
間は前記シール材4又は前記短絡部材10を介し、高抵
抗をもって常時短絡するため、その後の工程内に於ける
取扱いに特別な注意を払わなくても静電気による問題を
発生させる事がない。
ビング処理しても、同一基板上の複数の透明電極2の間
は、前記短絡部材9によって短絡されるているため、近
接する透明電極間の電荷分布が均一となり、静電気放電
が起きなし、また本発明の第2の手段によれば、対向し
て組み合わせた2枚の基板1上のそれぞれの透明電極2
間は前記シール材4又は前記短絡部材10を介し、高抵
抗をもって常時短絡するため、その後の工程内に於ける
取扱いに特別な注意を払わなくても静電気による問題を
発生させる事がない。
【0012】
【実施例】図1は本発明の第1の実施例を示す構造図で
あり、前記複数の透明電極2と前記基板1との間に、該
複数の透明電極2に接触するように、適当に絶縁性を低
下させた材料(以下簡単のため低絶縁材料と称する)に
よる短絡部材9を前記基板1の全面に設けた2枚の基板
を、シール材4により張り合わせた例を示す構造図であ
る。
あり、前記複数の透明電極2と前記基板1との間に、該
複数の透明電極2に接触するように、適当に絶縁性を低
下させた材料(以下簡単のため低絶縁材料と称する)に
よる短絡部材9を前記基板1の全面に設けた2枚の基板
を、シール材4により張り合わせた例を示す構造図であ
る。
【0013】図2は本発明の第2の実施例であり前記短
絡部材9を、前記基板1上の全面に設けるのではなく、
選択的に設けた例を示す構造図である。
絡部材9を、前記基板1上の全面に設けるのではなく、
選択的に設けた例を示す構造図である。
【0014】図1、図2に於いて、前記シール材4は低
絶縁材料、あるいは異方性導伝シール材を用いる事が出
来る。この場合、2枚の基板上のそれぞれの前記透明電
極1は相互に高抵抗で接続される事になる。
絶縁材料、あるいは異方性導伝シール材を用いる事が出
来る。この場合、2枚の基板上のそれぞれの前記透明電
極1は相互に高抵抗で接続される事になる。
【0015】図3は本発明の第3のの実施例を示す構造
図であり、前記複数の透明電極2と前記基板1との間
に、該複数の透明電極2に接触するように短絡部材9を
設け、更にシール材4の外側に於いて一方の基板1上の
前記短絡部材9と他方の基板1上の前記短絡部材9と
を、短絡部材10により短絡した例を示す構造図であ
る。
図であり、前記複数の透明電極2と前記基板1との間
に、該複数の透明電極2に接触するように短絡部材9を
設け、更にシール材4の外側に於いて一方の基板1上の
前記短絡部材9と他方の基板1上の前記短絡部材9と
を、短絡部材10により短絡した例を示す構造図であ
る。
【0016】図3においては前記短絡部材は前記シール
部材4とは異なり、封止する目的はないから、2枚の基
板1上の一部にそれぞれ対向して前記短絡部材9が基板
表面に露出する部分を設け、これを短絡すればよく、こ
のとき前記短絡部材10は例えば導電性接着材、導電ゴ
ム、金属等の導電性部材を用いる事が出来る。
部材4とは異なり、封止する目的はないから、2枚の基
板1上の一部にそれぞれ対向して前記短絡部材9が基板
表面に露出する部分を設け、これを短絡すればよく、こ
のとき前記短絡部材10は例えば導電性接着材、導電ゴ
ム、金属等の導電性部材を用いる事が出来る。
【0017】図4は本発明の第4の実施例であり、前記
短絡部材9の作成工程の一例を示す工程図でる。図4
(a)に於いて、前記基板1に前記高抵抗の短絡部材9
を一様に設け、更にその上に透明電極2を形成するため
の透明電極層12を設ける。次に図4(b)に示す如
く、前記透明電極層12をエッチング等で処理し、前記
透明電極2を形成し、その上に前記配向膜3が設けられ
る。この様に構成すれば、該配向膜3をラビング処理し
ても、複数の透明電極2の間は、前記短絡部材9の層に
よって高抵抗をもって短絡されるため、各透明電極間の
電荷分布が均一となり、静電気放電が起きない。
短絡部材9の作成工程の一例を示す工程図でる。図4
(a)に於いて、前記基板1に前記高抵抗の短絡部材9
を一様に設け、更にその上に透明電極2を形成するため
の透明電極層12を設ける。次に図4(b)に示す如
く、前記透明電極層12をエッチング等で処理し、前記
透明電極2を形成し、その上に前記配向膜3が設けられ
る。この様に構成すれば、該配向膜3をラビング処理し
ても、複数の透明電極2の間は、前記短絡部材9の層に
よって高抵抗をもって短絡されるため、各透明電極間の
電荷分布が均一となり、静電気放電が起きない。
【0018】図5は本発明の第5の実施例であり、前記
短絡部材9の作成工程の一例を示す工程図である。図5
(a)に於いて、前記基板1に透明電極2を形成するた
めの透明電極層12を設ける。次に図2(b)に示す如
く、前記透明電極層12をエッチング等で処理する際、
前記透明電極2を完全には分離せず、高抵抗部分19を
残す様にして前記透明電極2形成し、その上に前記配向
膜3が設けられる。この様に構成すれば、該配向膜3を
ラビング処理しても、複数の透明電極2の間は、前記高
抵抗部分19によって短絡されるているため、両者の電
荷分布が均一となり、静電気放電が起きない。
短絡部材9の作成工程の一例を示す工程図である。図5
(a)に於いて、前記基板1に透明電極2を形成するた
めの透明電極層12を設ける。次に図2(b)に示す如
く、前記透明電極層12をエッチング等で処理する際、
前記透明電極2を完全には分離せず、高抵抗部分19を
残す様にして前記透明電極2形成し、その上に前記配向
膜3が設けられる。この様に構成すれば、該配向膜3を
ラビング処理しても、複数の透明電極2の間は、前記高
抵抗部分19によって短絡されるているため、両者の電
荷分布が均一となり、静電気放電が起きない。
【0019】図5の実施例の場合、前記透明電極2のシ
ート抵抗raは出来るだけ小さい事が望ましく、一方前
記高抵抗部分19のシート抵抗rbはraの少なくとも
100倍以上の値が必要である。従って該高抵抗部分1
9の膜厚は極めて薄くなる可能性があるが、例えば前記
透明電極層12をスパッタリングで生成した場合、該透
明電極層12と前記ガラス基板1との界面付近では該透
明電極層12のエッチングレートは極端に低下するた
め、エッチング条件を適宜選択すれば、充分薄い高抵抗
部分19を残す事が出来る。
ート抵抗raは出来るだけ小さい事が望ましく、一方前
記高抵抗部分19のシート抵抗rbはraの少なくとも
100倍以上の値が必要である。従って該高抵抗部分1
9の膜厚は極めて薄くなる可能性があるが、例えば前記
透明電極層12をスパッタリングで生成した場合、該透
明電極層12と前記ガラス基板1との界面付近では該透
明電極層12のエッチングレートは極端に低下するた
め、エッチング条件を適宜選択すれば、充分薄い高抵抗
部分19を残す事が出来る。
【0020】更に前記透明電極層12を生成する際に、
前記基板1の表面付近では抵抗比が高く、それ以外の部
分では抵抗比が低く成るように時間的に成分制御を行え
ば、前記高抵抗部分19の厚みを極端に薄くしなくても
済む。
前記基板1の表面付近では抵抗比が高く、それ以外の部
分では抵抗比が低く成るように時間的に成分制御を行え
ば、前記高抵抗部分19の厚みを極端に薄くしなくても
済む。
【0021】前記高抵抗部分19は元々は前記透明電極
層12の一部であるが、前記透明電極2とは異なる、高
抵抗の短絡部材9と見なす事が出来る。
層12の一部であるが、前記透明電極2とは異なる、高
抵抗の短絡部材9と見なす事が出来る。
【0022】図6は本発明の第6の実施例であり、前記
短絡部材9の作成工程の一例を示す工程図でる。図6
(a)に於いて、前記基板1に前記透明電極2を形成す
るための透明電極層12を設け、これをエッチング等で
処理して前記透明電極層2を形成する。この上に前記高
抵抗の短絡部材9の層を一様に設け、更にその上に前記
配向膜3が設けられる。
短絡部材9の作成工程の一例を示す工程図でる。図6
(a)に於いて、前記基板1に前記透明電極2を形成す
るための透明電極層12を設け、これをエッチング等で
処理して前記透明電極層2を形成する。この上に前記高
抵抗の短絡部材9の層を一様に設け、更にその上に前記
配向膜3が設けられる。
【0023】図7は本発明の第7の実施例であり、図7
(a)は前記第6の実施例を図9(b)に示した、前記
カラーフィルター8を有する基板1に適用した例を示す
構造図であり、前記短絡部材9は前記透明電極2と前記
配向膜3の間に設けられる。また図7(b)は前記第4
の実施例を図9(b)に示した、前記カラーフィルター
8を有する基板1に適用した例を示す構造図であり、前
記短絡部材9は前記絶縁層6と前記透明電極2の間に設
けられる。
(a)は前記第6の実施例を図9(b)に示した、前記
カラーフィルター8を有する基板1に適用した例を示す
構造図であり、前記短絡部材9は前記透明電極2と前記
配向膜3の間に設けられる。また図7(b)は前記第4
の実施例を図9(b)に示した、前記カラーフィルター
8を有する基板1に適用した例を示す構造図であり、前
記短絡部材9は前記絶縁層6と前記透明電極2の間に設
けられる。
【0024】本発明は、上に述べた実施例に限定される
ものではなく、例えば図9(a)に於ける前記絶縁層5
あるいは図9(b)に於ける前記絶縁層6を、高絶縁層
に替えて低絶縁層(低絶縁材料による層。以下同じ)と
する事によっても実施できる。また図1、図3、図4に
示した実施例に於いては、前記基板1の材料によって、
あるいは該基板1の表面を処理する事によって、該基板
1そのものを短絡部材9として用いる事もできる。
ものではなく、例えば図9(a)に於ける前記絶縁層5
あるいは図9(b)に於ける前記絶縁層6を、高絶縁層
に替えて低絶縁層(低絶縁材料による層。以下同じ)と
する事によっても実施できる。また図1、図3、図4に
示した実施例に於いては、前記基板1の材料によって、
あるいは該基板1の表面を処理する事によって、該基板
1そのものを短絡部材9として用いる事もできる。
【0025】前述の如く前記短絡部材9は、基板1の全
面に設けられても良いし一部分に選択的に設けられても
良い。前記短絡部材9を、基板1の一部分に選択的に設
ける場合には、表示部分を除く部分に設ける事が出来、
該短絡部材9は必ずしも透明で無くても良い。前記短絡
部材9を表示部分にも設ける場合は、該短絡部材9は透
明で無ければならない。
面に設けられても良いし一部分に選択的に設けられても
良い。前記短絡部材9を、基板1の一部分に選択的に設
ける場合には、表示部分を除く部分に設ける事が出来、
該短絡部材9は必ずしも透明で無くても良い。前記短絡
部材9を表示部分にも設ける場合は、該短絡部材9は透
明で無ければならない。
【0026】前記短絡部材9は有機、無機を問わず種々
の材料を選択する事が出来、例えばインジュームオキサ
イドの他、シリコンオキサイド、シリコンナイトライ
ド、オキシナイトライド、タンタルオキサイド、アルミ
ニュームオキサイド、等も用いる事が出来る。
の材料を選択する事が出来、例えばインジュームオキサ
イドの他、シリコンオキサイド、シリコンナイトライ
ド、オキシナイトライド、タンタルオキサイド、アルミ
ニュームオキサイド、等も用いる事が出来る。
【0027】前記短絡部材9の材料は前記透明電極2と
同種の材料で有ってもよいが、この場合、特に図1、図
2、図3、図4、図7(b)に示した実施例に於いて
は、前記透明電極2を形成する部分と、成分あるいは成
分比、その他の形成条件を変えて、エッチグレ−トがよ
り低く成るようにするのがよい。例えば前記透明電極2
と前記短絡部材9をともにITO(インジュームティン
オキサイド)で形成する場合、蒸着時あるいはスパッタ
時の酸素量、錫量の割合、その他の形成条件を変える事
により両者のエッチングレート、及び抵抗比を変化させ
る事が出来る。また前記図5に示した実施例の場合は、
前述の如く前記透明電極層12を生成する際に、前記基
板1の表面付近では抵抗比が高く、それ以外の部分では
抵抗比が低く成るように時間的に形成条件を変化させる
事が出来る。
同種の材料で有ってもよいが、この場合、特に図1、図
2、図3、図4、図7(b)に示した実施例に於いて
は、前記透明電極2を形成する部分と、成分あるいは成
分比、その他の形成条件を変えて、エッチグレ−トがよ
り低く成るようにするのがよい。例えば前記透明電極2
と前記短絡部材9をともにITO(インジュームティン
オキサイド)で形成する場合、蒸着時あるいはスパッタ
時の酸素量、錫量の割合、その他の形成条件を変える事
により両者のエッチングレート、及び抵抗比を変化させ
る事が出来る。また前記図5に示した実施例の場合は、
前述の如く前記透明電極層12を生成する際に、前記基
板1の表面付近では抵抗比が高く、それ以外の部分では
抵抗比が低く成るように時間的に形成条件を変化させる
事が出来る。
【0028】ところで前記短絡部材9のシート抵抗とし
てどの程度の値を取るべきかとの問題があるが、該シー
ト抵抗の目安として、隣合う2本の透明電極間の短絡抵
抗を考える事が出来る。この短絡抵抗は、液晶駆動回路
の出力抵抗よりも充分大きくなければならず、また隣接
する電極間の容量と該短絡抵抗とで形成される時定数
は、静電気を短時間に分散させるため、あまり大きくて
もならない。該短絡抵抗があまりに大であれば局部的に
発生した静電気を効果的に分散する事ができなくなる
し、また余りに小さい値では複数の前記透明電極2の間
で過大な電流が流れ、単に表示装置の消費電力を増大さ
せるだけでなく、駆動波形に歪みを生じさせ、表示品質
の低下を招く恐れがある。
てどの程度の値を取るべきかとの問題があるが、該シー
ト抵抗の目安として、隣合う2本の透明電極間の短絡抵
抗を考える事が出来る。この短絡抵抗は、液晶駆動回路
の出力抵抗よりも充分大きくなければならず、また隣接
する電極間の容量と該短絡抵抗とで形成される時定数
は、静電気を短時間に分散させるため、あまり大きくて
もならない。該短絡抵抗があまりに大であれば局部的に
発生した静電気を効果的に分散する事ができなくなる
し、また余りに小さい値では複数の前記透明電極2の間
で過大な電流が流れ、単に表示装置の消費電力を増大さ
せるだけでなく、駆動波形に歪みを生じさせ、表示品質
の低下を招く恐れがある。
【0029】該短絡抵抗の大きさは、前記液晶駆動回路
の出力抵抗の大きさや、液晶表示装置の大きさによって
選択すべき範囲が異なって来るが、種々の場合を総合し
て目安を設けるならば、前記隣合う2本の透明電極間の
短絡抵抗短の値は10キロオーム以上、10ギガオーム
以下の範囲、望ましくは数100キロオームから数10
0メグオームの範囲に入るようにするのがよいだろう。
の出力抵抗の大きさや、液晶表示装置の大きさによって
選択すべき範囲が異なって来るが、種々の場合を総合し
て目安を設けるならば、前記隣合う2本の透明電極間の
短絡抵抗短の値は10キロオーム以上、10ギガオーム
以下の範囲、望ましくは数100キロオームから数10
0メグオームの範囲に入るようにするのがよいだろう。
【0030】なお、本発明に於いて前記高抵抗の短絡部
材9は、前記引例の場合とは異なり、基本的には外部エ
ネルギーにより電気抵抗が変化しない材料で作成され
る。更に、1枚の基板上に多数個のセルを同時に作り込
む場合にあっては、それぞれのセル内で複数の電極間を
短絡すると共に、それぞれ異なるセルの電極間をも短絡
しておく方が良いが、本願図4、図5、図6、図7に示
した実施例によれば、前記短絡部材9は基板全面に形成
する事が出来るから、異なるセルの電極間を短絡するこ
とも容易に行える。この場合も本願の、基板1上の複数
の電極2間を高抵抗の短絡部材9により短絡した構造に
含む。
材9は、前記引例の場合とは異なり、基本的には外部エ
ネルギーにより電気抵抗が変化しない材料で作成され
る。更に、1枚の基板上に多数個のセルを同時に作り込
む場合にあっては、それぞれのセル内で複数の電極間を
短絡すると共に、それぞれ異なるセルの電極間をも短絡
しておく方が良いが、本願図4、図5、図6、図7に示
した実施例によれば、前記短絡部材9は基板全面に形成
する事が出来るから、異なるセルの電極間を短絡するこ
とも容易に行える。この場合も本願の、基板1上の複数
の電極2間を高抵抗の短絡部材9により短絡した構造に
含む。
【0031】また上記説明は、いわゆる単純マトリクス
型の液晶パネルについて行ったが、本発明はMIM、T
FT等及びメモリー容量の構造を有するアクティブ型パ
ネルに於いても実施可能である。この場合、上記説明に
於いて「透明電極2」とあるところは、必ずしも透明で
ある必要はないので単に「電極2」と読み替えるものと
する。また前記メモリー容量の一端は、高絶縁性が維持
されるよう構成すべき事は言うまでもない。
型の液晶パネルについて行ったが、本発明はMIM、T
FT等及びメモリー容量の構造を有するアクティブ型パ
ネルに於いても実施可能である。この場合、上記説明に
於いて「透明電極2」とあるところは、必ずしも透明で
ある必要はないので単に「電極2」と読み替えるものと
する。また前記メモリー容量の一端は、高絶縁性が維持
されるよう構成すべき事は言うまでもない。
【0032】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明の第1の手段に
よれば、同一基板上の複数の前記透明電極2を高抵抗の
短絡部材9により常時短絡するため、ラビング時は勿論
の事、その後の工程内に於いても基板の取扱いに特別な
注意を払わなくても静電気による問題を発生させる事が
ない。また本発明の第2の手段によれば、対向して組み
合わせた2枚の基板1上のそれぞれの透明電極2間は前
記シール材4又は前記短絡部材10を介し、高抵抗をも
って常時短絡するため、その後の工程内に於ける取扱い
に特別な注意を払わなくても静電気による問題を発生さ
せる事がない。
よれば、同一基板上の複数の前記透明電極2を高抵抗の
短絡部材9により常時短絡するため、ラビング時は勿論
の事、その後の工程内に於いても基板の取扱いに特別な
注意を払わなくても静電気による問題を発生させる事が
ない。また本発明の第2の手段によれば、対向して組み
合わせた2枚の基板1上のそれぞれの透明電極2間は前
記シール材4又は前記短絡部材10を介し、高抵抗をも
って常時短絡するため、その後の工程内に於ける取扱い
に特別な注意を払わなくても静電気による問題を発生さ
せる事がない。
【図1】本発明の第1の実施例を示す構造図である。
【図2】本発明の第2の実施例を示す構造図である。
【図3】本発明の第3の実施例を示す構造図である。
【図4】本発明の第4の実施例を示す構造図である。
【図5】本発明の第5の実施例を示す構造図である。
【図6】本発明の第6の実施例を示す構造図である。
【図7】本発明の第7の実施例を示す構造図である。
【図8】従来の構造を示す構造図である。
【図9】従来の構造を示す構造図である。
1 基板 2 透明電極 3 配向膜 4 シール材 5 絶縁層 6 絶縁層 7 遮光層 8 カラーフィルター 9 短絡部材 10 短絡部材 12 透明電極層 19 高抵抗部分
Claims (12)
- 【請求項1】 少なくとも一方の基板1上の複数の電極
2間を高抵抗の短絡部材9により短絡した構造を有する
事を特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 前記短絡部材9は、前記電極2直下に形
成した層である事を特徴とする請求項1に記載の液晶表
示装置。 - 【請求項3】 前記短絡部材9は、前記ガラス基板その
もので有る事を特徴とする請求項2に記載の液晶表示装
置。 - 【請求項4】 前記短絡部材9は、前記電極2直上に形
成した層である事を特徴とする請求項1に記載の液晶表
示装置。 - 【請求項5】 前記短絡部材9は、酸化金属で有る事を
特徴とする請求項1又は4に記載の液晶表示装置。 - 【請求項6】 前記短絡部材9は、前記基板1の全面に
渡り形成した層で有る事を特徴とする請求項1、2、4
又は5に記載の液晶表示装置。 - 【請求項7】 前記短絡部材9は、前記基板1に選択的
に形成した層で有る事を特徴とする請求項1、2、4又
は5に記載の液晶表示装置。 - 【請求項8】 前記短絡部材9は、前記基板1の全面に
渡り形成した層を選択的にエッチングしたものである事
を特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。 - 【請求項9】 一方の基板1上の前記電極2と他方の基
板1上の前記短絡部材9を短絡する短絡手段を有する事
を特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 【請求項10】 前記短絡手段として異方性導伝シール
を用いた事を特徴とする請求項9に記載の液晶表示装
置。 - 【請求項11】 一方の基板1上の前記短絡部材9と他
方の基板1上の前記短絡部材9を短絡する短絡手段を有
する事を特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 【請求項12】 一基板上の隣接する電極間の短絡抵抗
を、1000メグオーム以下にした事を特徴とする請求
項1に記載の液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28221892A JP3210443B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28221892A JP3210443B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06110048A true JPH06110048A (ja) | 1994-04-22 |
| JP3210443B2 JP3210443B2 (ja) | 2001-09-17 |
Family
ID=17649601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28221892A Expired - Lifetime JP3210443B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3210443B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998008134A1 (fr) * | 1996-08-19 | 1998-02-26 | Obayashiseikou Co., Ltd. | Dispositif d'affichage a cristaux liquides |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59153526U (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-15 | シャープ株式会社 | 液晶表示素子 |
| JPS6449023A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-23 | Canon Kk | Ferroelectric liquid crystal element |
| JPH0259723A (ja) * | 1988-08-25 | 1990-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Tn型液晶表示パネル |
| JPH03260627A (ja) * | 1990-03-12 | 1991-11-20 | Seiko Instr Inc | 液晶装置 |
| JPH03260626A (ja) * | 1990-03-12 | 1991-11-20 | Seiko Instr Inc | 液晶装置 |
| JPH0437714A (ja) * | 1990-06-01 | 1992-02-07 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
| JPH05232459A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 液晶表示セルおよびその製造方法 |
-
1992
- 1992-09-29 JP JP28221892A patent/JP3210443B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
| WO1998008134A1 (fr) * | 1996-08-19 | 1998-02-26 | Obayashiseikou Co., Ltd. | Dispositif d'affichage a cristaux liquides |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3210443B2 (ja) | 2001-09-17 |
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