JPH0611166Y2 - 真空ラミネート装置のシール構造 - Google Patents
真空ラミネート装置のシール構造Info
- Publication number
- JPH0611166Y2 JPH0611166Y2 JP3348088U JP3348088U JPH0611166Y2 JP H0611166 Y2 JPH0611166 Y2 JP H0611166Y2 JP 3348088 U JP3348088 U JP 3348088U JP 3348088 U JP3348088 U JP 3348088U JP H0611166 Y2 JPH0611166 Y2 JP H0611166Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seal
- vacuum chamber
- roller
- rollers
- wiring board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は連続的に配線基板の表裏面にフィルムを貼合わ
せる真空ラミネート装置のシール構造に関する。
せる真空ラミネート装置のシール構造に関する。
（従来の技術） 従来の真空ラミネート装置は実公昭５７−５６５４５号
で公知のごとく、１は真空室であり、真空装置（図示せ
ず）によって室内は所定圧力で減圧されている。この真
空室内１には配線基板３を搬送する駆動ローラ５が配設
され、配線基板３の表面に貼合わせるための原反ローラ
６とこの原反ローラからフィルム８を送り出す送りロー
ラ１０とが配設され、この真空室内１で配線基板３上に
フィルム８が貼り合わされる。
で公知のごとく、１は真空室であり、真空装置（図示せ
ず）によって室内は所定圧力で減圧されている。この真
空室内１には配線基板３を搬送する駆動ローラ５が配設
され、配線基板３の表面に貼合わせるための原反ローラ
６とこの原反ローラからフィルム８を送り出す送りロー
ラ１０とが配設され、この真空室内１で配線基板３上に
フィルム８が貼り合わされる。
この真空室１の両側面１１，１２にはシールプレート１
４，１５が設けられ、シールローラ１７，１８が常時シ
ールプレート１４，１５に接触した状態で配設されてい
る。
４，１５が設けられ、シールローラ１７，１８が常時シ
ールプレート１４，１５に接触した状態で配設されてい
る。
（考案が解決しようとする課題） 従来の真空ラミネート装置は、シールプレート１４，１
５がアルミニウムの表面に硬質アルマイト被膜を形成し
テフロンをコートしたものを用いていた。他方シールロ
ーラ１７，１８は金属ローラの表面にゴムライニングし
たゴムローラを用いていた。このシールローラ１７，１
８は常にシールプレート１４，１５に加圧状態で回転し
ているので、発塵が生じ易く、塵埃が配線基板３に付着
したまま真空室内１に入り、フィルム８がラミネートさ
れると、このフィルム８はレジストフィルムとして機能
するので配線基板上のパターン形成時にミスパターンが
生じショート事故の原因となる。
５がアルミニウムの表面に硬質アルマイト被膜を形成し
テフロンをコートしたものを用いていた。他方シールロ
ーラ１７，１８は金属ローラの表面にゴムライニングし
たゴムローラを用いていた。このシールローラ１７，１
８は常にシールプレート１４，１５に加圧状態で回転し
ているので、発塵が生じ易く、塵埃が配線基板３に付着
したまま真空室内１に入り、フィルム８がラミネートさ
れると、このフィルム８はレジストフィルムとして機能
するので配線基板上のパターン形成時にミスパターンが
生じショート事故の原因となる。
真空室内１への入口部１９では配線基板３に塵埃が付着
し、フィルム８で塵埃が挾持された構造となり、出口部
２０ではラミネートされたフィルム８上に付着されたま
ま、後の現像工程でミスパターン発生の要因となってい
た。
し、フィルム８で塵埃が挾持された構造となり、出口部
２０ではラミネートされたフィルム８上に付着されたま
ま、後の現像工程でミスパターン発生の要因となってい
た。
（課題を解決するための手段） 本考案の真空ラミネート装置のシール構造は、配線基板
上にフィルムをラミネートするための真空室を有した真
空ラミネート装置であって、この真空室側面の配線基板
の出入口部に金属ローラの外周部と非接触の円弧形状を
有したシールブロックを設け、このシールブロックに対
し非接触状態で配設された金属ローラを設け、この金属
ローラに接触し配線基板を搬送するためのゴムライニン
グを行った一対のシールローラを設けたものである。
上にフィルムをラミネートするための真空室を有した真
空ラミネート装置であって、この真空室側面の配線基板
の出入口部に金属ローラの外周部と非接触の円弧形状を
有したシールブロックを設け、このシールブロックに対
し非接触状態で配設された金属ローラを設け、この金属
ローラに接触し配線基板を搬送するためのゴムライニン
グを行った一対のシールローラを設けたものである。
（作用） 本考案の装置は、真空室の側面部に金属ローラに対し
０．０５mm以下の隙間で大気の侵入を防止したシールブ
ロックを設け、配線基板を搬送駆動し、かつ大気の侵入
を遮断するシールローラのみが配線基板に接触する構造
なので、従来のような発塵作用がなく、配線基板に対
し、塵埃が付着することなく、良好な品質の配線基板を
得ることができる。
０．０５mm以下の隙間で大気の侵入を防止したシールブ
ロックを設け、配線基板を搬送駆動し、かつ大気の侵入
を遮断するシールローラのみが配線基板に接触する構造
なので、従来のような発塵作用がなく、配線基板に対
し、塵埃が付着することなく、良好な品質の配線基板を
得ることができる。
（実施例） 本考案の実施例を図面に基づき説明する。
１は真空室であり真空室１内の構造は公知のものと同様
である。この真空室１の両側面部１１，１２には金属ロ
ーラ２２，２３とシールローラ２５，２６が配設され、
この金属ローラ２２，２３とシールローラ２５，２６は
ローラ間にスリップが生じないよう同期回転している。
である。この真空室１の両側面部１１，１２には金属ロ
ーラ２２，２３とシールローラ２５，２６が配設され、
この金属ローラ２２，２３とシールローラ２５，２６は
ローラ間にスリップが生じないよう同期回転している。
金属ローラ２２，２３同志は非接触状態で離隔して配設
されている。シールローラ２５，２６は金属の表面にゴ
ムがライニングされたゴムローラを用いており、前述の
如く隣りあった金属ローラ２２，２３に接触していると
共に、シールローラ２５，２６同志はライニングされた
ゴムが加圧接触していて、このシールローラ２５，２６
は外気が真空室１内に侵入するのを防ぐと共に、配線基
板３を矢印の方向へ搬送する駆動ローラとして機能して
いる。
されている。シールローラ２５，２６は金属の表面にゴ
ムがライニングされたゴムローラを用いており、前述の
如く隣りあった金属ローラ２２，２３に接触していると
共に、シールローラ２５，２６同志はライニングされた
ゴムが加圧接触していて、このシールローラ２５，２６
は外気が真空室１内に侵入するのを防ぐと共に、配線基
板３を矢印の方向へ搬送する駆動ローラとして機能して
いる。
金属ローラ２２，２３から外気の侵入を防止するため、
金属ローラ２２，２３のローラ外周部２８に対し、隙間
が０．０５mm以下の円弧形状３０を有したシールブロッ
ク３２を真空室１の側面に取付けてある。
金属ローラ２２，２３のローラ外周部２８に対し、隙間
が０．０５mm以下の円弧形状３０を有したシールブロッ
ク３２を真空室１の側面に取付けてある。
（考案の効果） 本考案の真空ラミネート装置のシール構造は、シールロ
ーラと金属ローラは同期回転しているので、この間で発
塵が生じる恐れがなく、金属ローラはシールブロックと
円弧状の極めて小さい隙間で大気の侵入を防いでいるの
で、真空室内の減圧に影響殆どなく、シール構造部で従
来のような塵埃による、レジスト処理する際のパターン
ミスを生じていたものを排除し、信頼性の高いラミネー
ト処理ができるようになった。
ーラと金属ローラは同期回転しているので、この間で発
塵が生じる恐れがなく、金属ローラはシールブロックと
円弧状の極めて小さい隙間で大気の侵入を防いでいるの
で、真空室内の減圧に影響殆どなく、シール構造部で従
来のような塵埃による、レジスト処理する際のパターン
ミスを生じていたものを排除し、信頼性の高いラミネー
ト処理ができるようになった。
第１図は本考案の断面図、第２図は従来の断面図であ
る。 図面において、１：真空室、３：配線板、 ２２，２３：金属ローラ、 ２５，２６：シールローラ、 ３２：シールブロック。
る。 図面において、１：真空室、３：配線板、 ２２，２３：金属ローラ、 ２５，２６：シールローラ、 ３２：シールブロック。
Claims (1)
- 【請求項１】配線基板の表面にフィルムをラミネートす
るための真空室を有した真空ラミネート装置であって、
この真空室側面の配線基板が出入する出入口部に金属ロ
ーラの外周部と非接触の円弧形状を有したシールブロッ
クを設け、このシールブロックに対し非接触状態で、か
つ互いに離隔されて配設された金属ローラを設け、この
金属ローラに接触し、かつ互いに接触するように配設さ
れ、配線基板を搬送するためのシールローラを設けたこ
とを特徴とする真空ラミネート装置のシール構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3348088U JPH0611166Y2 (ja) | 1988-03-14 | 1988-03-14 | 真空ラミネート装置のシール構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3348088U JPH0611166Y2 (ja) | 1988-03-14 | 1988-03-14 | 真空ラミネート装置のシール構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01139526U JPH01139526U (ja) | 1989-09-25 |
| JPH0611166Y2 true JPH0611166Y2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=31260161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3348088U Expired - Lifetime JPH0611166Y2 (ja) | 1988-03-14 | 1988-03-14 | 真空ラミネート装置のシール構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0611166Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9034858B2 (en) | 2010-11-30 | 2015-05-19 | Lipocine Inc. | High-strength testosterone undecanoate compositions |
| JP2017080942A (ja) * | 2015-10-26 | 2017-05-18 | 京セラ株式会社 | ラミネーター装置 |
| JP7845043B2 (ja) * | 2022-05-23 | 2026-04-14 | 新東工業株式会社 | 真空シール装置、および真空チェンバ装置 |
-
1988
- 1988-03-14 JP JP3348088U patent/JPH0611166Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01139526U (ja) | 1989-09-25 |
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