JPH06118341A - 走査型投影装置 - Google Patents
走査型投影装置Info
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- JPH06118341A JPH06118341A JP3294525A JP29452591A JPH06118341A JP H06118341 A JPH06118341 A JP H06118341A JP 3294525 A JP3294525 A JP 3294525A JP 29452591 A JP29452591 A JP 29452591A JP H06118341 A JPH06118341 A JP H06118341A
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- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems
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- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/008—Systems specially adapted to form image relays or chained systems
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- G—PHYSICS
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- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 広いフィールドを有し、高解像力で投影する
屈折光学系の走査型投影装置を提供することである。 【構成】被投影物を所定の走査幅で走査することによっ
て投影する走査型投影装置であって、被投影物を上記走
査幅の中心線上に中心を有する円弧状領域に照明する照
明部と、光軸上に中心を有する円弧状領域の収差が補正
され、上記照明部によって円弧状に照明された被投影物
の像を像面内に形成する屈折投影光学系と、上記被投影
物及び上記像面に配置された受光部材と、上記照明部及
び上記投影光学部とを相対的に移動させる駆動装置とを
有する走査型投影装置である。
屈折光学系の走査型投影装置を提供することである。 【構成】被投影物を所定の走査幅で走査することによっ
て投影する走査型投影装置であって、被投影物を上記走
査幅の中心線上に中心を有する円弧状領域に照明する照
明部と、光軸上に中心を有する円弧状領域の収差が補正
され、上記照明部によって円弧状に照明された被投影物
の像を像面内に形成する屈折投影光学系と、上記被投影
物及び上記像面に配置された受光部材と、上記照明部及
び上記投影光学部とを相対的に移動させる駆動装置とを
有する走査型投影装置である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、広いフィールドを有
し、高解像力で投影する走査型投影装置に関する。
し、高解像力で投影する走査型投影装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の高解像力で投影する投影装置とし
て、レンズ光学系を使用して小分割された受光物体に順
次投影して露光するステッパーが知られている。該ステ
ッパーは、縮小・拡大が可能であり、また開口率ＮＡを
大きくすることができる。しかし、この光学系において
広いフィールドを確保しようとすると、投影倍率が１倍
となり、また軸外収差が発生するがこれを補正すること
が困難であり、例えばラップトップ型ワードプロセッサ
に使用する３００×２１０平方センチメートルのＬＣＤ
（液晶表示器）の露光装置に適さないという問題があ
る。
て、レンズ光学系を使用して小分割された受光物体に順
次投影して露光するステッパーが知られている。該ステ
ッパーは、縮小・拡大が可能であり、また開口率ＮＡを
大きくすることができる。しかし、この光学系において
広いフィールドを確保しようとすると、投影倍率が１倍
となり、また軸外収差が発生するがこれを補正すること
が困難であり、例えばラップトップ型ワードプロセッサ
に使用する３００×２１０平方センチメートルのＬＣＤ
（液晶表示器）の露光装置に適さないという問題があ
る。
【０００３】従来の高解像力で投影する投影装置の他の
例として、特公昭５７ー５１０８３号公報に開示されて
いるものであって、図７に示すように、凹面鏡１００
と、凸面鏡１０２を対向して配置してなる走査型のもの
が知られている。この光学系においては、被投影物と結
像位置を光軸１０４を中心とする対称位置に配置し、光
軸１０４を中心とする環状部分に収差が補正された収差
補正領域１０６ができる。投影に使用する光束は、被投
影物と結像位置の近傍に配置されたマスク（図示せず）
によって限定された収差補正領域１０６を通過する光束
のみである。走査は、被投影物と結像位置に配置される
感光材料とを各矢印方向に同期させて移動させて行う。
例として、特公昭５７ー５１０８３号公報に開示されて
いるものであって、図７に示すように、凹面鏡１００
と、凸面鏡１０２を対向して配置してなる走査型のもの
が知られている。この光学系においては、被投影物と結
像位置を光軸１０４を中心とする対称位置に配置し、光
軸１０４を中心とする環状部分に収差が補正された収差
補正領域１０６ができる。投影に使用する光束は、被投
影物と結像位置の近傍に配置されたマスク（図示せず）
によって限定された収差補正領域１０６を通過する光束
のみである。走査は、被投影物と結像位置に配置される
感光材料とを各矢印方向に同期させて移動させて行う。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】広いフィールドを有す
る走査型投影装置の光学系は、レンズ光学系であっても
反射光学系であっても、大型になる。一方、光学部材
は、大型化すると自重や保持手段によって精度の低下は
避けられない。光学部材の歪みの最大値をＰｖとすると
き、このＰｖによって発生する収差への影響は、 反射光学系の反射面の歪みにおいては、 ２×Ｐｖ レンズ光学系の屈折面の歪みにおいては、（ｎー１）×
Ｐｖ となる。ここで、ｎはレンズ光学系のレンズの屈折率で
あり、一般的にｎ＝１．５であるから、屈折レンズ光学
系の上記値は（０．５×Ｐｖ）となる。従って、光学部
材の歪みによる収差に対する影響が同一となるようにす
ると、反射面の加工精度・保持精度は、屈折面のそれの
４倍高くしなければならないこととなる。この理由によ
って、広いフィールドを有する走査型投影装置の光学系
は、屈折レンズ光学系であることが望ましい。
る走査型投影装置の光学系は、レンズ光学系であっても
反射光学系であっても、大型になる。一方、光学部材
は、大型化すると自重や保持手段によって精度の低下は
避けられない。光学部材の歪みの最大値をＰｖとすると
き、このＰｖによって発生する収差への影響は、 反射光学系の反射面の歪みにおいては、 ２×Ｐｖ レンズ光学系の屈折面の歪みにおいては、（ｎー１）×
Ｐｖ となる。ここで、ｎはレンズ光学系のレンズの屈折率で
あり、一般的にｎ＝１．５であるから、屈折レンズ光学
系の上記値は（０．５×Ｐｖ）となる。従って、光学部
材の歪みによる収差に対する影響が同一となるようにす
ると、反射面の加工精度・保持精度は、屈折面のそれの
４倍高くしなければならないこととなる。この理由によ
って、広いフィールドを有する走査型投影装置の光学系
は、屈折レンズ光学系であることが望ましい。
【０００５】また、広いフィールドを有する走査型投影
装置をＬＣＤ（液晶表示器）の露光装置として使用する
場合、使用するマスクは、製造コストの高いものであ
り、小さいものであることが望ましい。さらに、走査型
投影装置の光学系の解像力を考える場合、開口率ＮＡを
大きくすることが望ましい。図７に示す従来の光学系に
おいては、凸面鏡１０２の周囲を通過する光束と凸面鏡
１０２に入射して反射される光束とが干渉して開口率Ｎ
Ａを大きくすることができない。
装置をＬＣＤ（液晶表示器）の露光装置として使用する
場合、使用するマスクは、製造コストの高いものであ
り、小さいものであることが望ましい。さらに、走査型
投影装置の光学系の解像力を考える場合、開口率ＮＡを
大きくすることが望ましい。図７に示す従来の光学系に
おいては、凸面鏡１０２の周囲を通過する光束と凸面鏡
１０２に入射して反射される光束とが干渉して開口率Ｎ
Ａを大きくすることができない。
【０００６】
【発明の構成】上記課題を解決する本発明の走査型投影
装置の構成は、被投影物を所定の走査幅で走査すること
によって投影する走査型投影装置において、被投影物を
上記走査幅の中心線上に中心を有する円弧状領域に照明
する照明部と、光軸上に中心を有する円弧状領域の収差
が補正され、上記照明部によって円弧状に照明された被
投影物の像を像面内に形成する投影光学系と、上記被投
影物及び上記像面に配置された受光部材と、上記照明部
及び上記投影光学部とを相対的に移動させる駆動装置と
を有することである。
装置の構成は、被投影物を所定の走査幅で走査すること
によって投影する走査型投影装置において、被投影物を
上記走査幅の中心線上に中心を有する円弧状領域に照明
する照明部と、光軸上に中心を有する円弧状領域の収差
が補正され、上記照明部によって円弧状に照明された被
投影物の像を像面内に形成する投影光学系と、上記被投
影物及び上記像面に配置された受光部材と、上記照明部
及び上記投影光学部とを相対的に移動させる駆動装置と
を有することである。
【０００７】
【発明の効果】本発明によれば、走査型投影装置に包含
される光学系は、反射光学系ではなく、屈折光学系であ
るレンズ光学系であり、屈折面の加工精度・保持精度を
低くしても高い投影精度をえることができる利点を有す
る。また、投影倍率を容易に１以上に高くすることがで
きるから、製造コストの高い照明部のマスクを小型にす
ることができる利点を有する。さらに、開口率ＮＡを大
きくし、走査型投影装置の光学系の解像力を高くするこ
とができる利点を有する。
される光学系は、反射光学系ではなく、屈折光学系であ
るレンズ光学系であり、屈折面の加工精度・保持精度を
低くしても高い投影精度をえることができる利点を有す
る。また、投影倍率を容易に１以上に高くすることがで
きるから、製造コストの高い照明部のマスクを小型にす
ることができる利点を有する。さらに、開口率ＮＡを大
きくし、走査型投影装置の光学系の解像力を高くするこ
とができる利点を有する。
【０００８】
【実施例】以下に、本発明の実施例の走査型投影装置を
説明する。第１実施例の走査型投影装置は、図１に示す
ように、７群、すなわちレンズ６枚の屈折レンズ系及び
反射鏡１枚からなり、該反射鏡上に、すなわち屈折レン
ズ像の焦点位置に絞りが配置される。これによって、被
投影物側及び像側においてテセントリック光学系とな
り、倍率デイストーション等の影響を減少させている。
被投影物は光軸を中心とする円弧状領域に照明され、結
像位置では実質上光軸を中心とする円弧状領域だけが投
影光束として使用される。走査は、被投影物と結像位置
に配置された受光部材とを同期させて移動させて行う。
レンズ系の光学データは以下の通りである。 光学部材 曲率半径 厚さ（間隔） 屈折率 Ｌ１ − 1021.7 71.1 1.67 − 419.3 60.7 Ｌ２ − 8053.2 50.1 1.52 − 1784.8 2.8 Ｌ３ ＋ 252.0 79.5 1.73 ＋ 2313.8 17.5 Ｌ４ ＋ 5463.7 28.4 1.75 ＋ 221.7 17.5 Ｌ５ ＋ 402.4 26.2 1.73 ＋ 4340.8 0.4 Ｌ６ ＋ 189.7 55.8 1.74 ＋ 149.5 100.0 Ｍ ∞ 被投影物Ｏ及び結像面１０に投影される収差補正がなさ
れた領域の幅Ｗ（スリットの幅）は４．０mm、その弦長
ｂは３１０mmである。第１実施例の開口率ＮＡは０．１
２、解像力は２．９μｍＬ／Ｓ、フィールドは（３１０
×Ｄ）mm（Ｄ：スキャン長さ）、波長はｇーline（４３
６nm）である。
説明する。第１実施例の走査型投影装置は、図１に示す
ように、７群、すなわちレンズ６枚の屈折レンズ系及び
反射鏡１枚からなり、該反射鏡上に、すなわち屈折レン
ズ像の焦点位置に絞りが配置される。これによって、被
投影物側及び像側においてテセントリック光学系とな
り、倍率デイストーション等の影響を減少させている。
被投影物は光軸を中心とする円弧状領域に照明され、結
像位置では実質上光軸を中心とする円弧状領域だけが投
影光束として使用される。走査は、被投影物と結像位置
に配置された受光部材とを同期させて移動させて行う。
レンズ系の光学データは以下の通りである。 光学部材 曲率半径 厚さ（間隔） 屈折率 Ｌ１ − 1021.7 71.1 1.67 − 419.3 60.7 Ｌ２ − 8053.2 50.1 1.52 − 1784.8 2.8 Ｌ３ ＋ 252.0 79.5 1.73 ＋ 2313.8 17.5 Ｌ４ ＋ 5463.7 28.4 1.75 ＋ 221.7 17.5 Ｌ５ ＋ 402.4 26.2 1.73 ＋ 4340.8 0.4 Ｌ６ ＋ 189.7 55.8 1.74 ＋ 149.5 100.0 Ｍ ∞ 被投影物Ｏ及び結像面１０に投影される収差補正がなさ
れた領域の幅Ｗ（スリットの幅）は４．０mm、その弦長
ｂは３１０mmである。第１実施例の開口率ＮＡは０．１
２、解像力は２．９μｍＬ／Ｓ、フィールドは（３１０
×Ｄ）mm（Ｄ：スキャン長さ）、波長はｇーline（４３
６nm）である。
【０００９】物像面１２上の被投影物Ｏからの光束は、
レンズ系ＬすなわちレンズＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ
５、Ｌ６を通過後、反射鏡Ｍ７によって反射され、レン
ズＬ６、Ｌ５、Ｌ４、Ｌ３、Ｌ２、Ｌ１を通過して結像
面１０に達する。第１実施例の光学系の像の倒れ量を示
す像面湾曲収差は、図２に示すように、横軸に収差量、
縦軸に光軸からの距離を取ると、円弧状スリットのスリ
ット幅Ｗにおける像面位置は収差Ｏを示す縦軸からずれ
るが、このずれたスリット幅Ｗの部分の結像のみが使用
され、この結像位置と物像面を一致させるので、像面湾
曲収差による像の不鮮明化は生じない。なお、非点収差
はＯに補正されている。
レンズ系ＬすなわちレンズＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ
５、Ｌ６を通過後、反射鏡Ｍ７によって反射され、レン
ズＬ６、Ｌ５、Ｌ４、Ｌ３、Ｌ２、Ｌ１を通過して結像
面１０に達する。第１実施例の光学系の像の倒れ量を示
す像面湾曲収差は、図２に示すように、横軸に収差量、
縦軸に光軸からの距離を取ると、円弧状スリットのスリ
ット幅Ｗにおける像面位置は収差Ｏを示す縦軸からずれ
るが、このずれたスリット幅Ｗの部分の結像のみが使用
され、この結像位置と物像面を一致させるので、像面湾
曲収差による像の不鮮明化は生じない。なお、非点収差
はＯに補正されている。
【００１０】第２実施例の走査型投影装置は、図３に示
すが、第１実施例と共通の構成については共通の符号を
付してその説明を省略する。第２実施例は、被投影物Ｏ
及び結像面１０が、反射鏡ＭＯを介して互いに平行に、
かつレンズ系Ｌの光軸を中心に対称に配置されている。
被投影物Ｏの上方には、投影レンズ２０、スリット板２
２、コンデンサーレンズ２４、及び光源２６が順次配置
されている。被投影物Ｏとスリット板２２とは、投影レ
ンズ２０に関して共役である。被投影物Ｏ及び結像面１
０の受光部材Ｓ（図３には図示せず、図４に示す）は、
図３に示す矢印方向に両者を同期して移動させる駆動装
置２８に連結されている。
すが、第１実施例と共通の構成については共通の符号を
付してその説明を省略する。第２実施例は、被投影物Ｏ
及び結像面１０が、反射鏡ＭＯを介して互いに平行に、
かつレンズ系Ｌの光軸を中心に対称に配置されている。
被投影物Ｏの上方には、投影レンズ２０、スリット板２
２、コンデンサーレンズ２４、及び光源２６が順次配置
されている。被投影物Ｏとスリット板２２とは、投影レ
ンズ２０に関して共役である。被投影物Ｏ及び結像面１
０の受光部材Ｓ（図３には図示せず、図４に示す）は、
図３に示す矢印方向に両者を同期して移動させる駆動装
置２８に連結されている。
【００１１】すなわち、被投影物Ｏ及び受光部材Ｓは、
図４に示すように、スリット板２２に形成された９０°
の円弧状のスリット２３に対し、ＯＰ１からＯＰ２の位
置に移動させられることによって走査がなされる。第３
実施例の走査型投影装置は、図５に示すが、第１実施例
及び第２実施例と共通の構成については共通の符号を付
してその説明を省略する。第３実施例は、焦点距離ｆ1
のレンズ系ＬＬ１及び焦点距離ｆ2 のレンズ系ＬＬ２を
対向させて配置する。レンズ系ＬＬ１の入射側には直角
プリズムＰ１が配置され、レンズ系ＬＬ２の射出側には
直角プリズムＰ２が配置されている。被投影物Ｏ１の像
が結像面１２１に形成され、被投影物Ｏ２の像が結像面
１２２に形成される。第３実施例においては、投影倍率
が（ｆ1 ／ｆ2 ）であり、拡大及び縮小が可能な光学系
であって、同一の光学系を同時に二つの投影光学系とし
て使用でき、一度に２枚の転写が可能であるという利点
を有する。
図４に示すように、スリット板２２に形成された９０°
の円弧状のスリット２３に対し、ＯＰ１からＯＰ２の位
置に移動させられることによって走査がなされる。第３
実施例の走査型投影装置は、図５に示すが、第１実施例
及び第２実施例と共通の構成については共通の符号を付
してその説明を省略する。第３実施例は、焦点距離ｆ1
のレンズ系ＬＬ１及び焦点距離ｆ2 のレンズ系ＬＬ２を
対向させて配置する。レンズ系ＬＬ１の入射側には直角
プリズムＰ１が配置され、レンズ系ＬＬ２の射出側には
直角プリズムＰ２が配置されている。被投影物Ｏ１の像
が結像面１２１に形成され、被投影物Ｏ２の像が結像面
１２２に形成される。第３実施例においては、投影倍率
が（ｆ1 ／ｆ2 ）であり、拡大及び縮小が可能な光学系
であって、同一の光学系を同時に二つの投影光学系とし
て使用でき、一度に２枚の転写が可能であるという利点
を有する。
【００１２】次に、レンズ系からなる本発明の走査型投
影装置が、反射光学系の走査型投影装置に比較して小型
であることについて説明する。本発明の走査型投影装置
が、図６に示すように、レンズ系Ｌと反射鏡Ｍからな
り、レンズの最大外径が５６０mm、被投影物及び結像位
置の光軸からの高さが２１９mm、結像面から反射鏡Ｍの
反射面までの距離を８２５mmとする。開口率ＮＡ（ sin
Φ）は０．１２である。
影装置が、反射光学系の走査型投影装置に比較して小型
であることについて説明する。本発明の走査型投影装置
が、図６に示すように、レンズ系Ｌと反射鏡Ｍからな
り、レンズの最大外径が５６０mm、被投影物及び結像位
置の光軸からの高さが２１９mm、結像面から反射鏡Ｍの
反射面までの距離を８２５mmとする。開口率ＮＡ（ sin
Φ）は０．１２である。
【００１３】一方、上記の光学性能を有する反射光学系
は、スリット幅を４mmとした場合、図６に示すように、
物像面１２と反射鏡ＭＸの反射面との間隔、すなわち反
射鏡ＭＸの曲率半径は１８００mmが必要となり、また反
射鏡ＭＸにおける光軸の高さｈが２１９mm、光束の幅が
（２×２１６）mmとなる。従って反射鏡ＭＸの半径は４
３５mm以上でなければならない。このように、反射光学
系の走査型投影装置に比較して、レンズ系からなる本発
明の走査型投影装置はきわめて小型であるということが
できる。
は、スリット幅を４mmとした場合、図６に示すように、
物像面１２と反射鏡ＭＸの反射面との間隔、すなわち反
射鏡ＭＸの曲率半径は１８００mmが必要となり、また反
射鏡ＭＸにおける光軸の高さｈが２１９mm、光束の幅が
（２×２１６）mmとなる。従って反射鏡ＭＸの半径は４
３５mm以上でなければならない。このように、反射光学
系の走査型投影装置に比較して、レンズ系からなる本発
明の走査型投影装置はきわめて小型であるということが
できる。
【００１４】上記実施例では、主にＬＣＤを製造するた
めの開口率ＮＡが小さくフィールドの広い投影光学系で
あったが、本発明はこれに限定されることなく開口率Ｎ
Ａが大きくフィールドの広い投影光学系、例えば開口率
ＮＡ＝０．６、フィールド径が２５ないし３０mm、λ＝
２４８nmの光学系を要求される半導体製造分野の投影光
学装置にも有効に適用できる。
めの開口率ＮＡが小さくフィールドの広い投影光学系で
あったが、本発明はこれに限定されることなく開口率Ｎ
Ａが大きくフィールドの広い投影光学系、例えば開口率
ＮＡ＝０．６、フィールド径が２５ないし３０mm、λ＝
２４８nmの光学系を要求される半導体製造分野の投影光
学装置にも有効に適用できる。
【図１】本発明の第１実施例の光学図である。
【図２】本発明の第１実施例の収差図である。
【図３】本発明の第２実施例の光学図である。
【図４】本発明の第２実施例の走査の説明図である。
【図５】本発明の第３実施例の光学図である。
【図６】従来の反射型走査型投影装置と本発明の走査型
投影装置との寸法を比較するための説明図である。
投影装置との寸法を比較するための説明図である。
【図７】従来の反射型走査型投影装置の光学図でる。
Ｏ 被投影物 Ｌ レンズ系 Ｓ 受光物体 Ｗ スリット幅 １０ 結像面 １２ 物像面 Ｍ７ 反射鏡 ２０ 投影レンズ ２２ スリット板 ２４ コンデンサーレンズ ２６ 光源２６ ２８ 駆動装置
Claims (6)
- 【請求項１】 被投影物を所定の走査幅で走査すること
によって投影する走査型投影装置において、 被投影物を上記走査幅の中心線上に中心を有する円弧状
領域に照明する照明部と、 光軸上に中心を有する円弧状領域の収差が補正され、上
記照明部によって円弧状に照明された被投影物の像を像
面内に形成する屈折投影光学系と、 上記被投影物及び上記像面に配置された受光部材と、上
記照明部及び上記投影光学部とを相対的に移動させる駆
動装置とを有することを特徴とする走査型投影装置。 - 【請求項２】 上記屈折投影光学系が、被投影物側及び
像側においてテレセントリック光学系である請求項１記
載の走査型投影装置。 - 【請求項３】 上記屈折投影光学系が、第１屈折投影レ
ンズ系と、第２屈折投影レンズ系とを対向させて配置し
て構成されていることを特徴とする請求項１記載の走査
型投影装置。 - 【請求項４】 上記第１屈折投影レンズ系の焦点距離
と、上記第２屈折投影レンズ系の焦点距離とが異なって
いることを特徴とする請求項２記載の走査型投影装置。 - 【請求項５】 上記屈折投影光学系が、その瞳位置に配
置された平面ミラーを有し、投影光束が同一屈折投影レ
ンズ系を二度通過することを特徴とする請求項１記載の
走査型投影装置。 - 【請求項６】 上記屈折投影光学系において、第１投影
光束と第２投影光束を光軸に関し対称に入射させること
を特徴とする請求項２記載の走査型投影装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3294525A JPH06118341A (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 走査型投影装置 |
| US07/974,272 US5369521A (en) | 1991-11-11 | 1992-11-10 | Scanning type projector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3294525A JPH06118341A (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 走査型投影装置 |
Publications (1)
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|---|---|
| JPH06118341A true JPH06118341A (ja) | 1994-04-28 |
Family
ID=17808915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3294525A Pending JPH06118341A (ja) | 1991-11-11 | 1991-11-11 | 走査型投影装置 |
Country Status (2)
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| JP (1) | JPH06118341A (ja) |
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