JPH06118417A - 光学変調素子及びその製造法 - Google Patents
光学変調素子及びその製造法Info
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- JPH06118417A JPH06118417A JP7685693A JP7685693A JPH06118417A JP H06118417 A JPH06118417 A JP H06118417A JP 7685693 A JP7685693 A JP 7685693A JP 7685693 A JP7685693 A JP 7685693A JP H06118417 A JPH06118417 A JP H06118417A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 広い面積にわたって高密度画素をもつ表示パ
ネルを簡易に作成し、また駆動するに適した光学変調素
子、とくに階調表示に適した光学変調素子を提供する。 【構成】 相対向する第1の電極(32)及び第2の電
極(35)と、それらの電極の間に配置した光学変調物
質とを有する画素を2次元状に配列した光学変調素子に
おいて、光学変調物質を配向させる配向規制力が前記画
素内で互いに相違した領域(101、102)を有して
いることを特徴とする。
ネルを簡易に作成し、また駆動するに適した光学変調素
子、とくに階調表示に適した光学変調素子を提供する。 【構成】 相対向する第1の電極(32)及び第2の電
極(35)と、それらの電極の間に配置した光学変調物
質とを有する画素を2次元状に配列した光学変調素子に
おいて、光学変調物質を配向させる配向規制力が前記画
素内で互いに相違した領域(101、102)を有して
いることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表示パネルのための光
学変調素子に関し、特に少なくとも2つの安定状態を持
つ液晶、たとえば強誘電性液晶を用いた表示パネルに関
する。
学変調素子に関し、特に少なくとも2つの安定状態を持
つ液晶、たとえば強誘電性液晶を用いた表示パネルに関
する。
【0002】
【従来の技術】従来のアクティブマトリクス駆動方式を
用いた液晶テレビジョンパネルでは、薄膜トランジスタ
(TFT)を画素毎のマトリクス配置し、TFTにゲー
トオンパルスを印加してソースとドレイン間を導通状態
とし、このとき映像画像信号がソースから印加され、キ
ャパシタに蓄積され、この蓄積された画像信号に対応し
て液晶(例えばツイステッドネマティック:TN液晶)
が駆動し、同時に映像信号の電圧を変調することによっ
て階調表示が行われている。
用いた液晶テレビジョンパネルでは、薄膜トランジスタ
(TFT)を画素毎のマトリクス配置し、TFTにゲー
トオンパルスを印加してソースとドレイン間を導通状態
とし、このとき映像画像信号がソースから印加され、キ
ャパシタに蓄積され、この蓄積された画像信号に対応し
て液晶(例えばツイステッドネマティック:TN液晶)
が駆動し、同時に映像信号の電圧を変調することによっ
て階調表示が行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このようなT
N液晶を用いたアクティブマトリクス駆動方式のテレビ
ジョンパネルでは、使用するTFTが複雑な構造を有し
ているため、構造工程数が多く、高い製造コストがネッ
クとなっているうえに、TFTを構成している薄膜半導
体(例えば、ポリシリコン、アモルファスシリコン)を
広い面積に亘って被膜形成することが難しいなどの問題
点がある。
N液晶を用いたアクティブマトリクス駆動方式のテレビ
ジョンパネルでは、使用するTFTが複雑な構造を有し
ているため、構造工程数が多く、高い製造コストがネッ
クとなっているうえに、TFTを構成している薄膜半導
体(例えば、ポリシリコン、アモルファスシリコン)を
広い面積に亘って被膜形成することが難しいなどの問題
点がある。
【0004】一方、低い製造コストで製造できるものと
してTN液晶を用いたパッシブマトリクス駆動方式の表
示パネルが知られているが、この表示パネルでは走査線
(N)が増大するに従って、1画面(1フレーム)を走
査する間に一つの選択点に有効な電界が印加されている
時間(デューティー比)が1/Nの割合で減少し、この
ためクロストークが発生し、しかも高コントラストの画
像とならないなどの欠点を有している上、デューティー
比が低くなると各画素の階調を電圧変調により制御する
ことが難しくなるなど、高密度配線数の表示パネル、特
に液晶テレビジョンパネルには適していない。
してTN液晶を用いたパッシブマトリクス駆動方式の表
示パネルが知られているが、この表示パネルでは走査線
(N)が増大するに従って、1画面(1フレーム)を走
査する間に一つの選択点に有効な電界が印加されている
時間(デューティー比)が1/Nの割合で減少し、この
ためクロストークが発生し、しかも高コントラストの画
像とならないなどの欠点を有している上、デューティー
比が低くなると各画素の階調を電圧変調により制御する
ことが難しくなるなど、高密度配線数の表示パネル、特
に液晶テレビジョンパネルには適していない。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、前述の
欠点を解消したもので、詳しくは広い面積にわたって高
密度画素をもつ表示パネルを簡易に作成し、また駆動す
るに適した光学変調素子を提供することにある、また、
とくに階調表示に適した光学変調素子を提供することに
ある。
欠点を解消したもので、詳しくは広い面積にわたって高
密度画素をもつ表示パネルを簡易に作成し、また駆動す
るに適した光学変調素子を提供することにある、また、
とくに階調表示に適した光学変調素子を提供することに
ある。
【0006】本発明は、相対向する第1の電極及び第2
の電極と、第1の電極と第2の電極との間に配置した光
学変調物質とを有する画素を2次元状に配列した光学変
調素子において、光学変調物質を配向させる配向規制力
が前記画素内で互いに相違した領域を有している光学変
調素子に特徴を有している。更に、付加的に階調に応じ
た波高値のパルス信号あるいは階調に応じたパルス幅又
はパルス数のパルス信号を印加し、画素内で階調性を表
現することができる光学変調素子を提供することができ
る。
の電極と、第1の電極と第2の電極との間に配置した光
学変調物質とを有する画素を2次元状に配列した光学変
調素子において、光学変調物質を配向させる配向規制力
が前記画素内で互いに相違した領域を有している光学変
調素子に特徴を有している。更に、付加的に階調に応じ
た波高値のパルス信号あるいは階調に応じたパルス幅又
はパルス数のパルス信号を印加し、画素内で階調性を表
現することができる光学変調素子を提供することができ
る。
【0007】
【実施例】以下、本発明を図面に従って説明する。本発
明で用いうる光学変調物質としては、加えられる電界に
応じて第1の光学的安定状態(例えば明状態を形成する
ものとする)と第2の光学的安定状態(例えば暗状態を
形成するものとする)を有するすなわち電界に対する少
なくとも2つの安定状態を有する物質、とくにこのよう
な性質を有する液晶が最適である。
明で用いうる光学変調物質としては、加えられる電界に
応じて第1の光学的安定状態(例えば明状態を形成する
ものとする)と第2の光学的安定状態(例えば暗状態を
形成するものとする)を有するすなわち電界に対する少
なくとも2つの安定状態を有する物質、とくにこのよう
な性質を有する液晶が最適である。
【0008】本発明の光学変調素子でもちいることがで
きる、少なくとも2つの安定状態を有する液晶として
は、カイラルスメクティック液晶が最も好ましく、その
うちカイラルスメクティクC相(SmC*),H相(S
mH*),I相(SmI*),F相(SmF*)やG相
(SmG*)の液晶が適している。この強誘電性液晶に
ついては、 “ル・ジュルナール・ド・フィジック・レットル”
(“LE JOURNALDE PHYSIQUE L
ETTRE”)第36巻(L−69)1975年の「フ
ェロエレクトリック・リキッド・クリスタルス」(「F
erroelectric Liquid Cryst
als」): “アプライド・フィジックス・レターズ”(“Appl
ied Physics Letters”)第36
巻、第11号、1980年の「サブミクロ・セカンド・
バイスティブル・エレクトロオプティック・スイッチン
グ・イン・リキッド・クリスタルス」(「Submic
ro Second BistableElectro
optic Switching in Liquid
Crystals」): “固体物理16(141)1981「液晶」 などに記載されており、本発明ではこれらに開示された
強誘電性液晶をもちいることができる。
きる、少なくとも2つの安定状態を有する液晶として
は、カイラルスメクティック液晶が最も好ましく、その
うちカイラルスメクティクC相(SmC*),H相(S
mH*),I相(SmI*),F相(SmF*)やG相
(SmG*)の液晶が適している。この強誘電性液晶に
ついては、 “ル・ジュルナール・ド・フィジック・レットル”
(“LE JOURNALDE PHYSIQUE L
ETTRE”)第36巻(L−69)1975年の「フ
ェロエレクトリック・リキッド・クリスタルス」(「F
erroelectric Liquid Cryst
als」): “アプライド・フィジックス・レターズ”(“Appl
ied Physics Letters”)第36
巻、第11号、1980年の「サブミクロ・セカンド・
バイスティブル・エレクトロオプティック・スイッチン
グ・イン・リキッド・クリスタルス」(「Submic
ro Second BistableElectro
optic Switching in Liquid
Crystals」): “固体物理16(141)1981「液晶」 などに記載されており、本発明ではこれらに開示された
強誘電性液晶をもちいることができる。
【0009】より具体的には、本発明に用いられる強誘
電性液晶化合物の例としては、デシロキシベンジリデン
−P’−アミノ−2−メチルブチルシンナメート(DO
BAMBC),ヘキシルオキシベンジリデン−P’−ア
ミノ−2−クロロプロピルシンナメート(HOBACP
C)および4−0−(2−メチル)−ブチルレゾルシリ
デン−4’−オクチルアニリン(MBRA8)などが挙
げられる。
電性液晶化合物の例としては、デシロキシベンジリデン
−P’−アミノ−2−メチルブチルシンナメート(DO
BAMBC),ヘキシルオキシベンジリデン−P’−ア
ミノ−2−クロロプロピルシンナメート(HOBACP
C)および4−0−(2−メチル)−ブチルレゾルシリ
デン−4’−オクチルアニリン(MBRA8)などが挙
げられる。
【0010】これらの材料を用いて、素子を構成する場
合、液晶化合物が、SmC*,SmH*,SmI*,S
mF*,SmG*となるような温度状態に保持するた
め、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれた銅ブロ
ック等により支持することができる。
合、液晶化合物が、SmC*,SmH*,SmI*,S
mF*,SmG*となるような温度状態に保持するた
め、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれた銅ブロ
ック等により支持することができる。
【0011】図1は、強誘電性液晶セルの例を模式的に
描いたものである。11と11’は、In2 O3 ,Sn
O2 やITO(インジウム−ティン−オキサイド)等の
透明電極がコートされた基板(ガラス板)であり、その
間に液晶分子層12がガラス面に垂直になるよう配向し
たSmC*相の液晶が封入されている。太線で示した線
13が液晶分子を表しており、この液晶分子13は、そ
の分子に直交した方向に双極子モーメント(P⊥)14
を有している。基板11と11’状の電極間に一定の閾
値以上の電圧を印加すると、液晶分子13のらせん構造
がほどけ、双極子モーメント(P⊥)14はすべて電界
方向に向くよう、液晶分子13の配向方向を変えること
ができる。液晶分子13は細長い形状を有しており、そ
の長軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例
えばガラス面上下に互いにクロスニコルの位置関係に配
置した偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性
が変わる液晶光学変調素子となることは、容易に理解さ
れる。
描いたものである。11と11’は、In2 O3 ,Sn
O2 やITO(インジウム−ティン−オキサイド)等の
透明電極がコートされた基板(ガラス板)であり、その
間に液晶分子層12がガラス面に垂直になるよう配向し
たSmC*相の液晶が封入されている。太線で示した線
13が液晶分子を表しており、この液晶分子13は、そ
の分子に直交した方向に双極子モーメント(P⊥)14
を有している。基板11と11’状の電極間に一定の閾
値以上の電圧を印加すると、液晶分子13のらせん構造
がほどけ、双極子モーメント(P⊥)14はすべて電界
方向に向くよう、液晶分子13の配向方向を変えること
ができる。液晶分子13は細長い形状を有しており、そ
の長軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例
えばガラス面上下に互いにクロスニコルの位置関係に配
置した偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性
が変わる液晶光学変調素子となることは、容易に理解さ
れる。
【0012】さらに液晶セルの厚さを充分に薄くした場
合(例えば1ミクロン)には、図1に示すように電界を
印加していない状態でも液晶分子のらせん構造はほどけ
(非らせん構造)、その双極子モーメントPまたはP’
は上向き(24)又は下向き(24’)のどちらかの配
向状態をとる。このようなセルに第2図に示す如く一定
の閾値以上の極性の異なる電界E又はE’を付与する
と、双極子モーメント電界EまたはE’をの電界ベクト
ルに対応して上向き(24)又は下向き(24’)とそ
の向きを変え、それに応じて液晶分子は第1の安定状態
23(明状態)かあるいは第2の安定状態23’(暗状
態)の何れか一方に配向する。
合(例えば1ミクロン)には、図1に示すように電界を
印加していない状態でも液晶分子のらせん構造はほどけ
(非らせん構造)、その双極子モーメントPまたはP’
は上向き(24)又は下向き(24’)のどちらかの配
向状態をとる。このようなセルに第2図に示す如く一定
の閾値以上の極性の異なる電界E又はE’を付与する
と、双極子モーメント電界EまたはE’をの電界ベクト
ルに対応して上向き(24)又は下向き(24’)とそ
の向きを変え、それに応じて液晶分子は第1の安定状態
23(明状態)かあるいは第2の安定状態23’(暗状
態)の何れか一方に配向する。
【0013】このような強誘電性液晶を光学変調素子と
して用いることの利点は2つある。第1に応答速度が極
めて早いことであり、第2に液晶分子の配向が双安定性
を有することである。第2の点を例えば図2によって説
明すると、電界Eを印加すると液晶分子は第1の安定状
態23に配向するが、この状態は電界を切ってもこの第
1の安定状態23が維持され、又、逆向きの電界E’を
印加すると、液晶分子は第2の安定状態23’に配向し
てその分子の向きを変えるが、やはり電界を切ってもこ
の状態に保ち、それぞれの安定状態でメモリー機能を有
している。
して用いることの利点は2つある。第1に応答速度が極
めて早いことであり、第2に液晶分子の配向が双安定性
を有することである。第2の点を例えば図2によって説
明すると、電界Eを印加すると液晶分子は第1の安定状
態23に配向するが、この状態は電界を切ってもこの第
1の安定状態23が維持され、又、逆向きの電界E’を
印加すると、液晶分子は第2の安定状態23’に配向し
てその分子の向きを変えるが、やはり電界を切ってもこ
の状態に保ち、それぞれの安定状態でメモリー機能を有
している。
【0014】このような応答速度の早さと、双安定性が
有効に実現されるには、セルとしては出来るだけ薄い方
が好ましいく、一般的には0.5μm乃至20μm特に
1μm乃至5μmが適している。
有効に実現されるには、セルとしては出来るだけ薄い方
が好ましいく、一般的には0.5μm乃至20μm特に
1μm乃至5μmが適している。
【0015】この種の強誘電性液晶を用いたマトリクス
電極構造を有する液晶−電気光学装置は、例えばクラー
クとラガバルにより、米国特許第4,367,924号
明細書で提案されている。
電極構造を有する液晶−電気光学装置は、例えばクラー
クとラガバルにより、米国特許第4,367,924号
明細書で提案されている。
【0016】次に、本発明における液晶光学素子の詳細
を説明する。図3は本発明の一実施例である。31は一
方の基板であり、ガラスやプラスティクが用いられる。
この基板31の上に、ITO等の第1の電極32及び配
向制御層33が積層されている。これと対向して他方の
基板34が両基板間に光学変調物質1を挟持して配置さ
れる。この基板34の上には第2の電極35と配向制御
層36が積層され、基板31と34との間隔はスペーサ
37によって制御されている。
を説明する。図3は本発明の一実施例である。31は一
方の基板であり、ガラスやプラスティクが用いられる。
この基板31の上に、ITO等の第1の電極32及び配
向制御層33が積層されている。これと対向して他方の
基板34が両基板間に光学変調物質1を挟持して配置さ
れる。この基板34の上には第2の電極35と配向制御
層36が積層され、基板31と34との間隔はスペーサ
37によって制御されている。
【0017】図4は前述の一方の基板31に形成した配
向制御層33の平面図を表している。この配向制御層3
3は、互いに相違した配向規制力の領域、すなわち第1
の配向規制力領域101と第2の配向規制力領域102
とを有し、第1の配向規制力領域101が第2の配向規
制力領域102内に分散状に分布している。従って第1
領域101と第2領域102とは同一方向の一軸性配向
軸(例えばラビング処理軸)を有しているが互いにその
一軸性配向軸の配向規制力が相違している。
向制御層33の平面図を表している。この配向制御層3
3は、互いに相違した配向規制力の領域、すなわち第1
の配向規制力領域101と第2の配向規制力領域102
とを有し、第1の配向規制力領域101が第2の配向規
制力領域102内に分散状に分布している。従って第1
領域101と第2領域102とは同一方向の一軸性配向
軸(例えばラビング処理軸)を有しているが互いにその
一軸性配向軸の配向規制力が相違している。
【0018】前述した配向制御層33を設けた基板31
を得る方法としては、例えばガラスまたはプラスティク
などの基板31上に電極32としてITOなどをスパッ
タリング法により、約3000Å厚で一様に設け、次い
でこの基板31上にポリビニルアルコール水溶液をスピ
ナーまたはディピングにより一様に設け、約180℃で
30分間の熱処理により硬化した約1000〜2000
Å厚のポリビニルアルコール膜(第2の配向規制力領域
102に対応)を形成し、更にこのポリビニルアルコー
ル膜のうえにポリイミド前駆体溶液(例えばピロメリッ
ト配無水物と4、4’−ジアミノジフエニルエーテルと
の縮合体をN−メチルピリドンに溶解した溶液)をスプ
レイ又はメッシュを介して塗工した後、約180℃で1
時間の熱処理により得たポリイミド(第1の配向規制力
領域101に対応)を形成し、更に一軸性配向処理とし
てラビング処理などを施すことによって得る方法があ
る。
を得る方法としては、例えばガラスまたはプラスティク
などの基板31上に電極32としてITOなどをスパッ
タリング法により、約3000Å厚で一様に設け、次い
でこの基板31上にポリビニルアルコール水溶液をスピ
ナーまたはディピングにより一様に設け、約180℃で
30分間の熱処理により硬化した約1000〜2000
Å厚のポリビニルアルコール膜(第2の配向規制力領域
102に対応)を形成し、更にこのポリビニルアルコー
ル膜のうえにポリイミド前駆体溶液(例えばピロメリッ
ト配無水物と4、4’−ジアミノジフエニルエーテルと
の縮合体をN−メチルピリドンに溶解した溶液)をスプ
レイ又はメッシュを介して塗工した後、約180℃で1
時間の熱処理により得たポリイミド(第1の配向規制力
領域101に対応)を形成し、更に一軸性配向処理とし
てラビング処理などを施すことによって得る方法があ
る。
【0019】相違した配向規制力の一軸性配向軸を形成
するには、前述したポリビニルアルコール/ポリイミド
の組み合わせのほかにポリビニルアルコール/ポリアミ
ド、ポリビニルアルコール/シランカップリング剤、ポ
リイミド/ポリアミド、ポリイミド/シランカップリン
グ剤などの異なる有機ポリマー又はモノマーの組み合わ
せを用いることが出来る。又、本発明では、第1の配向
規制力領域101をSiO,SiOなどの無機絶縁物質
の膜で形成し、第2の配向規制力領域102を有機ポリ
マーの膜で形成した組み合わせ、又はその逆の組み合わ
せを用いることができる。
するには、前述したポリビニルアルコール/ポリイミド
の組み合わせのほかにポリビニルアルコール/ポリアミ
ド、ポリビニルアルコール/シランカップリング剤、ポ
リイミド/ポリアミド、ポリイミド/シランカップリン
グ剤などの異なる有機ポリマー又はモノマーの組み合わ
せを用いることが出来る。又、本発明では、第1の配向
規制力領域101をSiO,SiOなどの無機絶縁物質
の膜で形成し、第2の配向規制力領域102を有機ポリ
マーの膜で形成した組み合わせ、又はその逆の組み合わ
せを用いることができる。
【0020】又、本発明では他方の配向制御層36とし
ては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド
やシランカップリング剤で一様に形成した被膜にラビン
グ処理を施したものを用いることができる本発明では、
第1の配向規制力領域101と第2の配向規制力領域1
02における強誘電性液晶に対する一軸性配向規制力が
互いに相違しているため、強誘電性液晶の閾値電圧が第
1の領域101と第2の領域とで相違したものになる。
従って第1の領域101と第2の領域102での反転開
始電圧が相違し、例えば前述のポリビニルアルコール/
ポリイミドの組み合わせでは、第1の領域101に対応
するポリイミドが第2の領域102に対応するポリビニ
ルアルコールと比較して閾値電圧を低くする傾向がある
ため、第1の領域101に反転核を発生することにな
る。
ては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミド
やシランカップリング剤で一様に形成した被膜にラビン
グ処理を施したものを用いることができる本発明では、
第1の配向規制力領域101と第2の配向規制力領域1
02における強誘電性液晶に対する一軸性配向規制力が
互いに相違しているため、強誘電性液晶の閾値電圧が第
1の領域101と第2の領域とで相違したものになる。
従って第1の領域101と第2の領域102での反転開
始電圧が相違し、例えば前述のポリビニルアルコール/
ポリイミドの組み合わせでは、第1の領域101に対応
するポリイミドが第2の領域102に対応するポリビニ
ルアルコールと比較して閾値電圧を低くする傾向がある
ため、第1の領域101に反転核を発生することにな
る。
【0021】本発明の好ましい具体例では、ポリビニル
アルコール/ポリイミドで組み合わせた配向制御膜を用
いた液晶素子に交流を印加することができる。この際に
用いる交流は10Hz〜1KHzで、20V〜200V
程度のもので、ポリビニルアルコールの配向制御膜に対
応している強誘電性液晶をチルト角が大きいユニフォー
ム配向状態とすることが出来る。ユニフォーム配向状態
の強誘電性液晶の閾値電圧はスプレイ配向状態の場合と
比較して低いものとなっているので、スプレイ配向状態
となっているポリイミド膜に対応した強誘電性液晶の閾
値電圧を確実に低いものとすることができる。
アルコール/ポリイミドで組み合わせた配向制御膜を用
いた液晶素子に交流を印加することができる。この際に
用いる交流は10Hz〜1KHzで、20V〜200V
程度のもので、ポリビニルアルコールの配向制御膜に対
応している強誘電性液晶をチルト角が大きいユニフォー
ム配向状態とすることが出来る。ユニフォーム配向状態
の強誘電性液晶の閾値電圧はスプレイ配向状態の場合と
比較して低いものとなっているので、スプレイ配向状態
となっているポリイミド膜に対応した強誘電性液晶の閾
値電圧を確実に低いものとすることができる。
【0022】本明細書で記載の「ユニフォーム配向状
態」とは電圧が印加されていない状態下で、強誘電性液
晶のらせんがほどけ、両基板に隣接する液晶分子の基板
への写影が互いに平行か又は平行に近い交差角で交差し
ている状態を言い、「スプレイ配向状態」とは上述した
両基板への写影が互いに所定の角度で交差した状態を言
う。一般に、ポリビニルアルコールを配向制御膜とした
強誘電性液晶素子に交流を印加すると、ユニフォーム配
向状態になり、ポリイミドを配向制御膜として強誘電性
液晶素子では交流を印加してもユニフォーム配向状態と
はならず、スプレイ配向状態となっている。そして、一
般にはユニフォーム配向状態よりスプレイ配向状態の強
誘電性液晶の方がその閾値電圧が小さい。
態」とは電圧が印加されていない状態下で、強誘電性液
晶のらせんがほどけ、両基板に隣接する液晶分子の基板
への写影が互いに平行か又は平行に近い交差角で交差し
ている状態を言い、「スプレイ配向状態」とは上述した
両基板への写影が互いに所定の角度で交差した状態を言
う。一般に、ポリビニルアルコールを配向制御膜とした
強誘電性液晶素子に交流を印加すると、ユニフォーム配
向状態になり、ポリイミドを配向制御膜として強誘電性
液晶素子では交流を印加してもユニフォーム配向状態と
はならず、スプレイ配向状態となっている。そして、一
般にはユニフォーム配向状態よりスプレイ配向状態の強
誘電性液晶の方がその閾値電圧が小さい。
【0023】図5は前述した強誘電性液晶の一般的なセ
ルにおける電圧印加による分子の反転の様子を模式的に
示す図である。
ルにおける電圧印加による分子の反転の様子を模式的に
示す図である。
【0024】まず、電圧が印加され始めた直後、電圧印
加部分のうち部分的に反転核51が発生する(図5
(a))この後、図5の(b)と(c)に示すように印
加電圧下で時間が経つにつれて前記反転核51を中心に
反転部分が時間が経つに従って次第に広がって反転領域
52が形成される。更に、電圧を印加し続けると、その
殆どが反転し図5の(d)のようになり、最後に前記電
圧印加部分全域が反転するものである。
加部分のうち部分的に反転核51が発生する(図5
(a))この後、図5の(b)と(c)に示すように印
加電圧下で時間が経つにつれて前記反転核51を中心に
反転部分が時間が経つに従って次第に広がって反転領域
52が形成される。更に、電圧を印加し続けると、その
殆どが反転し図5の(d)のようになり、最後に前記電
圧印加部分全域が反転するものである。
【0025】この反転の様子は、例えばオリハラ(Or
ihara)とイシバシ(Ishibashi)による
“スイッチング・キャラクタリスティクス・オブ・フェ
ロエレクトリック・リキッド・クリスタル・ドバンボ
ク”(“SwitchingCheracterist
ics of Ferroelectric Liqu
id Crystal DOBAMBC”)−ジャパニ
ーズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フィジックス
(Japanese Journal of appl
ied physics)第23巻、第10号、198
4年10月第1274ー1277頁に記載されている。
ihara)とイシバシ(Ishibashi)による
“スイッチング・キャラクタリスティクス・オブ・フェ
ロエレクトリック・リキッド・クリスタル・ドバンボ
ク”(“SwitchingCheracterist
ics of Ferroelectric Liqu
id Crystal DOBAMBC”)−ジャパニ
ーズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フィジックス
(Japanese Journal of appl
ied physics)第23巻、第10号、198
4年10月第1274ー1277頁に記載されている。
【0026】また本発明は光学変調物質として、前述し
た強誘電性液晶のほかにTN液晶などをもちいることが
出来る。
た強誘電性液晶のほかにTN液晶などをもちいることが
出来る。
【0027】この様に本発明は画素内に意図的に反転核
を形成しその反転核を中心に反転領域を形成する方法に
基づいており、例えば配向制御層33に形成した第1の
領域101を中心に強誘電性液晶の反転が開始され、さ
らにパルス信号のパルス数、パルス幅又は波高値の大き
さに応じて、その領域101を中心に成長する反転領域
の大きさが決定される。
を形成しその反転核を中心に反転領域を形成する方法に
基づいており、例えば配向制御層33に形成した第1の
領域101を中心に強誘電性液晶の反転が開始され、さ
らにパルス信号のパルス数、パルス幅又は波高値の大き
さに応じて、その領域101を中心に成長する反転領域
の大きさが決定される。
【0028】また本発明の光学変調素子に、走査電極と
情報電極で形成したマトリクス電極を適用し線順次書き
込みを行うにあたって、特開昭59−193427号公
報に開示された駆動方式を採用するのが好ましい。すな
わち、本発明では、書き込みライン上の画素を一旦黒レ
ベルに相当する一方の安定状態に強誘電性液晶を配向さ
せ、次ぎに後述する図6乃至図8に示すパルス信号を情
報電極側に印加することによって、白レベルに相当する
他方の安定状態に強誘電性液晶を反転させかかる走査を
ライン毎に順次行うことで一画面の階調表示が得られ
る。
情報電極で形成したマトリクス電極を適用し線順次書き
込みを行うにあたって、特開昭59−193427号公
報に開示された駆動方式を採用するのが好ましい。すな
わち、本発明では、書き込みライン上の画素を一旦黒レ
ベルに相当する一方の安定状態に強誘電性液晶を配向さ
せ、次ぎに後述する図6乃至図8に示すパルス信号を情
報電極側に印加することによって、白レベルに相当する
他方の安定状態に強誘電性液晶を反転させかかる走査を
ライン毎に順次行うことで一画面の階調表示が得られ
る。
【0029】図6乃至図8は第1の電極32と第2の電
極35との間に印加される電圧の代表的印加例を示す。
図6は印加パルス幅、図7は印加パルス数、図8は印加
パルス電圧値(波高値)を選択することにより、階調表
示を得ることが出来る。図6乃至8の夫々における
(a)〜(d)は模式的に図5(a)〜(d)に対応し
ている。
極35との間に印加される電圧の代表的印加例を示す。
図6は印加パルス幅、図7は印加パルス数、図8は印加
パルス電圧値(波高値)を選択することにより、階調表
示を得ることが出来る。図6乃至8の夫々における
(a)〜(d)は模式的に図5(a)〜(d)に対応し
ている。
【0030】図6及び図7は本発明光学変調素子に最も
適した電圧印加例である。すなわち、図6及び図7にお
けるパルス波形(a)を図3における電極32と35と
の間に印加することで比較的高い電界が作用する部分
(部位101)の光学変調物質が反転を開始し、核とな
り反転部分が拡がり始める。もしここで電圧の印加を中
止すれば特に双安定性のある光学変調物質の場合は、こ
のままの状態がメモリされる。次ぎに図6と図7の
(b)〜(d)に示す電圧の印加、或はパルスの印加を
与えれば反転部分が拡がり、夫々電圧印加を中止した時
点における状態をメモリし階調表現が可能となるもので
ある。
適した電圧印加例である。すなわち、図6及び図7にお
けるパルス波形(a)を図3における電極32と35と
の間に印加することで比較的高い電界が作用する部分
(部位101)の光学変調物質が反転を開始し、核とな
り反転部分が拡がり始める。もしここで電圧の印加を中
止すれば特に双安定性のある光学変調物質の場合は、こ
のままの状態がメモリされる。次ぎに図6と図7の
(b)〜(d)に示す電圧の印加、或はパルスの印加を
与えれば反転部分が拡がり、夫々電圧印加を中止した時
点における状態をメモリし階調表現が可能となるもので
ある。
【0031】図8に示す印加電圧を変える方法によれば
図8の(a)に示すパルスにより、前記反転核の形成が
行われ、図8の(b)〜(d)に示すように電圧を大き
くすると、光学変調物質の応答性が良くなるため、反転
する領域が大きくなるが、このときも前記電界強度が大
きい部分が先ず最初に反転し、与えるパルス幅内で反転
領域が最初に拡がっていくものと考えられる。この場合
のパルス印加時間があまり長いと、領域102で強誘電
性液晶が反転してしまうので、前記パルス印加時間は適
当に調整する。
図8の(a)に示すパルスにより、前記反転核の形成が
行われ、図8の(b)〜(d)に示すように電圧を大き
くすると、光学変調物質の応答性が良くなるため、反転
する領域が大きくなるが、このときも前記電界強度が大
きい部分が先ず最初に反転し、与えるパルス幅内で反転
領域が最初に拡がっていくものと考えられる。この場合
のパルス印加時間があまり長いと、領域102で強誘電
性液晶が反転してしまうので、前記パルス印加時間は適
当に調整する。
【0032】
【発明の効果】本発明によれば、高密度画素の表示パネ
ル、又は光シャッタアレイに適した光学変調素子を提供
することができ、しかも単にパルス信号のパルス幅、パ
ルス数または波高値を階調に応じて変化させて階調を表
現する表示パネルに適した強誘電性液晶素子を提供する
ことができる利点を有している。
ル、又は光シャッタアレイに適した光学変調素子を提供
することができ、しかも単にパルス信号のパルス幅、パ
ルス数または波高値を階調に応じて変化させて階調を表
現する表示パネルに適した強誘電性液晶素子を提供する
ことができる利点を有している。
【図1】本発明に用いられる強誘電性液晶素子を説明す
るための模式図である。
るための模式図である。
【図2】本発明に用いられる強誘電性液晶素子を説明す
るための模式図である。
るための模式図である。
【図3】本発明の一実施例による光学変調素子の模式的
断面図である。
断面図である。
【図4】本発明の一実施例による光学変調素子の一部分
を示す模式的平面図である。
を示す模式的平面図である。
【図5】本発明の一実施例による光学変調素子の画素の
反転領域の形成の様子を説明するための模式的平面図で
ある。
反転領域の形成の様子を説明するための模式的平面図で
ある。
【図6】本発明に用いられる階調情報に応じた信号の波
形の一例を示す図である。
形の一例を示す図である。
【図7】本発明に用いられる階調情報に応じた信号の波
形の別の例を示す図である。
形の別の例を示す図である。
【図8】本発明に用いられる階調情報に応じた信号の波
形の更に他の例を示す図である。
形の更に他の例を示す図である。
1 光学変調物質 31 基板 32 第1の電極 35 第2の電極 34 基板 51 反転核 52 反転領域 101 第1の配向規制力領域 102 第2の配向規制力領域
【手続補正書】
【提出日】平成5年4月27日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 光学変調素子及びその製造法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表示装置のための光学
変調素子に関し、特に画素内に部分的に形成された反転
領域を用いて中間調の表示を行なうに適した光学変調素
子及びその製造法に関する。
変調素子に関し、特に画素内に部分的に形成された反転
領域を用いて中間調の表示を行なうに適した光学変調素
子及びその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】ツイスティッドネマティック(TN)液
晶を用いた液晶表示装置には、パッシブマトリクス駆動
方式の表示パネルとアクティブマトリクス駆動方式を用
いたものが知られている。
晶を用いた液晶表示装置には、パッシブマトリクス駆動
方式の表示パネルとアクティブマトリクス駆動方式を用
いたものが知られている。
【0003】アクティブマトリクス駆動方式の液晶テレ
ビジョンパネルでは、薄膜トランジスタ(TFT)を画
素毎のマトリクス配置し、TFTにゲートオンパルスを
印加してソースとドレイン間を導通状態とし、このとき
映像画像信号がソースから印加され、キャパシタに蓄積
され、この蓄積された画像信号に対応してTN液晶が駆
動し、同時に映像信号の電圧を変調することによって階
調表示が行なわれている。
ビジョンパネルでは、薄膜トランジスタ(TFT)を画
素毎のマトリクス配置し、TFTにゲートオンパルスを
印加してソースとドレイン間を導通状態とし、このとき
映像画像信号がソースから印加され、キャパシタに蓄積
され、この蓄積された画像信号に対応してTN液晶が駆
動し、同時に映像信号の電圧を変調することによって階
調表示が行なわれている。
【0004】この様な階調表示方法は、輝度階調とよば
れるもので、この場合の中間調表示は画素全体の光透過
率を制御するものである。
れるもので、この場合の中間調表示は画素全体の光透過
率を制御するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする技術課題】しかし、このよう
なTN液晶を用いたアクティブマトリクス駆動方式のテ
レビジョンパネルでは光透過率が印加電界に完全に依存
するため、印加電界が変動すると中間調状態の変動して
しまう。
なTN液晶を用いたアクティブマトリクス駆動方式のテ
レビジョンパネルでは光透過率が印加電界に完全に依存
するため、印加電界が変動すると中間調状態の変動して
しまう。
【0006】また、視野角が狭いために中間調状態の見
え方が、見る位置により変化してしまう。
え方が、見る位置により変化してしまう。
【0007】あるいは、低い製造コストで製造できるも
のとしてのパッシブマトリクス駆動方式の表示パネルで
は走査線(N)が増大するに従って、1画面(1フレー
ム)を走査する間に一つの選択点に有効な電界が印加さ
れている時間(デューティー比)が1/Nの割合で減少
し、このためクロストークが発生する。しかも高コント
ラストの画像とならないという解決すべき技術課題を有
している上、デューティー比が低くなると各画素の階調
を電圧変調により制御することが難しくなるなど、高密
度配線数の表示パネル、特に液晶テレビジョンパネルに
最適とはいえないものであった。
のとしてのパッシブマトリクス駆動方式の表示パネルで
は走査線(N)が増大するに従って、1画面(1フレー
ム)を走査する間に一つの選択点に有効な電界が印加さ
れている時間(デューティー比)が1/Nの割合で減少
し、このためクロストークが発生する。しかも高コント
ラストの画像とならないという解決すべき技術課題を有
している上、デューティー比が低くなると各画素の階調
を電圧変調により制御することが難しくなるなど、高密
度配線数の表示パネル、特に液晶テレビジョンパネルに
最適とはいえないものであった。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、前述課
題を解決するもので、詳しくは広い面積にわたって高密
度画素をもつ表示パネルを簡易に作成し、また階調表示
をするに適した液晶の配向状態を呈する光学変調素子及
びその製造法を提供することにある。
題を解決するもので、詳しくは広い面積にわたって高密
度画素をもつ表示パネルを簡易に作成し、また階調表示
をするに適した液晶の配向状態を呈する光学変調素子及
びその製造法を提供することにある。
【0009】すなわち、本発明は、互いに対向する第1
の電極及び第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の
電極との間に配置した強誘電性液晶と、を有する画素を
2次元状に配列した光学変調素子において、前記画素に
階調情報に応じた電気信号を供給する手段を備えるとと
もに、前記第1の電極の表面側には一軸性配向処理がな
されており、前記強誘電性液晶を配向させる配向規制力
を異ならしめた部位が該強誘電性液晶の状態が反転する
反転領域を前記画素内に部分的に形成するように、前記
画素内に複数離間して配置されていることを特徴とす
る。
の電極及び第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の
電極との間に配置した強誘電性液晶と、を有する画素を
2次元状に配列した光学変調素子において、前記画素に
階調情報に応じた電気信号を供給する手段を備えるとと
もに、前記第1の電極の表面側には一軸性配向処理がな
されており、前記強誘電性液晶を配向させる配向規制力
を異ならしめた部位が該強誘電性液晶の状態が反転する
反転領域を前記画素内に部分的に形成するように、前記
画素内に複数離間して配置されていることを特徴とす
る。
【0010】また、本発明の光学変調素子の製造法は、
互いに対向する第1の電極及び第2の電極と、該第1及
び第2の電極との間に配置した強誘電性液晶と、を有す
る画素を2次元状に配列した光学変調素子の製造法にお
いて、前記第1の電極の表面側に、前記液晶を配向させ
る配向規制力を異ならしめる部位を前記画素内に含む配
向制御膜を形成し、一軸性配向処理を施す工程と、ユニ
フォーム配向状態とするための交流を印加する工程と、
を含むことを特徴とする。
互いに対向する第1の電極及び第2の電極と、該第1及
び第2の電極との間に配置した強誘電性液晶と、を有す
る画素を2次元状に配列した光学変調素子の製造法にお
いて、前記第1の電極の表面側に、前記液晶を配向させ
る配向規制力を異ならしめる部位を前記画素内に含む配
向制御膜を形成し、一軸性配向処理を施す工程と、ユニ
フォーム配向状態とするための交流を印加する工程と、
を含むことを特徴とする。
【0011】
【作用】本発明によれば、反転領域を前記画素内に部分
的に形成する即ち、単位画素内の反転した面積の大小
で、中間調の表示をすることによりその状態が変動する
ことを抑制し、再現性に優れ安定した中間調の表示を可
能にするものである。
的に形成する即ち、単位画素内の反転した面積の大小
で、中間調の表示をすることによりその状態が変動する
ことを抑制し、再現性に優れ安定した中間調の表示を可
能にするものである。
【0012】更には、強誘電性液晶の配向状態を良好な
ユニフォーム配向として、反転を開始する位置を制御す
ることにより、より一層再現性と安定性とを高めるとと
もに、広い範囲に渡る階調表示を行なうことも出来るの
である。
ユニフォーム配向として、反転を開始する位置を制御す
ることにより、より一層再現性と安定性とを高めるとと
もに、広い範囲に渡る階調表示を行なうことも出来るの
である。
【0013】
【実施例】以下、本発明を図面に従って説明する。本発
明で用いうる光学変調物質としては、加えられる電界に
応じて第1の光学的安定状態(例えば明状態を形成する
ものとする)と第2の光学的安定状態(例えば暗状態を
形成するものとする)を有するすなわち電界に対する少
なくとも2つの安定状態を有する物質、とくにこのよう
な性質を有する強誘電性液晶が最適である。
明で用いうる光学変調物質としては、加えられる電界に
応じて第1の光学的安定状態(例えば明状態を形成する
ものとする)と第2の光学的安定状態(例えば暗状態を
形成するものとする)を有するすなわち電界に対する少
なくとも2つの安定状態を有する物質、とくにこのよう
な性質を有する強誘電性液晶が最適である。
【0014】本発明の光学変調素子でもちいることがで
きる、少なくとも2つの安定状態を有する液晶として
は、カイラルスメティック液晶が最も好ましく、そのう
ちカイラルスメティックC相(SmC*),H相(Sm
H*),I相(SmI*),F相(SmF*)やG相
(SmG*)の液晶が適している。この強誘電性液晶に
ついては、 “ル・ジュルナール・ド・フィジック・レットル”
(“LE JOURNAL DE PHYSIQUE
LETTRE”)第36巻(L−69)1975年の
「フェロエレクトリック・リキッド・クリスタルス」
(「Ferroe lectric Liquid C
rystals」): “アプライド・フィジックス・レターズ”(“App
lied Physics Letters”)第36
巻、第11号、1980年の「サブミクロ・セカンド・
バイスティブル・エレクトロオプティック・スイッチン
グ・イン・リキッド・クリスタルス」(「Submic
ro Second BistableElectro
optic Switching in Liquid
Crystals」): “固体物理16(141)1981「液晶」などに記
載されており、本発明ではこれらに開示された強誘電性
液晶をもちいることができる。
きる、少なくとも2つの安定状態を有する液晶として
は、カイラルスメティック液晶が最も好ましく、そのう
ちカイラルスメティックC相(SmC*),H相(Sm
H*),I相(SmI*),F相(SmF*)やG相
(SmG*)の液晶が適している。この強誘電性液晶に
ついては、 “ル・ジュルナール・ド・フィジック・レットル”
(“LE JOURNAL DE PHYSIQUE
LETTRE”)第36巻(L−69)1975年の
「フェロエレクトリック・リキッド・クリスタルス」
(「Ferroe lectric Liquid C
rystals」): “アプライド・フィジックス・レターズ”(“App
lied Physics Letters”)第36
巻、第11号、1980年の「サブミクロ・セカンド・
バイスティブル・エレクトロオプティック・スイッチン
グ・イン・リキッド・クリスタルス」(「Submic
ro Second BistableElectro
optic Switching in Liquid
Crystals」): “固体物理16(141)1981「液晶」などに記
載されており、本発明ではこれらに開示された強誘電性
液晶をもちいることができる。
【0015】より具体的には、本発明に用いられる強誘
電性液晶化合物の例としては、デシロキシベンジリデン
−P′−アミノ−2−メチルブチルシンナメート(DO
BAMBC)、ヘキシルオキシベンジリデン−P′−ア
ミノ−2−クロロプロピルシンナメート(HOBACP
C)及び4−o−(2−メチル)−ブチルレゾルシリデ
ン−4′−オクチルアニリン(MBRA8)などが挙げ
られる。
電性液晶化合物の例としては、デシロキシベンジリデン
−P′−アミノ−2−メチルブチルシンナメート(DO
BAMBC)、ヘキシルオキシベンジリデン−P′−ア
ミノ−2−クロロプロピルシンナメート(HOBACP
C)及び4−o−(2−メチル)−ブチルレゾルシリデ
ン−4′−オクチルアニリン(MBRA8)などが挙げ
られる。
【0016】これらの材料を用いて、素子を構成する場
合、液晶化合物が、SmC*、SmH*、SmI*、S
mF*、SmG*となるような温度状態に保持するた
め、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれた銅ブロ
ック等により支持することができる。
合、液晶化合物が、SmC*、SmH*、SmI*、S
mF*、SmG*となるような温度状態に保持するた
め、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれた銅ブロ
ック等により支持することができる。
【0017】図1は、強誘電性液晶セルの例を模式的に
描いたものである。11と11′は、In2 O3 、Sn
O2 やITO(インジウム−ティン−オキサイド)等の
透明電極がコートされた基板(ガラス板)であり、その
間に液晶分子層12がガラス面に垂直になるよう配向し
たSmC*相の液晶が封入されている。太線で示した線
13が液晶分子を表しており、この液晶分子13は、そ
の分子に直交した方向に双極子モーメント(P⊥)14
を有している。基板11と11′状の電極間に一定の閾
値以上の電圧を印加すると、液晶分子13のらせん構造
がほどけ、双極子モーメント(P⊥)はすべて電界方向
に向くよう、液晶分子13の配向方向を変えることがで
きる。液晶分子13は細長い形状を有しており、その長
軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例えば
ガラス面上下に互いにクロスニコルの位置関係に配置し
た偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性が変
わる液晶光学変調素子となることは、容易に理解され
る。
描いたものである。11と11′は、In2 O3 、Sn
O2 やITO(インジウム−ティン−オキサイド)等の
透明電極がコートされた基板(ガラス板)であり、その
間に液晶分子層12がガラス面に垂直になるよう配向し
たSmC*相の液晶が封入されている。太線で示した線
13が液晶分子を表しており、この液晶分子13は、そ
の分子に直交した方向に双極子モーメント(P⊥)14
を有している。基板11と11′状の電極間に一定の閾
値以上の電圧を印加すると、液晶分子13のらせん構造
がほどけ、双極子モーメント(P⊥)はすべて電界方向
に向くよう、液晶分子13の配向方向を変えることがで
きる。液晶分子13は細長い形状を有しており、その長
軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例えば
ガラス面上下に互いにクロスニコルの位置関係に配置し
た偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性が変
わる液晶光学変調素子となることは、容易に理解され
る。
【0018】さらに液晶セルの厚さを充分に薄くした場
合(例えば1μm)には、図1に示すように電界を印加
していない状態でも液晶分子のらせん構造はほどけ(非
らせん構造)、その双極子モーメントPまたはP′は上
向き(24)または下向き(24′)のどちらかの配向
状態をとる。このようなセルに図2に示す如く一定の閾
値以上の極性の異なる電界EまたはE′を付与すると、
双極子モーメント電界EまたはE′をの電界ベクトルに
対応して上向き(24)または下向き(24′)とその
向きを変え、それに応じて液晶分子は第1の安定状態2
3(明状態)かあるいは第2の安定状態23′(暗状
態)の何れか一方を配向する。
合(例えば1μm)には、図1に示すように電界を印加
していない状態でも液晶分子のらせん構造はほどけ(非
らせん構造)、その双極子モーメントPまたはP′は上
向き(24)または下向き(24′)のどちらかの配向
状態をとる。このようなセルに図2に示す如く一定の閾
値以上の極性の異なる電界EまたはE′を付与すると、
双極子モーメント電界EまたはE′をの電界ベクトルに
対応して上向き(24)または下向き(24′)とその
向きを変え、それに応じて液晶分子は第1の安定状態2
3(明状態)かあるいは第2の安定状態23′(暗状
態)の何れか一方を配向する。
【0019】このような強誘電性液晶を光学変調素子と
して用いることの利点は2つある。第1に応答速度が極
めて早いことであり、第2に液晶分子の配向が双安定性
を有することである。第2の点を例えば図2によって説
明すると、電界Eを印加すると液晶分子は第1の安定状
態23に配向するが、この状態は電界を切ってもこの第
1の安定状態23が維持され、また、逆向きの電界E′
を印加すると、液晶分子は第2の安定状態23′に配向
してその分子の向きを変えるが、やはり電界を切っても
この状態に保ち、それぞれの安定状態でメモリー機能を
有している。
して用いることの利点は2つある。第1に応答速度が極
めて早いことであり、第2に液晶分子の配向が双安定性
を有することである。第2の点を例えば図2によって説
明すると、電界Eを印加すると液晶分子は第1の安定状
態23に配向するが、この状態は電界を切ってもこの第
1の安定状態23が維持され、また、逆向きの電界E′
を印加すると、液晶分子は第2の安定状態23′に配向
してその分子の向きを変えるが、やはり電界を切っても
この状態に保ち、それぞれの安定状態でメモリー機能を
有している。
【0020】このような応答速度の早さと、双安定性が
有効に実現されるには、セルとしては出来るだけ薄い方
が好ましく、一般的には0.5μm乃至20μm、特に
1μm乃至5μmが適している。
有効に実現されるには、セルとしては出来るだけ薄い方
が好ましく、一般的には0.5μm乃至20μm、特に
1μm乃至5μmが適している。
【0021】この種の強誘電性液晶を用いたマトリクス
電極構造を有する液晶−電気光学装置は、例えばクラー
クとラガバルにより、米国特許第4,367,924号
明細書で提案されている。
電極構造を有する液晶−電気光学装置は、例えばクラー
クとラガバルにより、米国特許第4,367,924号
明細書で提案されている。
【0022】次に、本発明における液晶光学素子の詳細
を説明する。図3は本発明の一実施例による光学変調素
子を示す模式的断面図である。31は一方の基板であ
り、ガラスやプラスティックが用いられる。この基板3
1の上に、ITO等の第1の電極32及び配向制御層3
3が積層されている。これと対向して他方の基板34が
両基板間に光学変調物質1を挟持して配置され、基板3
4の上には第2の電極35と配向制御層36が積層さ
れ、基板31と34との間隔はスペーサ37によって制
御されている。
を説明する。図3は本発明の一実施例による光学変調素
子を示す模式的断面図である。31は一方の基板であ
り、ガラスやプラスティックが用いられる。この基板3
1の上に、ITO等の第1の電極32及び配向制御層3
3が積層されている。これと対向して他方の基板34が
両基板間に光学変調物質1を挟持して配置され、基板3
4の上には第2の電極35と配向制御層36が積層さ
れ、基板31と34との間隔はスペーサ37によって制
御されている。
【0023】図4は前述の一方の基板31に形成した画
素内の配向制御層33の平面図を表している。この配向
制御層33は、互いに相違した配向規制力の領域、すな
わち第1の配向規制力領域101と第2の配向規制力領
域102とを有し、第1の配向規制力領域101が第2
の配向規制力領域102内に規則的に分散状に分布して
いる。従って第1領域101と第2領域102とは同一
方向の一軸性配向軸(例えばラビング処理軸)を有して
いるが互いにその一軸性配向軸の配向規制力が相違して
いる。
素内の配向制御層33の平面図を表している。この配向
制御層33は、互いに相違した配向規制力の領域、すな
わち第1の配向規制力領域101と第2の配向規制力領
域102とを有し、第1の配向規制力領域101が第2
の配向規制力領域102内に規則的に分散状に分布して
いる。従って第1領域101と第2領域102とは同一
方向の一軸性配向軸(例えばラビング処理軸)を有して
いるが互いにその一軸性配向軸の配向規制力が相違して
いる。
【0024】前述した配向制御層33を設けた基板31
を得る方法としては、例えばガラスまたはプラスティッ
クなどの基板31上に電極32としてITOなどをスパ
ッタリング法により、約3000Å厚で一様に設け、次
いでこの基板31上にポリビニルアルコール水溶液をス
ピナーまたはディピングにより一様に設け、約180℃
で30分間の熱処理により硬化した約1000〜200
0Å厚のポリビニルアルコール膜(第2の配向規制力領
域102に対応)を形成し、更にこのポリビニルアルコ
ール膜のうえにポリイミド前駆体溶液(例えばピロメリ
ット配無水物と4、4′−ジアミノジフェニルエーテル
との縮合体をN−メチルピロリドンに溶解した溶液)を
スプレイ又はメッシュを介して塗工した後、約180℃
で1時間の熱処理により得たポリイミド(第1の配向規
制力領域101に対応)を形成し、更に一軸性配向処理
としてラビング処理などを施すことによって得る方法が
ある。
を得る方法としては、例えばガラスまたはプラスティッ
クなどの基板31上に電極32としてITOなどをスパ
ッタリング法により、約3000Å厚で一様に設け、次
いでこの基板31上にポリビニルアルコール水溶液をス
ピナーまたはディピングにより一様に設け、約180℃
で30分間の熱処理により硬化した約1000〜200
0Å厚のポリビニルアルコール膜(第2の配向規制力領
域102に対応)を形成し、更にこのポリビニルアルコ
ール膜のうえにポリイミド前駆体溶液(例えばピロメリ
ット配無水物と4、4′−ジアミノジフェニルエーテル
との縮合体をN−メチルピロリドンに溶解した溶液)を
スプレイ又はメッシュを介して塗工した後、約180℃
で1時間の熱処理により得たポリイミド(第1の配向規
制力領域101に対応)を形成し、更に一軸性配向処理
としてラビング処理などを施すことによって得る方法が
ある。
【0025】相違した配向規制力の一軸性配向軸を形成
するには、前述したポリビニルアルコール/ポリイミド
の組み合わせのほかにポリビニルアルコール/ポリアミ
ド、ポリビニルアルコール/シランカップリング剤、ポ
リイミド/ポリアミド、ポリイミド/シランカップリン
グ剤などの異なる有機ポリマーまたはモノマーの組み合
わせを用いることが出来る。また、本発明では、第1の
配向規制力領域101をSiOなどの無機絶縁物質の膜
で形成し、第2の配向規制力領域102を有機ポリマー
の膜で形成した組み合わせ、またはその逆の組み合わせ
を用いることもできる。
するには、前述したポリビニルアルコール/ポリイミド
の組み合わせのほかにポリビニルアルコール/ポリアミ
ド、ポリビニルアルコール/シランカップリング剤、ポ
リイミド/ポリアミド、ポリイミド/シランカップリン
グ剤などの異なる有機ポリマーまたはモノマーの組み合
わせを用いることが出来る。また、本発明では、第1の
配向規制力領域101をSiOなどの無機絶縁物質の膜
で形成し、第2の配向規制力領域102を有機ポリマー
の膜で形成した組み合わせ、またはその逆の組み合わせ
を用いることもできる。
【0026】また、本発明では他方の配向制御層36と
しては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミ
ドやシランカップリング剤で一様に形成した被膜にラビ
ング処理を施したものを用いることができる。
しては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミ
ドやシランカップリング剤で一様に形成した被膜にラビ
ング処理を施したものを用いることができる。
【0027】本発明では、第1の配向規制力領域101
と第2の配向規制力領域102における強誘電性液晶に
対する一軸性配向規制力が互いに相違しているため、強
誘電性液晶の閾値電圧が第1の領域101と第2の領域
とで相違したものになる。従って第1の領域101と第
2の領域102での反転開始電圧が相違し、例えば前述
のポリビニルアルコール/ポリイミドの組み合わせで
は、第1の領域101に対応するポリイミドが第2の領
域102に対応するポリビニルアルコールと比較して閾
値電圧を低くする傾向があるため、第1の領域101に
反転核を発生することになる。
と第2の配向規制力領域102における強誘電性液晶に
対する一軸性配向規制力が互いに相違しているため、強
誘電性液晶の閾値電圧が第1の領域101と第2の領域
とで相違したものになる。従って第1の領域101と第
2の領域102での反転開始電圧が相違し、例えば前述
のポリビニルアルコール/ポリイミドの組み合わせで
は、第1の領域101に対応するポリイミドが第2の領
域102に対応するポリビニルアルコールと比較して閾
値電圧を低くする傾向があるため、第1の領域101に
反転核を発生することになる。
【0028】そして、本発明による光学変調素子の製造
法としては、ポリビニルアルコール/ポリイミドで組み
合わせた配向制御膜を用いた液晶素子に交流を印加す
る。この際に用いる交流は10Hz〜1KHzで、20
V〜200V程度のもので、ポリビニルアルコールの配
向制御膜に対応している強誘電性液晶をチルト角が大き
いユニフォーム配向状態とすることができる。ユニフォ
ーム配向状態の強誘電性液晶の閾値電圧はスプレイ配向
状態の場合と比較して高いものとなっているので、スプ
レイ配向状態となっているポリイミド膜に対応した強誘
電性液晶の閾値電圧を確実に低いものとすることができ
る。
法としては、ポリビニルアルコール/ポリイミドで組み
合わせた配向制御膜を用いた液晶素子に交流を印加す
る。この際に用いる交流は10Hz〜1KHzで、20
V〜200V程度のもので、ポリビニルアルコールの配
向制御膜に対応している強誘電性液晶をチルト角が大き
いユニフォーム配向状態とすることができる。ユニフォ
ーム配向状態の強誘電性液晶の閾値電圧はスプレイ配向
状態の場合と比較して高いものとなっているので、スプ
レイ配向状態となっているポリイミド膜に対応した強誘
電性液晶の閾値電圧を確実に低いものとすることができ
る。
【0029】本明細書で記載の「ユニフォーム配向状
態」とは電圧が印加されていない状態下で、強誘電性液
晶のらせんがほどけ、両基板に隣接する液晶分子の基板
への写影が互いに平行かまたは平行に近い交差角で交差
している状態を言い、「スプレイ配向状態」とは上述し
た両基板への写影が互いに所定の角度で交差した状態を
言う。ポリビニルアルコールを配向制御膜とした強誘電
性液晶素子に交流を印加すると、ユニフォーム配向状態
になり、ポリイミドを配向制御膜として強誘電性液晶素
子では交流を印加してもユニフォーム配向状態とはなら
ず、スプレイ配向状態となっている。そして、一般には
ユニフォーム配向状態よりスプレイ配向状態の強誘電性
液晶の方がその閾値電圧が小さい。
態」とは電圧が印加されていない状態下で、強誘電性液
晶のらせんがほどけ、両基板に隣接する液晶分子の基板
への写影が互いに平行かまたは平行に近い交差角で交差
している状態を言い、「スプレイ配向状態」とは上述し
た両基板への写影が互いに所定の角度で交差した状態を
言う。ポリビニルアルコールを配向制御膜とした強誘電
性液晶素子に交流を印加すると、ユニフォーム配向状態
になり、ポリイミドを配向制御膜として強誘電性液晶素
子では交流を印加してもユニフォーム配向状態とはなら
ず、スプレイ配向状態となっている。そして、一般には
ユニフォーム配向状態よりスプレイ配向状態の強誘電性
液晶の方がその閾値電圧が小さい。
【0030】図5は前述した強誘電性液晶のセルにおけ
る電圧印加による分子の反転の様子を模式的に示す図で
ある。
る電圧印加による分子の反転の様子を模式的に示す図で
ある。
【0031】まず、電圧が印加され始めた直後、は
(a)に示す様に電圧印加部分のうち第1の領域101
に対応して部分的に反転核51が発生する。この後、
(b)と(c)に示すように印加電圧下で時間が経つに
つれて前記反転核51を中心に反転部分が時間が経つに
従って次第に広がって反転領域52が形成される。更
に、電圧を印加し続けると、その殆どが反転し(d)の
ようになり、最後に前記電圧印加部分全域(画素全域)
が反転するものである。
(a)に示す様に電圧印加部分のうち第1の領域101
に対応して部分的に反転核51が発生する。この後、
(b)と(c)に示すように印加電圧下で時間が経つに
つれて前記反転核51を中心に反転部分が時間が経つに
従って次第に広がって反転領域52が形成される。更
に、電圧を印加し続けると、その殆どが反転し(d)の
ようになり、最後に前記電圧印加部分全域(画素全域)
が反転するものである。
【0032】因に、強誘電性液晶の一般的な反転の様子
は、例えばオリハラ(Orihara)とイシバシ(I
shibashi)による“スイッチング・キャラクタ
リスティクス・オブ・フェロエレクトリック・リキッド
・クリスタル・ドバンボク”(“Switching
Cheracteristics of Ferroe
lecric Liquid Crystal DOB
AMBC”)−ジャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプ
ライド・フィジックス(Japanese Journ
al of applied physics)第23
巻、第10号、1984年10月第1274−1277
頁に記載されている。
は、例えばオリハラ(Orihara)とイシバシ(I
shibashi)による“スイッチング・キャラクタ
リスティクス・オブ・フェロエレクトリック・リキッド
・クリスタル・ドバンボク”(“Switching
Cheracteristics of Ferroe
lecric Liquid Crystal DOB
AMBC”)−ジャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプ
ライド・フィジックス(Japanese Journ
al of applied physics)第23
巻、第10号、1984年10月第1274−1277
頁に記載されている。
【0033】この様に本発明は画素内に意図的に反転核
を複数離間させて形成しその反転核を中心に反転領域を
画素内に部分的に形成する方法に基づいており、例えば
配向制御層33に形成した第1の領域101を中心に強
誘電性液晶の反転が開始され、さらにパルス信号のパル
ス数、パルス幅または波高値の大きさに応じて、その領
域101を中心に成長する反転領域の大きさが決定され
る。
を複数離間させて形成しその反転核を中心に反転領域を
画素内に部分的に形成する方法に基づいており、例えば
配向制御層33に形成した第1の領域101を中心に強
誘電性液晶の反転が開始され、さらにパルス信号のパル
ス数、パルス幅または波高値の大きさに応じて、その領
域101を中心に成長する反転領域の大きさが決定され
る。
【0034】また本発明の光学変調素子に、走査電極と
情報電極で形成したマトリクス電極を適用し線順次書き
込みを行うにあたって、特開昭59−193427号公
報に開示された駆動方式を採用するのが好ましい。すな
わち、本発明では、書き込みライン上の画素を一旦黒レ
ベルに相当する一方の安定状態に強誘電性液晶を配向さ
せ、次ぎに後述する図6乃至図8に示すパルス信号を情
報電極側に印加することによって、白レベルに相当する
他方の安定状態に強誘電性液晶を反転させかかる走査を
ライン毎に順次行うことで一画面の階調表示が得られ
る。
情報電極で形成したマトリクス電極を適用し線順次書き
込みを行うにあたって、特開昭59−193427号公
報に開示された駆動方式を採用するのが好ましい。すな
わち、本発明では、書き込みライン上の画素を一旦黒レ
ベルに相当する一方の安定状態に強誘電性液晶を配向さ
せ、次ぎに後述する図6乃至図8に示すパルス信号を情
報電極側に印加することによって、白レベルに相当する
他方の安定状態に強誘電性液晶を反転させかかる走査を
ライン毎に順次行うことで一画面の階調表示が得られ
る。
【0035】図6乃至図8は第1の電極32と第2の電
極35との間に印加される電気信号の代表例を示す図で
ある。図6は印加パルス幅、図7は印加パルス数、図8
は印加パルス電圧値(波高値)を選択することにより階
調表示を得ることが出来る信号を夫々示している。
極35との間に印加される電気信号の代表例を示す図で
ある。図6は印加パルス幅、図7は印加パルス数、図8
は印加パルス電圧値(波高値)を選択することにより階
調表示を得ることが出来る信号を夫々示している。
【0036】図6乃至図8の夫々における(a)〜
(d)は模式的に図5の(a)〜(d)に対応してい
る。
(d)は模式的に図5の(a)〜(d)に対応してい
る。
【0037】図6及び図7は本発明光学変調素子に最も
適した印加電圧の例である。すなわち、これらの図にお
けるパルス波形(a)を図3における電極32と35と
の間に印加することで比較的高い電界が作用する部分
(部位101)の光学変調物質が反転を開始し、核とな
り反転部分が拡がり始める。もしここで電圧の印加を中
止すれば特に双安定性のある光学変調物質の場合は、こ
のままの状態がメモリされる。次ぎに図6及び図7の
(b)〜(d)に示す電圧の印加、或はパルスの印加を
与えれば反転部分が拡がり、夫々電圧印加を中止した時
点における状態をメモリし階調表現が可能となるもので
ある。
適した印加電圧の例である。すなわち、これらの図にお
けるパルス波形(a)を図3における電極32と35と
の間に印加することで比較的高い電界が作用する部分
(部位101)の光学変調物質が反転を開始し、核とな
り反転部分が拡がり始める。もしここで電圧の印加を中
止すれば特に双安定性のある光学変調物質の場合は、こ
のままの状態がメモリされる。次ぎに図6及び図7の
(b)〜(d)に示す電圧の印加、或はパルスの印加を
与えれば反転部分が拡がり、夫々電圧印加を中止した時
点における状態をメモリし階調表現が可能となるもので
ある。
【0038】図8に示す印加電圧を変える方法によれ
ば、(a)に示すパルスにより、前記反転核の形成が行
われ、(b)〜(d)に示すように電圧を大きくする
と、光学変調物質の応答性が良くなるため、反転する領
域が大きくなるが、このときも前記電界強度が大きい部
分が先ず最初に反転し、与えるパルス幅内で反転領域が
最初に拡がっていくものと考えられる。この場合のパル
ス印加時間があまり長いと、領域102で強誘電性液晶
が反転してしまうので、前記パルス印加時間は適当に調
整する。
ば、(a)に示すパルスにより、前記反転核の形成が行
われ、(b)〜(d)に示すように電圧を大きくする
と、光学変調物質の応答性が良くなるため、反転する領
域が大きくなるが、このときも前記電界強度が大きい部
分が先ず最初に反転し、与えるパルス幅内で反転領域が
最初に拡がっていくものと考えられる。この場合のパル
ス印加時間があまり長いと、領域102で強誘電性液晶
が反転してしまうので、前記パルス印加時間は適当に調
整する。
【0039】
【発明の効果】本発明によれば、高密度画素の表示パネ
ル、または光シャッタアレイに適した光学変調素子を提
供することができ、しかも単にパルス信号のパルス幅、
パルス数または波高値を階調に応じて変化させて階調を
表現する表示パネルに適した強誘電性液晶素子を提供す
ることができる利点を有している。
ル、または光シャッタアレイに適した光学変調素子を提
供することができ、しかも単にパルス信号のパルス幅、
パルス数または波高値を階調に応じて変化させて階調を
表現する表示パネルに適した強誘電性液晶素子を提供す
ることができる利点を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いられる強誘電性液晶素子を説明す
るための模式図である。
るための模式図である。
【図2】本発明に用いられる強誘電性液晶素子を説明す
るための模式図である。
るための模式図である。
【図3】本発明の一実施例による光学変調素子の模式的
断面図である。
断面図である。
【図4】本発明の一実施例による光学変調素子の一部分
を示す模式的平面図である。
を示す模式的平面図である。
【図5】本発明の一実施例による光学変調素子の画素の
反転領域の形成の様子を説明するための模式的平面図で
ある。
反転領域の形成の様子を説明するための模式的平面図で
ある。
【図6】本発明に用いられる階調情報に応じた信号の波
形の一例を示す図である。
形の一例を示す図である。
【図7】本発明に用いられる階調情報に応じた信号の波
形の別の例を示す図である。
形の別の例を示す図である。
【図8】本発明に用いられる階調情報に応じた信号の波
形の更に他の例を示す図である。
形の更に他の例を示す図である。
【符号の説明】 1 光学変調物質 31 基板 32 第1の電極 35 第2の電極 34 基板 51 反転核 52 反転領域 101 第1の配向規制力領域 102 第2の配向規制力領域
Claims (11)
- 【請求項1】 相対向する第1の電極及び第2の電極
と、第1の電極と第2の電極との間に配置した光学変調
物質とを有する画素を2次元状に配列した光学変調素子
において、光学変調物質を配向させる配向規制力が前記
画素内で互いに相違した領域を有していることを特徴と
する光学変調素子。 - 【請求項2】 前記光学変調物質が強誘電性液晶である
請求項1に記載の光学変調素子。 - 【請求項3】 前記強誘電性液晶がカイラルスメクティ
ック液晶である請求項2に記載の光学変調素子。 - 【請求項4】 互いに相違した配向規制力の領域が互い
に相違した配向制御層の領域に対応している請求項1に
記載の光学変調素子。 - 【請求項5】 前記配向制御層が有機ポリマー層で形成
されている請求項1に記載の光学変調素子。 - 【請求項6】 前記画素が複数の行及び列に沿って配列
し、各行毎の画素が走査電極と共通に接続されていると
ともに、各列毎の画素が情報電極に接続され、前記情報
電極に階調に応じたパルス信号を印加する手段を有する
請求項1に記載の光学変調素子。 - 【請求項7】 前記パルス信号が階調に応じたパルス幅
のパルス信号である請求項6に記載の光学変調素子。 - 【請求項8】 前記パルス信号が階調に応じたパルス数
のパルス信号である請求項6に記載の光学変調素子。 - 【請求項9】 前記パルス信号が階調に応じた波高値の
パルス信号である請求項6に記載の光学変調素子。 - 【請求項10】 前記パルス信号が画素内の光学変調物
質を一方の安定状態に配向させた後に印加する信号であ
る請求項6に記載の光学変調素子。 - 【請求項11】 互いに相違した配向規制力の領域が第
1の配向規制力領域と第2の配向規制力領域とを有し、
かかる第1の配向規制力領域が第2の配向規制力領域内
に分散状に分布されている請求項1に記載の光学変調素
子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5076856A JP2510823B2 (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | 光学変調素子の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5076856A JP2510823B2 (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | 光学変調素子の製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61075868A Division JP2517549B2 (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | 光学変調素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06118417A true JPH06118417A (ja) | 1994-04-28 |
| JP2510823B2 JP2510823B2 (ja) | 1996-06-26 |
Family
ID=13617299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5076856A Expired - Fee Related JP2510823B2 (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | 光学変調素子の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2510823B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012008258A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Fujitsu Ltd | 表示素子の駆動方法および表示装置 |
| CN103752113A (zh) * | 2014-02-18 | 2014-04-30 | 卢振武 | 烟尘净化装置 |
Citations (3)
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| JPS6278530A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-10 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
| JPS62131225A (ja) * | 1985-12-02 | 1987-06-13 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶装置 |
| JPS62160426A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-16 | Sharp Corp | 液晶表示素子 |
-
1993
- 1993-04-02 JP JP5076856A patent/JP2510823B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012008258A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Fujitsu Ltd | 表示素子の駆動方法および表示装置 |
| CN103752113A (zh) * | 2014-02-18 | 2014-04-30 | 卢振武 | 烟尘净化装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2510823B2 (ja) | 1996-06-26 |
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