JPS62160426A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
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- JPS62160426A JPS62160426A JP259186A JP259186A JPS62160426A JP S62160426 A JPS62160426 A JP S62160426A JP 259186 A JP259186 A JP 259186A JP 259186 A JP259186 A JP 259186A JP S62160426 A JPS62160426 A JP S62160426A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は2枚の電極基板間に強誘電性液晶(強誘電性を
Mする液晶)を封入して構成し次強誘電性液晶表示素子
に関するものである。
Mする液晶)を封入して構成し次強誘電性液晶表示素子
に関するものである。
〈従来技術〉
液晶表示装置は、現在、時計、電卓をはじめとし、自動
車用あるいはOA機器の端末、TV受像機に到るまで、
各種の分野でディスプレイとして幅広く用いられている
。そして、その開発は、より多くの情報を表示するため
に大容量化の方向で進んでいる。ところで、これまで用
いられてきた液晶表示素子は、ツィステッド−ネマティ
ック(TN)型、ゲスト・ホス)(GW)型等の実効値
応答型の表示モードであり、とりわけTNモードがその
主流を占めているOTNモードのような実効値応答型の
モードを、電圧平均化法の様な直接駆動法(非線形素子
を付加しないで駆動する方法)で駆動すると、表示容量
すなわちライン数を増やしていくに従って、コントラス
トが低下するという本質的な問題が現われる。現在、そ
のデユーティ比はI/200程度まで試みられているが
、コントラストが低下し、良好な表示が得られていない
。
車用あるいはOA機器の端末、TV受像機に到るまで、
各種の分野でディスプレイとして幅広く用いられている
。そして、その開発は、より多くの情報を表示するため
に大容量化の方向で進んでいる。ところで、これまで用
いられてきた液晶表示素子は、ツィステッド−ネマティ
ック(TN)型、ゲスト・ホス)(GW)型等の実効値
応答型の表示モードであり、とりわけTNモードがその
主流を占めているOTNモードのような実効値応答型の
モードを、電圧平均化法の様な直接駆動法(非線形素子
を付加しないで駆動する方法)で駆動すると、表示容量
すなわちライン数を増やしていくに従って、コントラス
トが低下するという本質的な問題が現われる。現在、そ
のデユーティ比はI/200程度まで試みられているが
、コントラストが低下し、良好な表示が得られていない
。
また、薄膜トランジスタ、MIM等の非線形素子を基板
に付加した方法では、上記の問題は解決されるが、セル
基板の歩留りが下り、コスト高になる0 ところで、これらの現状の中で注目されている表示モー
ドは、C1arkらによって提唱された強誘電性液晶(
例えば、カイラルスメクティックC液晶: SmC来)
を用い、u8eQオーダーの応答とメモリー効果を有す
るSSF−LC(Surface5tabilized
Ferroelectric −Liquid
Crystal)である。
に付加した方法では、上記の問題は解決されるが、セル
基板の歩留りが下り、コスト高になる0 ところで、これらの現状の中で注目されている表示モー
ドは、C1arkらによって提唱された強誘電性液晶(
例えば、カイラルスメクティックC液晶: SmC来)
を用い、u8eQオーダーの応答とメモリー効果を有す
るSSF−LC(Surface5tabilized
Ferroelectric −Liquid
Crystal)である。
以下、この5SF−LCの動作原理について簡単に説明
する。
する。
木
Sc液晶は、自然状態では第2図に示すようならせん構
造を有する。図に於いて、lは液晶分子、2は液晶分子
のもつ双極子モーメントである。この液晶を2枚のガラ
ス基板ではさみ、強制的に平行配向させ、電界E’)印
加すると、第3図((a) :セル断面図、(b):セ
ル平面図)のように、分子のもつ双極子モーメントが一
方向にそろい、分子はスメクティックの層法線方向から
θだけ傾いた配向をする。電界の向きを逆にすると、第
4図((a):セル断面図、(b):セル平面図ンのよ
うに、分子は層法線方向から−θだけ傾いて配向する。
造を有する。図に於いて、lは液晶分子、2は液晶分子
のもつ双極子モーメントである。この液晶を2枚のガラ
ス基板ではさみ、強制的に平行配向させ、電界E’)印
加すると、第3図((a) :セル断面図、(b):セ
ル平面図)のように、分子のもつ双極子モーメントが一
方向にそろい、分子はスメクティックの層法線方向から
θだけ傾いた配向をする。電界の向きを逆にすると、第
4図((a):セル断面図、(b):セル平面図ンのよ
うに、分子は層法線方向から−θだけ傾いて配向する。
この各々の状態は電界Eを取り除いても配向状態を保ち
続ける。すなわち、メモリー効果を有する。第3図(b
)、 (c)及び第4図(b)、 (c) (3:下側
偏光子の偏光軸、4:上側偏光子の偏光軸)に示すよう
に、クロスニコル下で第3図の分子配向方向に偏光軸を
合わせると、第3図が暗状態ζ第4図が明状態となり、
オン、オフのスイッチングができる。この5SF−LC
の応答は、液晶の自発分極Psと電界Eの積Ps*Eに
依存し、μSeeオーダーの値であることが報告されて
いる。このように、5SF−LCは、極めて速い応答と
メモリー効果を有するため、原理的には表示容量すなわ
ちライン数を増やしてもコントラストの低下が無り、シ
たがって、大容量表示に適した表示モードである。
続ける。すなわち、メモリー効果を有する。第3図(b
)、 (c)及び第4図(b)、 (c) (3:下側
偏光子の偏光軸、4:上側偏光子の偏光軸)に示すよう
に、クロスニコル下で第3図の分子配向方向に偏光軸を
合わせると、第3図が暗状態ζ第4図が明状態となり、
オン、オフのスイッチングができる。この5SF−LC
の応答は、液晶の自発分極Psと電界Eの積Ps*Eに
依存し、μSeeオーダーの値であることが報告されて
いる。このように、5SF−LCは、極めて速い応答と
メモリー効果を有するため、原理的には表示容量すなわ
ちライン数を増やしてもコントラストの低下が無り、シ
たがって、大容量表示に適した表示モードである。
ところで、このような5SF−LCの配向法としては、
これまで +I+ シェアリングの力による力学的方法(2)
スペーサエツジ効果と温度勾配による方法(3)
ラビング法 が提案されている。この中で、(1)、(2)の方法は
、小さい表示面積ではドメインの無い良好な配向が得ら
れるが、大面積化には適用が難しい。(3)の方法では
、電界無印加時の分子配向が、ラビングによる規制力の
ため、理想的なメモリー状態での分子配向方向(第3図
(b)又は第4図(b)の配向方向)よりラビング方向
にずれる配向を示し、したがって、コントラストの低下
が生じる。また、これまでのところ、均一で大面積の配
向は得られていない0 以上のように、均一な分子配向制御は5SF−LCの大
きな課題になっている。
これまで +I+ シェアリングの力による力学的方法(2)
スペーサエツジ効果と温度勾配による方法(3)
ラビング法 が提案されている。この中で、(1)、(2)の方法は
、小さい表示面積ではドメインの無い良好な配向が得ら
れるが、大面積化には適用が難しい。(3)の方法では
、電界無印加時の分子配向が、ラビングによる規制力の
ため、理想的なメモリー状態での分子配向方向(第3図
(b)又は第4図(b)の配向方向)よりラビング方向
にずれる配向を示し、したがって、コントラストの低下
が生じる。また、これまでのところ、均一で大面積の配
向は得られていない0 以上のように、均一な分子配向制御は5SF−LCの大
きな課題になっている。
さらに、5SF−LCは階調表示が難しいため、キャラ
クタ・ディスプレイ等の“l” (lo”表示には適し
ているが、画像表示、TV画像表示等の中間調表示が必
要なディスプレイには適用困難である0 〈発明の目的〉 本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、その目
的は、中間調表示が行え、良好な配向が得られる強誘電
性液晶表示素子の素子構造を提供することにある。
クタ・ディスプレイ等の“l” (lo”表示には適し
ているが、画像表示、TV画像表示等の中間調表示が必
要なディスプレイには適用困難である0 〈発明の目的〉 本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、その目
的は、中間調表示が行え、良好な配向が得られる強誘電
性液晶表示素子の素子構造を提供することにある。
〈発明の構成〉
本発明の強誘電性液晶表示素子は、斜方蒸着またはラビ
ング処理と垂直配向処理とを施した電極基板間に強誘電
性液晶を封入する構成としたことを特徴とするものであ
る。
ング処理と垂直配向処理とを施した電極基板間に強誘電
性液晶を封入する構成としたことを特徴とするものであ
る。
〈実施例〉
本発明に係る強誘電性液晶表示素子の素子構造及びその
製造方法について以下詳細に説明する。
製造方法について以下詳細に説明する。
第1図は本発明に係る強誘電性液晶表示素子の素子構造
を示す断面図である。
を示す断面図である。
ガラス基板11上に酸化インジウム(ITO)等の透明
電極12をスパッタリング或いは真空蒸着法により形成
する。さらに、その上に3102膜+3を蒸着し、該S
iO2膜13上にSi■斜方蒸着膜14を形成する(配
向処理1)oこの基板をシランカップリング剤などの垂
直配向処理剤で処理することにより、上記斜方蒸着膜1
4上に垂直配向剤層15を形成する(配向処理2)。こ
こで、SiO3膜は、透明電極とガラス基板のレベリン
グ膜として用いており、蒸着以外の方法、例えば塗布焼
成型の5i02膜で形成してもよいし、他の有機、無機
絶縁膜でもよい。また、配向処理1は、配向処理2の後
、液晶分子を基板法線方向より角度θ。だけ傾斜配向さ
せるのに必要な手段である。
電極12をスパッタリング或いは真空蒸着法により形成
する。さらに、その上に3102膜+3を蒸着し、該S
iO2膜13上にSi■斜方蒸着膜14を形成する(配
向処理1)oこの基板をシランカップリング剤などの垂
直配向処理剤で処理することにより、上記斜方蒸着膜1
4上に垂直配向剤層15を形成する(配向処理2)。こ
こで、SiO3膜は、透明電極とガラス基板のレベリン
グ膜として用いており、蒸着以外の方法、例えば塗布焼
成型の5i02膜で形成してもよいし、他の有機、無機
絶縁膜でもよい。また、配向処理1は、配向処理2の後
、液晶分子を基板法線方向より角度θ。だけ傾斜配向さ
せるのに必要な手段である。
したがって、SiO斜方蒸着膜を形成する代わりに、P
VA(ポリビニールアルコール)、PI(ポリイミド)
等の有機膜や5i02等の無機膜をラビングする構成で
もよい。
VA(ポリビニールアルコール)、PI(ポリイミド)
等の有機膜や5i02等の無機膜をラビングする構成で
もよい。
以上のようにして作成した2枚の電極基板を用いてセル
を構成し、強誘電性液晶16を注入する0なお、第1図
に於いて、17はスペーサーである0例えば、強誘電性
液晶として、等方性液体(Iso)→コレステリック相
(Ch相)→スメクティック人相(SA相)→カイラル
スメクティックC× 相(So相)と相変化する液晶を用いる。さらに、この
セルにCh相で電圧(IKHz、jOV)を印加しなが
ら冷却すると、その分子配向は相変化に伴って模式的に
第5図((a)、 M (cL (d)、 (e−1)
、 (e−2):セル断面図、(e’−1)、 (e’
−2):セル平面図)に示すようKなる。
を構成し、強誘電性液晶16を注入する0なお、第1図
に於いて、17はスペーサーである0例えば、強誘電性
液晶として、等方性液体(Iso)→コレステリック相
(Ch相)→スメクティック人相(SA相)→カイラル
スメクティックC× 相(So相)と相変化する液晶を用いる。さらに、この
セルにCh相で電圧(IKHz、jOV)を印加しなが
ら冷却すると、その分子配向は相変化に伴って模式的に
第5図((a)、 M (cL (d)、 (e−1)
、 (e−2):セル断面図、(e’−1)、 (e’
−2):セル平面図)に示すようKなる。
(a)はIso状態を示す。コレステリックのピッチの
小さい温度範囲では分子はらせん構造を示す((b))
o温度を下げ、SA相近傍ではピッチが長くなり、バル
クの分子は基板に平行に配向する(((り)。
小さい温度範囲では分子はらせん構造を示す((b))
o温度を下げ、SA相近傍ではピッチが長くなり、バル
クの分子は基板に平行に配向する(((り)。
そして、SA相では、そのままの状態で層構造が現われ
((d))、So相では、(e−1)、(e’−1)或
いは(e−2)、(e’−2)の配向を示す。電界Eの
向きを変えると(e−1)、(e’−1)と(e−2)
、((−2)との間でスイッチングが可能となる。しか
も、この素子は、(e−1)、(e’−1)と(e−2
)、(e’−2)の中間状態でも、その状態を保持し、
メモリー効果を有することがわかった。したがって、T
V画像表示に必要な中間調表示を行うことができる。
((d))、So相では、(e−1)、(e’−1)或
いは(e−2)、(e’−2)の配向を示す。電界Eの
向きを変えると(e−1)、(e’−1)と(e−2)
、((−2)との間でスイッチングが可能となる。しか
も、この素子は、(e−1)、(e’−1)と(e−2
)、(e’−2)の中間状態でも、その状態を保持し、
メモリー効果を有することがわかった。したがって、T
V画像表示に必要な中間調表示を行うことができる。
なお、前記配向処理■を施さない素子に於いては、Ch
相に電圧を印加した場合の配向が均一ではなく、また、
へ、Si相に於いても良好な配向は得られなかった。こ
の原因は、基板上に於けるch相分子のプレティルト角
θ。がほぼ0° になるためであると考えられる。
相に電圧を印加した場合の配向が均一ではなく、また、
へ、Si相に於いても良好な配向は得られなかった。こ
の原因は、基板上に於けるch相分子のプレティルト角
θ。がほぼ0° になるためであると考えられる。
以下、実施例に添って、これらの効果をさらに詳細に説
明する。
明する。
ガラス基板上に蒸着により厚さ500AのITO膜を形
成する。そして、エツチングにより所定パターンの透明
電極を形成する。その上に膜厚1000λのS iO2
膜を形成する。さらに、SiOを第6図に示すように2
回斜方蒸°着(1回目の蒸着角:基板法線Nより60、
膜厚75A、2回目の蒸着角二基板法線Nより85、膜
厚50k )を行い、その上に、分子式 %式% 垂直配向剤のO,1wt%水溶液をディップ方式で塗布
する。その後、taO℃でIO分間島処理を行う。
成する。そして、エツチングにより所定パターンの透明
電極を形成する。その上に膜厚1000λのS iO2
膜を形成する。さらに、SiOを第6図に示すように2
回斜方蒸°着(1回目の蒸着角:基板法線Nより60、
膜厚75A、2回目の蒸着角二基板法線Nより85、膜
厚50k )を行い、その上に、分子式 %式% 垂直配向剤のO,1wt%水溶液をディップ方式で塗布
する。その後、taO℃でIO分間島処理を行う。
以上のようKして形成した2枚の電極基板間に、で表わ
される強誘電性液晶(液晶lとする)を注入する。なお
、この素子の相変化は、等方性液体(I8o)Hコレス
テリック相(Ch)44スメクテイツクA相(SA)→
力イラルスメクティックC相(So*)である。また、
セル厚は4μmである。
される強誘電性液晶(液晶lとする)を注入する。なお
、この素子の相変化は、等方性液体(I8o)Hコレス
テリック相(Ch)44スメクテイツクA相(SA)→
力イラルスメクティックC相(So*)である。また、
セル厚は4μmである。
この液晶素子に1KHz、IOVの電圧を印加しなから
Ch相を通過させて徐冷すると、前記したようにスイッ
チング可能な素子が作成できる。
Ch相を通過させて徐冷すると、前記したようにスイッ
チング可能な素子が作成できる。
この素子にScX相でパルス状の電圧を印加したときの
透過率の変化を第7図に示す。■は印加波形である。こ
こで、パルス電圧は波高値及び位相を変えている。また
、従来例として、ナイロン膜をラビングして作成した5
SF−LCDの特性を第8因に示す。
透過率の変化を第7図に示す。■は印加波形である。こ
こで、パルス電圧は波高値及び位相を変えている。また
、従来例として、ナイロン膜をラビングして作成した5
SF−LCDの特性を第8因に示す。
両図かられかるように、従来の5SF−LCDでは、印
加パルスの波高値または位相を変えても、透過率は2値
しかとらない。しかし、本発明の素子は、波高値及び位
相によって透過率が変化する。すなわち、階調表示を行
うことができる。しかも、この状態(ここでは4状態)
は保持され、メモリー効果があることがわかる0 上記した強誘電性液晶以外にも、例えば、分子式C7H
,5−0分CH=N ()’ CHEオ Sc )で表わされるようなCh相を示さない強誘電性
液晶について同様な実験を行った。このような液晶を用
いた素子に於いても、前記同様、中間調でのメモリー特
性を示した。ただし、配向性の観点からは、相変化とし
てch相を有するものに比べ品質が劣っていた。
加パルスの波高値または位相を変えても、透過率は2値
しかとらない。しかし、本発明の素子は、波高値及び位
相によって透過率が変化する。すなわち、階調表示を行
うことができる。しかも、この状態(ここでは4状態)
は保持され、メモリー効果があることがわかる0 上記した強誘電性液晶以外にも、例えば、分子式C7H
,5−0分CH=N ()’ CHEオ Sc )で表わされるようなCh相を示さない強誘電性
液晶について同様な実験を行った。このような液晶を用
いた素子に於いても、前記同様、中間調でのメモリー特
性を示した。ただし、配向性の観点からは、相変化とし
てch相を有するものに比べ品質が劣っていた。
なお、上記素子の電界を印加しない部分に於ける基板法
線からの液晶分子ティルト角(θ0)は、はぼ1〜5
程度であったが、さらに、θ0が各種の値を有する素子
についても同様な検討を行った。θ。の制御は2回目の
SiO斜方蒸着の膜厚(1o)を変化させて行った。こ
の具体的な値としては、t =50OAで00=〜10
、to=100OAでθo=〜20、to=2000
Aで00=〜25、to=〜 0 5000Aでθ。=〜30、to=10000Aでθ。
線からの液晶分子ティルト角(θ0)は、はぼ1〜5
程度であったが、さらに、θ0が各種の値を有する素子
についても同様な検討を行った。θ。の制御は2回目の
SiO斜方蒸着の膜厚(1o)を変化させて行った。こ
の具体的な値としては、t =50OAで00=〜10
、to=100OAでθo=〜20、to=2000
Aで00=〜25、to=〜 0 5000Aでθ。=〜30、to=10000Aでθ。
=、15であった。また、これに封入する液晶としては
前記の液晶1を用いた。
前記の液晶1を用いた。
この実験の結果、θ0が30までの素子では上記と同様
に中間調表示が可能であったが、θ0が35の素子では
中間調でのメモリー特性を示さなかった。したがって、
θ0 としては、はぼ1 から30程度が必要である。
に中間調表示が可能であったが、θ0が35の素子では
中間調でのメモリー特性を示さなかった。したがって、
θ0 としては、はぼ1 から30程度が必要である。
〈発明の効果〉
以上のように、本発明の素子は、従来の5SF−LCD
では困難である1再現性の良い中間調表示が可能で、且
つ、この状態でメモリー特性を示す。
では困難である1再現性の良い中間調表示が可能で、且
つ、この状態でメモリー特性を示す。
さらに、配向性に関しても、従来の5SF−LCDより
も容易に均一な配向が得られるという特徴を有する。
も容易に均一な配向が得られるという特徴を有する。
したがって、本発明に係わる表示装置は、中間調表示の
必要な画像表示装置に適用でき、且つ、応答は従来の5
SF−LCDと同程度であるため、TV受像機のディス
プレイとして有用である。
必要な画像表示装置に適用でき、且つ、応答は従来の5
SF−LCDと同程度であるため、TV受像機のディス
プレイとして有用である。
なお、ここでは、光学的には2枚の偏光子を用いた表示
について述べたが、2色性色素を混入することにより、
ゲスト会ホスト型素子にすることもできる。
について述べたが、2色性色素を混入することにより、
ゲスト会ホスト型素子にすることもできる。
さらに1本表示装置は、素子の内面にR,G、 Bのカ
ラーフィルタを設けることにより、フルカラー表示を行
うことができ、カラーTV受像機のディスプレイとして
も極めて有用である。
ラーフィルタを設けることにより、フルカラー表示を行
うことができ、カラーTV受像機のディスプレイとして
も極めて有用である。
第1図は本発明に係る強誘電性液晶表示素子の構造を示
す断面図、N2図はSご液晶の分子配向を示す図、第3
図及び第4図は5SF−LCD の動作原理の説明に供
する図、第5図は本発明に係る強誘電性液晶表示素子に
於ける温度変化に伴う分子配向の変化を示す図、第6図
は本発明の一実施例に於けるSiO斜方蒸着膜形成時の
蒸着方向を示す図、第7図は同実施例に於けるパルス電
圧印加時の透過率の時間変化を示す図、第8因は従来の
5SF−LCDに於けるパルス電圧印加時の透過率の時
間変化を示す図である。 符号の説明 11ニガラス基板、12:透明電極(ITO膜)、13
: 8102膜、14:SiO斜方蒸着膜、15:垂
直配向剤層、16:強誘電性液晶、17:スペーサー。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦 (他2名)萬2 図 (b) (C)
(b) (C)篤 3
図 第4図lσノ
へ〇ノ
62ノ(e−z)
/#−2ノ第5 口 /ノ′
す断面図、N2図はSご液晶の分子配向を示す図、第3
図及び第4図は5SF−LCD の動作原理の説明に供
する図、第5図は本発明に係る強誘電性液晶表示素子に
於ける温度変化に伴う分子配向の変化を示す図、第6図
は本発明の一実施例に於けるSiO斜方蒸着膜形成時の
蒸着方向を示す図、第7図は同実施例に於けるパルス電
圧印加時の透過率の時間変化を示す図、第8因は従来の
5SF−LCDに於けるパルス電圧印加時の透過率の時
間変化を示す図である。 符号の説明 11ニガラス基板、12:透明電極(ITO膜)、13
: 8102膜、14:SiO斜方蒸着膜、15:垂
直配向剤層、16:強誘電性液晶、17:スペーサー。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦 (他2名)萬2 図 (b) (C)
(b) (C)篤 3
図 第4図lσノ
へ〇ノ
62ノ(e−z)
/#−2ノ第5 口 /ノ′
Claims (1)
- 1、強誘電性液晶を用いて成る液晶表示素子に於いて、
斜方蒸着またはラビング処理と垂直配向処理とを施した
電極基板間に強誘電性液晶を封入して成ることを特徴と
する液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP259186A JPS62160426A (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP259186A JPS62160426A (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | 液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62160426A true JPS62160426A (ja) | 1987-07-16 |
Family
ID=11533622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP259186A Pending JPS62160426A (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62160426A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62231934A (ja) * | 1986-04-02 | 1987-10-12 | Canon Inc | 光学変調素子 |
| JPS62235928A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Canon Inc | カイラルスメクチック液晶素子 |
| JPH0284619A (ja) * | 1987-10-16 | 1990-03-26 | Seiko Epson Corp | 液晶電気光学素子 |
| JPH0329926A (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-07 | Seiko Instr Inc | 光書込液晶ライトバルブ |
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