JPH06128746A - 巻取式真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、エッチン
グ、真空含浸等の真空処理が施されたフィルムを交換す
る際に真空処理を施す真空槽の雰囲気を維持したまま交
換できるようにすると共に、装置の稼働率を向上させ、
大容量の真空排気系を必要としない巻取式真空処理装置
を提供する。 【構成】巻取式真空処理装置は、真空槽１１を真空処理
室１３とフィルム交換室１４とに区切る仕切板１２に、
送出用スリット２４と巻取用スリット２５とを設け、更
に、これらのスリットの各々にシール機構２６を備え
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は長尺のフィルムなどに
真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、エッチング、真空
含浸等の真空処理を施す巻取式真空処理装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来の巻取式真空処理装置の例として巻
取式真空蒸着が図５に示されている。同図において、真
空槽１内の右上部には送出ローラ２が配設され、その送
出ローラ２より送り出されたフィルム３は送出側ガイド
ローラ４ａ、４ｂ、４ｃを経由して真空槽１内の中央部
の冷却ローラ５に送られる。冷却ローラ５に送られてき
たフィルム３は冷却ローラ５の回転とともに走行する。
冷却ローラ５を走行中のフィルム３は、冷却ローラ５下
方の真空槽１内の下部に配設された蒸発源６より蒸発し
た蒸発物質（図示せず）が蒸着され、フィルム３上に薄
膜（図示せず）が形成される。薄膜の形成されたフィル
ム３は巻取側ガイドローラ７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄを経
由して真空槽１内の左上部の巻取ローラ８に巻き取られ
る。

【０００３】なお、冷却ローラ５と蒸発源６との間には
可動シャツター９が配設され、この可動シャツター９が
冷却ローラ５方向への蒸発物質の飛散を遮蔽していると
きには、フィルム３上に薄膜を形成することが出来な
い。また、図中、１０は真空槽１内の上部と下部とを仕
切る隔壁である。

【０００４】このような従来の巻取式真空処理装置での
蒸着工程は、上記のように送出ローラ２より送り出され
たフィルム３は送出側ガイドローラ４ａ、４ｂ、４ｃを
経由して冷却ローラ５に送られ、その冷却ローラ５の回
転とともに走行しているときに、蒸発源６より蒸発した
蒸発物質が蒸着され、薄膜が形成される。薄膜の形成さ
れたフィルム３は巻取側ガイドローラ７ａ、７ｂ、７
ｃ、７ｄを経由して巻取ローラ８に巻き取られる。

【０００５】そして、このような蒸着工程が終了する
と、真空槽１を大気圧に戻し、巻取ローラ８に巻き取っ
た薄膜の形成されたフィルム３を真空槽１外に取り出す
一方で、新規なフィルム３を送出ローラ２に取り付け
る。その後、真空槽１を真空排気し、再び、上記蒸着工
程を繰り返す。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来の巻取式真空処理
装置は、上記巻取式真空蒸着装置のように蒸着などの真
空処理工程が終了すると、真空槽１を大気圧に戻し、巻
取ローラ８に巻き取った真空処理されたフィルム３を真
空槽１外に取り出す一方で、新規なフィルム３を送出ロ
ーラ２に取り付ける。その後、真空槽１を真空排気し、
再び、上記真空処理を繰り返す。

【０００７】そのため、真空処理が終了後に真空槽１を
大気圧に戻すので、例えば、上記巻取式真空蒸着装置の
場合、蒸発源６中の蒸発物質が酸化するなどの悪影響を
受ける問題が発生した。また、新規なフィルム３を送出
ローラ２に取り付けた後、再度、真空槽１を真空排気し
てから、真空処理工程を再開するので、真空排気に時間
がかかり、装置の稼働率が低下すると共に、大容量の真
空排気系が必要になる等の問題があった。

【０００８】この発明の目的は、真空処理が施されたフ
ィルムを交換する際に真空処理を施す真空槽の雰囲気を
維持したまま交換できるようにすると共に、装置の稼働
率を向上させ、大容量の真空排気系を必要としない巻取
式真空処理装置を提供するものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、真空槽内で、送出ローラより送り出さ
れたフィルムが走行しているときに、そのフィルムに真
空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、エッチング、真空含
浸等の真空処理を施し、真空処理されたフィルムを巻取
ローラで巻き取る巻取式真空処理装置において、前記真
空槽を仕切板で真空処理室とフィルム交換室とに区切
り、そのフィルム交換室に送出ローラおよび巻取ローラ
を配設し、更に、前記仕切板に、前記送出ローラより送
り出す前記フィルムの通過する送出用スリットと、前記
巻取ローラで巻き取られる真空処理された前記フィルム
の通過する巻取用スリットとを設け、更にその上、前記
送出用スリットと巻取用スリットとの各々にシール機構
を設け、そのシール機構により前記送出用スリットと巻
取用スリットとを開閉することを特徴とするものであ
る。

【００１０】

【作用】この発明は、真空槽を仕切板で真空処理室とフ
ィルム交換室とに区切り、その仕切板に送出用スリッと
巻取用スリットとを設け、更に、これらのスリットの各
々にシール機構を備えているので、真空処理室とフィル
ム交換室とを個別に真空排気することが可能になる。そ
のため、処理作業の終了したフィルムを新規なものに交
換する場合には、フィルム交換室のみを大気に戻せばよ
く、真空処理室は真空を保持した状態にして、大気に戻
さなくてもよい。

【００１１】

【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。この発明の巻取式真空処理装置の実
施例として巻取式真空蒸着装置を図１に示す。同図にお
いて、真空槽１１は仕切板１２により真空処理室１３と
フィルム交換室１４とに区切られ、真空処理室１３の上
部には冷却ローラ１５が配設され、また、下部の冷却ロ
ーラ１５の下方には蒸発源１６が配設されている。更
に、冷却ローラ１５と蒸発源１６との間には可動シャツ
ター１７が配設され、この可動シャツター１７は蒸発源
１６より蒸発した蒸発物質が冷却ローラ１５方向に飛散
するのを遮蔽することを可能にしている。更に、真空処
理室１３には上部と下部とを仕切る隔壁１８が設けら
れ、また、真空処理室１３の上部には真空排気口１９が
設けられいる。一方、フィルム交換室１４には送出ロー
ラ２１および巻取ローラ２２が配設されている。更に、
仕切板１２には、送出ローラ２１より冷却ローラ１５に
送り出されたフィルム２３の通過する送出用スリット２
４と、巻取ローラ２２で巻き取られるフィルム２３の通
過する巻取用スリット２５とが設けられている。更にそ
の上、送出用スリット２４と巻取用スリット２５との各
々にはスリットを開閉するシール機構２６が備えられて
いる。また、フィルム交換室１４にも真空排気口２７が
設けられている。

【００１２】シール機構２６の詳細は図２および図３に
示されており、これらの図において、仕切板１２内には
圧縮空気用通路２８、２９が設けられ、各圧縮空気用通
路２８、２９には圧縮空気用配管３０、３１が接続され
ている。圧縮空気用通路２８の出口は仕切板１２の送出
用スリット２４側の凹部２４ａに設けられ、その凹部２
４ａには内部が中空になった膨張および収縮自在なシー
ル材３２が取り付けられている。また、同様に、圧縮空
気用通路２９の出口は仕切板１２の巻取用スリット２５
側の凹部２５ａに設けられ、その凹部２５ａには内部が
中空になった膨張および収縮自在なシール材３３が取り
付けられている。

【００１３】したがって、図２に示されるように、圧縮
空気用通路２８の出口より、シール材３２の内部に圧縮
空気を入れると、シール材３２は膨張し、フィルム２３
が送出用スリット２４のシール面２４ｂに圧接され、送
出用スリット２４のシール機構２６が閉じてシールがな
される。また、圧縮空気用通路２９の出口より、シール
材３３の内部に圧縮空気を入れると、シール材３３は膨
張し、フィルム２３が巻取用スリット２５のシール面２
５ｂに圧接され、巻取用スリット２５のシール機構２６
が閉じてシールがなされる。反対に、図３に示されるよ
うに、シール材３２、３３の内部を真空排気すると、シ
ール材３２、３３が収縮し、送出用スリット２４と巻取
用スリット２５とのシール機構２６が開いてシールが解
除される。

【００１４】このような実施例において、まず、真空処
理室１３とフィルム交換室１４とを同時に真空排気して
から、シール材３２、３３の内部を真空排気して、送出
用スリット２４と巻取用スリット２５とのシール機構２
６を開いてシールを解除する。その後、送出ローラ２１
より送り出されたフィルム２３は送出側ガイドローラ３
４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ、３４ｅ、３４ｆを経由
して冷却ローラ１５に送られ、その冷却ローラ１５の回
転とともに走行しているときに、蒸発源１６より蒸発し
た蒸発物質が蒸着され、薄膜が形成される。薄膜の形成
されたフィルム２３は巻取側ガイドローラ３５ａ、３５
ｂ、３５ｃ、３５ｄ、３５ｅ、３５ｆを経由して巻取ロ
ーラ２２で巻き取る。

【００１５】そして、全てのフィルム２３にこのような
蒸着工程が終了した後、シール材３２、３３の内部に圧
縮空気を入れ、送出用スリット２４と巻取用スリット２
５のシール機構２６を閉じてシールする。その後、フィ
ルム交換室１４のみを大気に戻してから、送出ローラ２
１より送り出されたフィルム２３および巻取ローラ２２
で巻き取られるフィルム２３をそれぞれ切断し、巻取ロ
ーラ２２で巻き取られるフィルム２３をフィルム交換室
１４外に取り出す。その次に、送出ローラ２１に新規な
フィルム２３を取り付ける一方で、巻取ローラ２２にも
少しだけ新規なフィルム２３を巻付け、そして、新規な
フィルム２３と、切断後に残っている既存のフィルム２
３とを接着する。そして、フィルム交換室１４を真空排
気してから、シール材３２、３３の内部を真空排気し、
送出用スリット２４と巻取用スリット２５のシール機構
２６を開いてシールを解除する。その後、送出ローラ２
１に取り付けた新規なフィルム２３を新たに蒸着処理す
る。

【００１６】したがって、このような実施例によれば、
シール材３２、３３によって、送出用スリット２４と巻
取用スリット２５の開閉を行うようにしているので、送
出用スリット２４および巻取用スリット２５の幅を極力
小さくすることが出来、蒸着処理中にも真空処理室１３
とフィルム交換室１４の雰囲気をそれぞれ個別に維持す
ることが可能になると共に、フィルム２３に損傷を与え
ることもない。また、フィルム交換室１４のみを真空排
気するだけで、蒸着処理を再開することが出来る。

【００１７】次に、その他の実施例が図４に示されてお
り、同図において、シール機構２６に用いられるシール
材３６は内部に圧縮空気を導入できるトラック状のリン
グであってもよい。なお、図中、３７は圧縮空気の導入
口である。

【００１８】ところで、上記各実施例は巻取式真空蒸着
装置の例を示しているが、これに限定されることなく、
帯状の薄いフィルムを処理する装置であれば、スパッタ
リング装置、ＣＶＤ装置、エッチング装置、真空含浸装
置等の種々の巻取式真空処理装置に用いてもよい。その
場合、当然のことながら、真空処理室内はそれぞれ処理
に必要な機構が設けられる。また、上記各実施例は真空
槽１１を真空処理室１３とフィルム交換室１４とに区切
り、フィルム交換室１４に送出ローラ２１と巻取ローラ
２２を一緒に配設したが、送出ローラ２１を配設した送
出室と、巻取ローラ２２を配設した巻取室とを別々に設
けるようにしてもよい。更に、上記各実施例のシール機
構はシール材を使用しているが、シール材の代わりに、
ゲート弁、スイング弁等の弁であってもよい。

【００１９】

【発明の効果】この発明は、上記のように真空槽を真空
処理室とフィルム交換室とに区切る仕切板に、送出用ス
リッと巻取用スリットとを設け、更に、これらのスリッ
トの各々にシール機構を備えているので、処理作業の終
了したフィルムを新規なものに交換する場合、フィルム
交換室のみを大気に戻せばよくなる。そのため、真空処
理を施す真空処理室の雰囲気を維持することが出来ると
共に、装置の稼働率が向上し、大容量の真空排気系が不
要になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例の説明図

【図２】この発明の実施例の要部であるシール機構によ
りシールされたときの断面図

【図３】この発明の実施例の要部であるシール機構によ
りシールが解除されたときの断面図

【図４】この発明のその他の実施例の説明図

【図５】従来の巻取式真空処理装置の原理図

【符号の説明】

１１・・・・・・・真空槽 １２・・・・・・・仕切板 １３・・・・・・・真空処理室 １４・・・・・・・フィルム交換室 １５・・・・・・・冷却ローラ １６・・・・・・・蒸発源 ２１・・・・・・・送出ローラ ２２・・・・・・・巻取ローラ ２３・・・・・・・フィルム ２４・・・・・・・送出用スリット ２５・・・・・・・巻取用スリット ２６・・・・・・・シール機構 ２８・・・・・・・圧縮空気用通路 ２９・・・・・・・圧縮空気用通路 ３２・・・・・・・シール材 ３３・・・・・・・シール材 ３６・・・・・・・シール材

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】真空槽内で、送出ローラより送り出された
   フィルムが走行しているときに、そのフィルムに真空蒸
   着、スパッタリング、ＣＶＤ、エッチング、真空含浸等
   の真空処理を施し、真空処理されたフィルムを巻取ロー
   ラで巻き取る巻取式真空処理装置において、前記真空槽
   を仕切板で真空処理室とフィルム交換室とに区切り、そ
   のフィルム交換室に送出ローラおよび巻取ローラを配設
   し、更に、前記仕切板に、前記送出ローラより送り出す
   前記フィルムの通過する送出用スリットと、前記巻取ロ
   ーラで巻き取られる真空処理された前記フィルムの通過
   する巻取用スリットとを設け、更にその上、前記送出用
   スリットと巻取用スリットとの各々にシール機構を設
   け、そのシール機構により前記送出用スリットと巻取用
   スリットとを開閉することを特徴とする巻取式真空処理
   装置。