JPH06128793A - アパタイト皮膜形成用電解液 - Google Patents
アパタイト皮膜形成用電解液Info
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Landscapes
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 操作温度は１００℃以下の低温で、低電圧、
低電流の省エネルギー型で、高価な設備、装置が不要な
新規なアパタイト皮膜形成用電解液を提供する。 【構成】 この電解液は、リン酸イオン、カルシウムイ
オン及びフッ素イオンを含むことを特徴としている。更
に支持電解質として、アルカリ金属塩及びアンモニウム
塩の１種又は２種を添加溶解させることができる。これ
らの出発物質を用いて調整した電解液からのアパタイト
沈着皮膜の生成のための電解液の電解条件は、液濃度、
温度、電流密度及び支持電解質の有無に依存する。一般
には、低濃度、高温度、高電流電流、支持電解質有りの
方が生成し易くなる。
低電流の省エネルギー型で、高価な設備、装置が不要な
新規なアパタイト皮膜形成用電解液を提供する。 【構成】 この電解液は、リン酸イオン、カルシウムイ
オン及びフッ素イオンを含むことを特徴としている。更
に支持電解質として、アルカリ金属塩及びアンモニウム
塩の１種又は２種を添加溶解させることができる。これ
らの出発物質を用いて調整した電解液からのアパタイト
沈着皮膜の生成のための電解液の電解条件は、液濃度、
温度、電流密度及び支持電解質の有無に依存する。一般
には、低濃度、高温度、高電流電流、支持電解質有りの
方が生成し易くなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アパタイト皮膜形成用
電解液に関するものである。
電解液に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】アパタイトは一般式Ｃa10_x(ＨＰＯ4)x
(ＰＯ4)6_x(ＯＨ)2_x・nＨ2Ｏ(但し、ｎ＝０〜２.５、
ｚ＝０〜１を表わす)の化学組成を有し、生体内の骨歯
の主成分に近似した物質であり、この合成アパタイトは
優れた生体親和性を示し、人工骨、人工歯根或いは骨欠
損部の充填材のような生体材料用の素材として極めて有
用なものである。しかし、アパタイト自体は機械的性質
において不十分であることから、高強度材料を芯材と
し、その表面にアパタイト皮膜を形成させた複合材料が
実用的な生体親和性表面を持つ高強度材料として期待さ
れている。
(ＰＯ4)6_x(ＯＨ)2_x・nＨ2Ｏ(但し、ｎ＝０〜２.５、
ｚ＝０〜１を表わす)の化学組成を有し、生体内の骨歯
の主成分に近似した物質であり、この合成アパタイトは
優れた生体親和性を示し、人工骨、人工歯根或いは骨欠
損部の充填材のような生体材料用の素材として極めて有
用なものである。しかし、アパタイト自体は機械的性質
において不十分であることから、高強度材料を芯材と
し、その表面にアパタイト皮膜を形成させた複合材料が
実用的な生体親和性表面を持つ高強度材料として期待さ
れている。
【０００３】高強度材料上へのアパタイト皮膜を形成さ
せる方法としては、これまで、種々の提案がなされてい
る。例えば、火炎或いはプラズマ溶射法(特開昭５２−
８２８９３号)、スパッタリング法(特開昭５８−１０９
０４９号)、ＰＶＤ及びＣＶＤ法(特開昭５９−１１１７
５３号)、噴霧熱分解法(「石膏と石灰」、Ｎo.２３８，
３６(１９９２))、塗布−焼成法(特開昭５３−１１８４
１１号、特開平１−２３０４１１号、特開平２−１４１
４１号)、液中火花放電法(Ｐroceedings of１st. Int.
Ｓymp. on Ａpatite, Ｂ−８(１９９１))、電気泳動法
(Ｂiomaterials, ７,９７(１９８６)，特開昭５３−１
２８１９０号)、自然沈着法(Ｊ.Ｍater. Ｓci.：Ｍate
r. in Ｍedicine,１，２３３(１９９０)、「歯科材料・
器械」、１０(特別号１８)，１４９(１９９１))など
が、それぞれ提案されている。
せる方法としては、これまで、種々の提案がなされてい
る。例えば、火炎或いはプラズマ溶射法(特開昭５２−
８２８９３号)、スパッタリング法(特開昭５８−１０９
０４９号)、ＰＶＤ及びＣＶＤ法(特開昭５９−１１１７
５３号)、噴霧熱分解法(「石膏と石灰」、Ｎo.２３８，
３６(１９９２))、塗布−焼成法(特開昭５３−１１８４
１１号、特開平１−２３０４１１号、特開平２−１４１
４１号)、液中火花放電法(Ｐroceedings of１st. Int.
Ｓymp. on Ａpatite, Ｂ−８(１９９１))、電気泳動法
(Ｂiomaterials, ７,９７(１９８６)，特開昭５３−１
２８１９０号)、自然沈着法(Ｊ.Ｍater. Ｓci.：Ｍate
r. in Ｍedicine,１，２３３(１９９０)、「歯科材料・
器械」、１０(特別号１８)，１４９(１９９１))など
が、それぞれ提案されている。
【０００４】また、アパタイト皮膜ではないが、電極反
応法による金属表面の酸化皮膜或いはブラッシャイト
(ＣaＨＰＯ4・２Ｈ2Ｏ)沈着皮膜の形成、化成処理法に
よる鉄鋼板上へのホーパイト(Ｚn3(ＰＯ4)2・４Ｈ2Ｏ)
沈着皮膜の形成などが、それぞれ知られている。
応法による金属表面の酸化皮膜或いはブラッシャイト
(ＣaＨＰＯ4・２Ｈ2Ｏ)沈着皮膜の形成、化成処理法に
よる鉄鋼板上へのホーパイト(Ｚn3(ＰＯ4)2・４Ｈ2Ｏ)
沈着皮膜の形成などが、それぞれ知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、溶射法、スパ
ッタリング法、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法においては、高価
な設備を必要とするのに加えて、複雑形状の基板の内部
表面までの皮膜形成が困難であること、塗布−焼成法で
は塗布液の調製に高い熟練を要すること、液中火花放電
法では高い電圧或いは電流が必要であること、自然沈着
法ではしばしば沈着用水溶液の更新及び皮膜形成に数日
から数週間もの期間がかかること、また、電極反応法及
び化成処理法ではアパタイト皮膜が形成されないこと、
等々の問題を有していた。
ッタリング法、ＰＶＤ法及びＣＶＤ法においては、高価
な設備を必要とするのに加えて、複雑形状の基板の内部
表面までの皮膜形成が困難であること、塗布−焼成法で
は塗布液の調製に高い熟練を要すること、液中火花放電
法では高い電圧或いは電流が必要であること、自然沈着
法ではしばしば沈着用水溶液の更新及び皮膜形成に数日
から数週間もの期間がかかること、また、電極反応法及
び化成処理法ではアパタイト皮膜が形成されないこと、
等々の問題を有していた。
【０００６】本発明は、前記従来法のうち、特に電極反
応法における問題を解決するべくなされたものであっ
て、（１）操作温度は１００℃以下の低温であること、
（２）低電圧、低電流の省エネルギー型であること、
（３）高価な設備、装置は不要であること、という利点
を有する新規なアパタイト皮膜形成用電解液を提供する
ことを目的とするものである。
応法における問題を解決するべくなされたものであっ
て、（１）操作温度は１００℃以下の低温であること、
（２）低電圧、低電流の省エネルギー型であること、
（３）高価な設備、装置は不要であること、という利点
を有する新規なアパタイト皮膜形成用電解液を提供する
ことを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成すべく、電極反応を利用することでも電解温度及び
電解液組成を工夫すればアパタイト沈着皮膜の形成が可
能との構想のもとに鋭意検討した結果、フッ素イオンを
含むリン酸カルシウム水溶液を利用すれば、適当な温度
以上で電解操作することによりカソード基板上にアパタ
イトの沈着皮膜が生成し得ることを知見した。更に特定
の支持電解質を添加することにより沈着皮膜の生成速度
と均質性を制御できることも究明し、ここに本発明を完
成したものである。
達成すべく、電極反応を利用することでも電解温度及び
電解液組成を工夫すればアパタイト沈着皮膜の形成が可
能との構想のもとに鋭意検討した結果、フッ素イオンを
含むリン酸カルシウム水溶液を利用すれば、適当な温度
以上で電解操作することによりカソード基板上にアパタ
イトの沈着皮膜が生成し得ることを知見した。更に特定
の支持電解質を添加することにより沈着皮膜の生成速度
と均質性を制御できることも究明し、ここに本発明を完
成したものである。
【０００８】すなわち、本発明は、リン酸イオン、カル
シウムイオン及びフッ素イオンを含み、必要に応じて更
に、支持電解質としてアルカリ金属塩及びアンモニウム
塩の１種又は２種を添加溶解させたことを特徴とするア
パタイト皮膜形成用電解液を要旨としている。
シウムイオン及びフッ素イオンを含み、必要に応じて更
に、支持電解質としてアルカリ金属塩及びアンモニウム
塩の１種又は２種を添加溶解させたことを特徴とするア
パタイト皮膜形成用電解液を要旨としている。
【０００９】以下、本発明を更に詳しく説明する。
【００１０】
【００１１】本発明の電解液は、前述の如く、リン酸イ
オン、カルシウムイオン及びフッ素イオンを含むもので
あるが、代表的な態様としては、任意の濃度のリン酸カ
ルシウム水溶液に任意の濃度のフッ素イオンを共存させ
た電解液である。
オン、カルシウムイオン及びフッ素イオンを含むもので
あるが、代表的な態様としては、任意の濃度のリン酸カ
ルシウム水溶液に任意の濃度のフッ素イオンを共存させ
た電解液である。
【００１２】電解液として使用するリン酸カルシウム水
溶液の濃度範囲は特に限定するものではなく任意の濃度
でよい。例えば、難水溶性の第二リン酸カルシウム(Ｃa
ＨＰＯ4・２Ｈ2Ｏ)の飽和溶液組成(溶解度積＝２.６×
１０-7)でも、易水溶性の第一リン酸カルシウム(Ｃa(Ｈ
2ＰＯ4)2・Ｈ2Ｏ)の飽和溶液組成(溶解度積＝７.２４×
１０-2)でも使用できる。
溶液の濃度範囲は特に限定するものではなく任意の濃度
でよい。例えば、難水溶性の第二リン酸カルシウム(Ｃa
ＨＰＯ4・２Ｈ2Ｏ)の飽和溶液組成(溶解度積＝２.６×
１０-7)でも、易水溶性の第一リン酸カルシウム(Ｃa(Ｈ
2ＰＯ4)2・Ｈ2Ｏ)の飽和溶液組成(溶解度積＝７.２４×
１０-2)でも使用できる。
【００１３】支持電解質は、直接にアパタイトの生成反
応に関与するものではなく、電解質の伝導性付与剤とし
てカソード近傍のｐＨ上昇及びカソード電流密度の均一
分布性を高め、アパタイト皮膜の均質性を良くするため
に添加することができる。その際、添加溶解濃度は適宜
決められるが、例えば、２〜３０重量％である。
応に関与するものではなく、電解質の伝導性付与剤とし
てカソード近傍のｐＨ上昇及びカソード電流密度の均一
分布性を高め、アパタイト皮膜の均質性を良くするため
に添加することができる。その際、添加溶解濃度は適宜
決められるが、例えば、２〜３０重量％である。
【００１４】純度の高いアパタイト皮膜を形成させる場
合の電解液の調製において使用するリン酸塩及びフッ化
物及び支持電解質は、水素イオン或いは支持電解質の陽
イオンより還元され易い酸化数２価以上の陽イオンとの
塩でないこと、或いはカルシウムイオンを除いた酸化数
２価以上で不溶性リン酸塩を生成する陽イオンとの塩で
ないことが必要である。例えば、還元電位の高い銅イオ
ン或いは不溶性リン酸塩を生成するストロンチウムイオ
ンなどが共存すると、アパタイト析出よりも優先してこ
れらの金属単体或いはストロンチウムリン酸塩が析出し
てくるので好ましくない。しかし、これらの物質とアパ
タイトとの複合皮膜の形成を目的とする場合には、この
限りではない。
合の電解液の調製において使用するリン酸塩及びフッ化
物及び支持電解質は、水素イオン或いは支持電解質の陽
イオンより還元され易い酸化数２価以上の陽イオンとの
塩でないこと、或いはカルシウムイオンを除いた酸化数
２価以上で不溶性リン酸塩を生成する陽イオンとの塩で
ないことが必要である。例えば、還元電位の高い銅イオ
ン或いは不溶性リン酸塩を生成するストロンチウムイオ
ンなどが共存すると、アパタイト析出よりも優先してこ
れらの金属単体或いはストロンチウムリン酸塩が析出し
てくるので好ましくない。しかし、これらの物質とアパ
タイトとの複合皮膜の形成を目的とする場合には、この
限りではない。
【００１５】電解液調製のためのカルシウム塩として
は、多くの無機酸塩及び有機酸塩が使用できるが、陰イ
オンの種類によってはアパタイト皮膜の均質性或いは密
着性が影響されるので留意する。特に有機酸陰イオンの
場合は、別途にそれらの水溶性アルカリ金属塩或いはア
ンモニウム塩として制御して添加する方が好ましい。
は、多くの無機酸塩及び有機酸塩が使用できるが、陰イ
オンの種類によってはアパタイト皮膜の均質性或いは密
着性が影響されるので留意する。特に有機酸陰イオンの
場合は、別途にそれらの水溶性アルカリ金属塩或いはア
ンモニウム塩として制御して添加する方が好ましい。
【００１６】電解液調製のための出発物質には、例え
ば、リン酸塩としてはＨ3ＰＯ4、ＮaＨ2ＰＯ4・２Ｈ
2Ｏ、ＮＨ4Ｈ2ＰＯ4、Ｃa(Ｈ2ＰＯ4)2・Ｈ2Ｏ、ＣaＨＰ
Ｏ4・２Ｈ2Ｏなどが使用できる。カルシウム塩としては
ＣaＣＯ3、Ｃa(ＯＨ)2、ＣaＣl2・２Ｈ2Ｏ、ＣaＨＰＯ4
・２Ｈ2Ｏ、酢酸カルシウムなどが使用できる。フッ化
物としてはＮaＦ、ＫＦ、ＮＨ4Ｆ、ＣaＦ2などが使用で
きる。支持電解質としてはＮaＣl、ＮaＮＯ3、ＫＣl、
ＫＮＯ3、ＮＨ4Ｃl、ＮＨ4ＮＯ3、コハク酸ナトリウ
ム、酢酸ナトリウムなどが使用できる。
ば、リン酸塩としてはＨ3ＰＯ4、ＮaＨ2ＰＯ4・２Ｈ
2Ｏ、ＮＨ4Ｈ2ＰＯ4、Ｃa(Ｈ2ＰＯ4)2・Ｈ2Ｏ、ＣaＨＰ
Ｏ4・２Ｈ2Ｏなどが使用できる。カルシウム塩としては
ＣaＣＯ3、Ｃa(ＯＨ)2、ＣaＣl2・２Ｈ2Ｏ、ＣaＨＰＯ4
・２Ｈ2Ｏ、酢酸カルシウムなどが使用できる。フッ化
物としてはＮaＦ、ＫＦ、ＮＨ4Ｆ、ＣaＦ2などが使用で
きる。支持電解質としてはＮaＣl、ＮaＮＯ3、ＫＣl、
ＫＮＯ3、ＮＨ4Ｃl、ＮＨ4ＮＯ3、コハク酸ナトリウ
ム、酢酸ナトリウムなどが使用できる。
【００１７】電解液調製のための出発物質として使用す
るリン酸塩及びカルシウム塩は、それらが水溶性の場合
はそのまま水に溶解し、不溶性の場合は酸に溶解する。
フッ化物は水溶液或いは粉末として添加する。
るリン酸塩及びカルシウム塩は、それらが水溶性の場合
はそのまま水に溶解し、不溶性の場合は酸に溶解する。
フッ化物は水溶液或いは粉末として添加する。
【００１８】上記出発物質を用いて調整した電解液から
のアパタイト沈着皮膜の生成のための電解液の電解条件
は、液濃度、温度、電流密度及び支持電解質の有無に依
存する。一般には、低濃度、高温度、高電流電流、支持
電解質有りの方が生成し易くなる。
のアパタイト沈着皮膜の生成のための電解液の電解条件
は、液濃度、温度、電流密度及び支持電解質の有無に依
存する。一般には、低濃度、高温度、高電流電流、支持
電解質有りの方が生成し易くなる。
【００１９】例えば、電流密度が６±１mＡ／cm2で電解
液濃度が５wt％リン酸二水素カルシウム１水和物を用い
た場合の電解温度は２９±３℃以上である必要がある。
電解温度が２９±３℃以下ではブラッシャイト(ＣaＨＰ
Ｏ4・２Ｈ2Ｏ)のみの沈着皮膜となり、アパタイト皮膜
は形成されない。但し、４０℃付近まではアパタイトと
もにブラッシャイトの共沈着が、また１００℃に近くな
るとモネタイト(ＣaＨＰＯ4)の共沈着が、それぞれ起こ
り易い。したがって、この場合にアパタイト含有割合の
高い沈着皮膜を形成させるための電解温度としては４５
℃から８０℃の範囲が好ましい。
液濃度が５wt％リン酸二水素カルシウム１水和物を用い
た場合の電解温度は２９±３℃以上である必要がある。
電解温度が２９±３℃以下ではブラッシャイト(ＣaＨＰ
Ｏ4・２Ｈ2Ｏ)のみの沈着皮膜となり、アパタイト皮膜
は形成されない。但し、４０℃付近まではアパタイトと
もにブラッシャイトの共沈着が、また１００℃に近くな
るとモネタイト(ＣaＨＰＯ4)の共沈着が、それぞれ起こ
り易い。したがって、この場合にアパタイト含有割合の
高い沈着皮膜を形成させるための電解温度としては４５
℃から８０℃の範囲が好ましい。
【００２０】電解の時間は、特に限定されるものではな
く、所望するアパタイト沈着皮膜の膜厚に応じて調製す
ればよい。但し、厚膜になるほど皮膜の密着性が悪くな
り、また不均一に粉末付着も点在するようになり、皮膜
も剥離し易くなる。
く、所望するアパタイト沈着皮膜の膜厚に応じて調製す
ればよい。但し、厚膜になるほど皮膜の密着性が悪くな
り、また不均一に粉末付着も点在するようになり、皮膜
も剥離し易くなる。
【００２１】電解電圧或いは電解電流密度の条件も特に
限定されるものではないが、アパタイト沈着皮膜の均質
性、沈着速度、密着性に影響するので、電解液組成、電
解温度、電解時間などとの関係で、予め予備実験で把握
しておくことが好ましい。
限定されるものではないが、アパタイト沈着皮膜の均質
性、沈着速度、密着性に影響するので、電解液組成、電
解温度、電解時間などとの関係で、予め予備実験で把握
しておくことが好ましい。
【００２２】次に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されないことはいうまでもない。
れらに限定されないことはいうまでもない。
【００２３】
【実施例１】リン酸二水素カルシウム１水和物の５重量
％水溶液５０mｌにフッ化ナトリウム０.０５gを混合し
たカルシウムイオン、リン酸イオン及びフッ素イオンを
含有した電解液を調製した。この電解液を白金を陽極と
しＳＵＳ３０４ステンレス鋼を陰極として３７℃、６.
５mＡ／cm2、３０分間の条件で電解し、アパタイト皮膜
のステンレス鋼基板を得た。皮膜は、Ｘ線回折法及び高
感度赤外反射吸収法により、アパタイトであると判定で
きた。
％水溶液５０mｌにフッ化ナトリウム０.０５gを混合し
たカルシウムイオン、リン酸イオン及びフッ素イオンを
含有した電解液を調製した。この電解液を白金を陽極と
しＳＵＳ３０４ステンレス鋼を陰極として３７℃、６.
５mＡ／cm2、３０分間の条件で電解し、アパタイト皮膜
のステンレス鋼基板を得た。皮膜は、Ｘ線回折法及び高
感度赤外反射吸収法により、アパタイトであると判定で
きた。
【００２４】
【実施例２】実施例１における電解液を５０℃、６.０m
Ａ／cm2、５分間の条件で実施した結果、アパタイトか
らなる均質な皮膜形成を確認した。
Ａ／cm2、５分間の条件で実施した結果、アパタイトか
らなる均質な皮膜形成を確認した。
【００２５】
【実施例３】実施例１における電解液に支持電解質とし
てＮaＣlを１３g添加して、４５℃、４.０mＡ／cm2、３
０分間の条件で実施した結果、均質性の良いアパタイト
皮膜の形成を確認した。図１は基板上のアパタイト皮膜
のＳＥＭ像であり、このアパタイト皮膜基板のＸ線回折
図を図２に、削り取ったアパタイト粉末の赤外吸収スペ
クトルを図３に示す。
てＮaＣlを１３g添加して、４５℃、４.０mＡ／cm2、３
０分間の条件で実施した結果、均質性の良いアパタイト
皮膜の形成を確認した。図１は基板上のアパタイト皮膜
のＳＥＭ像であり、このアパタイト皮膜基板のＸ線回折
図を図２に、削り取ったアパタイト粉末の赤外吸収スペ
クトルを図３に示す。
【００２６】
【実施例４】実施例３における電解液を用いて、白金を
陽極とし、チタンを陰極として３７℃、２.１mＡ／c
m2、３０分間の条件で電解し、アパタイト皮膜のチタン
基板を得た。
陽極とし、チタンを陰極として３７℃、２.１mＡ／c
m2、３０分間の条件で電解し、アパタイト皮膜のチタン
基板を得た。
【００２７】
【実施例５】実施例１における電解液に支持電解質とし
てＫaＮＯ3を１０g添加した電解液を用いて、白金を陽
極とし、チタンを陰極として３７℃、１.９mＡ／cm2、
３０分間の条件で電解した結果、均質性の良いアパタイ
ト皮膜のチタン基板を得た。
てＫaＮＯ3を１０g添加した電解液を用いて、白金を陽
極とし、チタンを陰極として３７℃、１.９mＡ／cm2、
３０分間の条件で電解した結果、均質性の良いアパタイ
ト皮膜のチタン基板を得た。
【００２８】
【実施例６】実施例３における電解液を用いて、白金を
陽極とし、二珪化モリブデンを陰極として３７℃、３４
mＡ／cm2、８０分間の条件で電解し、アパタイト沈着物
を得た。
陽極とし、二珪化モリブデンを陰極として３７℃、３４
mＡ／cm2、８０分間の条件で電解し、アパタイト沈着物
を得た。
【００２９】
【比較例１】実施例１における電解液を、２４℃、６.
８mＡ／cm2、３０分間の条件で実施した結果、ブラッシ
ャイト皮膜になり、アパタイト皮膜は形成されないこと
を確認した。電解条件が適切でなかったためである。
８mＡ／cm2、３０分間の条件で実施した結果、ブラッシ
ャイト皮膜になり、アパタイト皮膜は形成されないこと
を確認した。電解条件が適切でなかったためである。
【００３０】
【比較例２】実施例１からフッ素イオンを除いた組成の
電解液を調製し、この電解液を実施例１と同じ条件で電
解した。その結果、アパタイト皮膜は形成されずに、ブ
ラッシャイトとモネタイトからなる皮膜になることを確
認した。
電解液を調製し、この電解液を実施例１と同じ条件で電
解した。その結果、アパタイト皮膜は形成されずに、ブ
ラッシャイトとモネタイトからなる皮膜になることを確
認した。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のアパタイ
ト皮膜形成用の電解液及び更にこれに支持電解質を用い
て電解操作すると、皮膜形成速度及び均質性を容易に制
御しつつ、安価にアパタイト皮膜をカソード基板上に形
成させることができるため、金属系インプラント材の生
体適合化表面処理及び金属材料一般の防錆及び塗布下地
処理として優れた効果を奏する。
ト皮膜形成用の電解液及び更にこれに支持電解質を用い
て電解操作すると、皮膜形成速度及び均質性を容易に制
御しつつ、安価にアパタイト皮膜をカソード基板上に形
成させることができるため、金属系インプラント材の生
体適合化表面処理及び金属材料一般の防錆及び塗布下地
処理として優れた効果を奏する。
【図１】実施例３における基板上のアパタイト皮膜のＳ
ＥＭ(粒子構造)写真である。
ＥＭ(粒子構造)写真である。
【図２】実施例３におけるアパタイト皮膜基板のＸ線回
折図である。
折図である。
【図３】実施例３におけるアパタイト皮膜の削り採った
粉末の赤外吸収スペクトルである。
粉末の赤外吸収スペクトルである。
Claims (2)
- 【請求項１】 リン酸イオン、カルシウムイオン及びフ
ッ素イオンを含むことを特徴とするアパタイト皮膜形成
用電解液。 - 【請求項２】 更に、アルカリ金属塩及びアンモニウム
塩の１種又は２種を添加溶解させた請求項１に記載のア
パタイト皮膜形成用電解液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30285792A JPH06128793A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | アパタイト皮膜形成用電解液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30285792A JPH06128793A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | アパタイト皮膜形成用電解液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06128793A true JPH06128793A (ja) | 1994-05-10 |
Family
ID=17913935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30285792A Pending JPH06128793A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | アパタイト皮膜形成用電解液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06128793A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014127448A1 (en) * | 2013-02-22 | 2014-08-28 | HYDRO-QUéBEC | Techniques for production of chlorated products and prefabricated cathode structures |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5957970A (ja) * | 1982-09-25 | 1984-04-03 | 株式会社イナックス | 炭素繊維−アパタイト系焼成複合体 |
| JPS6399868A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-02 | ペルメレツク電極株式会社 | リン酸カルシウム化合物被覆複合材の製造方法 |
| JPH0464362A (ja) * | 1990-07-05 | 1992-02-28 | Kiyoshi Inoue | 生体内埋込材の表面処理方法 |
-
1992
- 1992-10-15 JP JP30285792A patent/JPH06128793A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5957970A (ja) * | 1982-09-25 | 1984-04-03 | 株式会社イナックス | 炭素繊維−アパタイト系焼成複合体 |
| JPS6399868A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-02 | ペルメレツク電極株式会社 | リン酸カルシウム化合物被覆複合材の製造方法 |
| JPH0464362A (ja) * | 1990-07-05 | 1992-02-28 | Kiyoshi Inoue | 生体内埋込材の表面処理方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014127448A1 (en) * | 2013-02-22 | 2014-08-28 | HYDRO-QUéBEC | Techniques for production of chlorated products and prefabricated cathode structures |
| CN105074056A (zh) * | 2013-02-22 | 2015-11-18 | 海德罗-魁北克公司 | 用于制造氯化产物的技术和预制阴极结构体 |
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